JPH0490125A - 磁気記録媒体とその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体とその製造方法Info
- Publication number
- JPH0490125A JPH0490125A JP20717690A JP20717690A JPH0490125A JP H0490125 A JPH0490125 A JP H0490125A JP 20717690 A JP20717690 A JP 20717690A JP 20717690 A JP20717690 A JP 20717690A JP H0490125 A JPH0490125 A JP H0490125A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- protective film
- film
- layer
- recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 41
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 39
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 29
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 27
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 16
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 8
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 abstract description 5
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 abstract description 5
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 abstract description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 abstract 2
- 238000006748 scratching Methods 0.000 abstract 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 9
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 8
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 229910003271 Ni-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018487 Ni—Cr Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 2
- 229910018605 Ni—Zn Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
磁気ディスク装置に用いて好適な磁気記録媒体とその製
造方法に関し、 媒体面に対する磁気ヘッドの吸着や引掛かり接触、或い
は該媒体の内周及び外周の縁端部に被着した密着性の悪
い保護膜部分の剥離・発塵等に起因するヘッドクラッシ
ュを防止することを目的とし、 非磁性基板上に高透磁率な軟磁性層を介して記録磁性層
及び保護膜を順に積層してなる磁気記録媒体であって、
前記保護膜がプラズマＣＶＤ法により形成されたカーボ
ン膜により構成する。
造方法に関し、 媒体面に対する磁気ヘッドの吸着や引掛かり接触、或い
は該媒体の内周及び外周の縁端部に被着した密着性の悪
い保護膜部分の剥離・発塵等に起因するヘッドクラッシ
ュを防止することを目的とし、 非磁性基板上に高透磁率な軟磁性層を介して記録磁性層
及び保護膜を順に積層してなる磁気記録媒体であって、
前記保護膜がプラズマＣＶＤ法により形成されたカーボ
ン膜により構成する。
また、記録磁性層が形成された非磁性基板上にカーボン
膜からなる保護膜を被着形成する際に、あらかじめ該非
磁性基板の内周及び最外周の縁端部に金属膜を被着形成
するように構成する。
膜からなる保護膜を被着形成する際に、あらかじめ該非
磁性基板の内周及び最外周の縁端部に金属膜を被着形成
するように構成する。
更に、前記非磁性基板の内周及び最外周の縁端部に被着
形成する金属膜は、少なくとも磁性膜が 垂直磁気ヘ
ッドの接触、衝突等によるヘッドクラらなり、前記記録
磁性層を被着形成する際に同時 ツシュ障害の確率
も増大するため、そのような障に形成するように構成す
る。 害を防止し、耐久性を向
上することが要求される。
形成する金属膜は、少なくとも磁性膜が 垂直磁気ヘ
ッドの接触、衝突等によるヘッドクラらなり、前記記録
磁性層を被着形成する際に同時 ツシュ障害の確率
も増大するため、そのような障に形成するように構成す
る。 害を防止し、耐久性を向
上することが要求される。
本発明は磁気ディスク裳置に用いて好適な垂直磁気記録
媒体とその製造方法に関するものである。
媒体とその製造方法に関するものである。
近年、コンピュータシステムの飛躍的な発展に伴い、外
部記憶装置として用いられている磁気ディスク装置の記
憶容量も益々増大する傾向にあり、高密度記録化が要求
されている。
部記憶装置として用いられている磁気ディスク装置の記
憶容量も益々増大する傾向にあり、高密度記録化が要求
されている。
従って、磁気記録媒体においても一般に広く用いられて
いる水平磁化記録方式に比べて遥かに高密度記録が可能
な垂直磁化記録方式の、所謂高透磁率な軟磁性層と垂直
記録層とを積層した二層膜構造からなる垂直磁気記録媒
体が提案され、実用化が進められている。
いる水平磁化記録方式に比べて遥かに高密度記録が可能
な垂直磁化記録方式の、所謂高透磁率な軟磁性層と垂直
記録層とを積層した二層膜構造からなる垂直磁気記録媒
体が提案され、実用化が進められている。
一方、このような高密度記録化に伴って記録媒体面に対
する記録・再生時の垂直磁気ヘッドの浮上間隙も益々微
小化され、該記録媒体面に対する〔従来の技術〕 従来の磁気記録媒体、例えば二層膜構造からなる垂直記
録方式の磁気ディスクは、第６図に示すようにガラス、
またはセラミックス等からなる非磁性のディスク基板１
２上の表面に５μｍ程度の膜厚のＮｉ−Ｆｅからなる軟
磁性層（軟磁性裏打ち層とも称する）１３と、その表面
に０．２μｍの膜厚のＣｏ−Ｃｒからなる垂直記録層１
４をスパッタリング法により順に積層形成した後、該垂
直記録層１４上に更に、磁気ヘッドとの接触障害を防止
するためのカーボン膜からなる２００人程度の厚さの保
護膜１５をスパッタリング法により形成し、その表面に
例えばパーフロロポリエーテル等からなる潤滑膜１６を
施して耐久性を向上させている。
する記録・再生時の垂直磁気ヘッドの浮上間隙も益々微
小化され、該記録媒体面に対する〔従来の技術〕 従来の磁気記録媒体、例えば二層膜構造からなる垂直記
録方式の磁気ディスクは、第６図に示すようにガラス、
またはセラミックス等からなる非磁性のディスク基板１
２上の表面に５μｍ程度の膜厚のＮｉ−Ｆｅからなる軟
磁性層（軟磁性裏打ち層とも称する）１３と、その表面
に０．２μｍの膜厚のＣｏ−Ｃｒからなる垂直記録層１
４をスパッタリング法により順に積層形成した後、該垂
直記録層１４上に更に、磁気ヘッドとの接触障害を防止
するためのカーボン膜からなる２００人程度の厚さの保
護膜１５をスパッタリング法により形成し、その表面に
例えばパーフロロポリエーテル等からなる潤滑膜１６を
施して耐久性を向上させている。
ところで上記したような構成の従来の磁気ディスクでは
、該ディスク面に対して表面に施している潤滑膜１６を
仲介にして磁気ヘッドが吸着し易く、特にＣＳ Ｓ （
Ｃｏｎｔａｃｔ ５ｔａｒｔ ５ｔｏｐ）動作方式の磁
気ディスク装置においては前記ヘッド吸着が顕著に生ず
る問題がある。
、該ディスク面に対して表面に施している潤滑膜１６を
仲介にして磁気ヘッドが吸着し易く、特にＣＳ Ｓ （
Ｃｏｎｔａｃｔ ５ｔａｒｔ ５ｔｏｐ）動作方式の磁
気ディスク装置においては前記ヘッド吸着が顕著に生ず
る問題がある。
そこで、一般に前記非磁性のディスク基板１２上に被着
形成した軟磁性Ｊｉｉ１３の表面を機械的に粗面状にす
るテクスチャリング法により１０ｎｍ程度以上の表面平
均粗さ（Ｒａ）の粗面に加工し、その粗面上に前記垂直
記録層１４、保護膜１５及び潤滑膜１６を設けることに
よってヘッド吸着を防止している。
形成した軟磁性Ｊｉｉ１３の表面を機械的に粗面状にす
るテクスチャリング法により１０ｎｍ程度以上の表面平
均粗さ（Ｒａ）の粗面に加工し、その粗面上に前記垂直
記録層１４、保護膜１５及び潤滑膜１６を設けることに
よってヘッド吸着を防止している。
しかし、テクスチャリング法にょる粗面加工では、所望
の表面粗さに均一に制御することが難しく、かなりのバ
ラツキが生じるため、ディスク面に対する記録・再生時
の垂直磁気ヘッドの浮上間隙が高密度記録化に伴って微
小化すると該ディスク面に対する磁気ヘッドの引掛かり
接触の確率が高くなりヘッドクラッシュを引き起こす問
題があった。
の表面粗さに均一に制御することが難しく、かなりのバ
ラツキが生じるため、ディスク面に対する記録・再生時
の垂直磁気ヘッドの浮上間隙が高密度記録化に伴って微
小化すると該ディスク面に対する磁気ヘッドの引掛かり
接触の確率が高くなりヘッドクラッシュを引き起こす問
題があった。
また、前記磁気ディスクの製造においては第７図に示す
ようにガラス、或いはセラミックからなる非磁性のディ
スク基板１２上にスパッタリング法により軟磁性層１３
及び垂直記録ＪＷ１４を積層形成した場合、該ディスク
基板１２の内周及び外周の縁端部には前記軟磁性１ｉ１
３及び垂直記録Ｎ１４等が一般に被着し難い傾向にある
。
ようにガラス、或いはセラミックからなる非磁性のディ
スク基板１２上にスパッタリング法により軟磁性層１３
及び垂直記録ＪＷ１４を積層形成した場合、該ディスク
基板１２の内周及び外周の縁端部には前記軟磁性１ｉ１
３及び垂直記録Ｎ１４等が一般に被着し難い傾向にある
。
従って、そのような状態の垂直記録１１４の表面にカー
ボン膜からなる保護膜１５をスパッタリング法等により
被着形成した際に、前記ディスク基板１２の内周及び外
周の基板面が露出している縁端部にもカーボン膜からな
る保護膜１５が被着した場合、その縁端部に被着した保
護膜部分１５ａの密着性が悪く剥がれ易いため、かかる
磁気ディスク１１の回転動作中に前記縁端部に被着して
いるカーボン膜からなる保護膜部分１５ａが剥離して発
塵し、これがヘッド・ディスク間に入り込むことにより
ヘッドクラッシュを引き起こす恐れがあった。
ボン膜からなる保護膜１５をスパッタリング法等により
被着形成した際に、前記ディスク基板１２の内周及び外
周の基板面が露出している縁端部にもカーボン膜からな
る保護膜１５が被着した場合、その縁端部に被着した保
護膜部分１５ａの密着性が悪く剥がれ易いため、かかる
磁気ディスク１１の回転動作中に前記縁端部に被着して
いるカーボン膜からなる保護膜部分１５ａが剥離して発
塵し、これがヘッド・ディスク間に入り込むことにより
ヘッドクラッシュを引き起こす恐れがあった。
本発明は上記した従来の問題点に鑑み、媒体面に対する
磁気ヘッドの吸着や引掛がり接触、或いは該媒体の内周
及び外周の縁端部に被着した密着性の悪い保護膜部分の
剥離・発塵等に起因するヘッドクラッシュを防止した新
規な磁気記録媒体とその製造方法を提供することを目的
とするものである。
磁気ヘッドの吸着や引掛がり接触、或いは該媒体の内周
及び外周の縁端部に被着した密着性の悪い保護膜部分の
剥離・発塵等に起因するヘッドクラッシュを防止した新
規な磁気記録媒体とその製造方法を提供することを目的
とするものである。
〔課題を解決するための手段］
本発明は上記した目的を達成するため、非磁性基板上に
高透磁率な軟磁性層を介して記録磁性層及び保護膜を順
に積層してなる磁気記録媒体であって、前記保護膜がプ
ラズマＣＶＤ法により形成されたカーボン膜により構成
する。
高透磁率な軟磁性層を介して記録磁性層及び保護膜を順
に積層してなる磁気記録媒体であって、前記保護膜がプ
ラズマＣＶＤ法により形成されたカーボン膜により構成
する。
また、記録磁性層が形成された非磁性基板上にカーボン
膜からなる保護膜を被着形成する際に、あらかじめ該非
磁性基板の内周及び最外周の縁端部に金属膜を被着形成
するように構成する。
膜からなる保護膜を被着形成する際に、あらかじめ該非
磁性基板の内周及び最外周の縁端部に金属膜を被着形成
するように構成する。
更に、前記非磁性基板の内周及び最外周の縁端部に被着
形成する金属膜は、少なくとも磁性膜からなり、前記記
録磁性層を被着形成する際に同時に形成するように構成
する。
形成する金属膜は、少なくとも磁性膜からなり、前記記
録磁性層を被着形成する際に同時に形成するように構成
する。
本発明ではガラス板等のディスク基板上にスパッタリン
グ法により５μｍ程度の膜厚の高透磁率な軟磁性層を被
着すると３〜５ｎｍの表面粗さとなる。この軟磁性層の
表面に同じくスパッタリング法により垂直記録層を被着
し、更にその表面にベンゼン（Ｃ４Ｈ６）等の炭化水素
を含む原料ガスを用いたプラズマＣＶＤ法によりカーボ
ン膜からなる保護膜を形成することにより、該プラズマ
ＣＶＤ法により形成されたカーボン膜からなる保護膜が
スパッタリング法により形成されたカーボン膜よりも硬
質であり、しかもその表面の摩擦係数が小さいので表面
平均粗さ（Ｒａ）が１０ｎｍ以下の例えば３ｎｍ程度で
あってもヘッド吸着の生じない二層膜構造の垂直磁気記
録媒体を容易に得ることができる。
グ法により５μｍ程度の膜厚の高透磁率な軟磁性層を被
着すると３〜５ｎｍの表面粗さとなる。この軟磁性層の
表面に同じくスパッタリング法により垂直記録層を被着
し、更にその表面にベンゼン（Ｃ４Ｈ６）等の炭化水素
を含む原料ガスを用いたプラズマＣＶＤ法によりカーボ
ン膜からなる保護膜を形成することにより、該プラズマ
ＣＶＤ法により形成されたカーボン膜からなる保護膜が
スパッタリング法により形成されたカーボン膜よりも硬
質であり、しかもその表面の摩擦係数が小さいので表面
平均粗さ（Ｒａ）が１０ｎｍ以下の例えば３ｎｍ程度で
あってもヘッド吸着の生じない二層膜構造の垂直磁気記
録媒体を容易に得ることができる。
また、カーボン膜はガラス面やセラミック面よりも、金
属面に対する密着性が著しく優れていることから、前記
ガラス板等のディスク基板上に高透磁率な軟磁性層、或
いは該軟磁性層上に垂直記録層をスパッタリング法等に
より被着形成する際に、該ディスク基板の内周及び外周
の縁端部にも同時に被着形成した後、垂直記録層上にベ
ンゼン（Ｃ６＋１６）等の炭化水素を含む原料ガスを用
いたプラズマＣＶＤ法によりカーボン膜からなる保護膜
を形成することにより、前記ディスク基板の内周及び外
周の縁端部に被着したカーボン膜からなる保護膜部分の
密着性が向上し、該保護膜部分がその磁気記録媒体の回
転動作中に剥離して発塵することが解消され、ヘッドク
ラッシュを引き起こす恐れもなくなる。
属面に対する密着性が著しく優れていることから、前記
ガラス板等のディスク基板上に高透磁率な軟磁性層、或
いは該軟磁性層上に垂直記録層をスパッタリング法等に
より被着形成する際に、該ディスク基板の内周及び外周
の縁端部にも同時に被着形成した後、垂直記録層上にベ
ンゼン（Ｃ６＋１６）等の炭化水素を含む原料ガスを用
いたプラズマＣＶＤ法によりカーボン膜からなる保護膜
を形成することにより、前記ディスク基板の内周及び外
周の縁端部に被着したカーボン膜からなる保護膜部分の
密着性が向上し、該保護膜部分がその磁気記録媒体の回
転動作中に剥離して発塵することが解消され、ヘッドク
ラッシュを引き起こす恐れもなくなる。
以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。
る。
第１図は本発明に係る磁気記録媒体とその製造方法の一
実施例を、垂直磁気記録媒体とその製造方法に適用した
場合の例で説明するための要部断面図、第２図は保護膜
形成用の容量結合型プラズマＣＶ Ｄ （ｃｈｅｍｉｃ
ａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）装置の一実
施例を示す構成図である。
実施例を、垂直磁気記録媒体とその製造方法に適用した
場合の例で説明するための要部断面図、第２図は保護膜
形成用の容量結合型プラズマＣＶ Ｄ （ｃｈｅｍｉｃ
ａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）装置の一実
施例を示す構成図である。
第１図において１２はガラス、或いはセラミック等から
なる非磁性のディスク基板であり、該ディスク基板１２
上に５μｍ程度の膜厚のＮｉ−Ｆｅからなる軟磁性層（
軟磁性裏打ち層とも称する）１３を、その表面に０．２
μｍの膜厚のＣｏ−Ｃｒからなる垂直記録層１４とをス
パッタリング法により順に積層形成する。
なる非磁性のディスク基板であり、該ディスク基板１２
上に５μｍ程度の膜厚のＮｉ−Ｆｅからなる軟磁性層（
軟磁性裏打ち層とも称する）１３を、その表面に０．２
μｍの膜厚のＣｏ−Ｃｒからなる垂直記録層１４とをス
パッタリング法により順に積層形成する。
次に前記軟磁性層１３及び垂直記録層１４が積層された
ディスク基板１２を、第２図に示す容量結合型プラズマ
ＣＶＤ装置のチャンバー３１内のヒーター内蔵式の基板
ホルダー３２上に配設し、該チャンバー３１内を一旦高
真空に排気した後、計ガスを１００１００５ｅ標準ｃｃ
／ｍ１ｎ）の流量で流入すると共に、チャンバー３１内
の気圧をＱ、 ｌ ｔｏｒｒとなるように排気量を調整
する。
ディスク基板１２を、第２図に示す容量結合型プラズマ
ＣＶＤ装置のチャンバー３１内のヒーター内蔵式の基板
ホルダー３２上に配設し、該チャンバー３１内を一旦高
真空に排気した後、計ガスを１００１００５ｅ標準ｃｃ
／ｍ１ｎ）の流量で流入すると共に、チャンバー３１内
の気圧をＱ、 ｌ ｔｏｒｒとなるように排気量を調整
する。
そして前記ディスク基板１２を回転し、かつ５０〜２０
０°Ｃに加熱した状態で対向する電極３３に５０〜２０
０Ｗの高周波電力を供給すると共に、そのチャンバー３
１内に更にベンゼン（Ｃ６Ｈ＆）、或いはトルエン等の
炭化水素溶液３４を収容したバブラー３５にてＡｒガス
をバブリングした原料ガスを所定流量流入した状態でプ
ラズマ放電を発生させて原料ガスを分解活性化させ、前
記該垂直記録層１４上に磁気ヘッドとの接触障害を防止
するためのカーボン膜を２００人程度の厚さに堆積させ
る。
０°Ｃに加熱した状態で対向する電極３３に５０〜２０
０Ｗの高周波電力を供給すると共に、そのチャンバー３
１内に更にベンゼン（Ｃ６Ｈ＆）、或いはトルエン等の
炭化水素溶液３４を収容したバブラー３５にてＡｒガス
をバブリングした原料ガスを所定流量流入した状態でプ
ラズマ放電を発生させて原料ガスを分解活性化させ、前
記該垂直記録層１４上に磁気ヘッドとの接触障害を防止
するためのカーボン膜を２００人程度の厚さに堆積させ
る。
かくすれば、表面粗さが３〜１０ｎｍの保護膜２１を形
成することができ、その表面にパーフロロポリエーテル
等からなる潤滑膜１６を施すことによってヘッド吸着や
磁気ヘッドの引掛かり接触のない磁気ディスク、即ち磁
気記録媒体を容易に得ることができる。
成することができ、その表面にパーフロロポリエーテル
等からなる潤滑膜１６を施すことによってヘッド吸着や
磁気ヘッドの引掛かり接触のない磁気ディスク、即ち磁
気記録媒体を容易に得ることができる。
なお、因みに上記した製造方法により得られた磁気ディ
スクの摩擦特性を調べた結果を第３図に示す。この調査
実験は該磁気ディスクを４８ｒｐｔｒｌの速度で回転し
、そのディスク面、即ち潤滑膜を施した保護膜２１の表
面をＮｉ−Ｚｎフェライト製のスライダで摺動した時の
表面粗さと摩擦係数μとの関係を示したものである。
スクの摩擦特性を調べた結果を第３図に示す。この調査
実験は該磁気ディスクを４８ｒｐｔｒｌの速度で回転し
、そのディスク面、即ち潤滑膜を施した保護膜２１の表
面をＮｉ−Ｚｎフェライト製のスライダで摺動した時の
表面粗さと摩擦係数μとの関係を示したものである。
前記保護膜２１の表面粗さはディスク基板１２上に直接
形成された軟磁性層１３の各膜厚（１，０，２，０，５
，０゜１０．０μｍ）によって異なり、表面粗さが３ｎ
ｍ程度の本発明のプラズマＣＶＤ法により形成されたカ
ーボン膜からなる保護膜２１の摩擦係数μは、スパッタ
リング法により形成されたカーボン膜からなる保護膜の
摩擦係数μ（１，０，またはそれ以上）の略１１５程度
と小さい特性を示し、ヘッド吸着も解消されることが確
認された。
形成された軟磁性層１３の各膜厚（１，０，２，０，５
，０゜１０．０μｍ）によって異なり、表面粗さが３ｎ
ｍ程度の本発明のプラズマＣＶＤ法により形成されたカ
ーボン膜からなる保護膜２１の摩擦係数μは、スパッタ
リング法により形成されたカーボン膜からなる保護膜の
摩擦係数μ（１，０，またはそれ以上）の略１１５程度
と小さい特性を示し、ヘッド吸着も解消されることが確
認された。
更に第４図は本発明に係る磁気記録媒体の製造方法の他
の実施例を垂直磁気記録媒体の製造方法に適用した場合
の例で説明するための要部拡大断面図、第５図は磁性層
形成用のスパッタリング装置の一例を示す構成図である
。
の実施例を垂直磁気記録媒体の製造方法に適用した場合
の例で説明するための要部拡大断面図、第５図は磁性層
形成用のスパッタリング装置の一例を示す構成図である
。
本実施例では第４図の要部拡大断面図に示すように ガ
ラス、或いはセラミック等からなる非磁性のディスク基
板１２上に５μｍ程度の膜厚のＮｉ−Ｆｅからなる軟磁
性層（軟磁性裏打ち層とも称する）１３をスパッタリン
グ法により形成した後、その軟磁性層１３が形成された
ディスク基板１２を、第５図に示すような複数ターゲッ
ト型スパッタ装置のチャンバー５１内の回転可能な基板
ホルダー５２により支持し、かかるディスク基板１２の
周囲に、該ディスク基板１２を取り囲むように構成され
たＣｏ−Ｃｒ、 Ｃ。
ラス、或いはセラミック等からなる非磁性のディスク基
板１２上に５μｍ程度の膜厚のＮｉ−Ｆｅからなる軟磁
性層（軟磁性裏打ち層とも称する）１３をスパッタリン
グ法により形成した後、その軟磁性層１３が形成された
ディスク基板１２を、第５図に示すような複数ターゲッ
ト型スパッタ装置のチャンバー５１内の回転可能な基板
ホルダー５２により支持し、かかるディスク基板１２の
周囲に、該ディスク基板１２を取り囲むように構成され
たＣｏ−Ｃｒ、 Ｃ。
Ｎｉ−Ｃｒ等からなる二つのターゲット５３．５４を配
置する。
置する。
そして前記チャンバー５１内を一旦高真空に排気した後
、Ａｒガスを流入して該チャンバー５１内を所定気圧に
した状態で前記ディスク基板１２を回転すると共に、対
向する二つのターゲラ）５３．５４に所定の高周波電力
を同電位となるように供給してスパッタリングを行うこ
とにより、前記軟磁性層１３の表面及び該軟磁性層１３
が被着し難いディスク基板の内周及び外周の縁端部に０
．２μｍの膜厚のＣ。
、Ａｒガスを流入して該チャンバー５１内を所定気圧に
した状態で前記ディスク基板１２を回転すると共に、対
向する二つのターゲラ）５３．５４に所定の高周波電力
を同電位となるように供給してスパッタリングを行うこ
とにより、前記軟磁性層１３の表面及び該軟磁性層１３
が被着し難いディスク基板の内周及び外周の縁端部に０
．２μｍの膜厚のＣ。
Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ等からなる垂直記録層４２を同
時に被着形成する。
時に被着形成する。
その後、該垂直記録層４２の表面に前記第１図及び第２
図の実施例で説明したプラズマＣＶＤ法によりカーボン
膜からなる２００人程度の厚さの保護膜４３を堆積形成
し、その表面に更にパーフロロポリエーテル等からなる
潤滑膜（図示省略）を施すことによって、ヘッド吸着や
磁気ヘッドの引掛かり接触障害がなく、かつ前記ディス
ク基板１２の内周及び外周の縁端部に被着したカーボン
膜からなる保護膜部分４３ａの密着性が向上して剥離・
発塵しない磁気ディスク４１、即ち磁気記録媒体を容易
に得ることができる。
図の実施例で説明したプラズマＣＶＤ法によりカーボン
膜からなる２００人程度の厚さの保護膜４３を堆積形成
し、その表面に更にパーフロロポリエーテル等からなる
潤滑膜（図示省略）を施すことによって、ヘッド吸着や
磁気ヘッドの引掛かり接触障害がなく、かつ前記ディス
ク基板１２の内周及び外周の縁端部に被着したカーボン
膜からなる保護膜部分４３ａの密着性が向上して剥離・
発塵しない磁気ディスク４１、即ち磁気記録媒体を容易
に得ることができる。
なお、以上の実施例では軟磁性層の表面に垂直記録層を
スパッタリング法により被着する際に、通常、該軟磁性
層が被着し難いディスク基板の内周及び外周の縁端部に
も垂直記録層を同時に被着させる場合の例について説明
したが、本発明はこの例に限定されるものではなく、例
えばディスク基板上に軟磁性層をスパッタリング法によ
り被着する際に、前記ディスク基板の内周及び外周の縁
端部にも軟磁性層を同時に被着させるようにしてもよく
、同様の効果が得られる。
スパッタリング法により被着する際に、通常、該軟磁性
層が被着し難いディスク基板の内周及び外周の縁端部に
も垂直記録層を同時に被着させる場合の例について説明
したが、本発明はこの例に限定されるものではなく、例
えばディスク基板上に軟磁性層をスパッタリング法によ
り被着する際に、前記ディスク基板の内周及び外周の縁
端部にも軟磁性層を同時に被着させるようにしてもよく
、同様の効果が得られる。
また、以上の実施例では垂直磁気記録媒体及びその製造
方法に通用した場合の例について説明したが、この例に
限定されずに例えば記録磁性層上にカーボン膜からなる
保護膜が積層された構成の水平磁気記録方式の磁気記録
媒体及びその製造方法にも適用可能なことはいうまでも
ない。
方法に通用した場合の例について説明したが、この例に
限定されずに例えば記録磁性層上にカーボン膜からなる
保護膜が積層された構成の水平磁気記録方式の磁気記録
媒体及びその製造方法にも適用可能なことはいうまでも
ない。
〔発明の効果］
以上の説明から明らかなように、本発明に係る磁気記録
媒体とその製造方法によれば、ヘッド吸着や磁気ヘッド
の引掛かり接触障害がなく、しかも記録層上にカーボン
膜からなる保護膜を設けた際にディスク基板の内周及び
外周の縁端部に被着されたカーボン膜からなる保護膜部
分の剥離・発塵が解消され、ヘッドクラッシュが防止さ
れる等、実用上価れた効果を奏する。従って、磁気記録
装置の信頼性向上に寄与するところが大きい。
媒体とその製造方法によれば、ヘッド吸着や磁気ヘッド
の引掛かり接触障害がなく、しかも記録層上にカーボン
膜からなる保護膜を設けた際にディスク基板の内周及び
外周の縁端部に被着されたカーボン膜からなる保護膜部
分の剥離・発塵が解消され、ヘッドクラッシュが防止さ
れる等、実用上価れた効果を奏する。従って、磁気記録
装置の信頼性向上に寄与するところが大きい。
第１図は本発明に係る磁気記録媒体とその製造方法の一
実施例を、垂直磁気記録媒体 とその製造方法に適用した場合の例で 説明するための要部断面図、 第２図は本発明に用いる保護膜形成用の容量結合型プラ
ズマＣＶＤ装置の一例を示す 構成図、 第３図は本発明の磁気記録媒体の摩擦特性を示す図、 第４図は本発明に係る磁気記録媒体の製造方法の他の実
施例を、垂直磁気記録媒体の 製造方法に適用した場合の例で説明す るための要部拡大断面図、 第５図は本発明に用いる磁性層形成用のスパッタ装置の
一例を示す構成図、 第６図は従来の磁気ディスクの一例を説明するための要
部断面図、 第７図は従来の磁気ディスクの問題点を説明するための
要部拡大断面図である。 第工図〜第５図において、 １２はディスク基板、１３は軟磁性層、１４゜４２は垂
直記録層、１６は潤滑膜、２１．４３は保護膜、３１，
５１はチャンバー、３２．５２は基板ホルダー、３３は
電極、３４は炭化水素溶液、３５はバブラー、４１は磁
気ディスク、４３ａは保護膜部分、５３．５４はターゲ
ットをそれぞれ示す。 第１Ｉ！ −−→者ｆＤ赳２（ｎｍ） 第２図 第４図 八 石自＋ｔ４ｙン織′甲スハ：ｑ７％ｔ、、−例Ｆよす栖
驚六閏第５図 従来弓ｉし気デンス７リータＩｔｔ萌ｔｓ１０１ケ４６
門第６図 第 図
実施例を、垂直磁気記録媒体 とその製造方法に適用した場合の例で 説明するための要部断面図、 第２図は本発明に用いる保護膜形成用の容量結合型プラ
ズマＣＶＤ装置の一例を示す 構成図、 第３図は本発明の磁気記録媒体の摩擦特性を示す図、 第４図は本発明に係る磁気記録媒体の製造方法の他の実
施例を、垂直磁気記録媒体の 製造方法に適用した場合の例で説明す るための要部拡大断面図、 第５図は本発明に用いる磁性層形成用のスパッタ装置の
一例を示す構成図、 第６図は従来の磁気ディスクの一例を説明するための要
部断面図、 第７図は従来の磁気ディスクの問題点を説明するための
要部拡大断面図である。 第工図〜第５図において、 １２はディスク基板、１３は軟磁性層、１４゜４２は垂
直記録層、１６は潤滑膜、２１．４３は保護膜、３１，
５１はチャンバー、３２．５２は基板ホルダー、３３は
電極、３４は炭化水素溶液、３５はバブラー、４１は磁
気ディスク、４３ａは保護膜部分、５３．５４はターゲ
ットをそれぞれ示す。 第１Ｉ！ −−→者ｆＤ赳２（ｎｍ） 第２図 第４図 八 石自＋ｔ４ｙン織′甲スハ：ｑ７％ｔ、、−例Ｆよす栖
驚六閏第５図 従来弓ｉし気デンス７リータＩｔｔ萌ｔｓ１０１ケ４６
門第６図 第 図
Claims (3)
- （１）非磁性基板（１２）上に高透磁率な軟磁性層（１
３）を介して記録磁性層（１４）及び保護膜（２１）を
順に積層してなる磁気記録媒体であって、 前記保護膜（２１）がプラズマＣＶＤ法により形成され
たカーボン膜からなることを特徴とする磁気記録媒体。 - （２）記録磁性層（４２）が形成された非磁性基板（１
２）上にカーボン膜からなる保護膜（４３）を被着形成
する際に、あらかじめ該非磁性基板（１２）の内周及び
最外周の縁端部に金属膜を被着形成することを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法。 - （３）前記非磁性基板（１２）の内周及び最外周の縁端
部に被着形成する金属膜は、少なくとも磁性膜（４２）
からなり、前記記録磁性層（４２）を被着形成する際に
同時に形成することを特徴とする請求項２記載の磁気記
録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20717690A JPH0490125A (ja) | 1990-08-02 | 1990-08-02 | 磁気記録媒体とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20717690A JPH0490125A (ja) | 1990-08-02 | 1990-08-02 | 磁気記録媒体とその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0490125A true JPH0490125A (ja) | 1992-03-24 |
Family
ID=16535498
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20717690A Pending JPH0490125A (ja) | 1990-08-02 | 1990-08-02 | 磁気記録媒体とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0490125A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6403194B1 (en) | 1998-09-03 | 2002-06-11 | Hitachi, Ltd. | Magnetic recording medium, process for producing same and magnetic disc apparatus |
| US6468617B1 (en) | 1993-07-20 | 2002-10-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Apparatus for fabricating coating and method of fabricating the coating |
| US6835523B1 (en) | 1993-05-09 | 2004-12-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Apparatus for fabricating coating and method of fabricating the coating |
| US6949301B2 (en) | 2000-09-28 | 2005-09-27 | Hitachi Global Storage Technologies Japan, Ltd. | Magnetic recording medium, the manufacturing method and magnetic recording apparatus using the same |
| US7875372B2 (en) | 2006-11-15 | 2011-01-25 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Perpendicular magnetic recording medium and method of manufacturing the same |
| US7943193B2 (en) | 2004-10-18 | 2011-05-17 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Magnetic recording medium with diamond-like carbon protective film, and manufacturing method thereof |
-
1990
- 1990-08-02 JP JP20717690A patent/JPH0490125A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6835523B1 (en) | 1993-05-09 | 2004-12-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Apparatus for fabricating coating and method of fabricating the coating |
| US6468617B1 (en) | 1993-07-20 | 2002-10-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Apparatus for fabricating coating and method of fabricating the coating |
| US6403194B1 (en) | 1998-09-03 | 2002-06-11 | Hitachi, Ltd. | Magnetic recording medium, process for producing same and magnetic disc apparatus |
| US7037607B2 (en) | 1998-09-03 | 2006-05-02 | Hitachi Global Storage Technologies Japan, Ltd. | Magnetic recording medium, process for producing same and magnetic disc apparatus |
| US6949301B2 (en) | 2000-09-28 | 2005-09-27 | Hitachi Global Storage Technologies Japan, Ltd. | Magnetic recording medium, the manufacturing method and magnetic recording apparatus using the same |
| US7943193B2 (en) | 2004-10-18 | 2011-05-17 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Magnetic recording medium with diamond-like carbon protective film, and manufacturing method thereof |
| US7875372B2 (en) | 2006-11-15 | 2011-01-25 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Perpendicular magnetic recording medium and method of manufacturing the same |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2572745B2 (ja) | 耐摩耗・耐腐触性の磁気記録膜の作成方法 | |
| JP2830544B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0490125A (ja) | 磁気記録媒体とその製造方法 | |
| JP4794514B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法および製造装置 | |
| EP0026496B1 (en) | Magnetic recording disc and method for forming a protective overcoating thereon | |
| JPS62298923A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| EP0547820A1 (en) | A magnetic recording disk having an improved protective overcoat | |
| JP2004022025A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法とそれを用いた磁気記憶装置 | |
| JP2008176847A (ja) | 薄膜積層体の製造方法、及び薄膜積層体製造装置と磁気記録媒体および磁気記録再生装置 | |
| JP2011243254A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体の製造装置 | |
| JPS61210521A (ja) | 磁気デイスクの製造方法 | |
| JP2833444B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH04356728A (ja) | 磁気記録媒体の製造法 | |
| JP4639477B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS59157833A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0451889B2 (ja) | ||
| EP0422547B1 (en) | Magnetic recording medium | |
| JPH01277350A (ja) | 光磁気記録媒体の製造装置 | |
| JP2000057569A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法と磁気記録媒体 | |
| JPH01211236A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH05258296A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2010027102A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法、磁気記録再生装置 | |
| JPH0415528B2 (ja) | ||
| JPH0991651A (ja) | ハードディスク装置に適用されるディスク及びディスク製造方法 | |
| JP2001357513A (ja) | 磁気記録ディスク並びに磁気記録ディスクの製造方法及び製造システム |