JPS615422A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS615422A JPS615422A JP59125972A JP12597284A JPS615422A JP S615422 A JPS615422 A JP S615422A JP 59125972 A JP59125972 A JP 59125972A JP 12597284 A JP12597284 A JP 12597284A JP S615422 A JPS615422 A JP S615422A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- thin film
- magnetic recording
- recording medium
- plasma
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B20/00—Use of materials as fillers for mortars, concrete or artificial stone according to more than one of groups C04B14/00 - C04B18/00 and characterised by shape or grain distribution; Treatment of materials according to more than one of the groups C04B14/00 - C04B18/00 specially adapted to enhance their filling properties in mortars, concrete or artificial stone; Expanding or defibrillating materials
- C04B20/10—Coating or impregnating
- C04B20/1055—Coating or impregnating with inorganic materials
- C04B20/107—Acids or salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B18/00—Use of agglomerated or waste materials or refuse as fillers for mortars, concrete or artificial stone; Treatment of agglomerated or waste materials or refuse, specially adapted to enhance their filling properties in mortars, concrete or artificial stone
- C04B18/04—Waste materials; Refuse
- C04B18/18—Waste materials; Refuse organic
- C04B18/24—Vegetable refuse, e.g. rice husks, maize-ear refuse; Cellulosic materials, e.g. paper, cork
- C04B18/28—Mineralising; Compositions therefor
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W30/00—Technologies for solid waste management
- Y02W30/50—Reuse, recycling or recovery technologies
- Y02W30/91—Use of waste materials as fillers for mortars or concrete
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Civil Engineering (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を磁気
記録層とする磁気記録媒体に関する。
記録層とする磁気記録媒体に関する。
従来例の構成とその問題点
近年、高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を磁気記
録層とする磁気記録媒体が注目されている。
録層とする磁気記録媒体が注目されている。
この磁気記録媒体は、従来の塗布型媒体で実用に供され
ているγ−Ｆｅ２Ｏ３及びその改良微粒子を磁性体とし
て用いるものと異なり、腐食するため各種の対策が提案
されている。
ているγ−Ｆｅ２Ｏ３及びその改良微粒子を磁性体とし
て用いるものと異なり、腐食するため各種の対策が提案
されている。
第１図に代表的な磁気記録媒体の例を示した。
第１図で１は高分子基板２は強磁性金属薄膜で、３は保
護膜である。
護膜である。
腐食に対する抵抗力を、つける方法として、まず強磁性
金属薄膜の改良が、あり、Ｃｏ−０ｒ、Ｇｏ−Ｎｉ等の
さびにくい構成を選択することと、結晶の表面を更に酸
化物で被覆したり、よりさびにくい構成に偏析させるな
どが併用される。
金属薄膜の改良が、あり、Ｃｏ−０ｒ、Ｇｏ−Ｎｉ等の
さびにくい構成を選択することと、結晶の表面を更に酸
化物で被覆したり、よりさびにくい構成に偏析させるな
どが併用される。
その上で保護膜が補助的に配され、この保護膜は、撥水
性の改良や、直接腐食環境に強磁性金属薄膜をさらさな
いようにする考えにたつものであるが、スパッタリング
法、真空蒸着法、め１き法。
性の改良や、直接腐食環境に強磁性金属薄膜をさらさな
いようにする考えにたつものであるが、スパッタリング
法、真空蒸着法、め１き法。
イオンブレーティング法、湿式塗布法などで形成した薄
膜材料で構成される。しかし、高密度磁気記録での損失
はスペーシング損失が大、きく、その面から保護膜厚み
は、９．０６μｍ以下にする必要がアシ、前述の薄膜構
成材料で保護能力は十分でなく、改良が望まれている。
膜材料で構成される。しかし、高密度磁気記録での損失
はスペーシング損失が大、きく、その面から保護膜厚み
は、９．０６μｍ以下にする必要がアシ、前述の薄膜構
成材料で保護能力は十分でなく、改良が望まれている。
発明の目的
本発明は連記事情に鑑みなされたもので、腐食しにくい
強磁性金属薄膜を磁気記録層とし、かつスペーシング損
失の少ない磁気記録媒体を提供するものである。
強磁性金属薄膜を磁気記録層とし、かつスペーシング損
失の少ない磁気記録媒体を提供するものである。
発明の構成
本発明の磁気記録媒体は、強磁性金属薄膜の表面と、反
対面が少なくともプラズマ重合膜で被覆されていること
を特徴とし、表面のプラズマ重合膜が薄くても、腐食し
にくく、かつスペーシング損失は小さく構成できるもの
である。
対面が少なくともプラズマ重合膜で被覆されていること
を特徴とし、表面のプラズマ重合膜が薄くても、腐食し
にくく、かつスペーシング損失は小さく構成できるもの
である。
実施例の説明
以下、図面を参照しながら本発明の実施例について説明
する。
する。
第２図は本発明の実慮例における磁気記録媒体の拡大断
面図、第３図は別の実施例の拡大断面図である。
面図、第３図は別の実施例の拡大断面図である。
第２図、第３図に於いて、４は高分子基板、６はプラズ
マ重合膜、６は強磁性金属薄膜である。
マ重合膜、６は強磁性金属薄膜である。
強磁性金属薄膜の概念は、磁気記録層で、例えば垂直記
録用媒体の場合軟磁性層との多層、或いは、非磁性層と
の多層構成も総括しているのは勿論である。
録用媒体の場合軟磁性層との多層、或いは、非磁性層と
の多層構成も総括しているのは勿論である。
本発明に用いることの出来る高分子基板は、ポリエチレ
ンテレフタレ−１のポリエステル類。
ンテレフタレ−１のポリエステル類。
ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルローストリ
アセテート、ニトロセルロース等のセルロース誘導体、
ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリパラパニック酸、
ポリイミド等が挙げられる。
アセテート、ニトロセルロース等のセルロース誘導体、
ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリパラパニック酸、
ポリイミド等が挙げられる。
本発明に用いることの出来る強磁性金属薄膜としては、
電子ビーム蒸着法、スパッタリング法。
電子ビーム蒸着法、スパッタリング法。
イオンブレーティング法、無電解めっき法等で形成した
、Ｇｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｇｏ−Ｎｉ、Ｇｏ−Ｆｅ、Ｇｏ
−Ｃｅ 、Ｇｏ−Ｏｒ 、Ｇｏ−Ｃｕ 、Ｇｏ −Ｂ
、Ｇｏ−Ｂｉ 、Ｇｏ−Ｇｅ 。
、Ｇｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｇｏ−Ｎｉ、Ｇｏ−Ｆｅ、Ｇｏ
−Ｃｅ 、Ｇｏ−Ｏｒ 、Ｇｏ−Ｃｕ 、Ｇｏ −Ｂ
、Ｇｏ−Ｂｉ 、Ｇｏ−Ｇｅ 。
Ｇｏ−Ｌａ 、 Ｇｏ−Ｍｇ 、 Ｇｏ−Ｍｎ 、 Ｇ
ｏ−Ｍｏ 、 Ｇｏ −Ｐ 、 Ｇ。
ｏ−Ｍｏ 、 Ｇｏ −Ｐ 、 Ｇ。
−Ｐｔ 、 Ｇｏ−Ｒｕ 、 Ｇｏ−Ｒｈ 、 Ｇｏ−
３ｎ 、 Ｇｏ−８ｍ 、 Ｇｏ −８ｉ 、 Ｇｏ−
Ｔｉ 、 Ｇｏ−Ｔａ 、 Ｇｏ−Ｖ 、 Ｇｏ −Ｗ
、 Ｇｏ−Ｎｉ −Ｏｒ 、 Ｇ ｏ −Ｏｒ −Ｒ
ｈ 、 Ｇ ｏ −Ｎ ｉ−Ｐ及びそれらの部分酸化膜
１部分窒化膜等で磁化容易プラズマ重合膜を得るのに用
いられるモノマーとしてはポリテトラフルオロエチレン
、弗素化ポリエチレンの如き 量フル
オロカーボン類、ポリクロロトリフルオロエチレン等の
クロロフルオロハイドロカーボン類。
３ｎ 、 Ｇｏ−８ｍ 、 Ｇｏ −８ｉ 、 Ｇｏ−
Ｔｉ 、 Ｇｏ−Ｔａ 、 Ｇｏ−Ｖ 、 Ｇｏ −Ｗ
、 Ｇｏ−Ｎｉ −Ｏｒ 、 Ｇ ｏ −Ｏｒ −Ｒ
ｈ 、 Ｇ ｏ −Ｎ ｉ−Ｐ及びそれらの部分酸化膜
１部分窒化膜等で磁化容易プラズマ重合膜を得るのに用
いられるモノマーとしてはポリテトラフルオロエチレン
、弗素化ポリエチレンの如き 量フル
オロカーボン類、ポリクロロトリフルオロエチレン等の
クロロフルオロハイドロカーボン類。
ポリ弗化ビニリデン、ポリ弗化ビニル等のフルオロハイ
ドロカーボン類、ポリアミド類、ポリイミド類、ポリカ
ーボネート類、ボリフェニレンオキザイド類、ポリエチ
レンのような炭化水素類、アリルアミン、アクリルアミ
ド類、ピリジン、エチレンオキサイド等のへテロ原子を
含む環状有機化合物、テトラアルキルシラン、トリアル
キルシラン等のシラン類２等の単−又は混合物で、材料
に限定はない。
ドロカーボン類、ポリアミド類、ポリイミド類、ポリカ
ーボネート類、ボリフェニレンオキザイド類、ポリエチ
レンのような炭化水素類、アリルアミン、アクリルアミ
ド類、ピリジン、エチレンオキサイド等のへテロ原子を
含む環状有機化合物、テトラアルキルシラン、トリアル
キルシラン等のシラン類２等の単−又は混合物で、材料
に限定はない。
プラズマ重合膜の厚みは、強磁性金属薄膜と高分子基板
の間に置かれるものは、６０八以上好ましくは１００Å
以上で、上限は必ずしもないが、工業的にみても、又効
果からみても、４０００Å以下で十分である。
の間に置かれるものは、６０八以上好ましくは１００Å
以上で、上限は必ずしもないが、工業的にみても、又効
果からみても、４０００Å以下で十分である。
この厚み制限は、切断端面についても同様である。
強磁性金属薄膜の上に置かれるものについてはスペーシ
ング損失と、保護効果の兼ねあいで決り、６０八から６
０Ｑ人、好ましくは１００人から３００人である。
ング損失と、保護効果の兼ねあいで決り、６０八から６
０Ｑ人、好ましくは１００人から３００人である。
他の構成材料として、高分子基板の強磁性金属薄膜と反
対側に塗布層、プラズマ重合膜表面に潤滑剤の塗布を行
うなどは本発明の範囲に含まれる変形であるのは勿論で
ある。
対側に塗布層、プラズマ重合膜表面に潤滑剤の塗布を行
うなどは本発明の範囲に含まれる変形であるのは勿論で
ある。
本発明の構成により、腐食がより好ましく抑制される点
については、プラズマ重合膜が周知のようにピンホール
が極めて少ないことからだけでは説明できないのは、後
述の実施例と比較例の対比からも明らかで、高分子基板
と強磁性金属薄膜の間に配されたプラズマ重合膜だけで
も不十分で、強磁性薄膜全体（端部は面積的に小さいの
で、第２図と第３図の差はそれ程大きくない）が保護さ
れること、特に高分子基板が１度吸湿すると、その水が
長時間、強磁性層を高分子基板側からアタックすること
が防止されることと、たえず自然環境にさらされている
強磁性層表面側を保護しているのが同時に効果をもたら
していると推察されるものである。
については、プラズマ重合膜が周知のようにピンホール
が極めて少ないことからだけでは説明できないのは、後
述の実施例と比較例の対比からも明らかで、高分子基板
と強磁性金属薄膜の間に配されたプラズマ重合膜だけで
も不十分で、強磁性薄膜全体（端部は面積的に小さいの
で、第２図と第３図の差はそれ程大きくない）が保護さ
れること、特に高分子基板が１度吸湿すると、その水が
長時間、強磁性層を高分子基板側からアタックすること
が防止されることと、たえず自然環境にさらされている
強磁性層表面側を保護しているのが同時に効果をもたら
していると推察されるものである。
以下、さらに本発明の具体的な一実施例を説明する。
厚み１２μｍのポリアミドイミドフィルム上に、ポリア
ミドの重合膜を形成・した。その上に、パー７０イ薄膜
（８０％Ｎｉ、２０％Ｆｅ ）を０．４μｍ、ｃｏ−ｃ
ｒ （ｃｒ ２ｏｗｔ％）垂直磁化膜を０．１３μｍ、
形成した。
ミドの重合膜を形成・した。その上に、パー７０イ薄膜
（８０％Ｎｉ、２０％Ｆｅ ）を０．４μｍ、ｃｏ−ｃ
ｒ （ｃｒ ２ｏｗｔ％）垂直磁化膜を０．１３μｍ、
形成した。
パーマロイ膜とＧｏＯｒ 膜の形成は、それぞれをタ
ーゲットにして、Ｉ Ｘ １０ Ｔｏｒｒのアルゴン
中で１３．６６ ＭＨｚの高周波グロー放電を利用した
スパッタリング法によった。
ーゲットにして、Ｉ Ｘ １０ Ｔｏｒｒのアルゴン
中で１３．６６ ＭＨｚの高周波グロー放電を利用した
スパッタリング法によった。
更にその上にプラズマ重合膜を配した。それを８酊幅に
切断したのち、パンケーキ状態でプラズマ重合により端
部に処置を行った。
切断したのち、パンケーキ状態でプラズマ重合により端
部に処置を行った。
プラズマ重合はいずれも、１３．５ ｅ ＭＨｚの高周
波グロー放電を利用し、キャリアガスを用いないで、装
置内に各種のモノマーを導入して行った。
波グロー放電を利用し、キャリアガスを用いないで、装
置内に各種のモノマーを導入して行った。
圧力は１０Ｔｏｒｒから６ Ｘ １０ Ｔｏｒｒまで
モノマーにより変化させた。
モノマーにより変化させた。
比較例として、プラズマ重合膜を仮に、高分子基板上に
形成したものをＩ１強強磁性金属薄膜上に形成したもの
を■、端部を■とした時、■のみと■のみを配したもの
を準備した。
形成したものをＩ１強強磁性金属薄膜上に形成したもの
を■、端部を■とした時、■のみと■のみを配したもの
を準備した。
磁気テープとして、カセットに装入し、各環境に保存し
て、磁束の初期値に対する減少率を比較した。条件と結
果を表にまとめて示した。
て、磁束の初期値に対する減少率を比較した。条件と結
果を表にまとめて示した。
（以 下金 白）
鳶
繁
以上のように本実施例によれば、短波長出力が大きくて
、サビにくい磁気記録媒体が、プラズマ重合膜で強磁性
金属薄膜をサンドイッチ構造にすることで得られること
がよく理解される。
、サビにくい磁気記録媒体が、プラズマ重合膜で強磁性
金属薄膜をサンドイッチ構造にすることで得られること
がよく理解される。
尚、他の材料の組み合わせでも本発明の効果は十分であ
ることを確かめると同時に、磁気テープの他に、磁気デ
ィスク、磁気シートの形態に於ても同様に確かめた。
ることを確かめると同時に、磁気テープの他に、磁気デ
ィスク、磁気シートの形態に於ても同様に確かめた。
発明の効果
本発明の磁気記録媒体は、強磁性金属薄膜をプラズマ重
合膜でサンドイッチ構造にすることで、磁性層表面のプ
ラズマ重合膜を薄くして、短波長出力の損失をおさえだ
状態で、腐食しにくい構成のものでその実用的効果は大
きい。
合膜でサンドイッチ構造にすることで、磁性層表面のプ
ラズマ重合膜を薄くして、短波長出力の損失をおさえだ
状態で、腐食しにくい構成のものでその実用的効果は大
きい。
【図面の簡単な説明】
第１図は従来の磁気記録媒体の拡大断面図、第２図、第
３図は本発明の磁気記録媒体の拡大断面図である。 ４・・・・・・高分子基板、５・・・・・・プラズマ重
合膜、６・・・・・・強磁性金属薄膜。
３図は本発明の磁気記録媒体の拡大断面図である。 ４・・・・・・高分子基板、５・・・・・・プラズマ重
合膜、６・・・・・・強磁性金属薄膜。
Claims (1)
- 強磁性金属薄膜の表面と反対面が少なくともプラズマ重
合膜で被覆されていることを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59125972A JPS615422A (ja) | 1984-06-19 | 1984-06-19 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59125972A JPS615422A (ja) | 1984-06-19 | 1984-06-19 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS615422A true JPS615422A (ja) | 1986-01-11 |
Family
ID=14923546
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59125972A Pending JPS615422A (ja) | 1984-06-19 | 1984-06-19 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS615422A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS647317A (en) * | 1986-05-09 | 1989-01-11 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
-
1984
- 1984-06-19 JP JP59125972A patent/JPS615422A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS647317A (en) * | 1986-05-09 | 1989-01-11 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
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