JPS581832A - 垂直磁化記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、磁気テープやディスク装置などに用いられる
磁気記録方式の中で、高密度記録に適した方式として提
案されている垂直磁化記録方式の記録媒体に関するもの
である。リングヘッドを用い、媒体の面内方向に磁化し
、記録する従来の方法は、書き込み波長が短かくなると
媒体の磁化はよる反磁界が大きくなり、記録密度の向上
が内錐になる。この欠点を無くし高密度記録を達成する
方法として、磁気記録媒体の表面から垂直方向に磁化容
易軸をもつ記録媒体を用いて厚み方向に信号を記録する
垂直磁化記録方式が提案され、この崎俊−１Ｓ　、Ｉｗ
ａｓａｋ：ｅｔ　ｔＱ、　”　Ｐｅｒｐｅｎｄｉｃｕｌ
ａｒＭａｇｎｅｔｉｃ　　Ｒｅｃｏｒｄｉｎｇ　ｗｉｔ
ｈ　ａ　Ｃｏｍｐｏｓｉｔｅムｎ１ｓｏｔｒｏｐｙ　Ｆ
ｉｌｍ　’　Ｉ　Ｅ　Ｂ　Ｅ　ＴｒａｎｓｏＭａｇｎｌ
ｖｏｌ。

ＭＡＧ−１５，０６（１９７９）） この方式の中で特に第１図に示すような補助磁極励磁型
ヘッドが記録効率に優れ、又、同一ヘッドによる鈴音再
生が可能々ことも確認されている。

この記録方式は、基体ベース膜３上に磁性層４を設けた
記録媒体を用い、主磁極１からの信号磁□界で磁性層４
に磁気記録を行うようにしたもので＋ｉｒｆ記１ミ磁極
の磁化には媒体を挾んで反体側に設けられた補助磁極２
を励磁することによってなされる。

補助磁極２は中程度の磁束密度を持ち、高透磁率磁性材
料からなり、例えばマンガン−亜鉛７ｚライトやニッケ
ルー亜鉛フェライトなどが用いられる。この磁性材料全
コアとしてその上にコイル６が巻廻してあり、このコイ
ル５に記録信号電流を通ずることに゛よって補助磁極２
を磁化し、発生する磁界によって主磁極１を励磁する構
造になっ−ている。

この方式では主磁極１が磁性層４に安定に接触しながら
走行することが高密度記録のためにも重要であることが
知られている。このためには先ず媒体面が平坦で、しな
やかさの大きい媒体である必要がある。現在広く使用さ
れている磁気テープ、シートの構造は概略第２図に示す
通りである。第２図は従来のテープの断面図であり、３
は高分子フィルムでできた基体であり、その両面に　磁
気記録層４，４′が塗布されており２〜６ミクロン程度
の厚みを持っている。塗布方式では酸化鉄などの磁性粉
を、高分子バインダなどで混合して基体に接着しである
ので、しなやかさは、基体のそれと較べてあまり変化し
ていない。捷た而の表面性は研磨によって加工処理を施
しているので良好で実家耐えている。しかしながら垂直
磁化記録用媒体のように、基体ベース３としてマイラー
やポリイミド系高分子フィルム９１０〜１００ミクロン
厚のものを用いて、その上に金属合金膜を蒸着法又はス
パッタリング法など真空中で磁性層４を構成すると、製
造過程中の温度履歴や膜厚分布め不均一などによって平
坦さがなくなり、うねりなどを生じてしまう。この傾向
は下地基本が厚かったり、金属のような剛体であれば別
であるが、高分子膜の１００〜２００ミクロン厚のもの
でも、平坦化するのは難かしい。この傾向は磁性金属膜
厚に対する下地基体厚の比が小さい程著しるしく高分子
フィルムが５〜１０μｍ厚程度の、いわゆる磁気テープ
の場合は、金属膜が０．６μｍ厚であっても丸まってし
捷う。

本発明はこれらの問題を解決せんとするもので下地基体
厚が薄く、曲げ硬さの小さい物質の場合に特に有効であ
る。以下本発明の一実施例を説明する。

実施例１ 本発明の第１の実施例の構成を第３図に示す。

１１は下地高分子フィルムで、５０μｍ　厚（７：）　
マイラー又は４０〜５０μｍ厚のポリイミドである。

この上に高透磁率磁性層１２を０．３〜ｑ５μｍに真空
蒸着法又はスパッタリング法によって積層し、更にその
上に垂直容易軸を持つ磁気記録１３を０．３〜０．５μ
ｍ、スパッタリング法により育敗積層は。

更にこの記録層１３とは反対の裏側に、そりの補償層１
４をスパッタリング法により積層した。この補償層１４
の材料は磁性材料の一種のパーマロイであり、厚みは約
０．５ミクロンであった。これら金属膜の積層した磁気
記鐙用媒体は、自然放置で丸まったり、そり上ることも
なく補償層１４が有効に働いていることが確認できた。

この補償層１４の特性としては、高透磁率磁性層１２及
び磁気記録層１３と基体１１との熱膨張差による歪力と
、等価な歪力を示すものであればよい。一般に歪力は、
下地基体１１の熱膨張率と補償層１４材料の膨張率の差
ΔＣに、補償材料のヤング率と積層厚を乗じた積に比例
する、それ故、高透磁率磁性層１２および磁気記録層１
３の材料と厚みを知れば・補償層１４の材料と厚みを決
めることができる。金属の磁気記録層であれば、ヤング
率は殆んど同じということで、金属の補償材料を積層す
ればよい。

又この補償＠１４の材料として、アルミニウム、真ちゅ
う、ステンレス、クロムニッケルなど非磁性、磁性を問
わ子手近にある金属膜にても有効である。更に５ｉ０２
　、Ｓｉｎ、ＣａＦ２　、ガラｘ、５ｎ０２などの非金
属、絶縁体にても同様の効果が期待できる。

実施例２ 第４図は本発明の第２の実施例の構造を示したものであ
る。下地高分子フィルム１１は、マイラーで１０〜１２
．５μｍの厚みがあり、その上に記録層となるパーマロ
イ層１２と垂１百磁化膜例えばＧｏＯｒ合金層１３が積
層しているのは、実施例１と同様である。この記録層の
反対側のマイラーの表面に補償層として高分子表面層に
機械的及び熱的加工処理層１６を設けた構造になってい
る。この層は、マイラー面を細かい粒度のサンドブラス
トで荒らし、その後１４０”Ｃ以上の温度で熱処理を行
ってできたもので、表面は凹凸ができており、熱収縮に
よって磁気記録面の収縮歪力と同等の歪力を生じている
ものと思われる。この実施例は、フィルム面に物質を積
層、付着させたものではなく、物理的加工が必要である
。この加工処理は例えば、真空中でアルゴンガスや窒素
ガスプラズマのシャワーを照射する、いわゆるイオンミ
リング処泗全数分間行うもので良いし、又、同種ガスの
電極間スパッタ放電中をフィルムを通過させるのでも良
い。又、ガスイオンを高電界中で加速し、フィルム面に
障突させ表面を加熱硬化、収縮現象を起こすことでも良
い。これらの処理の結果、マイラーの金罵薄膜面による
平面性の欠落を補うことになり、そりやたわみが解放さ
れて、うねりのない片面金匡附着膜ができることになる
。

以上述べた如く本発明は基体の記録磁性層とは反対の而
に非磁気記録材料でできた補償層に形成することにより
、磁気記録用の金属合金薄膜を真空中で積層させた媒体
の表面性の平坦さを得ることができる。また磁気記録層
が一面にのみ形［戊した時にできる媒体のそりは、上記
のように保償層を設けることにより無くすことができる
ようにｈる。′また補償層の形成方法は、別の層を付着
させる方法以外にも、基体面に物理的加工法で直接歪を
支え、磁気記録面が生じている歪を補償するように加工
を加えることにより形成することもでき媒体のそりを無
くすことが可能になる。したがって本発明によれば媒体
の記録面にヘッドを接触させて媒体又はへ７Ｆを走行さ
せた時に、安定な接触ができるようになり、磁気記録・
再生特性が向上する。

【図面の簡単な説明】

第１図は垂直磁化記録方式の原理的構成を示す図、第２
図は従来の垂直磁気記録媒体の断面図、第３図、第４図
は本発明の一実施例における垂直磁気記録媒体の構成を
示す断面図である。 １１・・、・・・基体ベース膜、１２・・・・−・高透
磁率層、１３・・・・・・垂直磁筆記録層、１４・・・
・・・そりの補償層、１６・・・・・・そりの補償層と
ｋる加工処理層。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名＠１
図 第２１１ 第　３　図 第４図

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）高分子膜などの基体の一表面上に磁気記録薄膜を
   有し、この磁気記録薄膜とは反対側の基本表面上に、非
   磁気記録材料からなる補償層を設けたことを特徴とする
   垂直磁化記録媒体。
2. （２）補償層が非磁気記録材料の一層または多層薄層で
   あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の垂直
   磁化記録媒体。
3. （３）　　　　補償層が、基本表面に物理的または化学
   的加工を施した層であることを特徴とする特許請求の範
   囲第１項記載の垂直磁化記録媒体。