JP2018166172A - リードフレーム基材の搬送装置 - Google Patents
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Abstract
Description
[1]本実施形態の一つの例に係るリードフレーム基材の搬送装置は、主面が鉛直方向に沿う状態となっているリードフレーム基材の下縁部を挟持可能な一対の第1のローラと、一対の第1のローラの少なくとも一方を回転させるように構成された第1の回転機構と、一対の第1のローラを相対的に近接及び離間させるように構成された第1の駆動機構と、制御部とを備える。制御部は、第1の回転機構を制御して、一対の第1のローラの少なくとも一方を回転させることにより、一対の第1のローラによって下縁部が挟持された状態のリードフレーム基材を搬送する第1の処理と、第1の駆動機構を制御して、断続的に一対の第1のローラを相対的に近接及び離間させることで、一対の第1のローラによる下縁部の挟持と解放とを所定間隔で繰り返す第2の処理とを実行する。
以下に、本開示に係る実施形態の一例について、図面を参照しつつより詳細に説明する。以下の説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。
図1及び図2を参照して、帯状の金属薄板であるリードフレーム基材LFの搬送装置1について説明する。搬送装置1は、リードフレーム基材LFを起立状態(リードフレーム基材LFの主面が鉛直方向に沿う状態)にて搬送可能に構成されている。
以上のような本実施形態では、コントローラ60が駆動機構24を制御して、リードフレーム基材LFの下縁部LFaを一対の下流側ローラ21,22により挟持しつつ、コントローラ60が回転機構23を制御して、下流側ローラ21を回転させることにより、リードフレーム基材LFを起立状態で搬送している。リードフレーム基材LFは、帯状の金属薄板であるので、伏臥状態よりも起立状態のほうが重力に対して撓み難い。そのため、リードフレーム基材LFの撓みを抑制する目的で、幅方向におけるリードフレーム基材LFの中央部を支持ローラ等で支持する必要がない。従って、リードフレーム基材LFの撓み及び変形が抑制されるので、リードフレーム基材LFの加工精度の向上を図ることが可能となる。加えて、リードフレーム基材LFが起立状態で搬送されていると、リードフレーム基材LFの両面に対して加工処理を均一に行いやすくなる。さらに、伏臥状態でリードフレーム基材LFを搬送する場合と比較して、リードフレーム基材LFの主面(下面)を支持するための多数の支持ローラ等が不要となるので、部品点数を抑制することが可能となる。
以上、本開示に係る実施形態について詳細に説明したが、本発明の要旨の範囲内で種々の変形を上記の実施形態に加えてもよい。例えば、リードフレーム基材LFの迫り上がり量をセンサ50で検知していたが、タイマ等によって所定時間経過したことを検知したときに、下流側ローラ21,22による下縁部LFaの解放が行われてもよい。
Claims (6)
- 主面が鉛直方向に沿う状態となっているリードフレーム基材の下縁部を挟持可能な一対の第1のローラと、
前記一対の第1のローラの少なくとも一方を回転させるように構成された第1の回転機構と、
前記一対の第1のローラを相対的に近接及び離間させるように構成された第1の駆動機構と、
制御部とを備え、
前記制御部は、
前記第1の回転機構を制御して、前記一対の第1のローラの少なくとも一方を回転させることにより、前記一対の第1のローラによって前記下縁部が挟持された状態の前記リードフレーム基材を搬送する第1の処理と、
前記第1の駆動機構を制御して、断続的に前記一対の第1のローラを相対的に近接及び離間させることで、前記一対の第1のローラによる前記下縁部の挟持と解放とを所定間隔で繰り返す第2の処理とを実行する、リードフレーム基材の搬送装置。 - 前記一対の第1のローラよりも前記リードフレーム基材の搬送方向における上流側に位置しており、主面が鉛直方向に沿う状態となっている前記リードフレーム基材の前記下縁部を挟持可能な一対の第2のローラと、
前記一対の第2のローラの少なくとも一方を回転させるように構成された第2の回転機構と、
前記一対の第2のローラを相対的に近接及び離間させるように構成された第2の駆動機構とをさらに備え、
前記制御部は、
前記第2の回転機構を制御して、前記一対の第2のローラの少なくとも一方を回転させることにより、前記一対の第2のローラによって前記下縁部が挟持された状態の前記リードフレーム基材を搬送する第3の処理と、
前記第2の駆動機構を制御して、断続的に前記一対の第2のローラを相対的に近接及び離間させることで、前記一対の第1のローラが前記下縁部を解放しているときには前記一対の第2のローラによって前記下縁部を挟持させ、前記一対の第1のローラが前記下縁部を挟持しているときには前記一対の第2のローラによって前記下縁部を解放させる、第4の処理とを実行する、請求項1に記載の装置。 - 前記第4の処理では、前記一対の第1のローラと前記一対の第2のローラとの双方が一時的に前記下縁部を挟持する、請求項2に記載の装置。
- 前記一対の第1のローラによる前記下縁部の挟持時間は、前記一対の第2のローラによる前記下縁部の挟持時間よりも長い、請求項2又は3に記載の装置。
- 前記搬送方向において前記リードフレーム基材の上縁部及び前記下縁部をガイドするように構成された一対のガイド部材をさらに備え、
前記一対のガイド部材は、前記一対の第1のローラと前記一対の第2のローラとの間に配置されている、請求項2〜4のいずれか一項に記載の装置。 - 前記リードフレーム基材の落下を防止するように構成されたストッパ部材をさらに備える、請求項1〜5のいずれか一項に記載の装置。
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