JPS60237623A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を磁気
記録層とする磁気記録媒体に関する。

従来例の構成とその問題点 近年、磁気記録の高密度化は著しく進歩し、強磁性金属
薄膜での記録再生が待望されるに至っている。しかし現
状では充分な耐久性を有する、かかる磁気記録媒体の構
成は知られていない。

即ち、現状で最も狭トラツクで短波長記録を行っている
回転シリンダに搭載した磁気ヘッドでのヘリカルスキャ
ンアジマス記録では、多くの場合スリ傷の発生で強磁性
金属薄膜が破壊される不具合がある。これは保護膜が薄
い場合、起り易いことは容易に予測され、現実に、スパ
ッタ膜や、めっき膜、プラズマ重合膜のいずれでも、或
いは、脂肪酸、脂肪酸エステル、の湿式塗布膜、真空蒸
着膜のいずれであっても、０．０５μｍ以下では殆んど
保護膜を破壊して、強磁性金属膜も破壊を受ける。この
破壊現象を避けるＫは、例えば０．１μｍ以上の厚みの
シラン系重合膜をプラズマ重合法により得る方法が知ら
れるが、この厚みでは、短波長記録例えば０．８μｍ以
下の記録再生は実質的に不可能で、磁気記録媒体として
の機能が失われてしまう。かかる矛盾を解消するには、
強磁性金属薄膜と保護膜を従来のように別個に改良する
のではなく、お互いの関連に於てとらえることが有効に
思える。

発明の目的 本発明は上記事情に鑑みなされたもので、同一個所をく
り返し磁気ヘッドで摺接した時の耐久性に優れた磁気記
録媒体を提供することでるる。

発明の構成 成する結晶粒子が、表面偏析現象を起こしたものであっ
て、その保護膜のプラズマ重合膜が、表面で酸化されて
いることを特徴とし、高速で摺接する磁気ヘッドによる
記録再生での耐久性が良好なものである。

実施例の説明 以下図面を参照しながら本発明を説明する。

第１図は本発明の実施例における磁気記録媒体の構成の
一例である。第１図に於て、１は高分子基板、２は強磁
性金属、薄膜、３はプラズマ重合膜で、このプラズマ重
合膜は厚み方卵に変化があり、表面層５と内部層４に分
れ、５の表面層は酸化された状態になっているもので、
酸素量の分布でみると表面層５が内部層４より元素とし
て多く含捷れでいることを意味する。

第２図は、本発明の強磁性金属薄膜（第１図の２）の拡
大断面図で、結晶粒子６は内部層８と表面偏析層７に分
けられる。表面偏析層７には内部層を構成する元素の一
部が、濃度的に表面に多く存在することを意味する。

本発明に用いることの出来る基板は、ポリエチレンテレ
フタレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポ
リオレフィン如、セルローストリアセテート、ニトロセ
ルロース等のセルロース誘導体、ポリアミド、ポリアミ
ドイミド、ポリパラパニック酸、ポリイミド等が挙げら
れる。

本発明に用いることの出来る強磁性金属薄膜としてに、
電子ビーム蒸着法、スパッタリング法、イオンブレーテ
ィング法、無電解めっき法等で形成した、Ｇｏ　、　Ｆ
ｅ　、　Ｎｉ　、　Ｇｏ−Ｎｉ　、　Ｇｏ−Ｆｅ　、　
Ｃｏ−Ｃｅ。

Ｇｏ−Ｏｒ　、Ｇｏ−Ｃｕ　、　Ｇｏ−Ｂ　、　Ｃｏ−
Ｂ１　、Ｇｏ−Ｇｅ　；０ｏ−Ｌａ　、Ｇｏ−Ｍｇ　、
Ｇｏ−Ｍｎ　、Ｃｏ−Ｍｏ　、Ｇｏ−Ｐ　、Ｇｏ−Ｐｔ
。

Ｇｏ−Ｒｕ　、　Ｃｏ−Ｒｈ　、　Ｇｏ−３ｎ　、　Ｃ
ｏ−８ｍ　、　Ｇｏ−８ｉ　、　Ｃｏ−Ｔｉ　、　Ｃｏ
−Ｔａ　、Ｃｊｏ−Ｖ　、Ｇｏ−Ｗ　、　Ｇｏ−Ｎｉ−
Ｏｒ　、Ｇｏ−Ｏｒ−Ｒｂ　、　Ｇｏ−Ｎｉ−Ｐ及びそ
れらの部分酸化膜、部分窒化膜等で磁化容易軸とは関係
ないが、表面偏析した結晶粒子から成ることが条件とな
る。

この薄膜を得るには、基板温度をめげる方法と、エネル
ギーの付与をイオン化して行う方法、材料の組み合わせ
を選ぶ等が前述の薄膜形成法の中でで適宜撰択される。

本発明に用いることの出来るプラズマ重合膜に、厳密に
連続膜でなくてもよく、その場合でも本発明の構成要件
を満足すれば良い。

プラズマ重合膜の形成方法は、重合装置により連続して
グロー放電を利用するもので、放電電力、印加電圧の周
波数、放電電極の位置等、公知文献を参照しながら適宜
工夫きれるもので、使用されるモノマーの種類は、ポリ
テトラフルオロエチレン、弗素化ポリエチレンの如きフ
ルオロカーボン類、ポリクロロトリフルオロエチレン等
のクロロフルオロハイドロカーボン類、ポリ弗化ビニリ
デン、ポリ弗化ビニル等のフルオロノ・イドロカーボン
類、ポリアミド類、ポリイミド類、ポリカーボネート類
、ポリフェニレンオキサイド類、ポリエチレンのような
炭化水素類、アリルアミン、アクリルアミド類、ピリジ
ン、エチレンオキサイド等のへテロ原子を含む環状有機
化合物、テトラアルキルシラン、トリアルキルシラン等
のシラン類等の単一、又は混合物で材料に限定はない。

プラズマ重合膜形成後、表面層を酸化処理するには、好
ましくは、酸素やＣｏ、Ｃｏ２　等の単−又に混合、或
いは、不活性ガスとの混合気体でグロー放電処理すれば
よい。

処理された膜に、オージェ電子分光分析法により、処理
されない膜と識別でき、特徴的なプロファイルをもつ。

そ、ｌ′１−は、表面に酸素原子が局在しているか、内
部より高い濃度で存在することを示すかのいずれかであ
る。

本発明のプラズマ重合膜は、磁気記録を対象とするもの
であるから、厚みには上限があり、゛スペーシンダ損失
の点から５００Å以上で構成することは殆んど意味をな
さない。

かかる厚み領域で、本発明の構成により、磁気ヘッドに
より、同一個所をくり返し摺動しても、安定な出力を維
持できるのは、強磁性薄膜が、表面偏析した結晶粒子か
らなりたっているため、硬度があり、かつプラズマ重合
膜も表面硬度が高くなっているため、硬い層の間にスプ
リングが存在するようになり、磁気ヘッドから受ける衝
撃を吸収できるためと予測される。

以下さらに具体的な一実施例を説明する。

厚さ１２μｍのポリイミドフィルム上に高周波スパッタ
リング法により、Ｎｉ−Ｆｅ　（８０ｗｔ％Ｎｉ）、ｃ
ｏ−ｃｒ　（ｃｒ　２０　ｗｔ％）の２層構造の垂直媒
体を形成した。

ポリイミドフィルムの温度を１２０’ＣＫ制御し、Ｎｉ
−Ｆｅは０．４３　μｍ　、　Ｇｏ−Ｏｒは０．１３μ
ｍで、放電ガスにアルゴンで、放電電源の周波数１ｄ１
３．５６ＭＨｚ　とした。得られたＧｏ−Ｏｒ膜は直径
４２０人〜５００人の柱状結晶で結晶粒子の表面ＫＣｒ
の偏析層が約５０人出来ているもので、この薄膜の上に
、プラズマ重合膜を形成した。

その上で、放電処理を行い、表面酸化層を形成した。放
電電源は前記スパッタ電源を共用した１、表面酸化層は
Ｘ線電子分光分析と、オージェ電子分光分析で推定した
。

比較例として酸化層をもたないものを準備した。

これらを８訪幅の磁気テープとして、比較検討した。磁
気テープ上の任意位置を選んで、同一個所を各種の磁気
ヘッドで摺動させ、記録波長。、４５μｍの再生出方が
３ｄＢ初期値より低下するまでの時間を耐久時間として
評価した。

以下余白 本実施例によれば、プラズマ重合膜の酸化層と表面偏析
した結晶粒子からなる強磁性金属薄膜との組み合わせに
より、耐久性が優れている媒体が得られる。

他の材料の組み合わせ及び形態として磁気テープ以外に
もディスク状、ソート状の媒体に於ても本発明の効果を
確認した。

発明の効果 本発明の磁気記録媒体は強磁性金属薄膜を構成する結晶
粒子が、表面偏析状態にあり、その保護膜がプラズマ重
合膜で且つ表面が酸化されていることを特徴とし、高速
で摺接する磁気ヘッドによる記録再生に於ける耐久性が
優れたものでその実用的効果は太きい。

【図面の簡単な説明】 第１図は本発明の磁気記録媒体の拡大断面図、第２図は
強磁性金属薄膜の拡大モデル図でるる。 １・・・・高分子基板、２・・・強磁性金属薄膜、３・
・・・プラズマ重合膜、５−　・プラズマ重合膜の酸化
層、６・・・・・・結晶粒子、了・・・・・表面偏析層
。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 強磁性金属薄膜を構成する結晶粒子が、表面偏析状態に
   あり、その保護膜がプラズマ重合膜で且つ、表面が酸化
   されていることを特徴とする磁気記録媒体。