JP2018056069A - 有機el表示装置 - Google Patents
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Abstract
Description
1つの実施形態においては、上記第1の光学積層体の厚みと前記第2光学積層体の厚みとの差の絶対値が、150μm以下である。
1つの実施形態においては、上記第1の光学積層体の平衡水分率と前記第2光学積層体の平衡水分率の差の絶対値が、1%以下である。
1つの実施形態においては、上記第1の光学積層体の25℃における引張弾性率が、1.5GP〜10GPaである。
1つの実施形態においては、上記第2の光学積層体の25℃における引張弾性率が、1.5GP〜10GPaである。
1つの実施形態においては、上記第1の光学積層体が、少なくとも基材と、偏光子と、光学補償層と、粘着剤層とをこの順に備える。
1つの実施形態においては、上記第1の光学積層体が、導電層を備える。
1つの実施形態においては、上記有機EL表示装置の反り量は、好ましくは3mm以下である。
1つの実施形態においては、上記有機EL表示装置は、曲率半径10mm以下で屈曲可能である。
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
(1)屈折率(nx、ny、nz)
「nx」は面内の屈折率が最大になる方向(すなわち、遅相軸方向)の屈折率であり、「ny」は面内で遅相軸と直交する方向(すなわち、進相軸方向)の屈折率であり、「nz」は厚み方向の屈折率である。
(2)面内位相差(Re)
「Re(λ)」は、23℃における波長λnmの光で測定したフィルムの面内位相差である。例えば、「Re(450)」は、23℃における波長450nmの光で測定したフィルムの面内位相差である。Re(λ)は、フィルムの厚みをd(nm)としたとき、式:Re=(nx−ny)×dによって求められる。
(3)厚み方向の位相差(Rth)
「Rth(λ)」は、23℃における波長550nmの光で測定したフィルムの厚み方向の位相差である。例えば、「Rth(450)」は、23℃における波長450nmの光で測定したフィルムの厚み方向の位相差である。Rth(λ)は、フィルムの厚みをd(nm)としたとき、式:Rth=(nx−nz)×dによって求められる。
(4)Nz係数
Nz係数は、Nz=Rth/Reによって求められる。
(5)液晶化合物の配向固化層
「配向固化層」とは、液晶化合物が層内で所定の方向に配向し、その配向状態が固定されている層をいう。なお、「配向固化層」は、液晶モノマーを硬化させて得られる配向硬化層を包含する概念である。
(6)角度
本明細書において角度に言及するときは、特に明記しない限り、当該角度は時計回りおよび反時計回りの両方の方向の角度を包含する。
図1は、本発明の1つの実施形態による有機EL表示装置の概略断面図である。本実施形態の有機EL表示装置100は、有機ELパネル200と、有機ELパネル200の一方の側に配置された第1の光学積層体300と、有機ELパネル200の他方の側に配置された第2の光学積層体400とを備える。
第1の光学積層体の厚みは、300μm以下であり、好ましくは280μm以下であり、より好ましくは260μm以下であり、さらに好ましくは250μm以下であり、特に好ましくは200μm以下である。このような範囲であれば、薄型であり屈曲性に優れ、かつ、繰り返し屈曲されても破損し難い有機EL表示装置を得ることができる。また、反りの少ない有機EL表示装置を得ることができる。第1の光学積層体の厚みの下限は、その構成にもよるが、例えば、50μmである。
1つの実施形態においては、基材は、ハードコート層と樹脂フィルムとを含む。光学積層体において、ハードコート層は、樹脂フィルムの偏光子とは反対側の面に配置され得る。樹脂フィルムの構成に応じて、ハードコート層は省略されてもよく、樹脂フィルムの両側にハードコート層が形成されてもよい。基材は、偏光子に樹脂フィルムまたはハードコート層と樹脂フィルムの積層体を直接貼り合せて形成されてもよく、後述の樹脂を含む塗工液を偏光子に塗工して形成されてもよい。
以下、基材の特性についての説明における「基材」は、樹脂フィルム単独の場合には樹脂フィルムを、ハードコート層と樹脂フィルムとを含む場合にはこれらの積層体を意味する。
ハードコート層は、上記B−1−1項に記載の特性を満足し得る任意の適切な材料で構成され得る。構成材料の具体例としては、熱硬化型樹脂、熱可塑型樹脂、活性エネルギー線硬化型樹脂(例えば、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂)、二液混合型樹脂などが挙げられる。紫外線硬化型樹脂が好ましい。簡単な加工操作にて効率よくハードコート層を形成することができるからである。紫外線硬化型樹脂としては、例えば、ポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アミド系、シリコーン系、エポキシ系等の各種樹脂が挙げられる。これらは、紫外線硬化型のモノマー、オリゴマー、ポリマー等を含む。好ましくは、アクリル系樹脂である。紫外線硬化型アクリル系樹脂は、紫外線重合官能基を好ましくは2個以上、より好ましくは3〜6個有するモノマー成分およびオリゴマー成分を含む。代表的には、紫外線硬化型樹脂には、光重合開始剤が配合されている。硬化方式は、ラジカル重合方式であってもよく、カチオン重合方式であってもよい。1つの実施形態においては、上記構成材料にシリカ粒子やかご状シルセスキオキサン化合物などを配合した有機無機ハイブリッド材料を用いてもよい。ハードコート層の構成材料および形成方法は、例えば特開2011−237789号公報に記載されている。当該公報の記載は、本明細書に参考として援用される。
樹脂フィルムは、上記B−1−1項に記載の特性を満足し得る任意の適切な材料で構成され得る。構成材料の具体例としては、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。好ましくは、ポリアリレート系樹脂および/またはポリイミド系樹脂である。
偏光子としては、任意の適切な偏光子が採用され得る。例えば、偏光子を形成する樹脂フィルムは、単層の樹脂フィルムであってもよく、二層以上の積層体であってもよい。
1つの実施形態においては、上記光学補償層は、位相差フィルムで構成されている。この場合、当該位相差フィルムは、偏光子の保護層(内側保護層)としても機能し得る。その結果、光学積層体(結果として、有機EL表示装置)のさらなる薄型化に貢献し得る。なお、必要に応じて、偏光子と位相差フィルムとの間に内側保護層(内側保護フィルム)が配置されてもよい。
光学補償層が位相差フィルムで構成される場合、当該位相差フィルムは、いわゆるλ/4板として機能し得る。位相差フィルムの面内位相差Re(550)は、好ましくは100nm〜180nm、より好ましくは135nm〜155nmである。
上記内側保護層(内側保護フィルム)を設ける場合には、当該内側保護フィルムは、光学的に等方性であることが好ましい。本明細書において「光学的に等方性である」とは、面内位相差Re(550)が0nm〜10nmであり、厚み方向の位相差Rth(550)が−10nm〜+10nmであることをいう。
1つの実施形態においては、液晶配向固化層の積層体で構成される光学補償層は、第1の液晶配向固化層と第2の液晶配向固化層とを有する。光学積層体において、光学補償層は、偏光子の側から順に、第1の液晶配向固化層と第2の液晶配向固化層とを有し得る。
第1の液晶配向固化層は、いわゆるλ/2板として機能し得る。第1の液晶配向固化層をいわゆるλ/2板とし、後述の第2の液晶配向固化層をいわゆるλ/4板とし、これらの遅相軸を偏光子の吸収軸に対して所定の方向に設定することにより、広帯域において優れた円偏光特性を有する光学積層体が得られ得る。第1の液晶配向固化層の面内位相差Re(550)は、好ましくは180nm〜320nmであり、より好ましくは200nm〜290nmであり、さらに好ましくは230nm〜280nmである。
第2の液晶配向固化層は、いわゆるλ/4板として機能し得る。第2の液晶配向固化層をいわゆるλ/4板とし、第1の液晶配向固化層を上記のようにいわゆるλ/2板とし、これらの遅相軸を偏光子の吸収軸に対して所定の方向に設定することにより、広帯域において優れた円偏光特性を有する光学積層体が得られ得る。第2の液晶配向固化層の面内位相差Re(550)は、上記のとおり好ましくは100nm〜180nmであり、より好ましくは110nm〜170nmであり、さらに好ましくは120nm〜160nmである。
光学積層体を構成する各層の積層には、任意の適切な粘着剤層または接着剤層が用いられる。
導電層は、代表的には透明である(すなわち、導電層は透明導電層である)。光学補償層の偏光子と反対側に導電層を形成することにより、光学積層体は、表示セル(有機ELセル)と偏光子との間にタッチセンサが組み込まれた、いわゆるインナータッチパネル型入力表示装置に適用され得る。
印刷層は、上記のとおり、光学積層体の周縁部、より具体的には平面視で有機EL表示装置のベゼルに対応する位置に形成されている。これも上記のとおり、印刷層は、基材の偏光子側(実質的には、樹脂フィルムの偏光子側)に形成されてもよく、光学補償層の偏光子と反対側に形成されてもよい。印刷層は、所定のデザインが施された意匠層であってもよく、ベタの着色層であってもよい。印刷層は、好ましくはベタの着色層であり、より好ましくは黒色の着色層である。黒色の着色層をベゼルに対応する位置に形成することにより、非表示領域を隠蔽することができるので、本実施形態の光学積層体を用いれば、ベゼルを用いない有機EL表示装置を実現することができる。その結果、最表面に段差のない、きわめて優れた外観を有する有機EL表示装置を提供することができる。さらに、印刷層を光学補償層に形成する場合には以下の利点が得られる:すなわち、このような構成であれば、印刷層は必然的に偏光子の下側(有機EL表示装置側)に配置されることとなり、その結果、印刷層の界面の反射光が偏光子により軽減される。したがって、さらに優れた外観を有する有機EL表示装置を実現することができる。
第2の光学積層体の厚みは、300μm以下であり、好ましくは280μm以下であり、より好ましくは260μm以下であり、さらに好ましくは250μm以下であり、特に好ましくは200μm以下である。このような範囲であれば、薄型であり屈曲性に優れ、かつ、繰り返し屈曲されても破損し難い有機EL表示装置を得ることができる。また、反りの少ない有機EL表示装置を得ることができる。第2の光学積層体の厚みの下限は、その構成にもよるが、例えば、20μmである。
有機ELパネルとしては、本発明の効果が得られる限りにおいて、任意の適切な有機ELパネルを採用することができる。図2は、本発明に用いられる有機ELパネルの一形態を説明する概略断面図である。有機ELパネル200は、代表的には、基板210と、第1電極220と、有機EL層230と、第2電極240と、これらを覆う封止層250とを有する。有機ELパネル200は、必要に応じて、任意の適切な層をさらに有し得る。例えば、基板上に平坦化層(図示せず)を設けてもよく、第1電極と第2電極との間に短絡を防止するための絶縁層(図示せず)を設けてもよい。
第1の光学積層体および第2の光学積層体をそれぞれ、100mm×150mmにカットし、測定サンプルとした。該サンプルを湿度55%、温度23℃で24時間放置した後、該サンプルの重量(a)を測定した。120℃に5時間投入し、取り出し直後の重量(b)を測定した。下記式より平衡水分率を算出した。
平衡水分率(%):(a−b)/a×100
図3に示す株式会社井元製作所製の耐折試験機を用いた。
有機EL表示装置100の一方端を、折り曲げ可能な治具Aに固定し、他方端には所定荷重(100g/10mm)を掛けた。基材側を内側として10mmφのマンドレルBを挟み(すなわち、屈曲部の曲率半径を5mmとし)、治具Aを折り曲げることにより、有機EL表示装置100を、フラットな状態から屈曲角度Xが175°になるまで、屈曲させた。なお、マンドレルとしては、表面がフッ素含有アルマイト処理(TUFRAM(登録商標))されたものを用いた。
上記屈曲を10万回(治具を10万往復)行った後、目視および顕微鏡観察によって、表示装置の破断、亀裂、および層間剥離の有無を確認した。
表示装置の破断、亀裂、および層間剥離が確認されなかった場合を〇、表示装置の破断、亀裂、および層間剥離が確認された場合を×とする。
有機EL表示装置(対角線5インチの矩形状)を水平面に載置し、4隅それぞれの水平面からの高さを測定した。4つの測定値の平均値を反り量とした。
◎:反りなし
○:反り量1mm以下
△:反り量1〜3mm以下。実使用上問題なし。
×:反り量が3mmを超える。実使用上問題あり。
第2の光学積層体の弾性率を、JIS K 7127(試験片:ダンベル試験片)に準じて測定した。
(偏光子Aの作製)
特開2016−126130の実施例1と同様の方法により、偏光子(厚み:5μm)を得た。
(位相差フィルムAの作製)
特開2016−126130の実施例1と同様の方法により、位相差フィルム(厚み:55μm)を得た。
(粘着剤層の作製)
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器を備えた四つ口フラスコに、ブチルアクリレート99重量部、4−ヒドロキシブチルアクリレート1重量部、重合開始剤として2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.2重量部、重合溶媒として酢酸エチル200重量部を仕込み、十分に窒素置換した後、窒素気流下で撹拌しながらフラスコ内の液温を55℃付近に保って10時間重合反応を行い、アクリル系ポリマー溶液を調製した。上記アクリル系ポリマーの重量平均分子量は150万であった。
上記アクリル系ポリマー溶液の固形分100重量部に、過酸化物としてジベンゾイルパーオキシド(日本油脂社製、商品名「ナイパーBMT」)0.2重量部、イソシアネート系架橋剤としてトリメチロールプロパン/トリレンジイソシアネートのアダクト体(日本ポリウレタン工業社製、商品名「コロネートL」)0.2重量部と、シランカップリング剤(信越化学工業社製、商品名「KBM403」)0.1重量部を、均一に混合撹拌して、アクリル系粘着剤溶液A(固形分15重量%)を調製した。
上記アクリル系粘着剤溶液を、離型処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ:38μm)のセパレーター上に塗布し、155℃で1分間加熱して、乾燥後の厚さが50μmの粘着剤層を形成した。
(第1の光学積層体Aの作製)
基材としてのポリアリレート樹脂フィルム(厚み:40μm)と、上記偏光子Aと、上記位相差フィルムAとを、この順に接着剤(厚み:1μm)を介して貼り合わせた。さらに、位相差フィルムAの偏光子Aとは反対側の面に、上記粘着剤層を転写して、総厚みが152μmの第1の光学積層体A(基材(40μm)/接着剤(1μm)/偏光子A(5μm)/接着剤(1μm)/位相差フィルムA(55μm)/粘着剤層(50μm))を得た。このとき、偏光子Aの吸収軸と位相差フィルムAの遅相軸とのなす角は、48°とした。
得られた第1の光学積層体Aを上記(1)の評価に供した。結果を表2に示す。
OH基を3個有するポリオール(旭硝子社製、商品名「プレミノールS3011」、Mn=10000)85重量部と、OH基を3個有するポリオール(三洋化成社製、商品名「サンニックスGP−3000」、Mn=3000)13重量部と、OH基を3個有するポリオール(三洋化成社製、商品名「サンニックスGP−1000」)2重量部と、多官能脂環族系イソシアネート化合物(日本ポリウレタン工業社製、商品名「コロネートHX」)18重量部と、触媒(日本化学産業株式会社製、商品名「ナーセム第2鉄」)0.04重量部と、劣化防止剤(BASF社製、商品名「Irganox1010」)0.5重量部と、脂肪酸エステル(ミリスチン酸イソプロピル、花王社製、商品名「エキセパールIPM」、Mn=270)30重量部と、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムビス(フルオロメタンスルホニル)イミド(第一工業製薬社製、商品名「AS110」)1.5重量部と、両末端型のポリエーテル変性シリコーンオイル(信越化学工業社製、商品名「KF−6004」)0.01重量部と、希釈溶剤としての酢酸エチル241重量部とを配合し、ディスパーで撹拌し、ウレタン系粘着剤組成物Bを得た。
ファウンテンロールを用いて、上記ウレタン系粘着剤組成物を、ポリエステル樹脂基材(東レ社製、商品名「ルミラーS10」、厚み:38μm)に塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間3分の条件でキュアーして乾燥して、総厚み63μmの第2の光学積層体A(基材(38μm)/粘着剤層(25μm))を得た。
得られた第2の光学積層体Aを上記(1)および(4)の評価に供した。結果を表2に示す。
上記第1の光学積層体Aおよび第2の光学積層体Aを5インチサイズに切り出し、5インチの有機ELパネルの視認側に第1の光学積層体Aの粘着剤層側を貼り合せた。次いで、該有機ELパネルの背面側に第2の光学積層体Aの粘着剤層側を貼り合せて、有機EL表示装置を得た。
得られた有機EL表示装置を上記(2)および(3)の評価に供した。結果を表2に示す。
(第1の光学積層体Bの作製)
特開2016−126130の実施例2と同様の方法により、液晶配向固化層(第1の液晶配向固化層(λ/2板)および第2の液晶配向固化層(λ/4板))からなる光学補償層A(厚み:3μm)を形成した。
位相差フィルムAに代えて、光学補償層Aを配置したこと以外は、実施例1と同様にして、総厚みが100μmの第1の光学積層体B(基材(40μm)/接着剤(1μm)/偏光子A(5μm)/接着剤(1μm)/液晶配向固化層からなる光学補償層A(3μm)/粘着剤層(50μm))を得た。なお、液晶配向固化層からなる光学補償層Aは第1の液晶配向固化層が偏光子Aがとなるように配置した。また、第1の液晶配向固化層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は15°とし、第2の液晶配向固化層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は75°とした。
得られた第1の光学積層体Bを上記(1)の評価に供した。結果を表2に示す。
第1の光学積層体Aに代えて、第1の光学積層体Bを用いたこと以外は、実施例1と同様にして有機EL表示装置を得た。
得られた有機EL表示装置を上記(2)および(3)の評価に供した。結果を表2に示す。
(ITOフィルムの作製)
厚み50μmのポリエチレンテレフタレートフィルムからなる基材(屈折率:1.65)の一方の面に、メラミン樹脂、アルキド樹脂及び有機シラン縮合物からなる熱硬化型樹脂(重量比で、メラミン樹脂:アルキド樹脂:有機シラン縮合物=2:2:1)を塗工し、これを硬化させて、厚み35nmの透明誘電体(アンダーコート)層(屈折率:1.54)を形成した。
次いで、透明誘電体層上に、アルゴンガス95%と酸素ガス5%の混合ガス(0.5Pa)の雰囲気下、酸化インジウム97重量%、酸化スズ3重量%の焼結体材料を用いて反応性スパッタリング法により、透明導電層として厚み22nmのITO膜(屈折率:2.00)を形成した。このフィルムを140℃の条件で60分間加熱し、ITO膜を結晶化させ、厚みが50μmのITOフィルムを作製した。
(第1の光学積層体Cの作製)
カバーフィルムとしてのポリアリレート樹脂フィルム(厚み:40μm)と、上記アクリル系粘着剤溶液Aから形成される粘着剤層(厚み:50μm)と、基材としてのポリイミド樹脂フィルム(厚み:20μm)と、接着剤層(厚み:1μm)と、上記偏光子A(厚み:5μm)と、接着剤層(厚み:1μm)と、上記液晶配向固化層からなる光学補償層A(厚み:3μm)と、上記アクリル系粘着剤溶液Aから形成される粘着剤層(厚み:20μm)と、上記ITOフィルム(厚み:50μm)と、上記アクリル系粘着剤溶液Aから形成される粘着剤層(厚み:50μm)とをこの順に積層して、総厚みが240μmの第1の光学積層体Cを作製した。なお、液晶配向固化層からなる光学補償層Aは第1の液晶配向固化層が偏光子Aがとなるように配置した。また、第1の液晶配向固化層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は15°とし、第2の液晶配向固化層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は75°とした。
得られた第1の光学積層体Cを上記(1)の評価に供した。結果を表2に示す。
第1の光学積層体Aに代えて、第1の光学積層体Cを用いたこと以外は、実施例1と同様にして有機EL表示装置を得た。
得られた有機EL表示装置を上記(2)および(3)の評価に供した。結果を表2に示す。
(第2の光学積層体Bの作製)
ポリエステル樹脂基材の厚みを75μmとし、粘着剤層の厚みを50μmとしたこと以外は、実施例1と同様にして、総厚みが125μmの第2の光学積層体Bを作製した。
得られた第2の光学積層体Bを上記(1)および(4)の評価に供した。結果を表2に示す。
第2の光学積層体Aに代えて、第2の光学積層体Bを用いたこと以外は、実施例3と同様にして有機EL表示装置を得た。
得られた有機EL表示装置を上記(2)および(3)の評価に供した。結果を表2に示す。
(偏光子Bの作製)
特開2016−126130の比較例1と同様の方法により、偏光子B(厚み:22μm)を得た。
(第1の光学積層体Dの作製)
偏光子Aに代えて、偏光子Bを用いたこと以外は、実施例3と同様にして、総厚みが257μmの第1の光学積層体D(ポリアリレート樹脂フィルム(40μm)/粘着剤層(50μm)/基材(20μm)/接着剤層(1μm)/偏光子B(22μm)/接着剤層(1μm)/液晶配向固化層からなる光学補償層A(3μm)/粘着剤層(20μm)/ITOフィルム(50μm)/粘着剤層(50μm))を得た。
得られた第1の光学積層体Dを上記(1)の評価に供した。結果を表2に示す。
第1光学積層体Cに代えて第1の光学積層体Dを用い、第2の光学積層体Aに代えて第2の光学積層体Bを用いたこと以外は、実施例3と同様にして有機EL表示装置を得た。
得られた有機EL表示装置を上記(2)および(3)の評価に供した。結果を表2に示す。
(第1の光学積層体Eの作製)
基材としてのポリイミド樹脂フィルムに代えて、トリアセチルセルロースフィルム(厚み:40μm)を用い、液晶配向固化層からなる光学補償層Aに代えて位相差フィルムA(厚み:55μm)を用いたこと以外は、実施例3と同様にして、総厚みが312μmの第1の光学積層体Eを得た。
得られた第1の光学積層体Eを上記(1)の評価に供した。結果を表2に示す。
第1光学積層体Cに代えて第1の光学積層体Eを用いたこと以外は、実施例3と同様にして有機EL表示装置を得た。
得られた有機EL表示装置を上記(2)および(3)の評価に供した。結果を表2に示す。
(第1の光学積層体Fの作製)
偏光子Aに代えて、偏光子B(厚み:22μm)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして第1の光学積層体Fを得た。
得られた第1の光学積層体Fを上記(1)の評価に供した。結果を表2に示す。
第1光学積層体Aに代えて第1の光学積層体Fを用いたこと以外は、実施例1と同様にして有機EL表示装置を得た。
得られた有機EL表示装置を上記(2)および(3)の評価に供した。結果を表2に示す。
(第1の光学積層体Gの作製)
カバーフィルムとしてのポリアリレート樹脂フィルム(厚み:40μm)に代えて、ポリアリレート樹脂フィルム(厚み:100μm)を用いたこと以外は、実施例3と同様にして、総厚みが400μmの第1の光学積層体G(ポリアリレート樹脂フィルム(200μm)/粘着剤層(50μm)/基材(20μm)/接着剤層(1μm)/偏光子A(5μm)/接着剤層(1μm)/液晶配向固化層からなる光学補償層A(3μm)/粘着剤層(20μm)/ITOフィルム(50μm)/粘着剤層(50μm))を得た。
得られた第1の光学積層体Gを上記(1)の評価に供した。結果を表2に示す。
ポリエステル樹脂基材の厚みを150μmとし、粘着剤層の厚みを100μmとしたこと以外は、実施例1と同様にして、総厚みが250μmの第2の光学積層体Cを作製した。
得られた第2の光学積層体Cを上記(1)および(4)の評価に供した。結果を表2に示す。
第1光学積層体Cに代えて第1の光学積層体Gを用い、第2の光学積層体Aに代えて第2の光学積層体Cを用いたこと以外は、実施例3と同様にして有機EL表示装置を得た。
得られた有機EL表示装置を上記(2)および(3)の評価に供した。結果を表2に示す。
200 有機ELパネル
300 第1の光学積層体
400 第2の光学積層体
Claims (9)
- 有機ELパネルと、該有機ELパネルの一方の側に配置された第1の光学積層体と、該有機ELパネルの他方の側に配置された第2の光学積層体とを備え、
該第1の光学積層体の厚みが、300μm以下であり、
該第2の光学積層体の厚みが、300μm以下であり、
該第1の光学積層体の平衡水分率が、2.5%以下であり、
該第2の光学積層体の平衡水分率が、2.5%以下である、
有機EL表示装置。 - 前記第1の光学積層体の厚みと前記第2光学積層体の厚みとの差の絶対値が、150μm以下である、請求項1に記載の有機EL表示装置。
- 前記第1の光学積層体の平衡水分率と前記第2光学積層体の平衡水分率の差の絶対値が、1%以下である、請求項1または2に記載の有機EL表示装置。
- 前記第1の光学積層体の25℃における引張弾性率が、1.5GP〜10GPaである、請求項1から3のいずれかに記載の有機EL表示装置。
- 前記第2の光学積層体の25℃における引張弾性率が、1.5GP〜10GPaである、請求項1から4のいずれかに記載の有機EL表示装置。
- 前記第1の光学積層体が、少なくとも基材と、偏光子と、光学補償層と、粘着剤層とをこの順に備える、請求項1から5のいずれかに記載の有機EL表示装置。
- 前記第1の光学積層体が、導電層を備える、請求項1から6のいずれかに記載の有機EL表示装置。
- 反り量は、好ましくは3mm以下である、請求項1から7のいずれかに記載の有機EL表示装置。
- 曲率半径10mm以下で屈曲可能である、請求項1から8のいずれかに記載の有機EL表示装置。
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