TW201838123A - 引線框架基材的輸送裝置 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種能提高引線框架基材的加工精度的引線框架基材的輸送裝置。引線框架基材（LF）的輸送裝置（1）包括：能夾持直立引線框架基材的下緣部（LFa）的一對上游側輥（11、12）；使上游側輥（11）旋轉的旋轉裝置（13）；使一對上游側輥相對接近和分離的驅動裝置（14）；以及執行第一處理和第二處理的控制器（60）。第一處理中，控制器控制旋轉裝置，使上游側輥（11）旋轉。由此，輸送具有被一對上游側輥夾持的下緣部的引線框架基材。第二處理中，控制器控制驅動裝置，斷續地使一對上游側輥相對接近和分離。由此，以規定間隔重複一對上游側輥對下緣部的夾持和釋放。

Description

引線框架基材的輸送裝置

本發明涉及引線框架基材的輸送裝置。

引線框架用作半導體封裝的內部佈線。通過對作為帶狀的金屬薄板的引線框架基材進行加工而製成所述引線框架。線圈狀纏繞在捲放輥上的引線框架基材從捲放輥釋放，並由輸送裝置向下游側輸送。隨後，由捲取輥捲取引線框架基材。在從捲放輥捲放至捲取輥捲取為止期間的輸送過程中，對引線框架基材依次進行各種加工處理（例如抗蝕膜形成處理、蝕刻處理和電鍍處理等）。日本專利公開公報特開平7-237746號公開了引線框架基材的輸送裝置的一例。所述輸送裝置輸送具有沿著水平方向的主面的引線框架基材（以下適當地簡稱為“俯臥引線框架基材”）。

專利文獻1：日本專利公開公報特開平7-237746號

引線框架基材通常非常薄（例如0.1mm～0.5mm左右）。因此，引線框架極易撓曲。因此，在現有的輸送裝置中，為了抑制引線框架基材在輸送方向（行進方向）上的撓曲，需要以狹小間距配置多個從下方支撐引線框架基材的側緣部的支撐輥。而且，即便如此使用了多個支撐輥，當引線框架基材的板寬較大時，仍存在引線框架基材的寬度方向的中央部撓曲的可能性。另外，隨著引線框架基材被朝向下游側輸送，通過蝕刻等除去引線框架基材的無用部分。因此，引線框架基材的寬度方向的中央部存在特別容易撓曲的傾向。

在引線框架基材的輸送過程中的實施了加工處理的部位產生這種撓曲時，引線框架基材的加工精度會降低。其結果，加工後的引線框架難以成為遵循設計的形狀。因此，也考慮進一步配置用於支撐引線框架基材的寬度方向的中央部的支撐輥。可是，所述中央部是作為半導體封裝發揮功能的重要部位。因此，需要滿足如下的需求：避免因與支撐輥接觸而在所述中央部產生變形或者傷痕等風險，以及避免混入異物的風險。

因此，本發明提供能提高引線框架基材的加工精度的引線框架基材的輸送裝置。

本發明的引線框架基材的輸送裝置包括：一對第一輥，構成為能夾持具有沿著鉛直方向的主面的引線框架基材的下緣部；第一旋轉裝置，構成為使所述一對第一輥的至少一方旋轉；第一驅動裝置，構成為使所述一對第一輥相對接近和分離；以及控制部，構成為執行第一處理和第二處理。

在所述第一處理中，利用由所述控制部控制而使所述一對第一輥的至少一方旋轉的所述第一旋轉裝置，輸送具有被所述一對第一輥夾持的所述下緣部的所述引線框架基材，而且，在所述第二處理中，利用由所述控制部控制而斷續地使所述一對第一輥相對接近和分離的所述第一驅動裝置，以規定間隔重複所述一對第一輥對所述下緣部的夾持和釋放。

按照所述引線框架基材的輸送裝置，能提高引線框架基材的加工精度。

以下說明的本發明的實施方式（本實施方式）是用於說明本發明的引線框架基材的輸送裝置的示例。本發明的引線框架基材的輸送裝置不限於以下的內容。

（實施方式的概要）

（1）第一方式

本發明實施方式中的第一方式的引線框架基材的輸送裝置包括：一對第一輥，構成為能夾持具有沿著鉛直方向的主面的引線框架基材的下緣部；第一旋轉裝置，構成為使所述一對第一輥的至少一方旋轉；第一驅動裝置，構成為使所述一對第一輥相對接近和分離；以及控制部，構成為執行第一處理和第二處理。

在所述第一處理中，利用由所述控制部控制而使所述一對第一輥的至少一方旋轉的所述第一旋轉裝置，輸送具有被所述一對第一輥夾持的所述下緣部的所述引線框架基材，而且，在所述第二處理中，利用由所述控制部控制而斷續地使所述一對第一輥相對接近和分離的所述第一驅動裝置，以規定間隔重複所述一對第一輥對所述下緣部的夾持和釋放。

在上述第一方式的引線框架基材的輸送裝置中，由控制部控制的第一旋轉裝置使夾持引線框架基材的下緣部的一對第一輥的至少一方旋轉。由此，輸送具有沿著鉛直方向的主面的引線框架基材（以下適當地稱為“直立引線框架基材”）。引線框架基材是帶狀的金屬薄板。因此，與俯臥引線框架基材的主面相比，在直立引線框架基材的主面上，因重力產生的撓曲更小。因此，不必為了抑制引線框架基材的撓曲而用支撐輥支撐引線框架基材的寬度方向（以下適當地簡稱為“寬度方向”）的中央部。由此，抑制了引線框架基材的撓曲和變形。因此，能提高引線框架基材的加工精度。此外，在輸送直立引線框架基材時，容易對引線框架基材的雙面進行均勻的加工處理。而且，與輸送俯臥引線框架基材的情況相比，不需要用於支撐引線框架基材的主面（下表面）的多個支撐輥。因此，能抑制部件數量。

可是，由一對第一輥輸送直立引線框架基材時，一對第一輥作用有被對方的輥在水平方向上按壓的力，以及來自因重力而具有朝下滑落趨勢的引線框架基材的朝向鉛直方向下方的摩擦力。即，引線框架基材上作用有作為來自一對第一輥的反力的水平方向的力和朝向鉛直方向上方的力。因此，引線框架基材在輸送過程中會相對於一對第一輥逐漸上升。如果放任這種上升，則最終引線框架基材會脫離一對第一輥。其結果，不能進行引線框架基材的輸送。因此，在第一方式的引線框架基材的輸送裝置中，由控制部控制的第一驅動裝置斷續地使一對第一輥相對接近和分離。由此，以規定間隔重複一對第一輥對下緣部的夾持和釋放。因此，引線框架基材上升時由一對第一輥釋放下緣部。隨後，當引線框架基材落下規定量時，由一對第一輥夾持下緣部。由此，利用一對第一輥的瞬間釋放，引線框架基材的上升被矯正。其結果，能適當地輸送引線框架基材。

（2）第二方式

優選的是，上述第一方式的裝置還包括：一對第二輥，配置在比所述一對第一輥更靠向所述引線框架基材的輸送方向的上游側，且構成為能夾持具有沿著所述鉛直方向的主面的所述引線框架基材的所述下緣部；第二旋轉裝置，構成為使所述一對第二輥的至少一方旋轉；以及第二驅動裝置，構成為使所述一對第二輥相對接近和分離，所述控制部構成為執行第三處理和第四處理，在所述第三處理中，利用由所述控制部控制而使所述一對第二輥的至少一方旋轉的所述第二旋轉裝置，輸送具有被所述一對第二輥夾持的所述下緣部的所述引線框架基材，而且，在所述第四處理中，利用由所述控制部控制而斷續地使所述一對第二輥相對接近和分離的所述第二驅動裝置，以規定間隔重複所述一對第二輥對所述下緣部的夾持和釋放，以便至少在所述一對第一輥釋放所述下緣部時，由所述一對第二輥夾持所述下緣部，並且至少在所述一對第二輥釋放所述下緣部時，由所述一對第一輥夾持所述下緣部。此時，利用一對第一輥和一對第二輥中的至少一方夾持引線框架基材的下緣部。因此，即使一對第一輥和一對第二輥中的一方釋放了下緣部時，也能利用另一方夾持下緣部來輸送引線框架基材。由此，能持續輸送引線框架基材。特別是在抗蝕膜形成處理、蝕刻處理、電鍍處理、曝光處理和抗蝕膜除去處理等加工處理時，如果不持續地輸送引線框架基材，則輸送臨時停止。由此，處理時間不恆定。其結果，抗蝕膜厚、蝕刻量、鍍膜厚、曝光量和抗蝕膜除去量等會產生偏差。可是，按照上述第二方式的裝置，持續地輸送引線框架基材。因此，能大幅抑制這種偏差。

（3）第三方式

優選的是，在所述第四處理中，由所述一對第一輥和所述一對第二輥雙方夾持所述下緣部。此時，不會出現下緣部既不由一對第一輥夾持也不由一對第二輥夾持從而不能輸送引線框架基材的情況。因此，能更可靠地實現引線框架基材的持續輸送。

（4）第四方式

優選的是，在上述第二或第三方式的裝置中，由所述一對第一輥夾持下緣部的夾持時間長於由所述一對第二輥夾持所述下緣部的夾持時間。在輸送由一對第一輥或一對第二輥夾持的引線框架基材時，引線框架基材中的比這些輥更靠下游側的部分作用有推出力。而引線框架基材是帶狀的金屬薄板。因此，如果所述推出力施加於引線框架基材，則引線框架基材極易壓曲。因此，在第三方式的裝置中，引線框架基材主要由位於下游側的一對第一輥輸送。即，位於下游側的一對第一輥作為主驅動輥發揮功能。此時，引線框架基材中的比主驅動輥更靠向下游側的部分變得較短。因此，從主驅動輥作用的推出力的影響降低。由此，能抑制引線框架基材變形。

（5）第五方式

優選的是，上述第二～第四方式中的任一個方式的裝置都進一步包括配置在所述一對第一輥和所述一對第二輥之間的一對引導構件，所述一對引導構件構成為在所述輸送方向上引導所述引線框架基材的上緣部和下緣部。此時，引線框架基材的上緣部和下緣部由一對引導構件引導。因此，能抑制引線框架基材相對於輸送方向的左右振動。

（6）第六方式

優選的是，上述第一～第五方式中的任意一個方式的裝置都進一步包括止動構件，所述止動構件防止引線框架基材落下。此時，因一對第一輥的釋放而落下的引線框架基材被止動構件阻擋。因此，能防止引線框架基材落下必要量以上。

（實施方式的例示）

以下參照附圖，更詳細地說明本發明的實施方式的一例。在以下的說明中，對相同要素或具有相同功能的要素使用相同的附圖標記，並省略了重複的說明。

（引線框架基材的輸送裝置）

參照圖1和圖2，說明作為帶狀的金屬薄板的引線框架基材LF的輸送裝置1。輸送裝置1構成為能輸送具有直立主面（沿著鉛直方向的引線框架基材LF的主面）的引線框架基材LF。

在輸送裝置1輸送引線框架基材LF的輸送方向（以下適當地簡稱為“輸送方向”）上，捲放引線框架基材LF的捲放輥（未圖示）位於輸送裝置1的上游側，捲取引線框架基材LF的捲取輥（未圖示）位於輸送裝置1的下游側。在捲放輥和輸送裝置1之間，例如可以配置用於對引線框架基材LF進行抗蝕膜形成處理、曝光處理、蝕刻處理、抗蝕膜剝離處理和電鍍處理等加工處理的加工裝置。在輸送裝置1和捲取輥之間，例如可以配置檢查引線框架基材LF的檢查裝置等。

如圖1所示，輸送裝置1具備上游側輸送部10、下游側輸送部20、多個引導部30、止動構件40、感測器50和控制器60（控制部）。

如圖1和圖2所示，上游側輸送部10具有一對上游側輥11、12（第二輥）、旋轉裝置13（第二旋轉裝置）、驅動裝置14（第二驅動裝置）和擺動構件15。一對上游側輥11、12配置成將引線框架基材LF的下緣部LFa放置在中間。即，一對上游側輥11、12隔著下緣部LFa相對。上游側輥11、12都呈圓柱狀，且能夠圍繞沿著鉛直方向延伸的旋轉軸旋轉。

旋轉裝置13連接於上游側輥11。旋轉裝置13例如為旋轉馬達。旋轉裝置13根據來自控制器60的指示而動作，驅動上游側輥11旋轉。

驅動裝置14連接於擺動構件15。驅動裝置14例如為擺動伺服馬達。驅動裝置14根據來自控制器60的指示而動作，使擺動構件15圍繞沿著鉛直方向延伸的擺動軸擺動。

擺動構件15將上游側輥12和驅動裝置14間接地連接。擺動構件15具有如下功能：以使相對於驅動裝置14的擺動軸處於偏心位置的上游側輥12能夠旋轉的方式，支撐上游側輥12。只要能發揮上述功能，則擺動構件15的形狀沒有特別限定。本實施方式中，擺動構件15呈四棱柱狀。驅動裝置14安裝於擺動構件15的基端部。上游側輥12安裝於擺動構件15的頂端部。

利用驅動裝置14使擺動構件15的頂端部擺動時，安裝在所述頂端部的上游側輥12也以相對於上游側輥11接近和分離的方式擺動。在上游側輥12接近上游側輥11的情況下，利用上游側輥11、12的彼此相對的周面夾持引線框架基材LF的下緣部LFa（參照圖2）。即，輸送裝置1構成為可以由一對上游側輥11、12夾持引線框架基材LF的下緣部LFa。而且，輸送裝置1構成為可以由驅動裝置14使上游側輥12相對於上游側輥11接近和分離。

下游側輸送部20具有一對下游側輥21、22（第一輥）、旋轉裝置23（第一旋轉裝置）、驅動裝置24（第一驅動裝置）和擺動構件25。它們的結構與上游側輸送部10相同，故省略說明。

如圖1所示，多個引導部30沿著引線框架基材LF的輸送方向並列配置。本實施方式中，三個引導部30配置在上游側輸送部10和下游側輸送部20之間。一個引導部30配置在比下游側輸送部20更靠下游側。可以在上游側輸送部10和下游側輸送部20之間配置至少一個引導部30。比下游側輸送部20更靠下游側也可以不配置引導部30。

引導部30具有一對引導輥31、32（引導構件）和支撐件33。一對引導輥31、32能旋轉地安裝於支撐件33的側面。一對引導輥31、32都能圍繞沿著水平方向且沿著引線框架基材LF的厚度方向延伸的旋轉軸旋轉。一對引導輥31、32以引導輥31比引導輥32更靠下方的方式，在上下方向分離。

引導輥31、32都呈圓柱狀。引導輥31、32的周面彼此相對。在引導輥31、32的周面設有沿著周向延伸的槽。引導輥31、32構成為使上述槽在輸送方向上引導引線框架基材LF的側緣部（上緣部或下緣部）。

引導輥31、32的槽的形狀沒有特別限定。槽的形狀可以是V形，也可以是U形。引導輥31、32的槽底彼此的分開距離可以設定為比引線框架基材LF的寬度略大。具體而言，引導輥31、32的槽底彼此的分開距離可以設定為如下程度：在輸送裝置1輸送引線框架基材LF時，引線框架基材LF的側緣（上緣或下緣）儘管位於所述槽內，但是不抵接於所述槽底。

止動構件40構成為用於防止引線框架基材LF落下。因此，止動構件40配置在引線框架基材LF的下緣部LFa的下方。止動構件40可以與引導輥31、32相同，為帶槽的輥。此時，由輸送裝置1輸送引線框架基材LF時，引線框架基材LF的下緣可以抵接於槽底。

感測器50構成為檢測引線框架基材LF的上緣的高度位置。感測器50例如可以是雷射位移感測器。感測器50將與上緣的高度位置相關的檢測信號向控制器60發送。

控制器60例如根據存儲介質（未圖示）中存儲的程式或來自操作者的操作輸入等，生成用於分別使旋轉裝置13、23和驅動裝置14、24動作的指示信號，並將所述指示信號向旋轉裝置13、23和驅動裝置14、24發送。

具體而言，控制器60以下述方式控制旋轉裝置13、23和驅動裝置14、24。首先，控制器60控制驅動裝置24，使擺動構件25擺動。擺動的擺動構件25使下游側輥22接近下游側輥21。由此，一對下游側輥21、22夾持引線框架基材LF的下緣部LFa。所述狀態下，控制器60控制旋轉裝置23，使下游側輥21旋轉。如此，由一對下游側輥21、22夾持的下緣部LFa被送出（第一處理）。由此，引線框架基材LF被朝向下游側輸送。

由一對下游側輥21、22輸送直立引線框架基材LF時，一對下游側輥21、22上作用有被對方的下游側輥22、21在水平方向上按壓的力，以及來自因重力而具有朝下滑落趨勢的引線框架基材LF的朝向鉛直方向下方的摩擦力。即，引線框架基材LF上作用有作為來自一對下游側輥21、22的反力的水平方向的力和朝向鉛直方向上方的力。因此，引線框架基材LF在輸送過程中，相對於一對下游側輥21、22逐漸上升。如果放任這種上升，則最終引線框架基材LF會脫離一對下游側輥21、22。其結果，不能進行引線框架基材LF的輸送。

因此，控制器60根據從感測器50接收的檢測信號，判斷引線框架基材LF的上升量是否在規定的閾值以上。當控制器60判斷引線框架基材LF的上升量未達到閾值以上時，引線框架基材LF的上升量並未過大。因此，控制器60使一對下游側輥21、22繼續輸送引線框架基材LF。

另一方面，當控制器60判斷引線框架基材LF的上升量在閾值以上時，引線框架基材LF的上升量過度。因此，控制器60執行所述上升的矯正處理。具體而言，在由一對下游側輥21、22輸送引線框架基材LF的狀態下，控制器60進一步控制驅動裝置14，使擺動構件15擺動。擺動的擺動構件15使上游側輥12接近上游側輥11。由此，一對上游側輥11、12也夾持引線框架基材LF的下緣部LFa。所述狀態下，控制器60控制旋轉裝置13，使上游側輥11旋轉。旋轉的上游側輥11將被一對上游側輥11、12夾持的下緣部LFa送出（第三處理）。

接下來，控制器60控制驅動裝置24，使擺動構件25擺動。擺動的擺動構件25使下游側輥22離開下游側輥21（第二處理和第四處理）。由此，引線框架基材LF的下緣部LFa從一對下游側輥21、22釋放。因此，引線框架基材LF在一對下游側輥21、22的附近落下。落下的引線框架基材LF的下緣部LFa被止動構件40阻擋。在此期間，引線框架基材LF被一對上游側輥11、12輸送。

接下來，控制器60控制驅動裝置24，使擺動構件25擺動。擺動的擺動構件25使下游側輥22再次接近下游側輥21。由此，利用一對下游側輥21、22夾持引線框架基材LF的下緣部LFa。下游側輥21利用旋轉裝置23繼續旋轉。因此，一對下游側輥21、22將夾持的下緣部LFa送出（第一處理）。

接下來，在由一對下游側輥21、22輸送引線框架基材LF的狀態下，控制器60控制驅動裝置14，使擺動構件15擺動。擺動的擺動構件15使上游側輥12離開上游側輥11（第二處理和第四處理）。如此，引線框架基材LF的下緣部LFa從一對上游側輥11、12釋放。

通過重複以上的處理，控制器60矯正引線框架基材LF的上升。即，控制器60控制旋轉裝置13、23和驅動裝置14、24，以規定間隔重複地使上游側輥11、12和下游側輥21、22夾持和釋放下緣部LFa。更具體而言，控制器60控制旋轉裝置13、23和驅動裝置14、24，以便至少在一對上游側輥11、12釋放下緣部LFa時，由一對下游側輥21、22夾持下緣部LFa，並且至少在一對下游側輥21、22釋放下緣部LFa時，由一對上游側輥11、12夾持下緣部LFa。

上游側輥11、12和下游側輥21、22的分開距離沒有特別限定。所述分開距離例如可以是300mm以上，可以是600mm以上，也可以是800mm以上。上游側輥11、12與下游側輥21、22的分開距離越短，則在上游側輥11、12或下游側輥21、22釋放下緣部LFa時，引線框架基材LF越難以落下。因此，存在對引線框架基材LF的上升進行矯正的效果變小的傾向。另外，引線框架基材LF落下的難易度也會根據引線框架基材LF的剛性等而變化。

下游側輥21、22對下緣部LFa的釋放時間可以是1秒以下，可以是0.5秒以下，可以是0.3秒以下，也可以是0.2秒以下。換句話說，上游側輥11、12對下緣部LFa的夾持時間可以至少在下游側輥21、22對下緣部LFa的釋放時間以上。

下游側輥21、22對下緣部LFa的夾持時間會根據引線框架基材LF上升的程度而進行各種變化。所述夾持時間例如可以是5秒～7秒左右。換句話說，上游側輥11、12對下緣部LFa的釋放時間可以至少在下游側輥21、22對下緣部LFa的夾持時間以下。

在輸送由上游側輥11、12或下游側輥21、22夾持的引線框架基材LF時，在引線框架基材LF中的比這些輥更靠下游側的部分上，作用有推出力。而引線框架基材LF是帶狀的金屬薄板。因此，所述推出力施加到引線框架基材LF時，引線框架基材LF極易壓曲。因此，下游側輥21、22對下緣部LFa的夾持時間可以長於上游側輥11、12對下緣部LFa的夾持時間。此時，引線框架基材LF主要由下游側輥21、22輸送。即，下游側輥21、22作為主驅動輥發揮功能。此時，引線框架基材LF中的比主驅動輥更靠下游側的部分變得較短。因此，從主驅動輥作用的推出力的影響降低。由此，能抑制引線框架基材LF變形。

（作用）

如上所述，在本實施方式中，控制器60控制驅動裝置24，利用一對下游側輥21、22夾持引線框架基材LF的下緣部LFa。與此同時，控制器60控制旋轉裝置23，使下游側輥21旋轉。由此，輸送直立引線框架基材LF。引線框架基材LF為帶狀的金屬薄板。因此，與俯臥引線框架基材的主面相比，在直立引線框架基材的主面上，因重力產生的撓曲更小。因此，不必為了抑制引線框架基材LF的撓曲而用支撐輥等支撐引線框架基材LF的寬度方向的中央部。由此，抑制了引線框架基材LF的撓曲和變形。因此，能提高引線框架基材LF的加工精度。此外，在輸送直立引線框架基材LF時，容易對引線框架基材LF的雙面進行均勻的加工處理。而且，與輸送俯臥引線框架基材LF的情況相比，不需要用於支撐引線框架基材LF的主面（下表面）的多個支撐輥等。因此，能抑制部件數量。

在本實施方式中，由控制器60控制的驅動裝置24斷續地使一對下游側輥21、22相對接近和分離。由此，以規定間隔重複一對下游側輥21、22對下緣部LFa的夾持和釋放。因此，在引線框架基材LF上升時，由一對下游側輥21、22釋放下緣部LFa。由此，在引線框架基材LF落下規定量時，由一對下游側輥21、22夾持下緣部LFa。因此，利用一對下游側輥21、22的瞬間釋放，來矯正引線框架基材LF的上升。其結果，能適當地輸送引線框架基材LF。

在本實施方式中，利用上游側輥11、12和下游側輥21、22中的至少一方來夾持引線框架基材LF的下緣部LFa。因此，即使在一對上游側輥11、12和一對下游側輥21、22中的一方釋放了下緣部LFa時，另一方也會夾持下緣部LFa來輸送引線框架基材LF。因此，能持續輸送引線框架基材LF。特別是在抗蝕膜形成處理、蝕刻處理、電鍍處理、曝光處理和抗蝕膜除去處理等加工處理時，如果不持續地輸送引線框架基材LF，則輸送臨時停止。由此，處理時間不恆定。其結果，抗蝕膜厚、蝕刻量、鍍膜厚、曝光量和抗蝕膜除去量等會產生偏差。可是，在本實施方式中，引線框架基材LF被持續地輸送。因此，能大幅抑制這種偏差。

在本實施方式中，以引導引線框架基材LF的上緣部和下緣部的方式構成的一對引導輥31、32設置在上游側輥11、12和下游側輥21、22之間。因此，引線框架基材LF的上緣部和下緣部被引導輥31、32引導。其結果，能抑制引線框架基材LF相對於輸送方向的左右振動。

本實施方式中，止動構件40防止引線框架基材LF落下。因此，從一對下游側輥21、22釋放而落下的引線框架基材LF被止動構件40阻擋。由此，能防止引線框架基材LF落下必要量以上。

（其他實施方式）

以上具體說明了本發明的實施方式。但是，可以在本發明的要旨的範圍內，對上述實施方式實施各種變形。例如，在本實施方式中，引線框架基材LF的上升量由感測器50檢測。可是，也可以在利用計時器等檢測到經過了規定時間時，進行下游側輥21、22對下緣部LFa的釋放。

旋轉裝置13可以驅動上游側輥11、12的至少一方旋轉。同樣，旋轉裝置23可以驅動下游側輥21、22的至少一方旋轉。

驅動裝置14可以驅動上游側輥11、12的至少一方，使上游側輥11、12相對接近和分離。同樣，驅動裝置24可以驅動下游側輥21、22的至少一方，使下游側輥21、22相對接近和分離。

上游側輥11、12對下緣部LFa的夾持時間可以長於下游側輥21、22對下緣部LFa的夾持時間。此時，引線框架基材LF主要由上游側輥11、12輸送。

可以存在上游側輥11、12和下游側輥21、22都夾持下緣部LFa的時期。即，可以使上游側輥11、12和下游側輥21、22雙方臨時夾持下緣部LFa。此時，確保不會產生引線框架基材LF不被輸送的狀態，即下緣部LFa既未被上游側輥11、12夾持也未被下游側輥21、22夾持的狀態。因此，能更可靠地實現引線框架基材LF的持續輸送。

在引導部30中，可以代替一對引導輥31、32，而是具有在輸送方向延伸的一對導軌（未圖示）。即，引導部30只要構成為能在輸送方向引導引線框架基材LF即可。

輸送裝置1可以不具備引導部30。輸送裝置1可以不具備止動構件40。

本發明實施方式的引線框架基材的輸送裝置可以是以下的第一～第六引線框架基材的輸送裝置。

上述第一引線框架基材的輸送裝置包括：一對第一輥，能夾持處於主面沿著鉛直方向的狀態的引線框架基材的下緣部；第一旋轉機構，構成為使所述一對第一輥的至少一方旋轉；第一驅動機構，構成為使所述一對第一輥相對接近和分離；以及控制部，所述控制部執行如下處理：第一處理，控制所述第一旋轉機構，使所述一對第一輥的至少一方旋轉，從而輸送所述下緣部被所述一對第一輥夾持的狀態的所述引線框架基材；以及第二處理，控制所述第一驅動機構，斷續地使所述一對第一輥相對接近和分離，從而以規定間隔重複所述一對第一輥對所述下緣部的夾持和釋放。

上述第二引線框架基材的輸送裝置在上述第一裝置的基礎上，還包括：一對第二輥，比所述一對第一輥更靠向所述引線框架基材的輸送方向的上游側，能夾持處於主面沿著鉛直方向的狀態的所述引線框架基材的所述下緣部；第二旋轉機構，構成為使所述一對第二輥的至少一方旋轉；以及第二驅動機構，構成為使所述一對第二輥相對接近和分離，所述控制部執行如下處理：第三處理，控制所述第二旋轉機構，使所述一對第二輥的至少一方旋轉，從而輸送所述下緣部被所述一對第二輥夾持的狀態的所述引線框架基材；以及第四處理，控制所述第二驅動機構，斷續地使所述一對第二輥相對接近和分離，從而在所述一對第一輥釋放所述下緣部時，由所述一對第二輥夾持所述下緣部，在所述一對第一輥夾持所述下緣部時，由所述一對第二輥釋放所述下緣部。

上述第三引線框架基材的輸送裝置在上述第二裝置的基礎上，在所述第四處理中，由所述一對第一輥和所述一對第二輥雙方臨時夾持所述下緣部。

上述第四引線框架基材的輸送裝置在上述第二裝置或第三裝置的基礎上，由所述一對第一輥夾持所述下緣部的夾持時間長於由所述一對第二輥夾持所述下緣部的夾持時間。

上述第五引線框架基材的輸送裝置在上述第二～第四裝置中的任意一個裝置的基礎上，還包括一對引導構件，所述一對引導構件構成為在所述輸送方向上引導所述引線框架基材的上緣部和所述下緣部，所述一對引導構件配置在所述一對第一輥和所述一對第二輥之間。

上述第六引線框架基材的輸送裝置在上述第一～第五裝置中的任意一個裝置的基礎上，還包括止動構件，所述止動構件構成為用於防止所述引線框架基材落下。

1‧‧‧輸送裝置

10‧‧‧上游側輸送部

11、12‧‧‧上游側輥（第二輥）

13‧‧‧旋轉裝置（第二旋轉裝置）

14‧‧‧驅動裝置（第二驅動裝置）

15‧‧‧擺動構件

20‧‧‧下游側輸送部

21、22‧‧‧下游側輥（第一輥）

23‧‧‧旋轉裝置（第一旋轉裝置）

24‧‧‧驅動裝置（第一驅動裝置）

25‧‧‧擺動構件

30‧‧‧引導部

31、32‧‧‧引導輥（引導構件）

33‧‧‧支撐件

40‧‧‧止動構件

50‧‧‧感測器

60‧‧‧控制器（控制部）

LF‧‧‧引線框架基材

LFa‧‧‧下緣部

圖1是表示引線框架基材的輸送裝置的一例的立體圖。 圖2是從引線框架基材的輸送方向觀察上游側輸送部和下游側輸送部的附近的圖。

Claims (6)

1. 一種引線框架基材的輸送裝置，包括： 一對第一輥，構成為能夾持具有沿著鉛直方向的主面的引線框架基材的下緣部； 第一旋轉裝置，構成為使所述一對第一輥的至少一方旋轉； 第一驅動裝置，構成為使所述一對第一輥相對接近和分離；以及 控制部，構成為執行第一處理和第二處理， 其中，在所述第一處理中，利用由所述控制部控制而使所述一對第一輥的至少一方旋轉的所述第一旋轉裝置，輸送具有被所述一對第一輥夾持的所述下緣部的所述引線框架基材，而且， 在所述第二處理中，利用由所述控制部控制而斷續地使所述一對第一輥相對接近和分離的所述第一驅動裝置，以規定間隔重複所述一對第一輥對所述下緣部的夾持和釋放。
2. 如申請專利範圍第1項所述的引線框架基材的輸送裝置，還包括： 一對第二輥，配置在比所述一對第一輥更靠向所述引線框架基材的輸送方向的上游側，且構成為能夾持具有沿著所述鉛直方向的主面的所述引線框架基材的所述下緣部； 第二旋轉裝置，構成為使所述一對第二輥的至少一方旋轉；以及 第二驅動裝置，構成為使所述一對第二輥相對接近和分離， 其中，所述控制部構成為執行第三處理和第四處理， 在所述第三處理中，利用由所述控制部控制而使所述一對第二輥的至少一方旋轉的所述第二旋轉裝置，輸送具有被所述一對第二輥夾持的所述下緣部的所述引線框架基材，而且， 在所述第四處理中，利用由所述控制部控制而斷續地使所述一對第二輥相對接近和分離的所述第二驅動裝置，以規定間隔重複所述一對第二輥對所述下緣部的夾持和釋放，以便至少在所述一對第一輥釋放所述下緣部時，由所述一對第二輥夾持所述下緣部，並且至少在所述一對第二輥釋放所述下緣部時，由所述一對第一輥夾持所述下緣部。
3. 如申請專利範圍第2項所述的引線框架基材的輸送裝置，其中，在所述第四處理中，由所述一對第一輥和所述一對第二輥雙方夾持所述下緣部。
4. 如申請專利範圍第2項或第3項所述的引線框架基材的輸送裝置，其中，由所述一對第一輥夾持所述下緣部的夾持時間長於由所述一對第二輥夾持所述下緣部的夾持時間。
5. 如申請專利範圍第2項至第4項中任一項所述的引線框架基材的輸送裝置，還包括配置在所述一對第一輥和所述一對第二輥之間的一對引導構件，其中所述一對引導構件構成為在所述輸送方向上引導所述引線框架基材的上緣部和所述下緣部。
6. 如申請專利範圍第1項至第5項中任一項所述的引線框架基材的輸送裝置，還包括構成為用於防止所述引線框架基材落下的止動構件。