JPS6022730A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体及びその製造方法Info
- Publication number
- JPS6022730A JPS6022730A JP58131201A JP13120183A JPS6022730A JP S6022730 A JPS6022730 A JP S6022730A JP 58131201 A JP58131201 A JP 58131201A JP 13120183 A JP13120183 A JP 13120183A JP S6022730 A JPS6022730 A JP S6022730A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluorine
- recording medium
- protective film
- magnetic recording
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/725—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing a lubricant, e.g. organic compounds
- G11B5/7253—Fluorocarbon lubricant
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、オーディオ・ビデオ及び７ｏノビ−等の磁気
記録分野に利用する磁気記録媒体及びその製造方法に関
するものである。
記録分野に利用する磁気記録媒体及びその製造方法に関
するものである。
従来例の構成とその問題点
近年、磁気記録機器は小型・軽量化が進みそれに対応し
て磁気記録機器も高密度記録が可能で高性能なものが要
求され、バインダー中に磁性材料を混在し基板に塗布す
る方式から、スパッタリング法・イオンブレーティング
法あるいは蒸着等のペーパーデポジション法により磁性
金属薄膜を形成する磁気記録媒体が検討されている。
て磁気記録機器も高密度記録が可能で高性能なものが要
求され、バインダー中に磁性材料を混在し基板に塗布す
る方式から、スパッタリング法・イオンブレーティング
法あるいは蒸着等のペーパーデポジション法により磁性
金属薄膜を形成する磁気記録媒体が検討されている。
以下に従来の磁気記録媒体及びその製造方法について説
明する。
明する。
第１図はペーパーデポジション法により作成された従来
の磁気記録媒体の断面を示すものであり、１は非磁性材
料からなる基板、２は磁性金属薄膜、３は保護膜である
。
の磁気記録媒体の断面を示すものであり、１は非磁性材
料からなる基板、２は磁性金属薄膜、３は保護膜である
。
以上のように構成された従来の磁気記録媒体について、
以下詳細に説明する。非磁性材料（例えばポリエステル
）からなる基板１は８〜２０μｍの厚みで０．１８程変
の表面粗さがある。この基板１上にペーパーデポジショ
ン法で１０００〜１５００人の磁性金属薄膜２（材料と
してはＣｏ、Ｃｒ、Ｎｉ。
以下詳細に説明する。非磁性材料（例えばポリエステル
）からなる基板１は８〜２０μｍの厚みで０．１８程変
の表面粗さがある。この基板１上にペーパーデポジショ
ン法で１０００〜１５００人の磁性金属薄膜２（材料と
してはＣｏ、Ｃｒ、Ｎｉ。
Ｆｅｅｔｃ）を設ける。この磁性金属薄膜１層とは限ら
ず多層となる場合があシ、例えば垂直磁気記録用の磁性
金属薄膜は、録再特性・配向性向上のためにパーマロイ
Ｐａ、チタンＴｉ 等の薄膜層を垂直磁化層（Ｃｏ−Ｃ
ｒ 層）の下に設ける２層構造としている。磁性金属膜
２の上には磁性金属膜２を保護し、かつ磁気記録媒体の
滑り性を良好にするために有機物（例えばエポキシ樹脂
ａｔｅ）からなる保護膜３を設けている。しかしながら
上記の磁気記録媒体には以下に述べる問題点がある。
ず多層となる場合があシ、例えば垂直磁気記録用の磁性
金属薄膜は、録再特性・配向性向上のためにパーマロイ
Ｐａ、チタンＴｉ 等の薄膜層を垂直磁化層（Ｃｏ−Ｃ
ｒ 層）の下に設ける２層構造としている。磁性金属膜
２の上には磁性金属膜２を保護し、かつ磁気記録媒体の
滑り性を良好にするために有機物（例えばエポキシ樹脂
ａｔｅ）からなる保護膜３を設けている。しかしながら
上記の磁気記録媒体には以下に述べる問題点がある。
磁気記録媒体の特性を考える場合、ヘッドと磁性金属薄
膜２間のスペーシングロスとなる保護膜３は設けない方
が良く、基板１の表面粗さもより鏡面であることが望ま
れる。しかし保護膜３を設けない場合、録再用ヘッド及
び磁気記録媒体ガイドポストと磁性金属薄膜が直接接触
することとなり、両者間の動摩擦係数は非常に大きくな
ってスティックスリップに起因する鳴きが発生すると共
に、録再用ヘッド及び磁気記録媒体ガイドポストの摩耗
が著しく増加する。また、磁性金属薄膜表面にも傷が入
シ、極端な場合には磁性金属薄膜２の一部がはげおちる
ことがある。以上の理由から保護膜３は必要不可欠なも
のである。保護膜３としてば（１）滑シ性が良く動摩擦
係数が小さい、（（ロ）耐摩耗性に優れヘッド目づまシ
のないこと、の２点が必要となるが、特に第２項目を満
足するのは難しく、薄い膜厚で耐摩耗性を維持するのは
困難で一定の膜厚が必要となる。例えばエポキシ樹脂を
保護膜３として用いる場合、膜厚は０．１μｍ 付近が
最適でそれより薄くなると耐摩耗性が劣下し、厚くなる
と保護膜自身が削れヘッド目づまりの原因となる。従っ
てＯ，１μｍのスペーシングロスが生じることになる。
膜２間のスペーシングロスとなる保護膜３は設けない方
が良く、基板１の表面粗さもより鏡面であることが望ま
れる。しかし保護膜３を設けない場合、録再用ヘッド及
び磁気記録媒体ガイドポストと磁性金属薄膜が直接接触
することとなり、両者間の動摩擦係数は非常に大きくな
ってスティックスリップに起因する鳴きが発生すると共
に、録再用ヘッド及び磁気記録媒体ガイドポストの摩耗
が著しく増加する。また、磁性金属薄膜表面にも傷が入
シ、極端な場合には磁性金属薄膜２の一部がはげおちる
ことがある。以上の理由から保護膜３は必要不可欠なも
のである。保護膜３としてば（１）滑シ性が良く動摩擦
係数が小さい、（（ロ）耐摩耗性に優れヘッド目づまシ
のないこと、の２点が必要となるが、特に第２項目を満
足するのは難しく、薄い膜厚で耐摩耗性を維持するのは
困難で一定の膜厚が必要となる。例えばエポキシ樹脂を
保護膜３として用いる場合、膜厚は０．１μｍ 付近が
最適でそれより薄くなると耐摩耗性が劣下し、厚くなる
と保護膜自身が削れヘッド目づまりの原因となる。従っ
てＯ，１μｍのスペーシングロスが生じることになる。
基板１の表面粗さも動摩擦係数に影響する（第２図参照
）。第２図のＡは保護膜がない場合、Ｂは保護膜として
エポキシ樹脂を用いた場合である。
）。第２図のＡは保護膜がない場合、Ｂは保護膜として
エポキシ樹脂を用いた場合である。
即ち基板１０表面粗さが小さく々るほど動摩擦係数は大
きくなり、この傾向はエポキシ樹脂をコーティングした
場合も同様である。従って磁気記録媒体として実用上問
題のない動摩擦係数を保つには、基板１０表面粗さが０
，１ｓ（＝ｏ、１μｍ）必要であシ、この部分のスペー
シングロスはさけられない。オーディオに比べ、ＶＴＲ
や垂直記録の場合は録再波長が短かくスペーシングの影
響が犬きく、大きな問題点となっている。
きくなり、この傾向はエポキシ樹脂をコーティングした
場合も同様である。従って磁気記録媒体として実用上問
題のない動摩擦係数を保つには、基板１０表面粗さが０
，１ｓ（＝ｏ、１μｍ）必要であシ、この部分のスペー
シングロスはさけられない。オーディオに比べ、ＶＴＲ
や垂直記録の場合は録再波長が短かくスペーシングの影
響が犬きく、大きな問題点となっている。
また、現状の保護膜作成法は一般に塗布方式であシ、こ
の方式によると塗りむらが発生してステインクスリップ
の原因になったシ、微細的に観察すると有機物が粒状分
布（第３図参照）になってお９耐蝕性がないなどの問題
点がある。
の方式によると塗りむらが発生してステインクスリップ
の原因になったシ、微細的に観察すると有機物が粒状分
布（第３図参照）になってお９耐蝕性がないなどの問題
点がある。
発明の目的
本発明は上記従来の問題点を解消するもので、基板表面
粗さと保護膜厚みとによるスペーシングロスを極力減ら
し、かつ動摩擦係数μが小さく耐摩耗性の良い磁気記録
媒体及びその製造方法を提供することにある。
粗さと保護膜厚みとによるスペーシングロスを極力減ら
し、かつ動摩擦係数μが小さく耐摩耗性の良い磁気記録
媒体及びその製造方法を提供することにある。
発明の構成
本発明は非磁性材料から々る基板の表面に形成された磁
性金属薄膜と、この磁性金属薄膜上に含弗素有機物から
なる保護膜を設けた磁気記録媒体であシ、前記保護膜の
成分をプラズマ重合法で炭素Ｃと弗素Ｆの比Ｆ／Ｃが０
．９ 以上にすることにより、高性能でかつ滑υ性がよ
く、走行耐久性に優れた磁気記録媒体を得ることができ
るものである。
性金属薄膜と、この磁性金属薄膜上に含弗素有機物から
なる保護膜を設けた磁気記録媒体であシ、前記保護膜の
成分をプラズマ重合法で炭素Ｃと弗素Ｆの比Ｆ／Ｃが０
．９ 以上にすることにより、高性能でかつ滑υ性がよ
く、走行耐久性に優れた磁気記録媒体を得ることができ
るものである。
実施例の説明
磁気記録媒体の基本構造は第１図の１．２．３の三層か
らなるものであり、この実施例では保護膜の材料として
含弗素有機物を利用することが特徴であり、例えばクラ
イトックス１４３ＡＣ（デュポン）を保護膜材として用
いた時の走行耐久試験した結果を第４図に示す。クライ
トツクスを保護膜として用いた場合、エポキシ樹脂を保
護膜として用いた場合に比べ、表面粗さの小さな基板で
かつ保護膜厚を薄くした状態でも動摩擦係数が小さく耐
摩耗に優れた磁気記録媒体を作成することができた。ク
ライトックスによる保護膜作成法は塗布方式であるが、
含弗素有機物の保護膜作成にはペーパーデポジション法
でもよく、特に効果があっだのがプラズマ重合法である
。プラズマ重合法による膜の作成は一般にモノマーガス
に不活性ガス（例えばＡｒ）を加えた雰囲気に高周波電
力を加え、モノマーガスを一度分解させた後で重合させ
膜を作成する方法であるが、第４図に示した結果はモノ
マーガスとしてオクタンルオロシクロプタンＣ−０４Ｆ
８（ダイキン製）を用い、不活性ガスを用いずに作成し
た重合膜でその成分は炭素Ｃ２弗素Ｆ、酸素Ｏ１炭素と
弗素の成分比はＦ、Ｃ＝２．８であった。この結果から
れかるようにプラズマ重合法で保護膜を作成するとより
表面粗さの小さい基板で保護膜厚が薄い状態でも、動摩
擦係数が小さく耐摩耗性に優れた磁気記録媒体を作成す
ることができる。しかしながら塗布方式と異なりプラズ
マ重合法は一度モノマーガスを分解するため、モノマー
流量、供給電力等の重合条件によってはモノマーガス成
分と全く異なる成分の膜が作成される。そこで動摩擦係
数、走行耐久性に最も影響する弗素Ｆの含有率が重合条
件、プラズマ発生管の形状で変化する。第６，６図にＥ
ＳＣＡ分析によるプラズマ重合膜中の炭素Ｃと弗素Ｆと
の成分比と動摩擦係数、走行耐久性との関係を示す。Ｆ
／Ｃ値が大きくなる程、動摩擦係数は小さくなって滑り
性が良くなシ、走行耐久性も向上する。磁気記録媒体と
しての走行耐久性を得るには、炭素Ｃと弗素Ｆの成分比
Ｆ／Ｃが０．９以上の重合膜が必要である また、プラズマ重合で重合膜を作成する場合、磁性金属
薄膜の表面を水酸化物化しておくと、より均一で走行耐
久性のある含弗素有機物の重合膜を得ることができた。
らなるものであり、この実施例では保護膜の材料として
含弗素有機物を利用することが特徴であり、例えばクラ
イトックス１４３ＡＣ（デュポン）を保護膜材として用
いた時の走行耐久試験した結果を第４図に示す。クライ
トツクスを保護膜として用いた場合、エポキシ樹脂を保
護膜として用いた場合に比べ、表面粗さの小さな基板で
かつ保護膜厚を薄くした状態でも動摩擦係数が小さく耐
摩耗に優れた磁気記録媒体を作成することができた。ク
ライトックスによる保護膜作成法は塗布方式であるが、
含弗素有機物の保護膜作成にはペーパーデポジション法
でもよく、特に効果があっだのがプラズマ重合法である
。プラズマ重合法による膜の作成は一般にモノマーガス
に不活性ガス（例えばＡｒ）を加えた雰囲気に高周波電
力を加え、モノマーガスを一度分解させた後で重合させ
膜を作成する方法であるが、第４図に示した結果はモノ
マーガスとしてオクタンルオロシクロプタンＣ−０４Ｆ
８（ダイキン製）を用い、不活性ガスを用いずに作成し
た重合膜でその成分は炭素Ｃ２弗素Ｆ、酸素Ｏ１炭素と
弗素の成分比はＦ、Ｃ＝２．８であった。この結果から
れかるようにプラズマ重合法で保護膜を作成するとより
表面粗さの小さい基板で保護膜厚が薄い状態でも、動摩
擦係数が小さく耐摩耗性に優れた磁気記録媒体を作成す
ることができる。しかしながら塗布方式と異なりプラズ
マ重合法は一度モノマーガスを分解するため、モノマー
流量、供給電力等の重合条件によってはモノマーガス成
分と全く異なる成分の膜が作成される。そこで動摩擦係
数、走行耐久性に最も影響する弗素Ｆの含有率が重合条
件、プラズマ発生管の形状で変化する。第６，６図にＥ
ＳＣＡ分析によるプラズマ重合膜中の炭素Ｃと弗素Ｆと
の成分比と動摩擦係数、走行耐久性との関係を示す。Ｆ
／Ｃ値が大きくなる程、動摩擦係数は小さくなって滑り
性が良くなシ、走行耐久性も向上する。磁気記録媒体と
しての走行耐久性を得るには、炭素Ｃと弗素Ｆの成分比
Ｆ／Ｃが０．９以上の重合膜が必要である また、プラズマ重合で重合膜を作成する場合、磁性金属
薄膜の表面を水酸化物化しておくと、より均一で走行耐
久性のある含弗素有機物の重合膜を得ることができた。
この理由は不明であるが、例えばモノマーガスとしてオ
クタンルオロシクロプタンＣ−０４Ｆ８（ダイキン製）
を使用した場合、Ｃ−ＣＦ が・ＣＦ２．・ＣＦ２に分
解すると共に磁性 ８ 金属薄膜表面のＣｏ−ＯＨのＨがプラズマにより分解さ
れ・ＣＦ２とＣ０−０が結合し、 また、プラズマ重合法で作成された重合膜は塗布方式の
ような有機物の粒状分布（第３図）がないため、耐蝕性
にも優れている。
クタンルオロシクロプタンＣ−０４Ｆ８（ダイキン製）
を使用した場合、Ｃ−ＣＦ が・ＣＦ２．・ＣＦ２に分
解すると共に磁性 ８ 金属薄膜表面のＣｏ−ＯＨのＨがプラズマにより分解さ
れ・ＣＦ２とＣ０−０が結合し、 また、プラズマ重合法で作成された重合膜は塗布方式の
ような有機物の粒状分布（第３図）がないため、耐蝕性
にも優れている。
以上のようにこの実施例によれば、磁性金属薄膜の上に
含弗素有機物の保護膜を設け、この保護膜をプラズマ重
合法にょシ炭素Ｃと弗素Ｆの比Ｆ／Ｃが０．９ 以上と
なる様な成分にすることで、高性能でかつ滑り性がよく
走行耐久性に優れた磁気記録媒体を得ることができる。
含弗素有機物の保護膜を設け、この保護膜をプラズマ重
合法にょシ炭素Ｃと弗素Ｆの比Ｆ／Ｃが０．９ 以上と
なる様な成分にすることで、高性能でかつ滑り性がよく
走行耐久性に優れた磁気記録媒体を得ることができる。
発明の効果
本発明の磁気記録媒体は、磁性金属薄膜上に含弗素有機
物の保護膜を設け、該保護膜の成分をプラズマ重合法に
より炭素Ｃと弗素Ｆの比Ｆ／Ｃが０．９以上とすること
で、高性能で滑り性がよく走行耐久性に優れた磁気記録
媒体を得ることができ、この実用的効果は大きい。
物の保護膜を設け、該保護膜の成分をプラズマ重合法に
より炭素Ｃと弗素Ｆの比Ｆ／Ｃが０．９以上とすること
で、高性能で滑り性がよく走行耐久性に優れた磁気記録
媒体を得ることができ、この実用的効果は大きい。
第１図は従来の磁気記録媒体の断面図、第２図は基板表
面粗さと動摩擦係数との関係を示すグラフ、第３図は従
来の磁気記録媒体の表面拡大図、第４図は本発明の磁気
記録媒体とその製造方法を説明するための繰シ返し走行
回数と動摩擦係数との関係を示す特性図、第６図は同Ｆ
（弗素）／Ｃ＠素）値と動摩擦係数との関係を示す特性
図、第６図はＦ（弗素）／Ｃ（炭素）と繰り返し走行回
数との関係を示す特性図である。 １・・・・・・基板、２・・・・・・磁性金属薄膜、３
・・・・・・保護膜。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 ３ 第２図 基板表面粗さ 【Ａ渭ノ 第３図 第４図 第５図 Ｆｌｃ 橿 第６図 Ｆｌｃ イ直
面粗さと動摩擦係数との関係を示すグラフ、第３図は従
来の磁気記録媒体の表面拡大図、第４図は本発明の磁気
記録媒体とその製造方法を説明するための繰シ返し走行
回数と動摩擦係数との関係を示す特性図、第６図は同Ｆ
（弗素）／Ｃ＠素）値と動摩擦係数との関係を示す特性
図、第６図はＦ（弗素）／Ｃ（炭素）と繰り返し走行回
数との関係を示す特性図である。 １・・・・・・基板、２・・・・・・磁性金属薄膜、３
・・・・・・保護膜。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 ３ 第２図 基板表面粗さ 【Ａ渭ノ 第３図 第４図 第５図 Ｆｌｃ 橿 第６図 Ｆｌｃ イ直
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）非磁性材料からなる基板の表面に形成された磁性
金属薄膜と、この磁性金属薄膜上に含弗素有機物層を設
けた磁気記録媒体。 に））磁性金属薄膜表面を水酸化物化するようにした特
許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。 （３）磁性金属薄膜上に設けた含弗素有機物の炭素Ｃと
弗素Ｆとの成分比をＦ／Ｃ＞０．９ 以上に設定した特
許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体・（４）非磁性
材料からなる基板の表面に磁性金属薄膜を形成し、この
磁性金属薄膜上にプラズマ重合法によって含弗素有機物
層を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58131201A JPS6022730A (ja) | 1983-07-18 | 1983-07-18 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58131201A JPS6022730A (ja) | 1983-07-18 | 1983-07-18 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6022730A true JPS6022730A (ja) | 1985-02-05 |
Family
ID=15052398
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58131201A Pending JPS6022730A (ja) | 1983-07-18 | 1983-07-18 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6022730A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6254828A (ja) * | 1985-09-03 | 1987-03-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気テ−プの製造方法 |
| US10471036B2 (en) | 2003-09-09 | 2019-11-12 | 3M Innovative Properties Company | Antimicrobial compositions and methods |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5894130A (ja) * | 1981-11-28 | 1983-06-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS58102331A (ja) * | 1981-12-15 | 1983-06-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS58194131A (ja) * | 1982-05-04 | 1983-11-12 | Nec Corp | 磁気記憶体の製造方法 |
-
1983
- 1983-07-18 JP JP58131201A patent/JPS6022730A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5894130A (ja) * | 1981-11-28 | 1983-06-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS58102331A (ja) * | 1981-12-15 | 1983-06-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS58194131A (ja) * | 1982-05-04 | 1983-11-12 | Nec Corp | 磁気記憶体の製造方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6254828A (ja) * | 1985-09-03 | 1987-03-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気テ−プの製造方法 |
| US10471036B2 (en) | 2003-09-09 | 2019-11-12 | 3M Innovative Properties Company | Antimicrobial compositions and methods |
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