JP2018082010A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】オフ状態からオン状態に移行する際のスイッチング損失を低減できる半導体装置を提供することを目的とする。
【解決手段】第1トレンチ13a上に第1ゲート絶縁膜14aを介して第1ゲート電極15aを配置すると共に、第2トレンチ13b上に第2ゲート絶縁膜14bを介して第2ゲート電極15bを配置し、第1ゲート電15aにゲート電圧を印加し、第2ゲート電極15bを第1電極19と電気的に接続する。そして、第2ゲート絶縁膜14bのうち、第2トレンチ13bの側面であって、ドリフト層11と接する領域上に形成された全ての部分の単位面積当たりの第2容量を、第1ゲート絶縁膜14aのうち、第1トレンチ13aの側面であって、ベース層12と接する領域上に形成された部分の単位面積当たりの第1容量以下とし、かつ少なくとも一部の第2容量を第1容量より小さくする。
【選択図】図1
【解決手段】第1トレンチ13a上に第1ゲート絶縁膜14aを介して第1ゲート電極15aを配置すると共に、第2トレンチ13b上に第2ゲート絶縁膜14bを介して第2ゲート電極15bを配置し、第1ゲート電15aにゲート電圧を印加し、第2ゲート電極15bを第1電極19と電気的に接続する。そして、第2ゲート絶縁膜14bのうち、第2トレンチ13bの側面であって、ドリフト層11と接する領域上に形成された全ての部分の単位面積当たりの第2容量を、第1ゲート絶縁膜14aのうち、第1トレンチ13aの側面であって、ベース層12と接する領域上に形成された部分の単位面積当たりの第1容量以下とし、かつ少なくとも一部の第2容量を第1容量より小さくする。
【選択図】図1
Description
本発明は、トレンチゲート型の絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ(以下、単にIGBTという)が形成された半導体装置に関するものである。
従来より、インバータ等に使用されるスイッチング素子として、IGBT素子が形成された半導体装置を用いることが提案されている(例えば、特許文献1参照)。例えば、IGBT素子が形成された半導体装置は、N−型のドリフト層を有し、このドリフト層上にP型のベース層が形成されている。そして、ベース層を貫通するように複数のトレンチが形成されており、各トレンチには、トレンチの壁面を覆うようにゲート絶縁膜が形成されていると共に、ゲート絶縁膜上にゲート電極が形成されている。さらに、ベース層の表層部には、トレンチの側面に接するようにN+型のエミッタ領域が形成されている。
また、ドリフト層を挟んでベース層と反対側には、P型のコレクタ層が形成されている。そして、ベース層およびエミッタ領域と電気的に接続される上部電極が形成され、コレクタ層と電気的に接続される下部電極が形成されている。
このような半導体装置では、導通損失の低減を図るため、複数のゲート電極の一部のゲート電極が上部電極と接続されて当該上部電極と同電位とされている。つまり、複数のゲート電極の一部のゲート電極は、ダミーゲート電極とされている。
しかしながら、上記半導体装置では、ゲート電極の一部が上部電極と接続されているため、電流が流れていないオフ状態から電流を流すオン状態へ移行する際、スイッチング損失が大きくなり易いという問題がある。
本発明は上記点に鑑み、オフ状態からオン状態に移行する際のスイッチング損失を低減できる半導体装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するための請求項1では、ゲート絶縁膜(14a、14b)上にゲート電極(15a、15b)が配置された半導体装置において、第1導電型のドリフト層(11)と、ドリフト層上に形成された第2導電型のベース層(12)と、ドリフト層のうちのベース層側と反対側に形成された第2導電型のコレクタ層(21)と、ベース層を貫通してドリフト層に達する複数のトレンチ(13a、13b)と、トレンチの壁面に形成されたゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜上に形成されたゲート電極と、ベース層の表層部に形成され、トレンチと接する第1導電型のエミッタ領域(16)と、ベース層およびエミッタ領域と電気的に接続される第1電極(19)と、コレクタ層と電気的に接続される第2電極(22)と、を備え、複数のゲート電極は、一部のゲート電極(15a)にゲート電圧が印加され、残部のゲート電極(15b)が第1電極と電気的に接続されることで第1電極と同電位とされており、一部のゲート電極が配置されるトレンチを第1トレンチ(13a)、残部のゲート電極が配置されるトレンチを第2トレンチ(13b)、第1トレンチの壁面に形成されたゲート絶縁膜を第1ゲート絶縁膜(14a)、第2トレンチの壁面に形成されたゲート絶縁膜を第2ゲート絶縁膜(14b)とすると、第2ゲート絶縁膜のうち、第2トレンチの側面であって、ドリフト層と接する領域上に形成された全ての部分の単位面積当たりの第2容量は、第1ゲート絶縁膜のうち、第1トレンチの側面であって、ベース層と接する領域上に形成された部分の単位面積当たりの第1容量以下とされ、かつ少なくとも一部の第2容量は第1容量より小さくされている。
これによれば、半導体装置をオフ状態からオン状態に移行する際、ドリフト層のうちの第2トレンチと接する部分に反転層が形成され難くなり、空乏層の広がりが抑制される。したがって、ドリフト層に供給されたホールが反転層を介して掃き出されることを抑制できる。このため、早期にコレクタ−エミッタ間電圧を最小値まで低下させることができ、スイッチング損失の低減を図ることができる。
なお、上記および特許請求の範囲における括弧内の符号は、特許請求の範囲に記載された用語と後述の実施形態に記載される当該用語を例示する具体物等との対応関係を示すものである。
以下、本発明の実施形態について図に基づいて説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、同一符号を付して説明を行う。
(第1実施形態)
第1実施形態について説明する。なお、本実施形態の半導体装置は、例えば、インバータ、DC/DCコンバータ等の電源回路に使用されるパワースイッチング素子として利用されると好適である。
第1実施形態について説明する。なお、本実施形態の半導体装置は、例えば、インバータ、DC/DCコンバータ等の電源回路に使用されるパワースイッチング素子として利用されると好適である。
図1に示されるように、半導体装置は、ドリフト層11として機能するN−型の半導体基板10を有している。そして、ドリフト層11上(すなわち、半導体基板10の一面10a側)には、P型のベース層12が形成されている。
また、ベース層12を貫通してドリフト層11に達する複数のトレンチ13a、13bが形成されており、ベース層12は複数のトレンチ13a、13bによって分断されている。本実施形態では、複数のトレンチ13a、13bは、半導体基板10の一面10aの面方向のうちの一方向(すなわち、図1中紙面奥行き方向)に沿ってストライプ状に等間隔に形成されている。以下では、トレンチ13aを第1トレンチ13aとし、トレンチ13bを第2トレンチ13bとして説明する。
第1トレンチ13aは、第1トレンチ13aの壁面を覆うように形成された第1ゲート絶縁膜14aと、当該第1ゲート絶縁膜14aの上に形成された第1ゲート電極15aとにより埋め込まれている。同様に、第2トレンチ13bは、第2トレンチ13bの壁面を覆うように形成された第2ゲート絶縁膜14bと、当該第2ゲート絶縁膜14bの上に形成された第2ゲート電極15bとにより埋め込まれている。
なお、本実施形態では、第1ゲート絶縁膜14aおよび第2ゲート絶縁膜14bは、それぞれSiO2等で構成され、第1ゲート電極15aおよび第2ゲート電極15bは、それぞれポリシリコン等で構成されている。また、本実施形態では、第1トレンチ13aおよび第2トレンチ13bは、第1トレンチ13aおよび第2トレンチ13bの延設方向と直交する方向であって、半導体基板10の面方向に沿った方向(すなわち、図1中紙面左右方向)に交互に形成されている。しかしながら、第1トレンチ13aおよび第2トレンチ13bは、例えば、第1トレンチ13aおよび第2トレンチ13bの延設方向と直交する方向であって、半導体基板10の面方向に沿った方向に複数ずつ纏めて形成されていてもよく、配置順序は適宜変更可能である。
ここで、本実施形態の第1ゲート絶縁膜14aおよび第2ゲート絶縁膜14bの構成について説明する。
第1ゲート絶縁膜14aは、第1トレンチ13aの壁面上において、部分毎に厚さがほぼ均一とされている。具体的には、第1ゲート電極15aは、後述するように、外部のゲート回路と接続され、ベース層12のうちの第1トレンチ13aと接する部分に反転層(すなわち、チャネル領域)が形成されるように当該ゲート回路から所定のゲート電圧が印加される。つまり、第1ゲート絶縁膜14aのうちのベース層12と接する部分の厚さは、反転層が形成可能な厚さに規定される。言い換えると、第1ゲート絶縁膜14aのうちのベース層12と接する部分の厚さは、MOSゲートの閾値電圧Vthを決定する部分の厚さで規定される。そして、第1ゲート絶縁膜14aは、他の部分の厚さも、第1ゲート絶縁膜14aのうちのベース層12と接する部分の厚さと等しくされている。
第2ゲート絶縁膜14bは、第2トレンチ13bの壁面上において、部分毎に厚さがほぼ均一とされている。但し、第2ゲート絶縁膜14bは、全体的に第1ゲート絶縁膜14aの厚さより厚くされており、本実施形態では、第1ゲート絶縁膜14aの2倍の厚さとされている。
すなわち、第2ゲート絶縁膜14bは、第2トレンチ13bの側面であって、ドリフト層11と接する領域上に形成された全ての部分の単位面積当たりの第2容量が、第1ゲート絶縁膜14aのうち、第1トレンチ13aの側面であって、ベース層12と接する領域上に形成された部分の単位面積当たりの第1容量以下とされている。そして、本実施形態では、第2ゲート絶縁膜14bの厚さは、全体的に第1ゲート絶縁膜14aの厚さより厚くされているため、全ての部分の第2容量が第1容量より小さくされている。なお、以下では、第2ゲート絶縁膜14bのうち、第2トレンチ13bの側面であって、ドリフト層11と接する領域上に形成された部分の単位面積当たりの容量を単に第2容量とし、第1ゲート絶縁膜14aのうち、第1トレンチ13aの側面であって、ベース層12と接する領域上に形成された部分の単位面積当たりの容量を単に第1容量として説明する。
ベース層12の表層部には、N+型のエミッタ領域16およびP+型のボディ領域17が形成されている。具体的には、エミッタ領域16は、ドリフト層11よりも高不純物濃度で構成され、ベース層12内において終端し、かつ、第1トレンチ13aの側面に接するように形成されている。一方、ボディ領域17は、ベース層12よりも高不純物濃度で構成され、エミッタ領域16と同様に、ベース層12内において終端するように形成されている。
より詳しくは、エミッタ領域16は、第1トレンチ13aの延設方向に沿って当該第1トレンチ13aの側面に接するように棒状に延設され、第1トレンチ13aの先端よりも内側で終端する構造とされている。ボディ領域17は、第2トレンチ13bの延設方向に沿って当該第2トレンチ13bの側面に接するように棒状に延設され、第2トレンチ13bの先端よりも内側で終端する構造とされている。また、ボディ領域17は、半導体基板10の一面10aを基準としてエミッタ領域16よりも深く形成されている。
半導体基板10の一面10a上には、BPSG等で構成される層間絶縁膜18が形成されている。層間絶縁膜18には、エミッタ領域16の一部およびボディ領域17を露出させる第1コンタクトホール18aが形成されていると共に、第2ゲート電極15bを露出させる第2コンタクトホール18bが形成されている。そして、層間絶縁膜18上には、第1コンタクトホール18aを介してエミッタ領域16およびボディ領域17と電気的に接続されると共に、第2コンタクトホール18bを介して第2ゲート電極15bとも接続される上部電極19が形成されている。つまり、本実施形態では、第2ゲート電極15bは、上部電極19と同電位とされており、いわゆるダミーゲート電極として機能する。
なお、本実施形態では、第1ゲート電極15aが一部のゲート電極に相当し、第2ゲート電極15bが残部のゲート電極に相当し、上部電極19が第1電極に相当している。また、第1ゲート電極15aは、図示しないゲート配線およびゲートパッド等を介して外部のゲート回路と電気的に接続され、当該ゲート回路から所定のゲート電圧が印加される。
ドリフト層11のうちのベース層12側と反対側(すなわち、半導体基板10の他面10b側)には、N型のフィールドストップ層(以下では、単にFS層という)20が形成されている。このFS層20は、必ずしも必要なものではないが、空乏層の広がりを防ぐことで耐圧と定常損失の性能向上を図ると共に、半導体基板10の他面10b側から注入されるホールの注入量を制御するために備えてある。
そして、FS層20を挟んでドリフト層11と反対側には、P型のコレクタ層21が形成され、コレクタ層21上(すなわち、半導体基板10の他面10b上)にはコレクタ層21と電気的に接続される下部電極22が形成されている。なお、本実施形態では、下部電極が第2電極に相当している。
以上が本実施形態における半導体装置の構成である。なお、本実施形態では、N+型、N−型が第1導電型に相当しており、P型、P+型が第2導電型に相当している。
次に、上記半導体装置において、電流が流れていないオフ状態から電流が流れるオン状態に移行する際の状態について説明する。
なお、以下では、図2〜図5を参照しつつ、第2ゲート絶縁膜14bの厚さが第1ゲート絶縁膜14aの厚さと等しくされ、第2ゲート電極15bが上部電極19と電気的に接続されている半導体装置(以下では、従来の半導体装置という)と比較して説明する。また、図3は、図2中の各時点における本実施形態の半導体装置のホール密度を示すシミュレーション結果であり、図4は、図2中の各時点における従来の半導体装置のホール密度を示すシミュレーション結果である。具体的には、図3および図4において、(a)は時点T1のホール密度を示し、(b)は時点T2のホール密度を示し、(c)は時点T3のホール密度を示し、(d)は時点T4のホール密度を示し、(e)は時点T5のホール密度を示し、(f)は時点T6のホール密度を示し、(g)は時点T7のホール密度を示している。
上記半導体装置がオフ状態からオン状態に移行する際には、上部電極19を接地すると共に下部電極22に正の電圧が印加された状態で第1ゲート電極15aに外部のゲート回路から所定のゲート電圧が印加される。これにより、ゲート−エミッタ間電圧Vgeが徐々に上昇する。その後、時点T1にて、第1ゲート電極15aのゲート電位がMOSゲートの閾値電圧Vth以上となると、ベース層12のうちの第1トレンチ13aと接する部分に反転層(すなわち、チャネル領域)が形成される。そして、エミッタ領域16から反転層を介して電子がドリフト層11に供給されると共に、コレクタ層21からホールがドリフト層11に供給される。これにより、伝導度変調によってドリフト層11の抵抗値が低下し、コレクタ−エミッタ間電流Iceが流れ始めると共に、コレクタ−エミッタ間電圧(以下では、単にコレクタ電圧という)Vceが低下し始める。
そして、コレクタ電圧Vceは、従来の半導体装置では、時点T7にて最小値となった後にほぼ一定となる。これに対し、本実施形態の半導体装置では、時点T7以前の時点T6にて最小値となった後にほぼ一定となる。つまり、本実施形態の半導体装置では、従来の半導体装置より早期にコレクタ電圧Vceを最小値に低下させることができ、オフ状態からオン状態に移行する際のスイッチング損失の低減を図ることができる。
具体的な原理について説明すると、第2ゲート電極15bが上部電極19と電気的に接続されている半導体装置では、オフ状態からオン状態に移行する際、第2トレンチ13bのうちのドリフト層11と接する部分に電荷が蓄積されてp型の反転層が形成される。そして、図3(a)および図4(a)に示されるように、ドリフト層11には、この反転層との間で構成される空乏層dが広がる。
その後、従来の半導体装置では、図4の各図に示されるように、徐々にドリフト層11のホール密度が高くなることで空乏層dが小さくなり、図4(g)に示されるように、時点T7にて空乏層dが第2トレンチ13bの側面近傍から消滅する。但し、空乏層dが消滅するまでの過程では、図5中の矢印Aに示されるように、ドリフト層11に供給されたホールが空乏層dを介して反転層に引き寄せられ、反転層を通過してベース層12側に掃き出されてしまう。このため、従来の半導体装置では、図2に示されるように、時点T3近傍からコレクタ電圧Vceの低下が緩やかになり、コレクタ電圧Vceが最小値に達するまでの期間が長くなる。
これに対し、本実施形態では、第2ゲート絶縁膜14bが第1ゲート絶縁膜14aより厚くされ、第2容量が第1容量より小さくされている。このため、従来の半導体装置と比較して、ドリフト層11のうちの第2トレンチ13bと接する領域に蓄積される電荷が少なくなる。つまり、本実施形態の半導体装置では、図3(a)に示されるように、図4(a)と比較して、空乏層dの広がりが抑制される。そして、空乏層dの広がりが抑制されることにより、ドリフト層11に供給されたホールがベース層12側に掃き出され難くなる。このため、図3の各図に示されるように、徐々に空乏層dが小さくなるのは従来の半導体装置と同様であるが、図3(f)に示されるように、時点T6にて空乏層dが第2トレンチ13bの側面近傍から消滅する。したがって、従来の半導体装置と比較して、早期にコレクタ電圧Vceを最小値まで低下させることができ、オフ状態からオン状態に移行する際のスイッチング損失を低減することができる。
以上説明したように、本実施形態では、第2ゲート絶縁膜14bは、第1ゲート絶縁膜14aより厚くされ、第2容量が第1容量より小さくされている。このため、半導体装置をオフ状態からオン状態に移行する際、ドリフト層11のうちの第2トレンチ13bと接する部分に反転層が形成され難くなり、空乏層dの広がりを抑制できる。したがって、ドリフト層11に供給されたホールが反転層を介して掃き出されることを抑制でき、早期にコレクタ電圧Vceを最小値まで低下させることができるため、スイッチング損失の低減を図ることができる。
(第2実施形態)
第2実施形態について説明する。本実施形態は、第1実施形態に対して、第2ゲート絶縁膜14bの構成を変更したものであり、その他に関しては第1実施形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。
第2実施形態について説明する。本実施形態は、第1実施形態に対して、第2ゲート絶縁膜14bの構成を変更したものであり、その他に関しては第1実施形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。
本実施形態では、図6に示されるように、第2ゲート絶縁膜14bは、第2トレンチ13bのうちのベース層12と接する領域上に形成された部分の厚さが第1ゲート絶縁膜14aの厚さと等しくされている。そして、第2ゲート絶縁膜14bは、第2トレンチ13bのうちのドリフト層11と接する領域上に形成された部分の厚さが、第1ゲート絶縁膜14aの厚さより厚くされている。
より詳しくは、第2ゲート絶縁膜14bは、第2トレンチ13bにおけるドリフト層11と接する領域上に形成された部分のうちの当該第2トレンチ13bの底部側の部分が厚くされている。そして、第2ゲート絶縁膜14bは、第2トレンチ13bにおけるドリフト層11と接する領域上に形成された部分のうちのベース層12側の部分が第1ゲート絶縁膜14aの厚さと等しくされている。言い換えると、第2ゲート電極15bは、ベース層12側に位置する部分の幅が第1ゲート電極15aの幅と等しくされ、ドリフト層11側に位置する部分の幅がベース層12側に位置する部分の幅より狭くされている。なお、ここでの幅とは、第1トレンチ13aおよび第2トレンチ13bの延設方向と直交する方向であって、半導体基板10の一面10aの面方向に沿った方向のことである。
つまり、本実施形態では、第2ゲート絶縁膜14bは、第2トレンチ13bの側面のうちのドリフト層11と接する領域上に形成された部分において、ベース層12側の部分の第2容量が第1容量と等しくされ、第2トレンチ13bの底部側の部分の第2容量が第1容量より小さくされている。
このように、第2ゲート絶縁膜14bのうちの一部分の第2容量が第1容量より小さくなるようにし、他の部分の第2容量が第1容量と等しくなる半導体装置としても、空乏層dの広がりを抑制できるため、上記第1実施形態と同様の効果を得ることができる。
(第3実施形態)
第3実施形態について説明する。本実施形態は、第2実施形態に対して、第1ゲート絶縁膜14aの構成を変更したものであり、その他に関しては第2実施形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。
第3実施形態について説明する。本実施形態は、第2実施形態に対して、第1ゲート絶縁膜14aの構成を変更したものであり、その他に関しては第2実施形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。
本実施形態では、図7に示されるように、第1ゲート絶縁膜14aは、第2ゲート絶縁膜14bと同様の構成とされている。すなわち、第1ゲート絶縁膜14aは、第1トレンチ13aのうちのドリフト層11と接する領域上に形成された部分の厚さがベース層12と接する領域上に形成された部分の厚さより厚くされている。言い換えると、第1ゲート絶縁膜14aは、閾値電圧Vthを決定する部分と異なる部分が厚くされている。
このような半導体装置としても上記第2実施形態と同様の効果を得ることができる。また、この半導体装置では、第1ゲート絶縁膜14aおよび第2ゲート絶縁膜14bが同様の構成とされているため、第1ゲート絶縁膜14aおよび第2ゲート絶縁膜14bを同様の工程で形成することができ、製造工程の簡略化を図ることができる。
(第4実施形態)
第4実施形態について説明する。本実施形態は、第1実施形態に対して、第2ゲート絶縁膜14bの構成を変更したものであり、その他に関しては第1実施形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。
第4実施形態について説明する。本実施形態は、第1実施形態に対して、第2ゲート絶縁膜14bの構成を変更したものであり、その他に関しては第1実施形態と同様であるため、ここでは説明を省略する。
本実施形態では、図8に示されるように、第2ゲート絶縁膜14bは、第1ゲート絶縁膜14aと厚さが等しくされている。但し、第2ゲート絶縁膜14bは、第1ゲート絶縁膜14aを構成するSiO2より誘電率が小さい材料で構成されている。このため、本実施形態の半導体装置においても、第2ゲート絶縁膜14bの第2容量は、第1ゲート絶縁膜14aの第1容量より小さくされている。なお、SiO2より誘電率が小さい材料としては、例えば、SiOF、SiOC等が用いられる。
以上説明したように、第2ゲート絶縁膜14bを第1ゲート絶縁膜14aより誘電率が小さい材料で構成しても、第2容量が第1容量より小さくなるため、空乏層dの広がりを抑制でき、上記第1実施形態と同様の効果を得ることができる。
(他の実施形態)
本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した範囲内において適宜変更が可能である。
本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した範囲内において適宜変更が可能である。
例えば、上記各実施形態では、第1導電型をN型とし、第2導電型をP型とした例について説明したが、第1導電型をP型とし、第2導電型をN型とすることもできる。
また、上記各実施形態において、ボディ領域17は、第2トレンチ13bと接していなくてもよい。つまり、ボディ領域17と第2トレンチ13bとの間にベース層12が存在する構成としてもよい。さらに、第1トレンチ13aの側面に接するエミッタ領域16に加え、第2トレンチ13bの側面に接するエミッタ領域16が形成されていてもよい。
そして、上記各実施形態において、第2ゲート電極15bと上部電極19とがコンタクトホール18bを介して直接電気的に接続されていなくてもよい。例えば、第1ゲート電極15aが接続されるゲートパッドと異なるゲートパッドを備えるようにし、当該異なるゲートパッドが第2ゲート電極15bおよび上部電極19と電気的に接続されるようにしてもよい。つまり、第2ゲート電極15bは、第1ゲート電極15aが接続されるゲートパッドと異なるゲートパッドを介して上部電極19と電気的に接続されていてもよい。
また、上記各実施形態において、半導体装置をオフ状態からオン状態に移行する際、スイッチング損失が増大するのは、ドリフト層11に供給されたホールが第2トレンチ13bの側面に沿って形成された反転層を介してベース層12側に掃き出されるためである。このため、上記第1〜第3実施形態において、第2ゲート絶縁膜14bは、第2トレンチ13bの側面のうちのドリフト層11と接する領域上の部分が厚くされていれば、第2トレンチ13bの底面上の部分は厚くされていなくてもよい。同様に、上記第4実施形態において、第2ゲート絶縁膜14bは、第2トレンチ13bの底面上に形成される部分がSiO2で構成されていてもよい。
また、上記第2、第3実施形態では、第2ゲート絶縁膜14bは、第2トレンチ13bの側面のうちのドリフト層11と接する領域上に形成された部分において、ベース層12側の部分が厚くされていてもよい。つまり、第2ゲート絶縁膜14bにおける第2トレンチ13bの側面のうちのドリフト層11と接する領域上に形成された部分の厚さは、第1ゲート絶縁膜14aのうちの閾値電圧Vthを規定する部分の厚さ以上とされ、かつ少なくとも一部が第1ゲート絶縁膜14aのうちの閾値電圧Vthを規定する部分の厚さより厚くされていればよい。同様に、上記第4実施形態において、第2ゲート絶縁膜14bは、第2トレンチ13bの側面のうちのドリフト層11と接する領域上に形成された部分において、第1ゲート絶縁膜14aのうちの閾値電圧Vthを規定する部分の誘電率以下とされ、かつ少なくとも一部が第1ゲート絶縁膜14aのうちの閾値電圧Vthを規定する部分の誘電率より小さくされていればよい。
また、上記第2実施形態において、第2ゲート電極15bの幅が半導体基板10の厚さ方向に一定とされていてもよい。なお、このような構成とする場合、第2トレンチ13bのうちの底部側の部分の幅を開口部側の幅より長くなるようにし、第2ゲート絶縁膜14bのうちの第2トレンチ13bの底部側の部分を厚くすればよい。
さらに、上記第4実施形態において、第2容量が第1容量以下となり、かつ少なくとも一部の第2容量が第1容量より小さくなるのであれば、第2ゲート絶縁膜14bは第1ゲート絶縁膜14aより薄くされていてもよい。
そして、上記各実施形態を適宜組み合わせることもできる。例えば、第1〜第3実施形態に第4実施形態を組み合わせ、第2ゲート絶縁膜14bを第1ゲート絶縁膜14aより誘電率が低い材料で構成するようにしてもよい。
11 ドリフト層
12 ベース層
13a 第1トレンチ
13b 第2トレンチ
14a 第1ゲート絶縁膜
14b 第2ゲート絶縁膜
15a 第1ゲート電極
15b 第2ゲート電極
16 エミッタ領域
19 上部電極
22 下部電極
12 ベース層
13a 第1トレンチ
13b 第2トレンチ
14a 第1ゲート絶縁膜
14b 第2ゲート絶縁膜
15a 第1ゲート電極
15b 第2ゲート電極
16 エミッタ領域
19 上部電極
22 下部電極
Claims (3)
- ゲート絶縁膜(14a、14b)上にゲート電極(15a、15b)が配置された半導体装置において、
第1導電型のドリフト層(11)と、
前記ドリフト層上に形成された第2導電型のベース層(12)と、
前記ドリフト層のうちの前記ベース層側と反対側に形成された第2導電型のコレクタ層(21)と、
前記ベース層を貫通して前記ドリフト層に達する複数のトレンチ(13a、13b)と、
前記トレンチの壁面に形成された前記ゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成された前記ゲート電極と、
前記ベース層の表層部に形成され、前記トレンチと接する第1導電型のエミッタ領域(16)と、
前記ベース層および前記エミッタ領域と電気的に接続される第1電極(19)と、
前記コレクタ層と電気的に接続される第2電極(22)と、を備え、
前記複数のゲート電極は、一部のゲート電極(15a)にゲート電圧が印加され、残部のゲート電極(15b)が前記第1電極と電気的に接続されることで前記第1電極と同電位とされており、
前記一部のゲート電極が配置されるトレンチを第1トレンチ(13a)、前記残部のゲート電極が配置されるトレンチを第2トレンチ(13b)、第1トレンチの壁面に形成されたゲート絶縁膜を第1ゲート絶縁膜(14a)、前記第2トレンチの壁面に形成されたゲート絶縁膜を第2ゲート絶縁膜(14b)とすると、
前記第2ゲート絶縁膜のうち、前記第2トレンチの側面であって、前記ドリフト層と接する領域上に形成された全ての部分の単位面積当たりの第2容量は、前記第1ゲート絶縁膜のうち、前記第1トレンチの側面であって、前記ベース層と接する領域上に形成された部分の単位面積当たりの第1容量以下とされ、かつ少なくとも一部の第2容量は第1容量より小さくされている半導体装置。 - 前記第2ゲート絶縁膜のうち、前記第2トレンチの側面であって、前記ドリフト層と接する領域上に形成された全ての部分の厚さは、前記第1ゲート絶縁膜のうち、前記第1トレンチの側面であって、前記ベース層と接する領域上に形成された部分の厚さ以上とされている請求項1に記載の半導体装置。
- 前記第2ゲート絶縁膜のうち、前記第2トレンチの側面であって、前記ドリフト層と接する領域上に形成された全ての部分の誘電率は、前記第1ゲート絶縁膜のうち、前記第1トレンチの側面であって、前記ベース層と接する領域上に形成された部分の誘電率以下とされている請求項1または2に記載の半導体装置。
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Cited By (1)
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---|---|---|---|---|
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JP7337619B2 (ja) * | 2019-09-17 | 2023-09-04 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006245477A (ja) * | 2005-03-07 | 2006-09-14 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
JP2014197702A (ja) * | 2010-12-08 | 2014-10-16 | 株式会社デンソー | 絶縁ゲート型半導体装置 |
JP2016046416A (ja) * | 2014-08-25 | 2016-04-04 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
WO2016136230A1 (ja) * | 2015-02-25 | 2016-09-01 | 株式会社デンソー | 半導体装置 |
Family Cites Families (8)
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JP2012204377A (ja) * | 2011-03-23 | 2012-10-22 | Toshiba Corp | 電力用半導体装置 |
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US9337270B2 (en) * | 2013-12-19 | 2016-05-10 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor device |
US9337185B2 (en) * | 2013-12-19 | 2016-05-10 | Infineon Technologies Ag | Semiconductor devices |
CN104103523A (zh) * | 2014-07-25 | 2014-10-15 | 苏州东微半导体有限公司 | 一种带u形沟槽的功率器件的制造方法 |
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DE102014119466A1 (de) * | 2014-12-22 | 2016-06-23 | Infineon Technologies Ag | Halbleitervorrichtung mit streifenförmigen trenchgatestrukturen und gateverbinderstruktur |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006245477A (ja) * | 2005-03-07 | 2006-09-14 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
JP2014197702A (ja) * | 2010-12-08 | 2014-10-16 | 株式会社デンソー | 絶縁ゲート型半導体装置 |
JP2016046416A (ja) * | 2014-08-25 | 2016-04-04 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
WO2016136230A1 (ja) * | 2015-02-25 | 2016-09-01 | 株式会社デンソー | 半導体装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020155475A (ja) * | 2019-03-18 | 2020-09-24 | 株式会社東芝 | 半導体装置およびその制御方法 |
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