CN108873596A - 用于形成碳纳米管防护件薄膜的方法 - Google Patents

用于形成碳纳米管防护件薄膜的方法 Download PDF

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Abstract

本发明构思涉及形成用于极紫外线光刻掩模板(410)的碳纳米管防护件薄膜(102、202)的方法，所述方法包括：通过将至少一个碳纳米管薄膜(104、204a、204b)压制在第一按压表面(106、206)和第二按压表面(108、208)之间来将至少一个碳纳米管薄膜(104、204a、204b)的重叠碳纳米管(110、210)结合在一起(502)，由此形成自立式碳纳米管防护件薄膜(102、202)。本发明构思还分别涉及形成用于极紫外线光刻的防护件(400)的方法和形成用于极紫外线光刻的掩模板系统(412)的方法。

Description

用于形成碳纳米管防护件薄膜的方法
技术领域
本发明构思分别涉及形成用于极紫外线光刻掩模板(reticle)的碳纳米管防护件(pellicle)薄膜的方法、形成用于极紫外线光刻的防护件的方法和形成用于极紫外线光刻的掩模板系统的方法。
背景技术
在半导体制造中，各种光刻工艺在限定器件和电路图案的过程中广泛使用。取决于待限定特征件的尺寸，可以使用不同光学光刻工艺。通常，随着图案变得更小，会采用更短的波长。在极紫外线光刻EUVL中，常常使用约13.5nm的波长。在EUVL中，存在于光掩模或掩模板上的图案可以通过用EUV辐射照射掩模板而转移到对EUV辐射敏感的层上。EUV光通过掩模板图案调节并成像到涂敷光刻胶的晶片上。
在常规光刻中，防护件通常放置在掩模板之上以保护掩模板在处理和曝露等期间免受污染。防护件将因此保护掩模板避免不希望的颗粒以其它方式对图案转移到晶片的保真度产生负面影响。由于暴露期间防护件仍然保持在掩模板上方，因此在吸收性、耐久性和颗粒屏蔽能力等方面上对防护件有严格的要求。
然而，当谈到EUVL时，已经证明找到合适的防护件候选者有挑战性。即使对于非常薄的材料厚度，常规深紫外线(DUV)防护件也通常呈现对极紫外线的过度吸收。此外，极紫外线的高能量与扫描仪环境结合易于损坏防护件薄膜的材料。因此，已经证明识别与EUVL兼容的防护件设计是一件麻烦的事情。
发明内容
鉴于上文所述，本发明构思的总体目的是提供极紫外线光刻掩模板的防护件薄膜，使得防护件适合在EUVL中使用。可从下文中理解其它目的：
根据本发明构思的第一方面，该目标和其它目标通过用于极紫外线光刻掩模板的碳纳米管防护件薄膜的形成方法来实现，所述方法包括：通过在第一按压表面和第二按压表面之间压制至少一个碳纳米管薄膜来将该至少一个碳纳米管薄膜的重叠碳纳米管结合在一起，由此形成自立式碳纳米管防护件薄膜。
通过本发明的方法，用于极紫外线光刻掩模板的碳纳米管防护件薄膜或者更短的CNT防护件薄膜可以通过在第一按压表面和第二按压表面之间压制至少一个碳纳米管薄膜来形成。该至少一个碳纳米管薄膜因此可以压制在按压表面之间，以使得该至少一个CNT薄膜的重叠或交叉的CNT结合在一起，由此可以形成自立式CNT防护件薄膜。
根据本发明构思形成的自立式CNT防护件薄膜提供了对EUV辐射或EUV光具有低吸收的机械稳定薄膜。EUV光可以具有1nm至40nm的波长。
应注意，在本申请的上下文中，术语“CNT薄膜”可以是指CNT的任何连接设置，如由单独CNT或CNT束形成的网状物(mesh)、网(web)、网格或类似物。各CNT薄膜的单独CNT(其可以是单壁CNT或多壁CNT，MWCNT)可以对齐以形成束。该对齐的CNT束倾向于在CNT薄膜制造过程中自发形成。因此，使得重叠碳纳米管结合在一起可以包括将重叠的单独CNT或重叠的CNT束结合在一起。
CNT薄膜的CNT或CNT束可以随机排列在CNT薄膜中。然而，CNT薄膜的CNT或CNT束可以沿着主导或主要方向，或者沿着多个主要方向排列或对齐。
应注意，在本申请上下文中，术语“自立式CNT防护件薄膜”可以是指自立式或自支撑的任何CNT膜，也就是其在通过框(例如防护件框)悬挂在其边缘时能够支撑其自身重量。换言之，自立式CNT防护件薄膜能够在具有与EUV防护件中使用相关的尺寸时支撑其自身重量，而没有任何明显的下垂。
由此形成的防护件薄膜因此可以适用于在EUV防护件中使用。通过将至少一个CNT薄膜压制在按压表面之间所形成的薄膜将比用于形成该薄膜的一个或多个CNT薄膜明显更坚固。提高的强度由一个或多个CNT薄膜的重叠CNT的结合导致。
优选地，所述至少一个CNT薄膜(即使在所述方法的压制之前)是自立式或自支承CNT薄膜，即，在通过例如框(如防护件框)悬挂时能够支撑其自身重量的薄膜。
CNT薄膜的CNT可以是单壁CNT(SWCNT)。因此，至少一个CNT薄膜中的每一个可以由SWCNT或SWCNT束形成。SWCNT可以描述为单一石墨烯片的圆柱状或管状分子。至少一个CNT薄膜可以由直径范围0.5至2nm的SWCNT形成。SWCNT通常可以呈现有利的低EUV辐射吸收。
CNT薄膜的CNT也可以是多壁CNT(MWCNT)。因此，至少一个CNT薄膜中的每一个可以由MWCNT或MWCNT束形成。MWCNT可以描述为SWCNT或石墨烯片的两个或更多个同心圆柱管。至少一个CNT薄膜可以由直径范围5至30nm的MWCNT形成。
应注意，在本申请的上下文中，术语“结合在一起”可以是指导致重叠CNT之间任意类型吸引力的任意类型的相互作用，所述吸引力大于仅通过将CNT置于彼此顶部上而产生的吸引力。所导致的吸引力在此处是指在将来自按压表面的压力去除后仍然保持的力。
如下文可能进一步描述的，结合可以是重叠CNT之间的直接化学结合或重叠CNT表面上存在的涂层、物质(species)、分子或类似物之间结合的结果。换言之，结合可以直接在对应的重叠CNT的碳原子之间，或间接在例如存在并固定到重叠CNT表面上的涂层之间。
结合可以在同一薄膜的重叠CNT之间形成。或者或此外，结合可以在不同薄膜的重叠CNT之间形成。这意味着当根据本发明构思压制超过一个CNT薄膜时，所述薄膜将通过在压制期间发生的结合而彼此结合。换言之，这些薄膜将变成彼此固定，由此形成自立式CNT防护件薄膜。
应注意到本申请上下文中的“压制”可以是指施加任意类型的机械压力。换言之，可以预期可施加到至少一个CNT薄膜的任何机械压力。有利的是，向至少一个CNT薄膜施加至少0.1kPa的压力。
应注意到本申请上下文中，术语“按压表面”可以是指可用于向至少一个CNT薄膜施加机械压力的表面类型。因此，可以驱动或移动第一和/第二按压表面以施加机械压力。通常，按压表面中的一个典型地移动并压向另一按压表面。
因此，本发明的构思能够获得形成自立式CNT防护件薄膜的方法，其中，如此形成的自立式CNT防护件薄膜呈现出相对而言较高的机械强度和较低的EUV光吸收。如此形成的CNT防护件薄膜的颗粒屏蔽或保护性能和耐化学性能通过重叠CNT之间的结合来提高。
根据一实施方式，可以将至少两个CNT薄膜压制在第一按压表面和第二按压表面之间，有利的是可以形成孔径减小的机械坚固的自立式CNT防护件薄膜。
至少两个CNT薄膜可以设置在彼此顶部(以堆叠方式)，随后通过在按压表面之间进行压制来结合在一起。通过该设置，至少两个CNT薄膜可以在压制期间彼此结合，以形成自立式CNT防护件薄膜。仅举一些非限制性示例，CNT防护件薄膜可以例如包括2、3或4个CNT薄膜。可以使用任意数量的CNT薄膜。
根据一实施方式，所述方法可以还包括：在压制至少一个碳纳米管薄膜之前，在该至少一个碳纳米管薄膜上形成涂层。通过在压制至少一个碳纳米管薄膜之前在该至少一个碳纳米管薄膜上形成涂层，可以促进重叠的CNT结合在一起。通过在该至少一个碳纳米管薄膜上形成涂层，在CNT重叠位置处的涂层元素之间可能发生结合。此外，涂层可以减少CNT膜的残余应力量。
优选形成可以形成于至少一个CNT薄膜上的涂层，以使得涂层形成于至少一个CNT薄膜的单独CNT上或单独CNT束上。该涂层可以是保形涂层。优选地，涂层形成于CNT表面上，以使得CNT或CNT束被涂层部分封闭或完全封闭。
作为替代方案，涂层可以至少形成在至少一个CNT薄膜的表面部分上。在该情况下，厚度范围1至30nm的涂层可以至少形成在至少一个CNT薄膜的表面部分上。
有利的是，涂层的形成可以包括形成选自下组的材料的涂层：B、B4C、ZrN、Mo、Ru、SiC、TiN和a-C，或所述组中两种或更多种材料的组合。例如，涂层可以通过从上述组选择的材料的层的堆叠形成。通过形成涂层可以促进重叠CNT结合在一起。此外，涂层可以保护膜的CNT在EUVL期间，例如在氢等离子体清洗工艺期间，免受潜在的不利的加工环境影响。此外，通过形成涂层，所形成的自立式CNT防护件薄膜可以呈现较低的极紫外线吸收，使得膜适用于EUV应用。
根据一实施方式，压制可以包括施加0.1kPa至30Mpa的压力，其有利之处在于可以将重叠的CNT结合在一起。有利的是，结合在真空条件下发生。通过施加足够低的真空压力，可以在CNT重叠的位置处发生涂层冷焊，由此在重叠CNT之间形成坚固结合。
根据一实施方式，至少一个CNT薄膜的重叠CNT可以在CNT重叠或交叉位置处直接接触。因此形成了“仅CNT”膜。换言之，结合可以发生在重叠的未涂覆CNT之间。结合可以发生在同一CNT膜中的CNT之间或不同CNT膜的CNT之间。结合可以发生在(同一或不同CNT薄膜的)不同CNT束的CNT之间。
根据一实施方式，压制可以包括施加10至30GPa的压力。通过施加该范围内的压力，可以在重叠的未涂覆CNT之间发生结合。
根据一实施方式，第一按压表面和第二按压表面可以是平坦或光滑的表面，有利的是按压表面可以向至少一个CNT薄膜均匀施加压力。然而实际上，可以在CNT重叠的位置处形成增加的压力，因为膜或膜堆叠体的密度可能在重叠位置处较大。
根据一实施方式，第一按压表面和/或第二按压表面可以具有突出图案，有利的是压力可能在突出图案位置处增加或集中。因此，压力可能在与突出图案对应的位置处局部增加。使用突出图案可额外降低一个或多个按压表面接触至少一个CNT薄膜的表面积，由此减少了至少一个CNT膜粘附到按压表面的风险。
根据一实施方式，突出图案可以包括间距小于至少一个CNT薄膜的CNT或CNT束的平均长度的图案，有利的是可以形成足够数量的结合，以形成机械稳定的自立式CNT防护件薄膜。
应注意到本申请上下文中图案的“间距”可以是图案的连续突起之间的最小距离。距离可以是沿着具有突出图案的按压表面的表面方向的距离。突出图案的间距可以是例如200nm至200μm。突出图案的间距可以根据至少一个CNT薄膜的CNT的不同平均长度而采用。在束的长度通常明显大于单独CNT的长度的情况下，CNT可以被束集。
根据一实施方式，例如，突出图案可以由粗糙表面、一组突出针状物、线图案、正方形网格、六边形网格形成。有利的是，该图案可以用于得到压力局部增加的位置。突出图案可以是规则图案或者不规则图案。
根据一实施方式，第一按压表面和/或第二按压表面可以具有抗粘涂层，有利的是可以降低至少一个CNT膜粘附到一个或多个按压表面的风险。
抗粘涂层典型地可以是减少一个或多个按压表面的表面能的涂层。可以使用氟化烷基衍生物或氟化聚合物，例如聚四氟乙烯PTFE、氟化乙烯丙烯或全氟烷氧基。此外，石墨烯涂层、包含硫醇的自组装单层或包含烷基端基的自组装硫醇单层可用于防粘涂层。
根据一实施方式，所述方法可以还包括：在压制同时对至少一个CNT薄膜进行加热，其有利之处在于可以促进结合。例如，至少一个CNT薄膜可以在施加压力的同时加热至大于室温(如20℃)至500℃的温度范围。优选地，至少一个CNT薄膜可以在施加压力的同时加热至低于300℃的温度。
根据一实施方式，所述方法可以还包括：在所述压制之后，在形成膜的CNT上形成涂层，其中，形成涂层包括形成包含选自下组的材料的涂层：B、B4C、ZrN、Mo、Ru、TiN、SiC、a-C和石墨烯。通过在CNT防护件薄膜上形成涂层，可以调整CNT防护件薄膜的性能。此外，可以促进将CNT防护件薄膜附着至例如防护件框，如下文进一步描述的。
根据一实施方式，所述方法可以还包括：通过将石墨烯薄片(flake)沉积在CNT防护件薄膜的主表面上来形成石墨烯薄片涂层。
通过在CNT防护件薄膜的主表面上形成石墨烯薄片涂层，该薄膜可以更坚固，并且同时可以减小该薄膜的孔径。减小的孔径可改进该薄膜的颗粒屏蔽性能。
应注意到本申请上下文中的术语“石墨烯薄片”可以是指石墨烯的任意薄片。换言之，可以预期碳原子的六边形二维晶格的碳同素异形体的任何薄片。
吸引力典型地发生在相邻石墨烯薄片之间以及石墨烯薄片和CNT薄膜的CNT之间。因此，吸引力可能加强CNT薄膜。石墨烯薄片涂层的石墨烯薄片可以通过范德华力结合至自支撑CNT防护件薄膜。涂层的相邻石墨烯薄片可以通过范德华力相互结合。
根据一实施方式，石墨烯薄片可以具有超过CNT防护件薄膜孔尺寸的表面积，其有利的是石墨烯薄片可以设置在CNT防护件薄膜上，同时通过CNT防护件薄膜的CNT进行支撑。此外，具有超过CNT防护件薄膜孔尺寸的表面积的石墨烯薄片可以降低石墨烯薄片从CNT防护件薄膜上脱落的风险。
应注意到本申请上下文中的术语“孔尺寸”可以是指在CNT防护件薄膜上任意开口的任意尺寸。换言之，可以预期CNT防护件薄膜的CNT之间的任意开口的横截面积。孔可以通过形成开口或空隙的多个CNT进行限定，所述多个CNT以CNT防护件薄膜的延伸平面取向。
根据一实施方式，石墨烯薄片沿着其主表面的横向尺寸可以为75nm至50μm，有利的是，可以在CNT防护件薄膜上形成均匀的石墨烯薄片涂层，由此增加CNT防护件薄膜的表面积。
根据一实施方式，石墨烯薄片涂层的形成可以包括设置石墨烯薄片以覆盖相邻的石墨烯薄片，有利的是可以进一步提高CNT防护件薄膜的颗粒屏蔽性。此外，CNT防护件薄膜由于重叠的相邻石墨烯薄片之间的吸引力而变得更坚固。
根据一实施方式，石墨烯薄片涂层的形成可包括：将含有石墨烯薄片的溶液施加到CNT防护件薄膜上，并使得溶液的溶剂蒸发。这为涂覆石墨烯薄片涂层提供了方便且合理的方式。
有利的是，溶剂可以包括醇。通过将含有醇和石墨烯薄片的悬浮液施加到CNT防护件薄膜上，CNT防护件薄膜可以在形成石墨烯薄片涂层的同时变得致密化。通过在形成石墨烯薄片涂层的同时使得CNT防护件薄膜致密化，可以在形成涂层的同时提高薄膜的性能。
根据一实施方式，石墨烯薄片涂层的形成还可以包括加热CNT防护件薄膜，有利的是可以提高石墨烯薄片涂层的性能，同时可以使得CNT防护件薄膜更坚固。
例如，CNT防护件薄膜可以加热至高达1500℃的温度。优选地，纳米管防护件薄膜可以加热至高达600℃的温度。
根据一实施方式，形成石墨烯薄片涂层的步骤还可以包括向CNT防护件薄膜和石墨烯薄片施加压力，有利的是可以进一步提高石墨烯薄片涂层的性能。通过施加压力，石墨烯薄片可以在与CNT防护件薄膜的CNT结合的同时形成更均匀的石墨烯薄片涂层。
例如，当CNT防护件薄膜的CNT如前文所述经过涂敷时，可以向CNT防护件薄膜和石墨烯薄片施加0.1kPa至30MPa的压力。根据另一示例，当CNT防护件薄膜的CNT并未如前文所述受到涂敷时，可以向CNT防护件薄膜和石墨烯薄片施加10至30GPa的压力。
根据本发明构思的第二方面，提供了用于形成极紫外线光刻的防护件的方法。该方法包括：根据上文所公开的内容形成CNT防护件薄膜，并将CNT防护件薄膜固定到防护件框。通过将如上所公开类型的CNT防护件薄膜固定到防护件框，可以形成用于极紫外线光刻的防护件。如此形成的防护件因此可以有利地用于保护极紫外线光刻中使用的掩模板免受颗粒等影响。
根据一实施方式，涂层形成于碳纳米管防护件薄膜上，并且所述固定动作可以包括：将CNT薄膜置于防护件框的支撑表面上，并且通过将CNT防护件薄膜和防护件支撑表面压向彼此来将CNT防护件薄膜的涂层和防护件支撑表面结合在一起，由此将CNT防护件薄膜固定至支撑表面。通过将CNT防护件薄膜和防护件支撑表面压向彼此，可以在涂层和支撑表面之间发生结合，由此将CNT防护件薄膜固定到防护件框上。通过本方法，CNT防护件薄膜可以对于CNT防护件薄膜相对温和的方式固定到防护件框。
有利的是，可以施加0.1kPa至30MPa的压力至CNT防护件薄膜和防护件框的支撑表面。应注意的是，在CNT防护件薄膜上形成的涂层可以在压制至少一个CNT薄膜之前或之后形成。因此，涂层可以是在压制所述至少一个CNT薄膜之前形成在所述至少一个CNT薄膜的CNT上的涂层，也可以是形成于CNT防护件薄膜上的涂层。
根据一实施方式，支撑表面可以通过第一材料形成，并且涂层可以通过第二材料形成，所述第一材料可以是金属或半导体，所述第二材料可以是金属或半导体。通过由第一材料形成支撑表面和由第二材料形成涂层，CNT防护件薄膜可以通过冷焊固定到防护件框上。在冷焊过程中可能形成共晶。共晶可以在相对来说较低的温度下通过在所述材料之间的界面处的第一材料和第二材料来形成。
低的环境压力和/或升高的温度可以促进CNT防护件薄膜固定或冷焊至防护件框。可以使用低于1毫巴的压力。降低压力进一步使得能够在降低的温度下进行冷焊。有利的是，可以使用10-10毫巴至10-6巴的环境压力。在该范围内的环境压力使得防护件薄膜和防护件框可靠结合。
典型材料组合或系统也可以是金属—半导体系统，因为它们可以在相对来说较低的温度下形成共晶。然而，也可以使用用于金属-金属系统和半导体-半导体系统的冷焊。有利的是，形成共晶的材料组合包括：Ru和Ge；Pd和Ge；Ru和Si；Nb和Si。
根据一实施方式，第一材料和第二材料可以是相同的材料，有利的是，可以降低在结合在一起的过程中第一材料和第二材料中的一个破损的风险。换言之，如果相同的材料用于第一材料和第二材料，加工参数(例如，热量、压力等)可以不需要考虑材料性质的差异。
根据一实施方式，所述方法可以还包括：在施加压力的同时加热CNT防护件薄膜和防护件框，其有利之处在于可以促进结合。此外，热量和压力可以进行组合以使得CNT膜的应力大小受控。例如，CNT防护件薄膜和防护件框可以在施加压力的同时加热至100℃至500℃范围内的温度。在形成共晶的情况下，CNT防护件薄膜和防护件框可以优选在施加压力的同时加热至600℃至900℃范围内的温度。然而，将温度保持在低于600℃可以减少CNT防护件薄膜和涂层上的应力。
根据一实施方式，结合的动作可以包括：在向CNT防护件薄膜和防护件框施加压力低于1毫巴的真空的同时，通过机械压力将CNT防护件薄膜和支撑表面压制在一起，其有利之处在于可以进一步促进结合，并且可能发生冷焊。有利的是，机械压力可以是0.1kPa至30Mpa的压力。
根据一实施方式，所述方法还可以包括增加在CNT防护件薄膜中的拉伸应力。可以在将CNT防护件薄膜放置在防护件框上之前提高拉伸应力。然而，也可能在将CNT防护件薄膜附着到防护件框之后提高拉伸应力。可以通过使得CNT防护件薄膜经受热处理工艺来提高拉伸应力。热处理工艺可以包括：将CNT防护件薄膜加热至升高的温度(即，高于室温)。或者或此外，热处理工艺可以包括：将CNT防护件薄膜冷却至降低的温度(即，低于室温)。
拉伸应力还可以通过机械方式提高。因此，根据一实施方式，所述方法还可以包括：在将CNT防护件薄膜放置在防护件框上之前，沿横向方向拉伸CNT防护件薄膜。通过在将CNT防护件薄膜放置在防护件框上之前沿横向方向拉伸CNT防护件薄膜，可以抵消CNT防护件薄膜的下垂。换言之，如果在设置在防护件框上之前沿横向方向拉伸，CNT防护件薄膜可以呈现出下垂减少。
CNT防护件薄膜可以沿单一方向拉伸，即沿单一横向或表面方向拉伸。CNT防护件薄膜可以沿多个横向方向拉伸，例如，沿着其边缘的垂直方向或膜的横向径向方向。
根据一实施方式，防护件框可以包括：不同于第二材料的第三材料的框体。通过该设置，可以选择用于防护件框框体的合适材料而不影响防护件框支撑表面的性质。因此可以通过在例如机械强度、热膨胀或重量上具有所需性能的材料形成防护件框的框体，而不会负面影响防护件框的支撑表面的结合能力或性能。
防护件框可以通过Si、SiN、SiO2或石英形成。这些材料呈现出与CNT防护件薄膜的热膨胀相当的热膨胀。
防护件框的框体可以由多种材料形成以获得所需性能。例如，防护件框体可以通过设置在彼此顶部的材料层的堆叠体或不同材料的混合物形成。
防护件框的支撑表面可以形成为在防护件框体上的涂层，其有利之处在于防护件框体和支撑表面的性能可以基本上独立于彼此进行调节。此外，相同类型的防护件框体可以具有不同类型的支撑表面以适合不同需求。换言之，相同类型的防护件框体可以有利地与不同类型的CNT防护件薄膜或具有不同涂层的CNT防护件薄膜结合。
根据一实施方式，框体可以是透气的，这可能是有利的，因为当经受压力变化时防护件的CNT防护件薄膜可以经受较少的机械应力。通过透气的框体，空气可以在例如抽真空或压力增加的过程中通过框体材料迁移。这意味着框体可以有助于平衡在防护件的CNT防护件薄膜的一侧上发生的压力变化。
根据本发明构思的一个方面，提供了形成用于极紫外线光刻的掩模板系统的方法。该方法包括：根据上文所公开的内容形成防护件，并将防护件安装在掩模板上。通过将如上所公开类型的防护件安装到掩模板，可以形成用于极紫外线光刻的掩模板系统。因此，有利的是，所形成的掩模板系统可在极紫外线光刻中使用，其中，安装至掩模板的防护件通过用作物理屏障来保护掩模板免受颗粒影响。
附图简要说明
本发明构思的上述及其他目的、特征和优点将参考附图通过以下说明和非限制性的详细阐述进行更好地理解。除非另有说明，在附图中，相同的附图标记用于表示相同的元件。
图1是设置在按压表面之间的CNT薄膜和通过压制CNT薄膜所形成的CNT防护件薄膜的示意性透视图。
图2是设置在具有突出图案的按压表面之间的两个CNT薄膜和通过压制CNT薄膜所形成的CNT防护件薄膜的示意性透视图。
图3是在其上形成石墨烯薄片涂层的图1的防护件薄膜的示意性透视图。
图4显示了安装至掩模板的极紫外线光刻防护件的示意性截面图。
图5是根据本发明构思的方法的流程图。
如图所示，特征件、层和区域的尺寸为了说明的目的而被放大，并且因此提供用于说明本发明的实施方式的大致结构。相同的附图标记在本文中是指相同的元件。
具体实施方式
现在将参考附图在下文中更全面地描述本发明，其中，本发明的当前优选实施方式显示于附图中。然而，本发明可以许多不同的形式实施，并且不应受限于本文所述的实施方式；相反，提供这些实施方式是为了彻底和完整，并将本发明的范围充分传达给本领域技术人员。
现在将参考图1描述一种形成用于极紫外线光刻掩模板的CNT防护件薄膜102的方法。在图1中，CNT薄膜104设置在第一按压表面106和第二按压表面108之间。CNT薄膜104可以是预制CNT薄膜或可以结合设置在按压表面106、108之间而制造。图1的CNT 104薄膜是所谓的自立式CNT薄膜104，这意味着CNT薄膜104是自支撑的，也就是当由防护件框或类似物悬挂时它可以支撑其自身的重量。作为替代，可以使用不能支撑其自重的较不坚固的CNT薄膜。在任一种情况下，可以将CNT薄膜104设置在临时载体(未显示)上，例如以过滤器(如纤维素基过滤器或纸过滤器)的形式。
如图1示意性所示，CNT薄膜104的单独CNT 110彼此重叠，也就是单独CNT 110在CNT薄膜104中彼此交叉。CNT薄膜104的CNT 110优选单壁CNT(SWCNT)。然而，也可以使用双壁或多壁CNT(DWCNT或MWCNT)。
所示CNT薄膜104的单独CNT随机排列在CNT薄膜104中，也就是CNT110并未沿着主要或主导方向排列在CNT薄膜104中。然而，CNT薄膜104的CNT可以有序方式设置。例如，CNT110沿着主方向或多个主方向设置。
CNT也可以束在CNT薄膜104内，也就是多个单独CNT形成束(即线(string)状或绳状结构)，其中CNT薄膜由多个束形成，形成对齐取向或随机取向的CNT束的网。因此，如图1所示的各元件110或者可以称为CNT束。CNT束110可以包括例如2至20个单独的CNT。在CNT束110中，单独CNT可以沿着其纵向方向对齐和连接。一束CNT也可以头尾相连的连接，以使得CNT束的长度大于单独CNT的长度。CNT可以典型地通过范德华力进行连接。
CNT薄膜104的单独CNT 110(或CNT束110)可以用涂层(未显示)涂敷。该涂层可以是Mo的金属涂层。涂层可以至少部分覆盖CNT 100，也就是单独CNT或束通过涂层部分或完全封闭，同时仍然在CNT薄膜104中形成部分自由的CNT的网络，如图1所示。CNT 110上的涂层厚度范围可以优选为1nm至30nm，因为这可以在使用期间形成对CNT膜104的CNT免受工艺条件影响的可靠保护。更优选，1至10nm的涂层厚度范围可以用于获得可靠保护和对于EUV辐射的足够透射。涂层可以使用本领域已知的任意合适技术形成，例如，通过物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)或原子层沉积(ALD)。
举例而言，合适涂层的其它例子包括B、B4C、ZrN、Ru、SiC、TiN、a-C和石墨烯涂层。换言之，上述材料的涂层可以用于上述示例并取得同样好的效果。对于EVU应用，合适的涂层大致是呈现有限极紫外线吸收的涂层。
或者，涂层可以不在单独CNT或束110周围形成，而是形成为CNT膜104的一个或两个主表面上的涂层。
为了将CNT薄膜104的重叠CNT 110结合在一起，可以在第一和第二按压表面106、108之间压制CNT薄膜104。因此，可以将按压表面106、108压制在一起，以向CNT薄膜104施加机械压力。
对经涂敷的CNT 110所施加的压力可以为约0.1kPa或更高。所施加的压力可以优选不超过30MPa。该压力足以使得在CNT 110重叠处的CNT 110的涂层之间发生结合，使得CNT在重叠位置彼此粘附。应注意，结合无需在所有重叠位置处发生。此处所述压力可以是指在CNT薄膜104的整个面积上施加的平均压力。
可以在CNT重叠位置处的CNT 110的涂层之间形成所谓的冷焊。因此，在压制期间在重叠位置处发生的结合提高了CNT薄膜104的强度和完整性，从而形成了自立式CNT防护件薄膜102。如可以理解的，压力可以在CNT 110重叠和堆叠处局部增加，这有利于重叠的CNT 110结合在一起。为了清楚起见，已经发生结合的位置112由图1下部中的点或结合112表示。
更具体地说，在图1的下部中，描述了通过对膜104进行压制所形成的自立式CNT防护件薄膜102如何可以包括在CNT或CNT束110彼此重叠的位置处的结合位置112。为了说明的目的，结合位置112如上所述显示为图1中的点。
CNT膜104可以在压制期间经受低于1毫巴的真空，以有利于结合112的形成。有利的是，可以使用10-10毫巴至10-6巴的环境压力。为了促进结合112的形成，CNT薄膜104可以在按压表面106、108之间进行压制的同时进行加热。例如，CNT薄膜104可以在施加压力的同时加热至20℃至500℃的温度范围。优选地，CNT薄膜104可以在施加压力的同时加热至低于300℃的温度。
CNT防护件薄膜102或者可以通过压制未涂覆CTN或CNT束110的CNT薄膜104形成，即，在其外表面不具有涂层的CNT。在该情况下，CNT薄膜104的CNT 110将在CNT 110重叠位置处直接接触。同样在该情况下，CNT薄膜104如上所述在按压表面106、108之间进行压制。当CNT薄膜104的CNT 110未经涂覆时，优选施加10-30GPa的压力以使得在CNT薄膜104的重叠CNT 110之间发生结合。在该情况下，结合直接发生于CNT薄膜104的CNT 110之间。可以在CNT薄膜104的重叠CNT的碳原子之间形成直接结合，如，共价键。
此外，可以在第一按压表面106和第二按压表面108之间将多个CNT薄膜104以堆叠方式设置在彼此顶部，在该情况下，结合将会发生在各薄膜内，并且还发生在多个薄膜之间，由此形成了自立式CNT防护件薄膜102。
图1的按压表面106、108具有抗粘涂层114，用于降低在压制过程中或当存在于按压表面106、108之间时CNT薄膜104粘到或粘附到按压表面106、108的风险。可以将抗粘涂层114设置在按压表面106、108上并覆盖按压表面106、108。所示抗粘涂层114可以形成在相应的按压表面106、108上的薄聚四氟乙烯(PTFE)涂层的形式提供。抗粘涂层114覆盖了相应的按压表面106、108。或者，可以形成抗粘涂层114以覆盖相应按压表面106、108的特定部分，或者其可以仅形成在相应按压表面106、108中的一个上，即形成在第一按压表面106上或形成于第二按压表面108上。
抗粘涂层114的材料可以变化，以适应不同需求，并适应不同材料以及材料的组合。与本发明构思相关的抗粘涂层的其它示例包括例如石墨烯涂层，包含含有硫醇的自组装单层(SAM)的涂层，以及包含含有烷基端基的自组装硫醇单层、氟化乙烯丙烯和全氟烷氧基的涂层。
现在参见图2，该图从构思上描述了如何通过在第一按压表面206和第二按压表面208之间压制多个CNT膜204a、204b来形成自立式CNT防护件薄膜202。图2的CNT防护件薄膜202的形成与图1中的CNT防护件薄膜201的形成类似。因此本文下面仅描述相关的差异以避免不必要的重复。
在图2中，将两个CNT薄膜204a、204b设置在第一按压表面206和第二按压表面208之间。两个CNT薄膜204a、204b可以如图2所示的堆叠方式放置在彼此顶部。例如，等同相关的是在图2的第一压制表面206和第二压制表面208之间设置单个CNT薄膜或更多CNT薄膜(例如，3、4、5或10个CNT薄膜)。
CNT薄膜204a、204b中的每一个都是上面结合图1描述的类型。类似于图1，CNT薄膜204a、204b的单独CNT 210(或CNT束210)彼此重叠，也就是单独CNT或束210在CNT薄膜204a、204b中彼此交叉。此外，相应CNT薄膜204a、204b的CNT或束210由于CNT薄膜204a、204b的堆叠设置而彼此重叠。CNT薄膜204a、204b中的CNT 210可以是SWCNT或MWCNT。类似于图1，CNT薄膜204a、204b的单独CNT或CNT束210可以具有涂层(未显示)。
图2的第一按压表面206具有包括一组针状物的突出图案206a，其中图案206a的针状物从第一按压表面206突出。突出图案206a的连续针状物之间的间距典型地小于相应CNT膜204a、204b的CNT 210或CNT束的平均长度。换言之，突出图案206a的针状物之间的距离小于相应CNT膜204a、204b的CNT 210或CNT束210的平均长度。例如，突出图案206a的连续针状物之间的间距或距离可以是200nm至100μm。通过采用含有针状物的突出图案206a，可以在针状物的位置处向膜204a、204b局部施加压力。
图2的第二按压表面208具有包含一组升高部分或突起的突出图案208a。突出图案208a的升高部分设置为与第一按压表面206的突出图案206a的针状物对齐。这意味着当将按压表面206、208压制在一起时突出图案206a的针状物将会与突出图案208a的升高部分接触。可以在针状物位置和升高部分位置的位置处向CNT薄膜204a、204b施加压力。
在相应按压表面206、208上可以使用除了针状物和升高部分之外的图案。例如，可以使用线图案、方形网格、六边形网格等。此外，按压表面206、208中的一个可以图案化，而另一个可以不进行图案化。此外，可以在按压表面206、208上提供相同类型的图案，或者可以提供不同类型的图案。按压表面206、208中的部分可以是图案化的，而其它部分可以是未图案化的。突出图案206a、208a可以是规则图案或者不规则图案。图案甚至可以是随机图案，例如，通过粗糙表面形成的随机图案。优选地，相应按压表面206、208的图案/图案的间距小于相应CNT膜204a、204b的CNT 210或CNT束210的平均长度。
相应按压表面206、208可以具有防粘涂层，或者按压表面206、208中的一个可以具有如结合图1所述的防粘涂层。
为了将CNT薄膜204a、204b内和CNT薄膜204a、204b之间的重叠CNT 210结合在一起，在第一和第二按压表面206、208之间压制CNT薄膜204a、204b。因此，可以将按压表面206、208压制在一起，以向CNT薄膜204a、204b施加机械压力。向图2的经涂敷的CNT 210所施加的压力可以如上文所述在0.1kPa至30MPa的范围内，从而压力足以使得在CNT 210重叠位置处的经涂敷的CNT 210之间发生结合。应注意，结合可以具体在突出图案206a、208a相遇并因此向CNT膜204a、204b施加压力的情况下发生。如上所述，CNT 210的涂层之间可以在CNT重叠位置处形成所谓的冷焊。因此，在压制期间发生的结合是CNT薄膜204a、204b彼此结合，由此形成了自立式CNT防护件薄膜202。换言之，单个自立式CNT防护件薄膜202可以由CNT薄膜204a、204b形成。同时，与相应的CNT薄膜204a、204b相比，CNT防护件薄膜202的强度和完整性可以得以提高。
在图2的下部中，描述了通过对膜204a、204b进行压制所形成的CNT防护件薄膜202如何包括在CNT或CNT束210彼此重叠的位置处的结合位置212。为了说明的目的，结合位置212如上所述显示为图2中的点。
CNT膜204a、204b可以在压制期间经受低于1毫巴的真空，以有利于结合212的形成。为了进一步促进结合212的形成，CNT薄膜204a、204b可以在按压表面206、208之间进行压制的同时进行加热。例如，CNT薄膜204a、204b可以在施加压力的同时加热至20℃至500℃的温度范围。优选地，CNT薄膜204a、204b可以在施加压力的同时加热至低于300℃的温度。
或者，自立式CNT防护件薄膜202可以通过如下方式形成：用优选10-30GPa范围内的压力来压制未经涂覆的CNT 210的多个CNT膜204a、204b，以在CNT膜204a、204b的重叠CNT210之间形成结合，即在CNT膜204a、204b内以及在CNT膜204a、204b之间形成结合。
现在将对根据上述方法形成的自立式CNT防护件薄膜102、202的优选实施方式进行描述。根据该实施方式，膜102、202包含SWCNT或由其形成。单独的CNT 112、212可以具有0.5nm至2nm的直径。或者，膜102、202包含MWCNT或由其形成。单独的CNT 112、212可以具有5nm至30nm的直径。对于SWCNT或MWCNT，单独的CNT 112、212可以具有＞100μm的平均长度。相邻的CNT 112、212之间的典型间隙可以是≤30±100nm。间隙也可以称为孔径。
优选的CNT防护件薄膜102、202可以由以堆叠方式设置在彼此顶部的两个或三个CNT薄膜104、204a、204b在压制过程中形成。然而，在压制期间以堆叠方式设置在彼此顶部的四个或更多个CNT薄膜104、204a、204b可以获得类似的结果。
优选的CNT防护件薄膜102、202的厚度范围可以是5至50nm。然而，取决于CNT防护件薄膜102、202的孔隙率，CNT防护件薄膜102、202的厚度范围可以更大。CNT防护件薄膜102、202的重要参数是原子数量/cm2，因为原子将吸收或减弱照射在CNT防护件薄膜102、202上的EUV光。换言之，原子数量/cm2将影响CNT防护件薄膜102、202的传输效率。为了实现90％的透射率，可以在CNT防护件薄膜102、202中使用15nm石墨或2.266g/cm3的等效厚度。这些值大致对应于防护件薄膜102、202的1.7×1017个碳原子/cm2。对于此，可以理解重要的是形成或构建具有或不具有涂层的坚固CNT薄膜102、202，其中CNT薄膜102、202具有所需的颗粒保持性能，同时仍具有不超过1.7×1017个碳原子/cm2或不大于2.266g/cm3的碳原子密度。
具有上述特性的薄膜已经进行了广泛的测定，目的在于确定上述特性以及在实践中薄膜如何用于EUV防护件薄膜应用。CNT的直径和平均长度主要在生产用于形成CNT防护件薄膜102、202的CNT薄膜104、204a、204b的过程中进行设定。而且，间隙或孔径受到所用CNT薄膜104、204a、204b内CNT的致密程度影响。然而，所形成的CNT防护件薄膜102、202的孔径也将受到所用CNT薄膜104、204a、204b数量的影响。大量CNT薄膜104、204a、204b将会获得更致密的CNT防护件薄膜102、202，即具有更小孔径的CNT防护件薄膜102、202。通常，更致密或孔隙更少的CNT防护件薄膜102、202将表现出更好的颗粒保持性，但会存在对极紫外线具有更大吸收的弊端。实际上，CNT的直径和平均长度也将影响CNT防护件薄膜102、202的孔隙率。SEM和TEM可用于测定上述参数。
然而，具有上述特性的薄膜已被证明对极紫外光表现出高稳定性。曝光100个晶片后，CNT膜的典型传输损失测定为小于0.1％。极紫外光的透射率通常>90％，这对于EUV防护件应用而言是所期望的值。用于合成SWCNT和MWCNT的方法的例子包括基于如下的技术：电弧放电法、激光烧蚀和包括浮动催化剂(气溶胶)CVD合成的CVD法。在WO 2005/085130中发现了气溶胶合成技术的非限制性例子。在US2016/0083872中发现了用于形成对齐的CNT的示例工艺。
现在参见图3，该图从构思上描述石墨烯薄片涂层300如何形成于图1的CNT防护件薄膜102的主表面上。为了简单起见，图3的石墨烯薄片涂层高度简化。石墨烯薄片涂层300由多个石墨烯薄片302形成。石墨烯薄片302沉积于纳米管防护件薄膜102的主表面上。石墨烯薄片302具有超过CNT防护件薄膜102孔尺寸的表面积。通过该设置，石墨烯薄片302可以设置在CNT防护件薄膜102上，同时通过CNT防护件薄膜102的CNT或CNT束110进行支撑。
例如，石墨烯薄片302沿着其主表面的横向尺寸典型地为75nm至50μm。石墨烯薄片302变得越大，单独的石墨烯薄片302典型地覆盖了越多数量的孔。
石墨烯薄片302优选设置在CNT防护件薄膜102上以部分重叠。更具体地说，可以设置石墨烯薄片302以覆盖相邻石墨烯薄片302，如图3所示。
通过将含有醇和石墨烯薄片302的悬浮液施加到CNT防护件薄膜102上，石墨烯薄片涂层300可以形成于CNT防护件薄膜102上。随后醇可以被蒸发，将石墨烯薄片302留在纳米管防护件薄膜102上。通过施加含有醇的悬浮液，纳米管防护件薄膜102可以在沉积石墨烯薄片涂层300的同时经受致密化。
可以通过用悬浮液浸泡纳米管防护件薄膜102将悬浮液施加到纳米管防护件薄膜102上。此后，纳米管防护件薄膜102优选在纯的醇(如乙醇)中冲洗以除去过量的石墨烯薄片302。随后将醇蒸发，将石墨烯薄片302留在纳米管防护件薄膜102上。醇可以是乙醇，然而也可以使用其它醇。或者，可以使用含有石墨烯薄片302和水性或有机介质(例如，N,N-二甲基甲酰胺、二甲亚砜、N-甲基-2-吡咯烷酮)的溶液。此外，石墨烯薄片302也可以使用其它技术(如喷涂、空气刷涂、旋涂)施加至CNT防护件薄膜102。
CNT防护件薄膜102可以在形成石墨烯薄片涂层300的过程中加热至高达1500℃的温度。优选地，CNT防护件薄膜102可以在形成石墨烯薄片涂层300的过程中加热至高达600℃的温度。
在形成石墨烯薄片涂层300时可以施加0.1kPa至30MPa的机械压力至CNT防护件薄膜102和石墨烯薄片302。0.1kPa至30MPa的压力与在如上所述CNT防护件薄膜102的CNT 110经涂敷时的情况有关。类似地，10至30Gpa的压力与在如上所述CNT防护件薄膜102的CNT110未经涂敷时的情况有关。
现在参见图4，此处示意性显示了用于极紫外线光刻的防护件400如何通过将CNT防护件薄膜102、202固定到防护件框402来形成，以及所形成的防护件400如何安装到掩模板410上，由此形成用于极紫外线光刻的掩模板系统412。
在下文中，将参考图4描述具有如上所述类型的经涂敷的CNT的CNT防护件薄膜102、202如何能够固定到防护件框402上。
涂层形成于CNT防护件薄膜102、202上。涂层可以如上所述方式形成于CNT防护件薄膜102、202上。涂层同样可以如上所述在压制CNT薄膜104或多个薄膜204a、204b之前或之后形成。或者，为了便于附着到框402的目的，可以在CNT防护件薄膜102、202上形成单独的或附加的涂层。在任一情况下，涂层可以形成于CNT防护件薄膜102、202的整个主表面处，或者仅在CNT防护件薄膜102、202的周边区域处。周边区域意指CNT防护件薄膜102、202的区域，其设置为与防护件框402邻接并待固定到防护件框402。
待固定到防护件框402的经涂敷的CNT防护件薄膜设置在防护件框402的支撑表面402a上。防护件框的支撑表面402a典型地是防护件框402的上表面。
为了处理的目的，CNT防护件薄膜102、202可以设置在载体或临时基材(未显示)上。CNT防护件薄膜102、202可以输送到防护件框402。CNT防护件薄膜102、202背向载体的主表面可以设置为与防护件支撑表面402a邻接。
然后，通过将CNT防护件薄膜102、202和防护件支撑表面402a压向彼此，可以将CNT防护件薄膜102、202的涂层和防护件支撑表面402a结合在一起。在使用足够的压力的条件下，CNT防护件薄膜102、202由此将固定到防护件框的支撑表面402a。在CNT防护件薄膜102、202的CNT或CNT束110、210如上所述经过涂敷的条件下，0.1kPa至30MPa的压力通常足以用于使得CNT防护件薄膜102、202和防护件框402的支撑表面402a结合在一起。如果载体用于处理CNT防护件薄膜102、202，可以在CNT防护件薄膜102、202与防护件402结合之前或之后从CNT防护件薄膜102、202上去除载体。
为了使得经涂敷的CNT防护件薄膜102、202和防护件支撑表面402a结合在一起，支撑表面402a通常通过第一材料形成，并且CNT的涂层通常通过第二材料形成。多种不同材料的组合或系统将用于使得CNT防护件薄膜102、202和防护件支撑表面402a结合在一起。
第一材料可以是金属或半导体，第二材料可以是金属或半导体。典型地，支撑表面402a的材料和涂层的材料是不同材料。可以结合在一起的有关材料组合或系统的示例为：Ru和Ge；Pd和Ge；Ru和Si；Nb和Si。上述示例可以在形成共晶时通过冷焊结合在一起。本领域技术人员意识到可以使用其它材料组合以使得经涂敷的CNT防护件薄膜102、202和防护件支撑表面402a结合在一起，对于使用不同材料组合，所需压力可以变化。例如，防护件框402的支撑表面402a可以通过第一金属形成，并且，CNT防护件薄膜102、202的涂层可以通过第二金属形成。由此，通过选择能够形成共晶的材料组合，能够在压制过程中形成第一金属和第二金属的共晶。
此外，支撑表面402a的材料和涂层的材料可以是相同材料。
此外，如上所述，低压和/或升高的温度可以促进CNT防护件薄膜102、202固定或冷焊至防护件薄膜框402的支撑表面402a。
防护件框402可以由与支撑表面402a相同的材料形成，或者由不同材料形成。换言之，防护件框402可以包括框体，形成支撑表面402a的材料施加至所述框体。例如，支撑表面402a可以形成为在防护件框402上表面顶部上的薄金属或半导体涂层。通过该设置，支撑表面402a和防护件框402的性质可以相互独立地进行调整。例如，防护件框402或框体可以是透气的，这降低了当防护件400经受压力波动(例如，其可能在转移到真空环境时发生)时CNT防护件薄膜102、202破损的风险。例如，防护件框402可以通过Si、SiN、SiO2或石英形成。用于防护件框202的其它材料包括例如金属、塑料或陶瓷材料。
所述方法还可以包括：在将CNT防护件薄膜102、202放置在防护件框402上之前，沿横向方向拉伸CNT防护件薄膜102、202。通过将CNT防护件薄膜102、202预拉伸，可以抵消膜102、202的下垂。换言之，如果在设置在防护件框402上之前沿横向方向拉伸，其可以呈现出减少的下垂。有利的是，可以将约100MPa或更多的拉伸应力引入CNT防护件薄膜102、202中。对于典型尺寸的防护件，这可以转化为小于0.5mm的膜变形。
预拉伸CNT防护件薄膜102、202可以包括将CNT防护件薄膜102、202输送到中间可拉伸支撑件。由于CNT防护件薄膜102、202和可拉伸支撑件之间表面界面处的吸引力，CNT防护件薄膜102、202可以粘附到可拉伸支撑件上。可以使用任何合适类型的可拉伸支撑件，例如，可拉伸膜或弹性膜。可拉伸支撑件可以设置在适用于拉伸可拉伸支撑件的拉伸工具中，其中，CNT防护件薄膜102、202可以进行拉伸。CNT防护件薄膜102、202随后可以输送到防护件框402。可拉伸支撑件102随后可以从CNT防护件薄膜102、202上移除。
还可以通过其它方式(如通过使得CNT防护件薄膜经受热处理工艺)将拉伸应力引入CNT防护件薄膜102、202。热处理工艺以可以包括：将CNT防护件薄膜加热至升高的温度(即，高于室温)。或者或此外，热处理工艺以可以包括：将CNT防护件薄膜冷却至降低的温度(即，低于室温)。而且，将涂层施加至CNT防护件薄膜可以提高CNT防护件薄膜中的拉伸应力。
仍然参见图4，该图从构思上描述防护件400如何安装在掩模板410上以形成掩模板系统412，其中掩模板系统412包括防护件400和掩模板410。防护件400可以使用本领域已知的任意工具(例如通过粘合剂)安装到掩模板410上。防护件框402限定了在掩模板410上的开口或孔。防护件薄膜102、202覆盖了孔。防护件薄膜102、202通过防护件框402悬挂在掩模板410前。防护件框402的高度或厚度可以使掩模板410的主表面和防护件薄膜102、202之间的距离为1mm至6mm。
现在参见图5，大致描述了形成CNT防护件薄膜102、202的方法500。
所述方法500包括：步骤502，通过将至少一个CNT薄膜104、204a、206b压制在第一按压表面106、206和第二按压表面108、208之间来将所述至少一个CNT薄膜104、204a、204b的重叠CNT 110、210结合在一起，由此形成自立式CNT防护件薄膜102、202。
所述方法500还可以包括：步骤504，在压制所述至少一个CNT薄膜104、204a、204b之前，在所述至少一个CNT薄膜104、204a、204b上形成涂层。
所述方法500还可以包括：步骤506，在压制502的同时对所述至少一个CNT薄膜104、204a、204b进行加热。
所述方法500还可以包括：步骤508，在压制502之后，在CNT 110、210上形成涂层，其中，形成508涂层可以包括形成包含选自下组的材料的涂层：B、B4C、ZrN、Mo、Ru、TiN、SiC、a-C和石墨烯。
所述方法500还可以包括：步骤510，通过将石墨烯薄片302沉积在CNT防护件薄膜102、202上来形成石墨烯薄片涂层300。应注意，如果步骤508和510都进行，则有利的是步骤510可以在步骤508之前进行。在步骤508中形成的涂层因此可以形成为覆盖石墨烯薄片涂层。
所述方法500还可以包括：步骤512，将CNT防护件薄膜102、202固定到防护件框402，用于形成防护件400。
所述方法500还可以包括：步骤514，将防护件400安装到掩模板410，用于形成掩模板系统412。
在上文中，主要参考有限的几个实施方式描述了本发明的构思。但是，如同本领域技术人员容易理解的，上述实施方式以外的其它实施方式也同样可以落在所附权利要求限定的本发明范围内。
此外，通过研究附图、公开内容和所附权利要求书，本领域技术人员在实践所要求保护的本发明时可以理解和实现所公开的实施方式的变体。在权利要求中，词语“包含”不排除其他元件和步骤，并且不定冠词“一”或“一个”并不排除多个。在相互不同的从属权利要求中列举某些措施并不表示这些措施的组合不能被用于获得优势。

Claims (15)

1.一种形成用于极紫外线光刻掩模板(410)的碳纳米管防护件薄膜(102、202)的方法(500)，所述方法包括：
通过将至少一个碳纳米管薄膜(104、204a、204b)压制在第一按压表面(106、206)和第二按压表面(108、208)之间来将所述至少一个碳纳米管薄膜(104、204a、204b)的重叠碳纳米管(110、210)结合在一起，由此形成自立式碳纳米管防护件薄膜(102、202)。
2.如权利要求1所述的方法(500)，其特征在于，在第一按压表面(106、206)和第二按压表面(108、208)之间压制至少两个碳纳米管薄膜(204a、204b)。
3.如权利要求1或2所述的方法(500)，所述方法还包括：在压制所述至少一个碳纳米管薄膜(104、204a、204b)之前，在所述至少一个碳纳米管薄膜(104、204a、204b)上形成(504)涂层。
4.如权利要求3所述的方法(500)，其特征在于，形成涂层包括形成包含选自下组的至少一种材料的涂层：B、B4C、ZrN、Mo、Ru、SiC、TiN和a-C。
5.如权利要求3或4所述的方法(500)，其特征在于，所述压制包括施加0.1kPa至30MPa的压力。
6.如权利要求1所述的方法(500)，其特征在于，所述至少一个碳纳米管薄膜(104、204a、204b)的重叠碳纳米管(110、210)在碳纳米管(104、204a、204b)重叠位置处直接接触。
7.如权利要求1至6中任一项所述的方法(500)，其特征在于，第一按压表面(206)和/或第二按压表面(208)具有突出图案(206a、208a)。
8.如权利要求7所述的方法(500)，其特征在于，所述突出图案(206a、208a)包含具有如下间距的图案：所述间距小于所述至少一个碳纳米管薄膜(104、204a、204b)的碳纳米管(110、210)的平均长度或所述至少一个碳纳米管薄膜的碳纳米管束(110)的平均长度。
9.如前述权利要求中任一项所述的方法(500)，所述方法还包括：在压制所述至少一个碳纳米管薄膜(104、204a、204b)的同时，加热(506)所述至少一个碳纳米管薄膜(104、204a、204b)。
10.如前述权利要求中任一项所述的方法(500)，所述方法进一步包括：
通过将石墨烯薄片(302)沉积在碳纳米管防护件薄膜(102、202)的主表面上来形成石墨烯薄片涂层(300)。
11.如权利要求10所述的方法(500)，其特征在于，石墨烯薄片(302)沿着其主表面的横向尺寸为75nm至50μm。
12.一种形成用于极紫外线光刻的防护件(400)的方法(500)，所述方法包括：
根据前述权利要求任一项所述形成碳纳米管防护件薄膜(102、202)，并且
将碳纳米管防护件薄膜(102、202)固定到防护件框(402)上。
13.如权利要求12所述的方法(500)，其特征在于，在碳纳米管防护件薄膜(102、202)上形成涂层，并且其中，所述固定(512)的动作包括：
将碳纳米管防护件薄膜(102、202)放置在防护件框(402)的支撑表面(402a)上，并且
通过将碳纳米管防护件薄膜(102、202)和防护件支撑表面(402a)压向彼此来将碳纳米管防护件薄膜(102、202)的涂层和防护件支撑表面(402a)结合在一起，由此将碳纳米管防护件薄膜(102、202)固定至支撑表面(402a)。
14.如权利要求13所述的方法(500)，其特征在于，支撑表面(402)通过第一材料形成，并且涂层通过第二材料形成，
第一材料是金属或半导体，
第二材料是金属或半导体。
15.一种形成用于极紫外线光刻的掩模板系统(412)的方法，所述方法包括：
根据权利要求12至14中任一项所述形成防护件(400)；和
将防护件(400)安装(514)在掩模板(410)上。
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