JP2018194840A - カーボンナノチューブペリクル膜の形成方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (15)
- 極端紫外線リソグラフィレチクル(410)のためのカーボンナノチューブペリクル膜(102,202)を形成する方法(500)であって、
前記方法は、
少なくとも1つのカーボンナノチューブフィルム(104,204a,204b)のオーバーラップするカーボンナノチューブ(110,210)を、前記少なくとも1つのカーボンナノチューブフィルム(104,204a,204b)を第1の加圧面(106,206)と第2の加圧面(108,208)の間で加圧することによって、共に結合するステップを含み、これにより、自立型カーボンナノチューブペリクル膜(102,202)を形成する方法。 - 前記少なくとも2つのカーボンナノチューブフィルム(204a,204b)は、第1の加圧面(106,206)と第2の加圧面(108,208)の間で加圧される請求項1の方法(500)。
- 前記方法は、前記少なくとも1つのカーボンナノチューブフィルム(104,204a,204b)を加圧する前に、コーティングを前記少なくとも1つのカーボンナノチューブフィルム(104,204a,204b)上に形成するステップをさらに含む請求項1または2の方法(500)。
- 前記コーティングを形成するステップは、B、B4C、ZrN、Mo、Ru、SiC、TiNおよびa−Cからなる群から選択される少なくとも1つの材料を含むコーティングを形成するステップを含む請求項3の方法(500)。
- 前記加圧は、0.1kPa〜30MPaの圧力を加えるステップを含む請求項3または4の方法(500)。
- 前記少なくとも1つのカーボンナノチューブフィルム(104,204a,204b)のオーバーラップするカーボンナノチューブ(110,210)は、前記カーボンナノチューブ(104,204a,204b)がオーバーラップする位置で直接接触している請求項1の方法(500)。
- 前記第1の加圧面(206)および/または前記第2の加圧面(208)には、突出パターン(206a,208a)が設けられている請求項1ないし6のうちいずれか1項の方法(500)。
- 前記突出パターン(206a,208a)は、前記少なくとも1つのカーボンナノチューブフィルム(104,204a,204b)の前記カーボンナノチューブ(110,210)または前記少なくとも1つのカーボンナノチューブフィルムの束(110)の平均長さよりも小さいピッチを有するパターンを含む請求項7の方法(500)。
- 前記方法は、前記少なくとも1つのカーボンナノチューブフィルム(104,204a,204b)を加圧しながら、前記少なくとも1つのカーボンナノチューブフィルム(104,204a,204b)を加熱するステップ(506)をさらに含む請求項1ないし8のうちいずれか1項の方法(500)。
- 前記方法は、グラフェンフレーク(302)を前記カーボンナノチューブペリクル膜(102,202)の主表面上に堆積させることによって、グラフェンフレークコーティング層(300)を形成するステップ(510)をさらに含む請求項1ないし9のうちいずれか1項の方法(500)。
- 前記グラフェンフレーク(302)の主表面に沿った横方向寸法は、75nmと50μmとの間である請求項10の方法(500)。
- 極端紫外線リソグラフィのためのペリクル(400)を形成する方法(500)であって、
前記方法は、
請求項1ないし11のうちいずれか1項に従ってカーボンナノチューブペリクル膜(102,202)を形成するステップと、
前記カーボンナノチューブペリクル膜(102,202)をペリクルフレーム(402)に固定するステップ(512)を含む方法。 - コーティングが前記カーボンナノチューブペリクル膜(102,202)上に形成されている請求項12の方法(500)であって、前記固定するステップ(512)の行為は、
前記カーボンナノチューブ膜(102,202)を前記ペリクルフレーム(402)の支持面(402a)上に配置するステップと、
前記カーボンナノチューブペリクル膜(102,202)と前記ペリクル支持面(402a)とを互いに加圧することによって、前記カーボンナノチューブペリクル膜(102,202)と前記ペリクル支持面(402a)の前記コーティングを共に結合するステップを含み、これにより、前記カーボンナノチューブペリクル膜(102,202)を前記支持面(402a)に固定する方法。 - 前記支持面(402)は、第1の材料によって形成され、前記コーティングは、第2の材料によって形成され、
前記第1の材料は、金属または半導体であり、
前記第2の材料は、金属または半導体である、
請求項13の方法(500)。 - 極端紫外線リソグラフィのためのレチクルシステム(412)を形成する方法(500)であって、
前記方法は、
請求項12ないし14のうちいずれか1項に従ってペリクル(400)を形成するステップと、
前記ペリクル(400)をレチクル(410)上に取り付けるステップとを含む方法。
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