WO2023112700A1 - センサー積層体 - Google Patents

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WO2023112700A1
WO2023112700A1 PCT/JP2022/044392 JP2022044392W WO2023112700A1 WO 2023112700 A1 WO2023112700 A1 WO 2023112700A1 JP 2022044392 W JP2022044392 W JP 2022044392W WO 2023112700 A1 WO2023112700 A1 WO 2023112700A1
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layer
polarizer
conductive film
conductive layer
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文彦 河野
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日東電工株式会社
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    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
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    • B32B7/023—Optical properties
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    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
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    • H—ELECTRICITY
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    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
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    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
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    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays

Definitions

  • the present invention relates to a sensor laminate.
  • a transparent conductive film in which a metal oxide layer such as an indium-tin composite oxide layer (ITO layer) is formed on a transparent resin film has been widely used as a transparent conductive film used for touch sensor electrodes and the like.
  • ITO layer indium-tin composite oxide layer
  • the transparent conductive film having the metal oxide layer formed thereon has insufficient flexibility, it is difficult to use it for applications requiring flexibility such as flexible displays. Therefore, in recent years, a transparent conductive film including a conductive layer containing metal nanowires has been proposed as a transparent conductive film having excellent flexibility.
  • the inventors of the present invention use a transparent conductive film having a transparent conductive layer containing metal nanowires as described above as an electrode, and arrange a polarizing plate on the transparent conductive film to form a sensor laminate. It was found that the metal nanowires deteriorated markedly and the conductivity of the transparent conductive film decreased.
  • the present invention has been made to solve such problems, and a main object thereof is to provide a sensor laminate comprising a polarizing plate and a transparent conductive film containing metal nanowires, wherein the transparent conductive film is electrically conductive.
  • An object of the present invention is to provide a sensor laminated body in which degradation in performance is suppressed.
  • a sensor laminate of the present invention comprises a transparent conductive film and a polarizing plate disposed on at least one side of the transparent conductive film, the transparent conductive film comprising a transparent conductive layer containing metal nanowires,
  • the polarizing plate has a polarizer, and the distance between the polarizer and the transparent conductive layer is 25 ⁇ m or more and less than 70 ⁇ m.
  • the distance between the polarizer and the transparent conductive layer is a structure other than the polarizer in the polarizing plate, and the transparent conductive layer is disposed between the polarizer and the transparent conductive layer. It is ensured by the conductive film side structure.
  • the transparent conductive film side structure includes a first retardation layer, a second retardation layer, and an adhesive layer in this order from the polarizer side.
  • the transparent conductive film comprises a transparent substrate and the transparent conductive layer disposed on at least one side of the transparent substrate, and the transparent substrate is made of a cycloolefin resin. be.
  • a sensor laminate including a polarizing plate and a transparent conductive film containing metal nanowires, in which a decrease in the conductivity of the transparent conductive film is suppressed. can.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a sensor stack according to one embodiment of the invention
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a sensor stack according to another embodiment of the invention
  • refractive index (nx, ny, nz) is the refractive index in the direction in which the in-plane refractive index is maximum (i.e., slow axis direction), and "ny” is the in-plane direction orthogonal to the slow axis (i.e., fast axis direction) and "nz” is the refractive index in the thickness direction.
  • In-plane retardation (Re) “Re( ⁇ )” is an in-plane retardation measured at 23° C. with light having a wavelength of ⁇ nm.
  • Re(550) is the in-plane retardation measured with light having a wavelength of 550 nm at 23°C.
  • Thickness direction retardation (Rth) is the retardation in the thickness direction measured at 23° C. with light having a wavelength of ⁇ nm.
  • Rth(550) is the retardation in the thickness direction measured at 23° C. with light having a wavelength of 550 nm.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a sensor stack according to one embodiment of the present invention.
  • the sensor laminate 100 comprises a transparent conductive film 10 and a polarizing plate 20 arranged on at least one side of the transparent conductive film 10 .
  • the transparent conductive film 10 has a transparent conductive layer 11 .
  • transparent conductive film 10 comprises transparent conductive layer 11 on at least one side of transparent base material 12 .
  • the transparent conductive layer 11 includes metal nanowires (not shown).
  • the polarizing plate 20 has a polarizer 21 .
  • a protective layer 23 is arranged on at least one surface of the polarizer 21 (the surface of the polarizer 21 opposite to the transparent conductive film 10 in FIG. 1).
  • the distance A between the polarizer 21 and the transparent conductive layer 11 is 25 ⁇ m or more and less than 70 ⁇ m.
  • the structure 22 other than the polarizer 21 in the polarizing plate 20, which is the transparent conductive film side structure 22 disposed between the polarizer 21 and the transparent conductive layer 11, allows the polarizer A distance A between 21 and the transparent conductive layer 11 is ensured.
  • any suitable layer e.g., retardation layer, adhesive layer, adhesive layer, liquid crystal layer, etc.
  • any suitable layer e.g., retardation layer, adhesive layer, adhesive layer, liquid crystal layer, etc.
  • the layer The distance A between the polarizer and the transparent conductive layer may be ensured by the structure 22 on the polarizing plate and the transparent conductive film side structure 22 of the polarizing plate.
  • the transparent conductive film side structure 22 is composed of any appropriate layer.
  • the layer constituting the transparent conductive film side structure 22 include a retardation layer, an adhesive layer, an adhesive layer, a liquid crystal layer, and the like.
  • An example of the transparent conductive film-side structure 22 is shown below in FIG. 2, but the configuration of the transparent conductive film-side structure 22 is not limited to this, and may be any appropriate configuration.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a sensor stack according to one embodiment of the invention.
  • the polarizing plate 20 is a polarizing plate with a retardation layer, and includes a protective layer 23, a polarizer 21, a first retardation layer 22a, a second retardation layer 22b, An adhesive layer 22c is provided in this order.
  • the polarizing plate 20 is arranged so that the adhesive layer 22c faces the transparent conductive film 10 side, and the adhesive layer 22c and the transparent conductive layer 11 are adhered to form the sensor laminate 100'.
  • the first retardation layer 22a, the second retardation layer 22b, and the adhesive layer 22c constitute the transparent conductive film side structure 22. As shown in FIG.
  • the thickness A of the transparent conductive film side structure 22 corresponds to the distance A between the polarizer 21 and the transparent conductive layer 11 . That is, the thickness of the transparent conductive film side structure 22 is 25 ⁇ m or more and less than 70 ⁇ m.
  • a barrier layer may be arranged between the polarizing plate and the transparent conductive film.
  • a barrier layer may be arranged between the adhesive layer 22c and the second retardation layer 22b.
  • the barrier layer is a layer that can prevent migration of the iodine component.
  • a sensor laminate can be provided that includes a flexible film.
  • the sensor laminate of the present invention is advantageous in that it is highly reliable under humid conditions.
  • a sensor laminate exhibiting excellent flexibility can be obtained. The effect is remarkable.
  • the distance between the polarizer and the transparent conductive layer is preferably 30 ⁇ m to 65 ⁇ m, more preferably 40 ⁇ m to 60 ⁇ m. With such a range, the above effect becomes remarkable.
  • the flexural modulus at 23° C. of the laminated structure (typically, the transparent conductive film side structure 22) disposed between the polarizer and the transparent conductive layer is preferably 1000 MPa to 9000 MPa, more preferably. is 1300 MPa to 6000 MPa, more preferably 1500 MPa to 5000 MPa.
  • the laminated structure (typically, the transparent conductive film side structure 22) disposed between the polarizer and the transparent conductive layer has a moisture permeability of 5 g/m after being placed in an environment of 40°C and 92% for 24 hours. It is preferably 2 or more and 1500 g/m 2 or less, more preferably 10 g/m 2 or more and 1000 g/m 2 or less, and even more preferably 10 g/m 2 or more and 700 g/m 2 or less. If the moisture permeability is too low, there is a risk that the laminate will lose light in a high-temperature environment. If the moisture permeability is too high, unevenness may occur in the laminate in a high-humidity environment.
  • Polarizing plate B-1 Polarizer Any appropriate polarizer can be employed as the polarizer.
  • the resin film forming the polarizer may be a single-layer resin film or a laminate of two or more layers.
  • the polarizer composed of a single-layer resin film include hydrophilic polymer films such as polyvinyl alcohol (PVA) films, partially formalized PVA films, and partially saponified ethylene/vinyl acetate copolymer films.
  • hydrophilic polymer films such as polyvinyl alcohol (PVA) films, partially formalized PVA films, and partially saponified ethylene/vinyl acetate copolymer films.
  • polyene-based oriented films such as those subjected to dyeing treatment and stretching treatment with dichroic substances such as iodine and dichroic dyes, and dehydrated PVA and dehydrochlorinated polyvinyl chloride films.
  • a polarizer obtained by dyeing a PVA-based film with iodine and uniaxially stretching the film is preferably used because of its excellent optical properties.
  • the dyeing with iodine is performed, for example, by immersing the PVA-based film in an aqueous iodine solution.
  • the draw ratio of the uniaxial drawing is preferably 3 to 7 times. Stretching may be performed after the dyeing treatment, or may be performed while dyeing. Moreover, you may dye after extending
  • the PVA-based film is subjected to swelling treatment, cross-linking treatment, washing treatment, drying treatment, and the like. For example, by immersing the PVA-based film in water and washing it with water before dyeing, not only can dirt and anti-blocking agents on the surface of the PVA-based film be washed away, but also the PVA-based film can be swollen to remove uneven dyeing. can be prevented.
  • the polarizer obtained using a laminate include a laminate of a resin substrate and a PVA-based resin layer (PVA-based resin film) laminated on the resin substrate, or a resin substrate and the resin
  • a polarizer obtained by using a laminate with a PVA-based resin layer formed by coating on a substrate can be mentioned.
  • a polarizer obtained by using a laminate of a resin base material and a PVA-based resin layer formed by coating on the resin base material is obtained, for example, by applying a PVA-based resin solution to the resin base material and drying the resin base material.
  • stretching typically includes immersing the laminate in an aqueous boric acid solution and stretching. Furthermore, stretching may further include stretching the laminate in air at a high temperature (eg, 95° C. or higher) before stretching in an aqueous boric acid solution, if necessary.
  • the obtained resin substrate/polarizer laminate may be used as it is (that is, the resin substrate may be used as a protective layer for the polarizer), or the resin substrate may be peeled off from the resin substrate/polarizer laminate.
  • any appropriate protective layer may be laminated on the release surface according to the purpose. Details of the method for manufacturing such a polarizer are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-73580 and Japanese Patent No. 6470455. These publications are incorporated herein by reference in their entireties.
  • the thickness of the polarizer is preferably 15 ⁇ m or less, more preferably 1 ⁇ m to 12 ⁇ m, still more preferably 3 ⁇ m to 12 ⁇ m, particularly preferably 3 ⁇ m to 8 ⁇ m.
  • the polarizer preferably exhibits absorption dichroism at any wavelength of 380 nm to 780 nm.
  • the single transmittance of the polarizer is preferably 41.5% to 46.0%, more preferably 43.0% to 46.0%, still more preferably 44.5% to 46.0%. be.
  • the degree of polarization of the polarizer is preferably 97.0% or higher, more preferably 99.0% or higher, still more preferably 99.9% or higher.
  • the protective layer may be composed of any suitable film.
  • film constituent materials include cellulose-based resins such as triacetyl cellulose (TAC), polyester-based, polyvinyl alcohol-based, polycarbonate-based, polyamide-based, polyimide-based, polyethersulfone-based, polysulfone-based, polystyrene-based, Examples include transparent resins such as polynorbornene-based, polyolefin-based, (meth)acrylic-based, and acetate-based resins.
  • Thermosetting resins such as (meth)acrylic, urethane, (meth)acrylic urethane, epoxy, and silicone, or ultraviolet curable resins may also be used.
  • (meth)acryl means acryl and/or methacryl.
  • the thickness of the protective layer is preferably 10 ⁇ m to 40 ⁇ m, more preferably 10 ⁇ m to 30 ⁇ m.
  • the retardation layer may be an alignment fixed layer of a liquid crystal compound.
  • each of the first retardation layer and the second retardation layer shown in FIG. 2 can be an alignment fixed layer of a liquid crystal compound.
  • the term "fixed alignment layer” refers to a layer in which a liquid crystal compound is aligned in a predetermined direction and the alignment state is fixed.
  • the "alignment fixed layer” is a concept including an alignment cured layer obtained by curing a liquid crystal monomer as described later.
  • the rod-shaped liquid crystal compound is aligned in the slow axis direction of the first retardation layer or the second retardation layer. (homogeneous orientation).
  • Liquid crystal compounds include, for example, liquid crystal compounds whose liquid crystal phase is a nematic phase (nematic liquid crystal).
  • a liquid crystal compound for example, a liquid crystal polymer or a liquid crystal monomer can be used. Either lyotropic or thermotropic mechanism may be used to develop the liquid crystallinity of the liquid crystal compound.
  • the liquid crystal polymer and liquid crystal monomer may be used alone or in combination.
  • the liquid crystal monomer is preferably a polymerizable monomer and a crosslinkable monomer.
  • the alignment state of the liquid crystal monomer can be fixed by polymerizing or cross-linking (that is, curing) the liquid crystal monomer. After aligning the liquid crystal monomers, for example, the alignment state can be fixed by polymerizing or cross-linking the liquid crystal monomers.
  • a polymer is formed by polymerization and a three-dimensional network structure is formed by cross-linking, but these are non-liquid crystalline. Therefore, the formed retardation layer does not undergo a transition to a liquid crystal phase, a glass phase, or a crystal phase due to a change in temperature, which is peculiar to liquid crystalline compounds. As a result, the retardation layer becomes a highly stable retardation layer that is not affected by temperature changes.
  • the temperature range in which the liquid crystal monomer exhibits liquid crystallinity differs depending on the type. Specifically, the temperature range is preferably 40°C to 120°C, more preferably 50°C to 100°C, and most preferably 60°C to 90°C.
  • liquid crystal monomer Any appropriate liquid crystal monomer can be adopted as the liquid crystal monomer.
  • polymerizable mesopolymers described in JP 2002-533742 WO00/37585
  • EP358208 US5211877
  • EP66137 US4388453
  • WO93/22397 EP0261712, DE19504224, DE4408171, and GB2280445 Gen compounds and the like
  • Specific examples of such polymerizable mesogenic compounds include LC242 (trade name) available from BASF, E7 (trade name) available from Merck, and LC-Sillicon-CC3767 (trade name) available from Wacker-Chem.
  • the liquid crystal monomer for example, a nematic liquid crystal monomer is preferable.
  • the liquid crystal alignment fixed layer is obtained by subjecting the surface of a predetermined base material to alignment treatment, coating the surface with a coating liquid containing a liquid crystal compound, and aligning the liquid crystal compound in the direction corresponding to the alignment treatment, and It can be formed by fixing the state.
  • orientation treatment can be adopted as the orientation treatment.
  • Specific examples include mechanical orientation treatment, physical orientation treatment, and chemical orientation treatment.
  • Specific examples of mechanical orientation treatment include rubbing treatment and stretching treatment.
  • Specific examples of physical orientation treatment include magnetic orientation treatment and electric field orientation treatment.
  • Specific examples of chemical alignment treatment include oblique vapor deposition and photo-alignment treatment.
  • Arbitrary appropriate conditions can be adopted as the processing conditions for various alignment treatments depending on the purpose.
  • the alignment of the liquid crystal compound is performed by processing at a temperature that exhibits a liquid crystal phase depending on the type of liquid crystal compound. By performing such a temperature treatment, the liquid crystal compound assumes a liquid crystal state, and the liquid crystal compound is aligned in accordance with the orientation treatment direction of the base material surface.
  • the alignment state is fixed by cooling the liquid crystal compound aligned as described above.
  • the orientation state is fixed by subjecting the liquid crystal compound oriented as described above to a polymerization treatment or a crosslinking treatment.
  • liquid crystal compound and details of the method for forming the alignment fixed layer are described in JP-A-2006-163343. The description of the publication is incorporated herein by reference.
  • either the first retardation layer or the second retardation layer can function as a ⁇ /2 plate, and the other can function as a ⁇ /4 plate.
  • the first retardation layer Re (550) is preferably is 200 nm to 300 nm, the angle formed by the slow axis and the absorption axis of the polarizer is preferably 10 ° to 20 °; Re (550) of the second retardation layer is preferably 100 nm to 190 nm. and the angle between the slow axis and the absorption axis of the polarizer is preferably 70° to 80°.
  • the Nz coefficient of each of the first retardation layer and the second retardation layer is preferably 0.9 to 1.5, more preferably 0.9 to 1.3.
  • Each of the first retardation layer and the second retardation layer preferably has a moisture permeability of 5 g/m 2 or more and 1500 g/m 2 or less after being placed in an environment of 40 ° C. 92% for 24 hours, and 10 g/m 2 It is more preferably 1000 g/m 2 or more, and further preferably 10 g/m 2 or more and 700 g/m 2 or less. If the moisture permeability is too low, there is a risk of light leakage in the laminate in a high-temperature environment. If the moisture permeability is too high, unevenness may occur in the laminate in a high-humidity environment.
  • the retardation layer may be a single layer.
  • a single-layer retardation layer typically exhibits reverse wavelength dispersion characteristics and can function as a ⁇ /4 plate.
  • the Re(550) of the retardation layer is preferably 100 nm to 190 nm, and Re(450)/Re(550) is preferably 0.8 to 0.95.
  • the angle between the phase axis and the absorption axis of the polarizer is preferably 40° to 50°.
  • Adhesive Layer Any appropriate configuration can be adopted as the adhesive constituting the adhesive layer.
  • Specific examples of adhesives constituting the adhesive layer include acrylic adhesives, rubber adhesives, silicone adhesives, polyester adhesives, urethane adhesives, epoxy adhesives, and polyether adhesives. is mentioned.
  • a pressure-sensitive adhesive having desired properties according to the purpose. can be prepared.
  • the base resin of the adhesive may be used alone or in combination of two or more.
  • Acrylic pressure-sensitive adhesives (acrylic pressure-sensitive adhesive compositions) are preferred from the viewpoints of transparency, processability, durability, and the like.
  • the thickness of the adhesive layer is preferably 5 ⁇ m to 30 ⁇ m, more preferably 10 ⁇ m to 20 ⁇ m.
  • Adhesive Layer Any appropriate adhesive can be adopted as the adhesive constituting the adhesive layer.
  • Active energy ray-curable adhesives are typically used as adhesives. Examples of active energy ray-curable adhesives include ultraviolet-curable adhesives and electron beam-curable adhesives. From the viewpoint of the curing mechanism, active energy ray-curable adhesives include, for example, radical-curing, cationic-curing, anion-curing, and hybrids of radical-curing and cationic-curing. Typically, a radical curing ultraviolet curing adhesive can be used. This is because it is excellent in versatility and the characteristics (structure) can be easily adjusted.
  • the adhesive typically contains a curing component and a photopolymerization initiator.
  • the curing component typically includes monomers and/or oligomers having functional groups such as (meth)acrylate groups and (meth)acrylamide groups.
  • Specific examples of curing components include tripropylene glycol diacrylate, 1,9-nonanediol diacrylate, tricyclodecanedimethanol diacrylate, phenoxydiethylene glycol acrylate, cyclic trimethylolpropane formal acrylate, dioxane glycol diacrylate, and EO modification.
  • the photopolymerization initiator a photopolymerization initiator well known in the industry can be used in a well-known blending amount in the industry, so a detailed description will be omitted.
  • the thickness of the adhesive layer (after curing the adhesive) is preferably 0.1 ⁇ m to 3.0 ⁇ m.
  • the block layer is a resin layer.
  • the blocking layer includes an acrylic resin and/or an epoxy resin.
  • the content ratio of the acrylic resin and the epoxy resin is preferably 95:5 to 60:40 or 40:60 to 1:99 by weight; more preferably. is 95:5 to 80:20, or 20:80 to 5:95; more preferably 90:10 to 70:30, or 30:70 to 10:90.
  • the acrylic resin contains a structural unit derived from an acrylic monomer and a structural unit derived from a monomer (a) represented by the following formula (1).
  • a monomer represented by the following formula (1) an acrylic resin containing a structural unit derived from an acrylic monomer and a structural unit derived from a monomer represented by the following formula (1) is referred to as "acrylic resin (A)".
  • the monomer (a) represented by the following formula (1) may be simply referred to as "monomer (a)".
  • X is a vinyl group, a (meth)acryl group, a styryl group, a (meth)acrylamide group, a vinyl ether group, an epoxy group, an oxetane group, a hydroxyl group, an amino group, an aldehyde group, and a group consisting of a carboxyl group
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group, or a substituted or an optionally substituted heterocyclic group, and R 1 and R 2 may be linked together to form a ring).
  • an optionally substituted linear or branched C 1-20 alkyl group an optionally substituted C 3-20 cyclic alkyl group , and alkenyl groups having 2 to 20 carbon atoms.
  • the aryl group include an optionally substituted phenyl group having 6 to 20 carbon atoms and a naphthyl group having 10 to 20 carbon atoms which may have a substituent.
  • the heterocyclic group includes a 5- or 6-membered ring group containing at least one optionally substituted heteroatom.
  • R 1 and R 2 may be linked together to form a ring.
  • R 1 and R 2 are preferably a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom.
  • the reactive group contained in the functional group represented by X above is preferably a (meth)acryl group and/or a (meth)acrylamide group.
  • the functional group represented by X is preferably a functional group represented by the following formula.
  • Z is a vinyl group, a (meth)acryl group, a styryl group, a (meth)acrylamide group, a vinyl ether group, an epoxy group, an oxetane group, a hydroxyl group, an amino group, an aldehyde group, and a group consisting of a carboxyl group represents a selected functional group containing at least one reactive group, and Y represents a phenylene group or an alkylene group).
  • the following compounds can be used as the monomer represented by the general formula (1).
  • the content of structural units derived from the monomer (a) is preferably more than 0 parts by weight and less than 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the acrylic resin (A). , more preferably 0.01 to 50 parts by weight, more preferably 0.05 to 20 parts by weight, still more preferably 0.1 to 10 parts by weight. Within such a range, a sensor laminate having excellent durability can be obtained.
  • the content ratio of the structural unit derived from the acrylic monomer preferably exceeds 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the acrylic resin (A).
  • any suitable acrylic monomer can be used as the acrylic monomer.
  • suitable acrylic monomer examples thereof include (meth)acrylic acid ester-based monomers having a linear or branched structure and (meth)acrylic acid ester-based monomers having a cyclic structure.
  • (meth)acryl refers to acryl and/or methacryl.
  • Examples of (meth)acrylic acid ester-based monomers having a linear or branched structure include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, and (meth)acrylic acid. isopropyl, n-butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, methyl 2-ethylhexyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate and the like. . Preferably, methyl (meth)acrylate is used.
  • the (meth)acrylic acid ester-based monomers may be used alone or in combination of two or more.
  • Examples of (meth)acrylic ester-based monomers having a cyclic structure include cyclohexyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, 1-adamantyl (meth)acrylate, ( meth)dicyclopentenyl acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, biphenyl (meth)acrylate, o-biphenyloxyethyl (meth)acrylate, o-biphenyloxyethoxy Ethyl (meth)acrylate, m-biphenyloxyethyl acrylate, p-biphenyloxyethyl (meth)acrylate, o-biphenyloxy-2-hydroxypropyl (meth)acrylate, p-biphenyloxy-2-hydroxypropyl (meth)acrylate ,
  • 1-adamantyl (meth)acrylate and dicyclopentanyl (meth)acrylate are used.
  • a polymer having a high glass transition temperature can be obtained by using these monomers. These monomers may be used alone or in combination of two or more.
  • a silsesquioxane compound having a (meth)acryloyl group may also be used instead of the (meth)acrylic acid ester-based monomer.
  • a silsesquioxane compound By using a silsesquioxane compound, an acrylic polymer having a high glass transition temperature can be obtained.
  • Silsesquioxane compounds are known to have various skeleton structures, such as cage structures, ladder structures, and random structures. The silsesquioxane compound may have only one of these structures, or may have two or more. Silsesquioxane compounds may be used alone or in combination of two or more.
  • silsesquioxane compound having a (meth)acryloyl group for example, Toagosei Co., Ltd. SQ series MAC grade and AC grade can be used.
  • MAC grade is a silsesquioxane compound containing a methacryloyl group, and specific examples thereof include MAC-SQ TM-100, MAC-SQ SI-20, MAC-SQ HDM, and the like.
  • AC grade is a silsesquioxane compound containing an acryloyl group, and specific examples thereof include AC-SQ TA-100 and AC-SQ SI-20.
  • the acrylic resin (A) is preferably obtained by solution polymerization of acrylic monomers and monomer components such as monomer (a).
  • Any appropriate solvent can be used as the solvent used in the solution polymerization.
  • water alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol and isopropyl alcohol; aromatic or aliphatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, cyclohexane and n-hexane; ester compounds such as ethyl acetate; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone.
  • Compounds; Cyclic ether compounds such as tetrahydrofuran and dioxane. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
  • the polymerization reaction can be conducted at any suitable temperature and time.
  • the polymerization reaction can be carried out in the range of 50°C to 100°C, preferably 60°C to 80°C.
  • the reaction time is, for example, 1 to 8 hours, preferably 3 to 5 hours.
  • any suitable epoxy resin can be used as the epoxy resin.
  • an epoxy resin having an aromatic ring is preferably used. By using an epoxy-based resin having an aromatic ring, it is possible to form a block layer having excellent adhesion to a polarizer.
  • epoxy resins having an aromatic ring examples include bisphenol-type epoxy resins such as bisphenol A-type epoxy resin, bisphenol F-type epoxy resin, bisphenol S-type epoxy resin; novolac type epoxy resins such as hydroxybenzaldehyde phenol novolak epoxy resins; polyfunctional epoxy resins such as glycidyl ether of tetrahydroxyphenylmethane, glycidyl ether of tetrahydroxybenzophenone, epoxidized polyvinylphenol, naphthol type Epoxy-based resins, naphthalene-type epoxy-based resins, biphenyl-type epoxy-based resins, and the like are included.
  • bisphenol-type epoxy resins such as bisphenol A-type epoxy resin, bisphenol F-type epoxy resin, bisphenol S-type epoxy resin
  • novolac type epoxy resins such as hydroxybenzaldehyde phenol novolak epoxy resins
  • polyfunctional epoxy resins such as glycidyl ether of tetra
  • Bisphenol A epoxy resin, biphenyl epoxy resin, and bisphenol F epoxy resin are preferably used. By using these epoxy resins, it is possible to form a blocking layer that can favorably prevent the migration of iodine components.
  • Epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the epoxy resin is preferably 20,000 or more, more preferably 30,000 or more, and even more preferably 37,000 or more.
  • Mw weight average molecular weight
  • a weight average molecular weight can be measured by GPC, for example.
  • the single layer thickness of the block layer is preferably 0.1 ⁇ m to 8 ⁇ m, more preferably 0.2 ⁇ m to 3 ⁇ m, still more preferably 0.4 ⁇ m to 1 ⁇ m.
  • the total thickness of the block layer is preferably 0.1 ⁇ m to 16 ⁇ m, more preferably 0.1 ⁇ m to 8 ⁇ m, even more preferably 0.2 ⁇ m to 6 ⁇ m, still more preferably 0.2 ⁇ m to 3 ⁇ m. , more preferably 0.2 ⁇ m to 2 ⁇ m, and particularly preferably 0.4 ⁇ m to 1 ⁇ m.
  • the total thickness of the block layer corresponds to the thickness of a single layer when the block layer is a single layer, and corresponds to the total thickness of each layer when the block layer is a plurality of layers.
  • the transparent conductive layer comprises metal nanowires and a polymer matrix.
  • the transparent conductive layer comprises metal nanowires and a polymer matrix.
  • the thickness of the transparent conductive layer is preferably 10 nm to 1000 nm, more preferably 20 nm to 500 nm.
  • the total light transmittance of the transparent conductive layer is preferably 85% or higher, more preferably 90% or higher, and still more preferably 95% or higher.
  • the sheet resistance value of the transparent conductive layer is preferably 200 ⁇ / ⁇ or less, more preferably 150 ⁇ / ⁇ or less, and even more preferably 100 ⁇ / ⁇ or less.
  • the sheet resistance value of the transparent conductive film is preferably as small as possible, but the lower limit is, for example, 1 ⁇ / ⁇ (preferably 0.5 ⁇ / ⁇ , more preferably 0.1 ⁇ / ⁇ ).
  • a metal nanowire is a conductive substance that is made of metal, has a needle-like or thread-like shape, and has a nanometer-sized diameter.
  • the metal nanowires may be straight or curved.
  • a transparent conductive layer composed of metal nanowires is used, the metal nanowires form a mesh, so that even a small amount of metal nanowires can form a good electrical conduction path.
  • a conductive film can be obtained.
  • the metal nanowires are mesh-like, openings are formed in the gaps of the meshes, and a transparent conductive film with high light transmittance can be obtained.
  • the ratio of the thickness d to the length L of the metal nanowires is preferably 10 to 100,000, more preferably 50 to 100,000, and particularly preferably 100 to 10,000.
  • the metal nanowires having a large aspect ratio are used in this manner, the metal nanowires can cross each other satisfactorily, and a small amount of metal nanowires can exhibit high conductivity. As a result, a transparent conductive film with high light transmittance can be obtained.
  • the “thickness of the metal nanowire” means the diameter when the cross section of the metal nanowire is circular, the minor axis when the metal nanowire is elliptical, and the polygonal In some cases it means the longest diagonal.
  • the thickness and length of metal nanowires can be confirmed with a scanning electron microscope or a transmission electron microscope.
  • the thickness of the metal nanowires is preferably less than 500 nm, more preferably less than 200 nm, particularly preferably 10 nm to 100 nm, and most preferably 10 nm to 50 nm. Within such a range, a transparent conductive layer with high light transmittance can be formed.
  • the length of the metal nanowires is preferably 1 ⁇ m to 1000 ⁇ m, more preferably 10 ⁇ m to 500 ⁇ m, and particularly preferably 10 ⁇ m to 100 ⁇ m. Within such a range, a transparent conductive film with high conductivity can be obtained.
  • metals constituting the metal nanowires can be used as the metal constituting the metal nanowires as long as it is a conductive metal.
  • metals forming the metal nanowires include silver, gold, copper, and nickel.
  • a material obtained by subjecting these metals to plating for example, gold plating may be used.
  • Silver, copper or gold is preferred, and silver is more preferred, from the viewpoint of conductivity.
  • any appropriate method can be adopted as the method for producing the metal nanowires. Examples include a method of reducing silver nitrate in a solution, a method of applying voltage or current from the tip of a probe to the surface of a precursor, pulling out metal nanowires at the tip of the probe, and forming the metal nanowires continuously. .
  • silver nanowires can be synthesized by liquid phase reduction of a silver salt such as silver nitrate in the presence of a polyol such as ethylene glycol and polyvinylpyrrolidone. Uniformly sized silver nanowires are described, for example, in Xia, Y.; et al. , Chem. Mater. (2002), 14, 4736-4745, Xia, Y.; et al. , Nano letters (2003) 3(7), 955-960, mass production is possible.
  • the transparent conductive layer containing the metal nanowires can be formed by applying a dispersion of the metal nanowires in a solvent onto the transparent substrate and then drying the coating layer.
  • the solvent examples include water, alcohol solvents, ketone solvents, ether solvents, hydrocarbon solvents, aromatic solvents, and the like. From the viewpoint of reducing environmental load, it is preferable to use water.
  • the dispersion concentration of the metal nanowires in the metal nanowire dispersion liquid is preferably 0.1% by weight to 1% by weight. Within such a range, a transparent conductive layer having excellent conductivity and light transmittance can be formed.
  • the metal nanowire dispersion liquid may further contain any appropriate additive depending on the purpose.
  • the additive include a corrosion inhibitor that prevents corrosion of metal nanowires, a surfactant that prevents aggregation of metal nanowires, and the like.
  • the type, number and amount of additives used can be appropriately set according to the purpose.
  • any appropriate method can be adopted as a method for applying the metal nanowire dispersion.
  • coating methods include spray coating, bar coating, roll coating, die coating, inkjet coating, screen coating, dip coating, letterpress printing, intaglio printing, and gravure printing.
  • Any appropriate drying method (for example, natural drying, air drying, heat drying) may be employed as a drying method for the coating layer.
  • the drying temperature is typically 50° C. to 200° C.
  • the drying time is typically 1 to 10 minutes.
  • the content of metal nanowires in the transparent conductive layer is preferably 30 wt% to 90 wt%, more preferably 45 wt% to 80 wt%, relative to the total weight of the transparent conductive layer. Within such a range, a transparent conductive film having excellent conductivity and light transmittance can be obtained.
  • the density of the transparent conductive layer is preferably 1.3 g/cm 3 to 10.5 g/cm 3 , more preferably 1.5 g/cm 3 to 3.0 g/cm 3 . 3 . Within such a range, a transparent conductive film having excellent conductivity and light transmittance can be obtained.
  • the transparent conductive layer is patterned. Any appropriate patterning method may be employed depending on the form of the transparent conductive layer.
  • the shape of the pattern of the transparent conductive layer may be any appropriate shape depending on the application. For example, patterns described in JP-A-2011-511357, JP-A-2010-164938, JP-A-2008-310550, JP-A-2003-511799, and JP-A-2010-541109 can be mentioned.
  • the transparent conductive layer After the transparent conductive layer is formed on the transparent substrate, it can be patterned using any appropriate method depending on the form of the transparent conductive layer.
  • polymer matrix Any appropriate polymer can be used as the polymer that constitutes the polymer matrix.
  • the polymer include acrylic polymers; polyester polymers such as polyethylene terephthalate; aromatic polymers such as polystyrene, polyvinyltoluene, polyvinylxylene, polyimide, polyamide, and polyamideimide; polyurethane polymers; epoxy polymers; Polymer; acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS); cellulose; silicon-based polymer; polyvinyl chloride; Preferably, polyfunctional compounds such as pentaerythritol triacrylate (PETA), neopentyl glycol diacrylate (NPGDA), dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), dipentaerythritol pentaacrylate (DPPA), trimethylolpropane triacrylate (TMPTA), etc.
  • a curable resin composed of acrylate preferably an ultraviolet cur
  • the polymer matrix can be formed by forming a layer of metal nanowires on a transparent substrate, applying a polymer solution on the layer, and then drying or curing the applied layer. This operation forms a transparent conductive layer with metal nanowires in a polymer matrix.
  • the polymer solution contains a polymer that constitutes the polymer matrix or a precursor of the polymer (a monomer that constitutes the polymer).
  • the polymer solution may contain a solvent.
  • the solvent contained in the polymer solution include alcohol-based solvents, ketone-based solvents, tetrahydrofuran, hydrocarbon-based solvents, aromatic solvents, and the like.
  • the solvent is volatile.
  • the boiling point of the solvent is preferably 200° C. or lower, more preferably 150° C. or lower, and still more preferably 100° C. or lower.
  • the thickness of the transparent substrate is preferably 8 ⁇ m to 500 ⁇ m, more preferably 10 ⁇ m to 250 ⁇ m, even more preferably 10 ⁇ m to 150 ⁇ m, and particularly preferably 15 ⁇ m to 100 ⁇ m.
  • the total light transmittance of the transparent substrate is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and particularly preferably 90% or more. Within such a range, a transparent conductive film suitable as a transparent conductive film provided in a touch panel or the like can be obtained.
  • any appropriate resin can be used as the resin constituting the transparent substrate as long as the effects of the present invention can be obtained.
  • the resin constituting the transparent substrate include cycloolefin-based resins, polyimide-based resins, polyvinylidene chloride-based resins, polyvinyl chloride-based resins, polyethylene terephthalate-based resins, and polyethylene naphthalate-based resins.
  • Preferred are cycloolefin resins.
  • polynorbornene can be preferably used as the cycloolefin-based resin.
  • Polynorbornene refers to a (co)polymer obtained by using a norbornene-based monomer having a norbornene ring as part or all of the starting material (monomer).
  • the glass transition temperature of the resin constituting the transparent substrate is preferably 50°C to 200°C, more preferably 60°C to 180°C, still more preferably 70°C to 160°C.
  • a transparent substrate having a glass transition temperature within such a range can prevent deterioration during formation of a transparent conductive layer.
  • the transparent base material may further contain any appropriate additive as necessary.
  • additives include plasticizers, heat stabilizers, light stabilizers, lubricants, antioxidants, UV absorbers, flame retardants, colorants, antistatic agents, compatibilizers, cross-linking agents, and thickeners. etc.
  • the type and amount of additive used can be appropriately set according to the purpose.
  • any suitable molding method is used, and examples include compression molding, transfer molding, injection molding, extrusion molding, blow molding, powder molding, and FRP molding. , and solvent casting method.
  • the extrusion molding method or the solvent casting method is preferably used. This is because the smoothness of the resulting transparent base material can be enhanced and good optical uniformity can be obtained. Molding conditions can be appropriately set according to the composition, type, etc. of the resin used.
  • Various surface treatments may be applied to the transparent substrate as necessary. Any appropriate method is adopted for the surface treatment depending on the purpose. Examples include low-pressure plasma treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona treatment, flame treatment, acid or alkali treatment.
  • the transparent substrate is surface-treated to make the transparent substrate surface hydrophilic.
  • Example 1 Preparation of Composition for Forming Transparent Conductive Layer (PN) 25 parts by weight of the silver nanowire dispersion and 75 parts by weight of pure water were diluted to prepare a composition for forming a transparent conductive layer (PN) having a solid concentration of 0.05% by weight.
  • the composition for forming a transparent conductive layer was applied to one side of a substrate (cycloolefin film (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., trade name “ZEONOR (registered trademark)”, thickness 55 ⁇ m) and dried. Further, the monomer composition was applied onto the coating layer of the composition for forming a transparent conductive layer (PN), dried at 90° C. for 1 minute, and then irradiated with ultraviolet rays of 300 mJ/cm 2 to form a transparent conductive layer. .
  • a single screw extruder manufactured by Isuzu Kakoki Co., Ltd., screw diameter 25 mm, cylinder set temperature: 220 ° C., T die (width 200 mm, set temperature: 220 ° C.), chill roll (set temperature: 120 to 130° C.)
  • a film forming apparatus equipped with a winder was used to prepare a raw film having a thickness of 100 ⁇ m.
  • This sample is stretched at a stretching rate of 720 mm/min (strain rate 1200%/min), the film was uniaxially stretched 1 ⁇ 2.0 times to obtain a ⁇ /4 retardation film having a thickness of 35 ⁇ m.
  • a circularly polarizing plate having a structure of protective film/polarizer/retardation film was laminated with a thick retardation film and the transparent conductive layer so as to be adjacent to each other via an acrylic pressure-sensitive adhesive layer to obtain a sensor laminate.
  • the thickness of the acrylic pressure-sensitive adhesive layer was 15 ⁇ m, and the thickness of the retardation film was 35 ⁇ m as described above, ie, the distance A between the polarizer and the transparent conductive layer was 50 ⁇ m.
  • the obtained sensor laminate was subjected to the above evaluation. Table 1 shows the results.
  • Example 2 A sensor laminate was obtained in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the acrylic pressure-sensitive adhesive layer was 23 ⁇ m (the distance A was 58 ⁇ m). The obtained sensor laminate was subjected to the above evaluation. Table 1 shows the results.
  • Example 1 A sensor laminate was obtained in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the retardation film was 60 ⁇ m (the distance A was 75 ⁇ m). The obtained sensor laminate was subjected to the above evaluation. Table 1 shows the results.
  • Example 3 Instead of a circularly polarizing plate having a configuration of protective film / polarizer / retardation film, protective film / polarizer / first retardation layer (thickness: 5 ⁇ m liquid crystalline retardation layer) / second retardation layer A sensor laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that a circularly polarizing plate having a structure of (thickness: 3 ⁇ m liquid crystalline retardation layer) was used and the thickness of the acrylic pressure-sensitive adhesive layer was 30 ⁇ m. (distance A: 38 ⁇ m). The obtained sensor laminate was subjected to the above evaluation. Table 1 shows the results.
  • Example 4 A sensor laminate was obtained in the same manner as in Example 3, except that the thickness of the acrylic pressure-sensitive adhesive layer was 45 ⁇ m (the distance A was 53 ⁇ m). The obtained sensor laminate was subjected to the above evaluation. Table 1 shows the results.
  • Example 2 A sensor laminate was obtained in the same manner as in Example 3, except that the thickness of the acrylic pressure-sensitive adhesive layer was 15 ⁇ m (distance A was 23 ⁇ m). The obtained sensor laminate was subjected to the above evaluation. Table 1 shows the results.
  • a transparent conductive film formed by forming a transparent conductive layer made of amorphous indium tin oxide with a thickness of 25 nm by reactive sputtering on a cycloolefin film on which a cured resin layer is formed is provided as a protective film / polarizer / second
  • a laminated sensor laminate was obtained. When this polarizing plate-bonded sensor laminate was subjected to the above flexibility evaluation, the result was rejected.

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Abstract

偏光板と金属ナノワイヤを含む透明導電性フィルムとを備えるセンサー積層体であって、透明導電性フィルムの導電性低下が抑制されたセンサー積層体を提供する。　本発明のセンサー積層体は、透明導電性フィルムと、該透明導電性フィルムの少なくとも片側に配置された偏光板とを備え、該透明導電性フィルムが、金属ナノワイヤを含む透明導電層を備え、該偏光板が、偏光子を備え、該偏光子と該透明導電層との距離が２５μｍ以上７０μｍ未満である。１つの実施形態においては、上記偏光子と透明導電層との距離が、上記偏光板における該偏光子以外の構造体であって、該偏光子と該透明導電層との間に配置される透明導電性フィルム側構造体により、確保される。

Description

センサー積層体
　本発明は、センサー積層体に関する。
　従来、タッチセンサーの電極等に用いられる透明導電性フィルムとして、透明樹脂フィルム上にインジウム・スズ複合酸化物層（ＩＴＯ層）等の金属酸化物層が形成された透明導電性フィルムが多用されている。しかし、金属酸化物層が形成された透明導電性フィルムは、屈曲性が不十分であるため、フレキシブルディスプレイなどの屈曲性が必要とされる用途には使用し難い。そこで、近年、屈曲性に優れる透明導電性フィルムとして、金属ナノワイヤを含む導電層を備える透明導電性フィルムが提案されている。
　一方、近年、液晶表示装置およびエレクトロルミネセンス（ＥＬ）表示装置（例えば、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置）に代表される画像表示装置が急速に普及している。画像表示装置には、代表的には偏光板および位相差板が用いられている。実用的には、偏光板と位相差板と粘着剤層とを一体化した位相差層付偏光板が広く用いられている（例えば、特許文献１）。
特許第３３２５５６０号公報 特表２００９－５０５３５８号公報
　本発明の発明者らは、上記のような金属ナノワイヤを含む透明導電層を備える透明導電性フィルムを電極として用い、当該透明導電性フィルム上に偏光板を配置してセンサー積層体を構成すると、当該金属ナノワイヤの劣化が顕著となり、透明導電性フィルムの導電性低下が生じることを見いだした。本発明はこのような課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、偏光板と金属ナノワイヤを含む透明導電性フィルムとを備えるセンサー積層体であって、透明導電性フィルムの導電性低下が抑制されたセンサー積層体を提供することにある。
　本発明のセンサー積層体は、透明導電性フィルムと、該透明導電性フィルムの少なくとも片側に配置された偏光板とを備え、該透明導電性フィルムが、金属ナノワイヤを含む透明導電層を備え、該偏光板が、偏光子を備え、該偏光子と該透明導電層との距離が２５μｍ以上７０μｍ未満である。
　１つの実施形態においては、上記偏光子と透明導電層との距離が、上記偏光板における該偏光子以外の構造体であって、該偏光子と該透明導電層との間に配置される透明導電性フィルム側構造体により、確保される。
　１つの実施形態においては、上記透明導電性フィルム側構造体が、第１の位相差層と、第２の位相差層と、粘着剤層とを偏光子側からこの順に備える。
　１つの実施形態においては、上記透明導電性フィルムが、透明基材と、該透明基材の少なくとも片側に配された上記透明導電層を備え、該透明基材が、シクロオレフィン系樹脂から構成される。
　本発明の実施形態によれば、偏光板と金属ナノワイヤを含む透明導電性フィルムとを備えるセンサー積層体であって、透明導電性フィルムの導電性低下が抑制されたセンサー積層体を提供することができる。
本発明の１つの実施形態によるセンサー積層体の概略断面図である。 本発明の別の実施形態によるセンサー積層体の概略断面図である。
　以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。
（用語および記号の定義）
　本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
　「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差（Ｒｅ）
　「Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した面内位相差である。例えば、「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ－ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）
　「Ｒｔｈ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。例えば、「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（λ）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ（λ）＝（ｎｘ－ｎｚ）×ｄによって求められる。
（４）Ｎｚ係数
　Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。
（５）角度
　本明細書において角度に言及するときは、当該角度は基準方向に対して時計回りおよび反時計回りの両方を包含する。したがって、例えば「４５°」は±４５°を意味する。
Ａ．センサー積層体の全体構成
　図１は、本発明の１つの実施形態によるセンサー積層体の概略断面図である。センサー積層体１００は、透明導電性フィルム１０と、透明導電性フィルム１０の少なくとも片側に配置された偏光板２０とを備える。透明導電性フィルム１０は、透明導電層１１を備える。代表的には、透明導電性フィルム１０は、透明基材１２の少なくとも片側に透明導電層１１を備える。透明導電層１１は、金属ナノワイヤを含む（図示せず）。偏光板２０は、偏光子２１を備える。代表的には、偏光子２１の少なくとも一方の面（図１においては、偏光子２１の透明導電性フィルム１０とは反対側の面）には、保護層２３が配置される。
　本発明においては、偏光子２１と透明導電層１１との距離Ａが、２５μｍ以上７０μｍ未満である。１つの実施形態においては、偏光板２０における偏光子２１以外の構造体２２であって、偏光子２１と透明導電層１１との間に配置される透明導電性フィルム側構造体２２により、偏光子２１と透明導電層１１との距離Ａが確保される。また、図示していないが、偏光板と透明導電性フィルムとの間に任意の適切な層（例えば、位相差層、粘着剤層、接着剤層等、液晶層等）が配置され、当該層と偏光板における透明導電性フィルム側構造体２２とにより、偏光子と透明導電層との距離Ａが確保されていてもよい。
　透明導電性フィルム側構造体２２は、任意の適切な層により構成される。透明導電性フィルム側構造体２２を構成する層としては、例えば、位相差層、粘着剤層、接着剤層等、液晶層等が挙げられる。以下、図２において、透明導電性フィルム側構造体２２の一例を示すが、透明導電性フィルム側構造体２２の構成はこれに限らず、任意の適切な構成とされ得る。
　図２は、本発明の１つの実施形態によるセンサー積層体の概略断面図である。センサー積層体１００’においては、偏光板２０が、位相差層付き偏光板であり、保護層２３と、偏光子２１と、第１の位相差層２２ａと、第２の位相差層２２ｂと、粘着剤層２２ｃとをこの順に備える。偏光板２０は、粘着剤層２２ｃが透明導電性フィルム１０側となるようにして配置され、粘着剤層２２ｃと透明導電層１１とを貼り合わせて、センサー積層体１００’が構成される。本実施形態においては、第１の位相差層２２ａと、第２の位相差層２２ｂと、粘着剤層２２ｃとが、透明導電性フィルム側構造体２２を構成する。各層間は、任意の適切な接着剤層を介して積層され得る（図示せず）。本実施形態においては、透明導電性フィルム側構造体２２の厚みＡが、偏光子２１と透明導電層１１との距離Ａに相当する。すなわち、透明導電性フィルム側構造体２２の厚みが２５μｍ以上７０μｍ未満である。
　図示していないが、偏光板と透明導電性フィルムとの間にバリア層が配置されていてもよい。例えば、透明導電性フィルム側構造体２２の一要素として、粘着剤層２２ｃと第２の位相差層２２ｂとの間にバリア層が配置され得る。バリア層は、ヨウ素成分の移動を防ぎ得る層である。
　本発明においては、偏光子と透明導電層との距離を、２５μｍ以上７０μｍ未満とすることにより、透明導電層中の金属ナノワイヤのヨウ素による劣化が防止され、優れた導電性を発現し得る透明導電性フィルムを備えるセンサー積層体を提供することができる。本発明のセンサー積層体は、加湿下での信頼性に優れる点で有利である。また、偏光子と透明導電層との距離を７０μｍ未満とすることにより、優れた屈曲性を示すセンサー積層体が得られ、透明導電性フィルムが金属ナノワイヤから構成されることとも相まって、屈曲性向上効果は顕著となる。偏光子と透明導電層との距離は、好ましくは３０μｍ～６５μｍであり、より好ましくは４０μｍ～６０μｍである。このような範囲であれば、上記効果は顕著となる。
　偏光子と透明導電層との間に配置される積層構造（代表的には、上記透明導電性フィルム側構造体２２）の２３℃における曲げ弾性率は、好ましくは１０００ＭＰａ～９０００ＭＰａであり、より好ましくは１３００ＭＰａ～６０００ＭＰａであり、さらに好ましくは１５００ＭＰａ～５０００ＭＰａである。
　偏光子と透明導電層との間に配置される積層構造（代表的には、上記透明導電性フィルム側構造体２２）は、４０℃９２％環境下２４ｈ投入後での透湿度が５ｇ/ｍ２以上１５００ｇ/ｍ２以下であることが好ましく、１０ｇ/ｍ２以上１０００g/ｍ２以下であることがより好ましく、１０ｇ/ｍ２以上７００ｇ/ｍ２以下であることがさらに好ましい。上記透湿度が低すぎると、高温環境下にいて積層体に光ヌケのおそれがある。上記透湿度が高すぎると、高湿度環境下において積層体にムラが発生してしまうおそれがある。
Ｂ．偏光板
Ｂ－１．偏光子
　偏光子としては、任意の適切な偏光子が採用され得る。例えば、偏光子を形成する樹脂フィルムは、単層の樹脂フィルムであってもよく、二層以上の積層体であってもよい。
　単層の樹脂フィルムから構成される偏光子の具体例としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質による染色処理および延伸処理が施されたもの、ＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。好ましくは、光学特性に優れることから、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸して得られた偏光子が用いられる。
　上記ヨウ素による染色は、例えば、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素水溶液に浸漬することにより行われる。上記一軸延伸の延伸倍率は、好ましくは３～７倍である。延伸は、染色処理後に行ってもよいし、染色しながら行ってもよい。また、延伸してから染色してもよい。必要に応じて、ＰＶＡ系フィルムに、膨潤処理、架橋処理、洗浄処理、乾燥処理等が施される。例えば、染色の前にＰＶＡ系フィルムを水に浸漬して水洗することで、ＰＶＡ系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、ＰＶＡ系フィルムを膨潤させて染色ムラなどを防止することができる。
　積層体を用いて得られる偏光子の具体例としては、樹脂基材と当該樹脂基材に積層されたＰＶＡ系樹脂層（ＰＶＡ系樹脂フィルム）との積層体、あるいは、樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子が挙げられる。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子は、例えば、ＰＶＡ系樹脂溶液を樹脂基材に塗布し、乾燥させて樹脂基材上にＰＶＡ系樹脂層を形成して、樹脂基材とＰＶＡ系樹脂層との積層体を得ること；当該積層体を延伸および染色してＰＶＡ系樹脂層を偏光子とすること；により作製され得る。本実施形態においては、延伸は、代表的には積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することを含む。さらに、延伸は、必要に応じて、ホウ酸水溶液中での延伸の前に積層体を高温（例えば、９５℃以上）で空中延伸することをさらに含み得る。得られた樹脂基材／偏光子の積層体はそのまま用いてもよく（すなわち、樹脂基材を偏光子の保護層としてもよく）、樹脂基材／偏光子の積層体から樹脂基材を剥離し、当該剥離面に目的に応じた任意の適切な保護層を積層して用いてもよい。このような偏光子の製造方法の詳細は、例えば特開２０１２－７３５８０号公報、特許第６４７０４５５号に記載されている。これらの公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。
　偏光子の厚みは、好ましくは１５μｍ以下であり、より好ましくは１μｍ～１２μｍであり、さらに好ましくは３μｍ～１２μｍであり、特に好ましくは３μｍ～８μｍである。
　偏光子は、好ましくは、波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍのいずれかの波長で吸収二色性を示す。偏光子の単体透過率は、好ましくは４１．５％～４６．０％であり、より好ましくは４３．０％～４６．０％であり、さらに好ましくは４４．５％～４６．０％である。偏光子の偏光度は、好ましくは９７．０％以上であり、より好ましくは９９．０％以上であり、さらに好ましくは９９．９％以上である。
Ｂ－２．保護層
　保護層は、任意の適切なフィルムで構成され得る。フィルムの構成材料の代表例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、（メタ）アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、（メタ）アクリル系、ウレタン系、（メタ）アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。本明細書において「（メタ）アクリル」は、アクリルおよび／またはメタクリルを意味する。
　保護層の厚みは、好ましくは１０μｍ～４０μｍ、より好ましくは１０μｍ～３０μｍである。
Ｂ－３．位相差層
　１つの実施形態においては、位相差層は、液晶化合物の配向固化層であり得る。例えば、図２に示す第１の位相差層および第２の位相差層はそれぞれ、液晶化合物の配向固化層であり得る。本明細書において「配向固化層」とは、液晶化合物が層内で所定の方向に配向し、その配向状態が固定されている層をいう。なお、「配向固化層」は、後述のように液晶モノマーを硬化させて得られる配向硬化層を包含する概念である。第１の位相差層および第２の位相差層においては、代表的には、棒状の液晶化合物が第１の位相差層または第２の位相差層の遅相軸方向に並んだ状態で配向している（ホモジニアス配向）。
　液晶化合物としては、例えば、液晶相がネマチック相である液晶化合物（ネマチック液晶）が挙げられる。このような液晶化合物として、例えば、液晶ポリマーや液晶モノマーが使用可能である。液晶化合物の液晶性の発現機構は、リオトロピックでもサーモトロピックでもどちらでもよい。液晶ポリマーおよび液晶モノマーは、それぞれ単独で用いてもよく、組み合わせてもよい。
　液晶化合物が液晶モノマーである場合、当該液晶モノマーは、重合性モノマーおよび架橋性モノマーであることが好ましい。液晶モノマーを重合または架橋（すなわち、硬化）させることにより、液晶モノマーの配向状態を固定できるからである。液晶モノマーを配向させた後に、例えば、液晶モノマー同士を重合または架橋させれば、それによって上記配向状態を固定することができる。ここで、重合によりポリマーが形成され、架橋により３次元網目構造が形成されることとなるが、これらは非液晶性である。したがって、形成された位相差層は、例えば、液晶性化合物に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。その結果、位相差層は、温度変化に影響されない、極めて安定性に優れた位相差層となる。
　液晶モノマーが液晶性を示す温度範囲は、その種類に応じて異なる。具体的には、当該温度範囲は、好ましくは４０℃～１２０℃であり、さらに好ましくは５０℃～１００℃であり、最も好ましくは６０℃～９０℃である。
　上記液晶モノマーとしては、任意の適切な液晶モノマーが採用され得る。例えば、特表２００２－５３３７４２（ＷＯ００／３７５８５）、ＥＰ３５８２０８（ＵＳ５２１１８７７）、ＥＰ６６１３７（ＵＳ４３８８４５３）、ＷＯ９３／２２３９７、ＥＰ０２６１７１２、ＤＥ１９５０４２２４、ＤＥ４４０８１７１、およびＧＢ２２８０４４５等に記載の重合性メソゲン化合物等が使用できる。このような重合性メソゲン化合物の具体例としては、例えば、ＢＡＳＦ社の商品名ＬＣ２４２、Ｍｅｒｃｋ社の商品名Ｅ７、Ｗａｃｋｅｒ－Ｃｈｅｍ社の商品名ＬＣ－Ｓｉｌｌｉｃｏｎ－ＣＣ３７６７が挙げられる。液晶モノマーとしては、例えばネマチック性液晶モノマーが好ましい。
　液晶配向固化層は、所定の基材の表面に配向処理を施し、当該表面に液晶化合物を含む塗工液を塗工して当該液晶化合物を上記配向処理に対応する方向に配向させ、当該配向状態を固定することにより形成され得る。
　上記配向処理としては、任意の適切な配向処理が採用され得る。具体的には、機械的な配向処理、物理的な配向処理、化学的な配向処理が挙げられる。機械的な配向処理の具体例としては、ラビング処理、延伸処理が挙げられる。物理的な配向処理の具体例としては、磁場配向処理、電場配向処理が挙げられる。化学的な配向処理の具体例としては、斜方蒸着法、光配向処理が挙げられる。各種配向処理の処理条件は、目的に応じて任意の適切な条件が採用され得る。
　液晶化合物の配向は、液晶化合物の種類に応じて液晶相を示す温度で処理することにより行われる。このような温度処理を行うことにより、液晶化合物が液晶状態をとり、基材表面の配向処理方向に応じて当該液晶化合物が配向する。
　配向状態の固定は、１つの実施形態においては、上記のように配向した液晶化合物を冷却することにより行われる。液晶化合物が重合性モノマーまたは架橋性モノマーである場合には、配向状態の固定は、上記のように配向した液晶化合物に重合処理または架橋処理を施すことにより行われる。
　液晶化合物の具体例および配向固化層の形成方法の詳細は、特開２００６－１６３３４３号公報に記載されている。当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。
　第１の位相差層および第２の位相差層はそれぞれ、代表的には、屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの関係を示す。なお、「ｎｙ＝ｎｚ」はｎｙとｎｚが完全に等しい場合だけではなく、実質的に等しい場合を包含する。したがって、本発明の効果を損なわない範囲で、ｎｙ＞ｎｚまたはｎｙ＜ｎｚとなる場合があり得る。
　代表的には、第１の位相差層または第２の位相差層のいずれか一方はλ／２板として機能し得、他方はλ／４板として機能し得る。例えば、第１の位相差層がλ／２板として機能し得、第２の位相差層がλ／４板として機能し得る場合には、第１の位相差層のＲｅ（５５０）は好ましくは２００ｎｍ～３００ｎｍであり、その遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は好ましくは１０°～２０°であり；第２の位相差層のＲｅ（５５０）は好ましくは１００ｎｍ～１９０ｎｍであり、その遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は好ましくは７０°～８０°である。
　第１の位相差層および第２の位相差層はそれぞれ、Ｎｚ係数が好ましくは０．９～１．５であり、より好ましくは０．９～１．３である。
　第１の位相差層および第２の位相差層はそれぞれ、４０℃９２％環境下２４ｈ投入後での透湿度が５ｇ/ｍ２以上１５００ｇ/ｍ２以下であることが好ましく、１０ｇ/ｍ２以上１０００g/ｍ２以下であることがより好ましく、１０ｇ/ｍ２以上７００ｇ/ｍ２以下であることがさらに好ましい。上記透湿度が低すぎると、高温環境下における積層体の光ヌケのおそれがある。上記透湿度が高すぎると、高湿度環境下における積層体のムラが発生してしまうおそれがある。
　別の実施形態においては、位相差層は単一層であってもよい。１つの実施形態においては、単一層である位相差層は、代表的には、逆分散波長特性を示し、かつ、λ／４板として機能し得る。具体的には、位相差層のＲｅ（５５０）は、好ましくは１００ｎｍ～１９０ｎｍであり、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は好ましくは０．８～０．９５であり、位相差層の遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度は、好ましくは４０°～５０°である。さらに、この場合、好ましくは、位相差層の偏光子と反対側に屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの関係を示す別の位相差層（いわゆるポジティブＣプレート）が設けられ得る。
Ｂ－４．粘着剤層
　粘着剤層を構成する粘着剤としては、任意の適切な構成が採用され得る。粘着剤層を構成する粘着剤の具体例としては、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、エポキシ系粘着剤、およびポリエーテル系粘着剤が挙げられる。粘着剤のベース樹脂を形成するモノマーの種類、数、組み合わせおよび配合比、ならびに、架橋剤の配合量、反応温度、反応時間等を調整することにより、目的に応じた所望の特性を有する粘着剤を調製することができる。粘着剤のベース樹脂は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。透明性、加工性および耐久性などの観点から、アクリル系粘着剤（アクリル系粘着剤組成物）が好ましい。
　粘着剤層の厚みは、好ましくは５μｍ～３０μｍであり、より好ましくは１０μｍ～２０μｍである。
Ｂ－５．接着剤層
　接着剤層を構成する接着剤としては、任意の適切な接着剤が採用され得る。接着剤としては、代表的には活性エネルギー線硬化型接着剤が挙げられる。活性エネルギー線硬化型接着剤としては、例えば、紫外線硬化型接着剤、電子線硬化型接着剤が挙げられる。また、硬化メカニズムの観点からは、活性エネルギー線硬化型接着剤としては、例えば、ラジカル硬化型、カチオン硬化型、アニオン硬化型、ラジカル硬化型とカチオン硬化型とのハイブリッドが挙げられる。代表的には、ラジカル硬化型の紫外線硬化型接着剤が用いられ得る。汎用性に優れ、および、特性（構成）の調整が容易だからである。
　接着剤は、代表的には、硬化成分と光重合開始剤とを含有する。硬化成分としては、代表的には、（メタ）アクリレート基、（メタ）アクリルアミド基などの官能基を有するモノマーおよび／またはオリゴマーが挙げられる。硬化成分の具体例としては、トリプロピレングリコールジアクリレート、１，９－ノナンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、環状トリメチロールプロパンフォルマルアクリレート、ジオキサングリコールジアクリレート、ＥＯ変性ジグリセリンテトラアクリレート、γ－ブチロラクトンアクリレート、アクリロイルモルホリン、不飽和脂肪酸ヒドロキシアルキルエステル修飾ε-カプロラクトン、Ｎ－メチルピロリドン、ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ－メチロールアクリルアミド、Ｎ－メトキシメチルアクリルアミド、Ｎ－エトキシメチルアクリルアミドが挙げられる。これらの硬化成分は、単独で用いてもよく２種以上を併用してもよい。
　光重合開始剤は、業界で周知の光重合開始剤が業界に周知の配合量で用いられ得るので、詳細な説明は省略する。
　接着剤層（接着剤硬化後）の厚みは、好ましくは０．１μｍ～３．０μｍである。
　接着剤の詳細は、例えば、特開２０１８－０１７９９６号公報に記載されている。当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。
Ｂ－６．ブロック層
　代表的には、上記ブロック層は、樹脂層である。１つの実施形態においては、ブロック層は、アクリル系樹脂および／またはエポキシ系樹脂を含む。アクリル系樹脂とエポキシ系樹脂との含有割合（アクリル系樹脂：エポキシ系樹脂）は、重量比で、好ましくは９５：５～６０：４０、または、４０：６０～１：９９であり；より好ましくは９５：５～８０：２０、または、２０：８０～５：９５であり；さらに好ましくは９０：１０～７０：３０、または、３０：７０～１０：９０である。このような範囲であれば、隣接する層との密着性に優れ、かつ、透明性に優れるブロック層を形成することができる。
　好ましくは、上記アクリル系樹脂は、アクリル系単量体由来の構成単位と、下記式（１）で表される単量体（ａ）由来の構成単位とを含む。本明細書において、アクリル系単量体由来の構成単位と、下記式（１）で表される単量体由来の構成単位とを含むアクリル系樹脂を、「アクリル系樹脂（Ａ）」ということもある。また、下記式（１）で表される単量体（ａ）を、単に「単量体（ａ）」ということもある。単量体（ａ）由来の構成単位を含むアクリル系樹脂（Ａ）とエポキシ系樹脂とを併用してブロック層を形成することにより、偏光子成分の移動を防止して、耐久性に顕著に優れるセンサー積層体を得ることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 （式中、Ｘはビニル基、（メタ）アクリル基、スチリル基、（メタ）アクリルアミド基、ビニルエーテル基、エポキシ基、オキセタン基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルデヒド基、および、カルボキシル基からなる群より選択される少なくとも１種の反応性基を含む官能基を表し、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよいアリール基、または、置換基を有していてもよいヘテロ環基を表し、Ｒ１およびＲ２は互いに連結して環を形成してもよい）。
　上記脂肪族炭化水素基としては、置換基を有していてもよい炭素数１～２０の直鎖または分岐のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数３～２０の環状アルキル基、炭素数２～２０のアルケニル基が挙げられる。上記アリール基としては、置換基を有していてもよい炭素数６～２０のフェニル基、置換基を有していてもよい炭素数１０～２０のナフチル基等が挙げられる。ヘテロ環基としては、置換基を有していてもよい少なくとも１つのヘテロ原子を含む５員環基または６員環基が挙げられる。なお、Ｒ１およびＲ２は互いに連結して環を形成してもよい。Ｒ１およびＲ２は、好ましくは水素原子、もしくは、炭素数１～３の直鎖または分岐のアルキル基であり、より好ましくは水素原子である。
　１つの実施形態においては、上記Ｘで表される官能基が含む反応性基は、好ましくは、（メタ）アクリル基および／または（メタ）アクリルアミド基である。これらの反応性基を有することにより、偏光子とブロック層との密着性が向上し得る。
　１つの実施形態においては、上記Ｘで表される官能基は、下記式で表される官能基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 （式中、Ｚはビニル基、（メタ）アクリル基、スチリル基、（メタ）アクリルアミド基、ビニルエーテル基、エポキシ基、オキセタン基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルデヒド基、および、カルボキシル基からなる群より選択される少なくとも１種の反応性基を含む官能基を表し、Ｙはフェニレン基またはアルキレン基を表す）。
　一般式（１）で表される単量体としては、具体的には以下の化合物を用いることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　アクリル系樹脂（Ａ）において、単量体（ａ）由来の構成単位の含有割合は、アクリル系樹脂（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは０重量部を超えて５０重量部未満であり、より好ましくは０．０１重量部以上５０重量部未満であり、さらに好ましくは０．０５重量部～２０重量部であり、さらに好ましくは０．１重量部～１０重量部である。このような範囲であれば、耐久性に優れるセンサー積層体を得ることができる。
　アクリル系樹脂（Ａ）において、アクリル系単量体由来の構成単位の含有割合は、アクリル系樹脂（Ａ）１００重量部に対して、５０重量部を超えることが好ましい。
　アクリル系単量体としては任意の適切なアクリル系単量体を用いることができる。例えば、直鎖または分岐構造を有する（メタ）アクリル酸エステル系単量体、および、環状構造を有する（メタ）アクリル酸エステル系単量体が挙げられる。本明細書において、（メタ）アクリルとは、アクリルおよび／またはメタクリルをいう。
　直鎖または分岐構造を有する（メタ）アクリル酸エステル系単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ－プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ－ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ－ブチル、（メタ）アクリル酸メチル２－エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシエチル等が挙げられる。好ましくは、（メタ）アクリル酸メチルが用いられる。（メタ）アクリル酸エステル系単量体は、１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　環状構造を有する（メタ）アクリル酸エステル系単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、ビフェニル（メタ）アクリレート、ｏ－ビフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ｏ－ビフェニルオキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、ｍ－ビフェニルオキシエチルアクリレート、ｐ－ビフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ｏ－ビフェニルオキシ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ｐ－ビフェニルオキシ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ｍ－ビフェニルオキシ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ－（メタ）アクリロイルオキシエチル－ｏ－ビフェニル＝カルバマート、Ｎ－（メタ）アクリロイルオキシエチル－ｐ－ビフェニル＝カルバマート、Ｎ－（メタ）アクリロイルオキシエチル－ｍ－ビフェニル＝カルバマート、ｏ－フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート等のビフェニル基含有モノマー、ターフェニル（メタ）アクリレート、ｏ－ターフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。好ましくは、（メタ）アクリル酸１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニルが用いられる。これらの単量体を用いることにより、ガラス転移温度の高い重合体が得られる。これらの単量体は１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　また、上記（メタ）アクリル酸エステル系単量体に代えて、（メタ）アクリロイル基を有するシルセスキオキサン化合物を用いてもよい。シルセスキオキサン化合物を用いることにより、ガラス転移温度が高いアクリル系重合体が得られる。シルセスキオキサン化合物は、種々の骨格構造、例えば、カゴ型構造、ハシゴ型構造、ランダム構造などの骨格を持つものが知られている。シルセスキオキサン化合物は、これらの構造を１種のみを有するものでもよく、２種以上を有するものでもよい。シルセスキオキサン化合物は１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　（メタ）アクリロイル基を有するシルセスキオキサン化合物として、例えば、東亜合成株式会社ＳＱシリーズのＭＡＣグレード、および、ＡＣグレードを用いることができる。ＭＡＣグレードは、メタクリロイル基を含有するシルセスキオキサン化合物であり、具体的には、例えば、ＭＡＣ－ＳＱ　ＴＭ－１００、ＭＡＣ－ＳＱ　ＳＩ－２０、ＭＡＣ－ＳＱ　ＨＤＭ等が挙げられる。ＡＣグレードは、アクリロイル基を含有するシルセスキオキサン化合物であり、具体的には、例えば、ＡＣ－ＳＱ　ＴＡ－１００、ＡＣ－ＳＱ　ＳＩ－２０等が挙げられる。
　アクリル系樹脂（Ａ）は、好ましくはアクリル系単量体および単量体（ａ）等の単量体成分を溶液重合することにより得られる。溶液重合で使用する溶媒としては、任意の適切な溶媒を用いることができる。例えば、水；メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール等のアルコール；ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、ｎ－ヘキサン等の芳香族または脂肪族炭化水素；酢酸エチル等のエステル化合物；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン化合物；テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル化合物等が挙げられる。これらの溶媒は１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、有機溶媒と水とを併用してもよい。重合反応は、任意の適切な温度、および、時間で行うことができる。例えば、５０℃～１００℃、好ましくは６０℃～８０℃の範囲で重合反応を行うことができる。また、反応時間は、例えば、１時間～８時間であり、好ましくは３時間～５時間である。
　上記エポキシ系樹脂としては、任意の適切なエポキシ系樹脂を用いることができる。エポキシ系樹脂としては、好ましくは芳香族環を有するエポキシ系樹脂が用いられる。芳香族環を有するエポキシ系樹脂を用いることにより、より偏光子との密着性に優れるブロック層を形成することができる。芳香族環を有するエポキシ系樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ系樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ系樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ系樹脂などのビスフェノール型エポキシ系樹脂；フェノールノボラックエポキシ系樹脂、クレゾールノボラックエポキシ系樹脂、ヒドロキシベンズアルデヒドフェノールノボラックエポキシ系樹脂などのノボラック型のエポキシ系樹脂；テトラヒドロキシフェニルメタンのグリシジルエーテル、テトラヒドロキシベンゾフェノンのグリシジルエーテル、エポキシ化ポリビニルフェノールなどの多官能型のエポキシ系樹脂、ナフトール型エポキシ系樹脂、ナフタレン型エポキシ系樹脂、ビフェニル型エポキシ系樹脂などが挙げられる。好ましくは、ビスフェノールＡ型エポキシ系樹脂、ビフェニル型エポキシ系樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ系樹脂が用いられる。これらのエポキシ系樹脂を用いることにより、ヨウ素成分の移動を好ましく阻止し得るブロック層を形成することができる。エポキシ樹脂は１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　エポキシ系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは２０，０００以上であり、より好ましくは３０，０００以上であり、さらに好ましくは３７，０００以上である。エポキシ系樹脂の重量平均分子量が上記範囲であることにより、ヨウ素成分の移動を好ましく阻止し得るブロック層を形成することができる。重量平均分子量は、例えば、ＧＰＣにより測定することができる。
　ブロック層の単層厚みは、好ましくは０．１μｍ～８μｍであり、より好ましくは０．２μｍ～３μｍ、さらに好ましくは０．４μｍ～１μｍである。
　上記ブロック層の総厚みは、好ましくは０．１μｍ～１６μｍであり、より好ましくは０．１μｍ～８μｍであり、さらに好ましくは０．２μｍ～６μｍであり、さらに好ましくは０．２μｍ～３μｍであり、さらに好ましくは０．２μｍ～２μｍであり、特に好ましくは０．４μｍ～１μｍである。ブロック層の総厚みとは、ブロック層が単層である場合には単層厚みに相当し、ブロック層が複数層である場合には、各層の厚みを合計した厚みに相当する。
Ｃ.透明導電性フィルム
Ｃ－１．透明導電層
　１つの実施形態においては、透明導電層は、金属ナノワイヤおよびポリマーマトリックスを含む。金属ナノワイヤを含む透明導電層を形成すれば、屈曲性に優れ、かつ、光透過率に優れる透明導電性フィルムを得ることができる。金属ナノワイヤは、ポリマーマトリックスにより保護される。その結果、金属ナノワイヤの腐食が防止され、耐久性により優れる透明導電性フィルムを得ることができる。
　上記透明導電層の厚みは、好ましくは１０ｎｍ～１０００ｎｍであり、より好ましくは２０ｎｍ～５００ｎｍである。
　上記透明導電層の全光線透過率は、好ましくは８５％以上であり、より好ましくは９０％以上であり、さらに好ましくは９５％以上である。
　上記透明導電層のシート抵抗値は、好ましくは２００Ω／□以下であり、より好ましくは１５０Ω／□以下であり、さらに好ましくは１００Ω／□以下である。透明導電性フィルムのシート抵抗値は、小さいほど好ましいが、その下限は、例えば１Ω／□（好ましくは０．５Ω／□、より好ましくは０．１Ω／□）である。
（金属ナノワイヤ）
　金属ナノワイヤとは、材質が金属であり、形状が針状または糸状であり、径がナノメートルサイズの導電性物質をいう。金属ナノワイヤは直線状であってもよく、曲線状であってもよい。金属ナノワイヤで構成された透明導電層を用いれば、金属ナノワイヤが網の目状となることにより、少量の金属ナノワイヤであっても良好な電気伝導経路を形成することができ、電気抵抗の小さい透明導電性フィルムを得ることができる。さらに、金属ナノワイヤが網の目状となることにより、網の目の隙間に開口部を形成して、光透過率の高い透明導電性フィルムを得ることができる。
　上記金属ナノワイヤの太さｄと長さＬとの比（アスペクト比：Ｌ／ｄ）は、好ましくは１０～１００，０００であり、より好ましくは５０～１００，０００であり、特に好ましくは１００～１０，０００である。このようにアスペクト比の大きい金属ナノワイヤを用いれば、金属ナノワイヤが良好に交差して、少量の金属ナノワイヤにより高い導電性を発現させることができる。その結果、光透過率の高い透明導電性フィルムを得ることができる。なお、本明細書において、「金属ナノワイヤの太さ」とは、金属ナノワイヤの断面が円状である場合はその直径を意味し、楕円状である場合はその短径を意味し、多角形である場合は最も長い対角線を意味する。金属ナノワイヤの太さおよび長さは、走査型電子顕微鏡または透過型電子顕微鏡によって確認することができる。
　上記金属ナノワイヤの太さは、好ましくは５００ｎｍ未満であり、より好ましくは２００ｎｍ未満であり、特に好ましくは１０ｎｍ～１００ｎｍであり、最も好ましくは１０ｎｍ～５０ｎｍである。このような範囲であれば、光透過率の高い透明導電層を形成することができる。
　上記金属ナノワイヤの長さは、好ましくは１μｍ～１０００μｍであり、より好ましくは１０μｍ～５００μｍであり、特に好ましくは１０μｍ～１００μｍである。このような範囲であれば、導電性の高い透明導電性フィルムを得ることができる。
　上記金属ナノワイヤを構成する金属としては、導電性金属である限り、任意の適切な金属が用いられ得る。上記金属ナノワイヤを構成する金属としては、例えば、銀、金、銅、ニッケル等が挙げられる。また、これらの金属にメッキ処理（例えば、金メッキ処理）を行った材料を用いてもよい。なかでも好ましくは、導電性の観点から、銀、銅または金であり、より好ましくは銀である。
　上記金属ナノワイヤの製造方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。例えば溶液中で硝酸銀を還元する方法、前駆体表面にプローブの先端部から印可電圧又は電流を作用させ、プローブ先端部で金属ナノワイヤを引き出し、該金属ナノワイヤを連続的に形成する方法等が挙げられる。溶液中で硝酸銀を還元する方法においては、エチレングリコール等のポリオール、およびポリビニルピロリドンの存在下で、硝酸銀等の銀塩の液相還元することにより、銀ナノワイヤが合成され得る。均一サイズの銀ナノワイヤは、例えば、Ｘｉａ，Ｙ．ｅｔａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．（２００２）、１４、４７３６－４７４５　、Ｘｉａ，　Ｙ．ｅｔａｌ．，　Ｎａｎｏ　ｌｅｔｔｅｒｓ（２００３）３（７）、９５５－９６０　に記載される方法に準じて、大量生産が可能である。
　上記金属ナノワイヤを含む透明導電層は、溶媒中に上記金属ナノワイヤを分散させた分散液を、上記透明基材上に塗布した後、塗布層を乾燥させて、形成することができる。
　上記溶媒としては、水、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、エーテル系溶媒、炭化水素系溶媒、芳香族系溶媒等が挙げられる。環境負荷低減の観点から、水を用いることが好ましい。
　上記金属ナノワイヤ分散液中の金属ナノワイヤの分散濃度は、好ましくは０．１重量％～１重量％である。このような範囲であれば、導電性および光透過性に優れる透明導電層を形成することができる。
　上記金属ナノワイヤ分散液は、目的に応じて任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。上記添加剤としては、例えば、金属ナノワイヤの腐食を防止する腐食防止材、金属ナノワイヤの凝集を防止する界面活性剤等が挙げられる。使用される添加剤の種類、数および量は、目的に応じて適切に設定され得る。
　上記金属ナノワイヤ分散液の塗布方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。塗布方法としては、例えば、スプレーコート、バーコート、ロールコート、ダイコート、インクジェットコート、スクリーンコート、ディップコート、凸版印刷法、凹版印刷法、グラビア印刷法等が挙げられる。塗布層の乾燥方法としては、任意の適切な乾燥方法（例えば、自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥）が採用され得る。例えば、加熱乾燥の場合には、乾燥温度は代表的には５０℃～２００℃であり、乾燥時間は代表的には１～１０分である。
　上記透明導電層における金属ナノワイヤの含有割合は、透明導電層の全重量に対して、好ましくは３０重量％～９０重量％であり、より好ましくは４５重量％～８０重量％である。このような範囲であれば、導電性および光透過性に優れる透明導電性フィルムを得ることができる。
　上記金属ナノワイヤが銀ナノワイヤである場合、透明導電層の密度は、好ましくは１．３ｇ／ｃｍ３～１０．５ｇ／ｃｍ３であり、より好ましくは１．５ｇ／ｃｍ３～３．０ｇ／ｃｍ３である。このような範囲であれば、導電性および光透過性に優れる透明導電性フィルムを得ることができる。
　１つの実施形態においては、上記透明導電層はパターン化されている。パターン化の方法としては、透明導電層の形態に応じて、任意の適切な方法が採用され得る。透明導電層のパターンの形状は、用途に応じて任意の適切な形状であり得る。例えば、特表２０１１－５１１３５７号公報、特開２０１０－１６４９３８号公報、特開２００８－３１０５５０号公報、特表２００３－５１１７９９号公報、特表２０１０－５４１１０９号公報に記載のパターンが挙げられる。透明導電層は透明基材上に形成された後、透明導電層の形態に応じて、任意の適切な方法を用いてパターン化することができる。
（ポリマーマトリックス）
　上記ポリマーマトリックスを構成するポリマーとしては、任意の適切なポリマーが用いられ得る。該ポリマーとしては、例えば、アクリル系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、ポリビニルトルエン、ポリビニルキシレン、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド等の芳香族系ポリマー；ポリウレタン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；ポリオレフィン系ポリマー；アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＡＢＳ）；セルロース；シリコン系ポリマー；ポリ塩化ビニル；ポリアセテート；ポリノルボルネン；合成ゴム；フッ素系ポリマー等が挙げられる。好ましくは、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）、ネオペンチルグリコールジアクリレート（ＮＰＧＤＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）等の多官能アクリレートから構成される硬化型樹脂（好ましくは紫外線硬化型樹脂）が用いられる。
　上記ポリマーマトリックスは、上記のとおり、透明基材上に金属ナノワイヤからなる層を形成した後、該層上に、ポリマー溶液を塗布し、その後、塗布層を乾燥または硬化させて、形成され得る。この操作により、ポリマーマトリックス中に金属ナノワイヤが存在した透明導電層が形成される。
　上記ポリマー溶液は、上記ポリマーマトリックスを構成するポリマー、または該ポリマーの前駆体（該ポリマーを構成するモノマー）を含む。
　上記ポリマー溶液は溶剤を含み得る。上記ポリマー溶液に含まれる溶剤としては、例えば、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、炭化水素系溶剤、または芳香族系溶剤等が挙げられる。好ましくは、該溶剤は、揮発性である。該溶剤の沸点は、好ましくは２００℃以下であり、より好ましくは１５０℃以下であり、さらに好ましくは１００℃以下である。
Ｃ－２．透明基材
　上記透明基材の厚みは、好ましくは８μｍ～５００μｍであり、より好ましくは１０μｍ～２５０μｍであり、さらに好ましくは１０μｍ～１５０μｍであり、特に好ましくは１５μｍ～１００μｍである。
　上記透明基材の全光線透過率は、好ましくは８０％以上であり、より好ましくは８５％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。このような範囲であれば、タッチパネル等に備えられる透明導電性フィルムとして好適な透明導電性フィルムを得ることができる。
　上記透明基材を構成する樹脂としては、本発明の効果が得られる限り、任意の適切な樹脂が用いられ得る。透明基材を構成する樹脂としては、例えば、シクロオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂等が挙げられる。好ましくは、シクロオレフィン系樹脂である。シクロオレフィン系樹脂を用いれば、高い水分バリア性を有する透明基材を安価に得ることができる。
　上記シクロオレフィン系樹脂として、例えば、ポリノルボルネンが好ましく用いられ得る。ポリノルボルネンとは、出発原料（モノマー）の一部または全部に、ノルボルネン環を有するノルボルネン系モノマーを用いて得られる（共）重合体をいう。
　上記ポリノルボルネンとしては、種々の製品が市販されている。具体例としては、日本ゼオン社製の商品名「ゼオネックス」、「ゼオノア」、ＪＳＲ社製の商品名「アートン（Ａｒｔｏｎ）」、ＴＩＣＯＮＡ社製の商品名「トーパス」、三井化学社製の商品名「ＡＰＥＬ」が挙げられる。
　上記透明基材を構成する樹脂のガラス転移温度は、好ましくは５０℃～２００℃であり、より好ましくは６０℃～１８０℃であり、さらに好ましくは７０℃～１６０℃である。
このような範囲のガラス転移温度を有する透明基材であれば、透明導電層を形成する際の劣化が防止され得る。
　上記透明基材は、必要に応じて任意の適切な添加剤をさらに含み得る。添加剤の具体例としては、可塑剤、熱安定剤、光安定剤、滑剤、抗酸化剤、紫外線吸収剤、難燃剤、着色剤、帯電防止剤、相溶化剤、架橋剤、および増粘剤等が挙げられる。使用される添加剤の種類および量は、目的に応じて適宜設定され得る。
　上記透明基材を得る方法としては、任意の適切な成形加工法が用いられ、例えば、圧縮成形法、トランスファー成形法、射出成形法、押出成形法、ブロー成形法、粉末成形法、ＦＲＰ成形法、およびソルベントキャスティング法等から適宜、適切なものが選択され得る。これらの製法の中でも好ましくは、押出成形法またはソルベントキャスティング法が用いられる。得られる透明基材の平滑性を高め、良好な光学的均一性を得ることができるからである。成形条件は、使用される樹脂の組成や種類等に応じて適宜設定され得る。
　必要に応じて、上記透明基材に対して各種表面処理を行ってもよい。表面処理は目的に応じて任意の適切な方法が採用される。例えば、低圧プラズマ処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理が挙げられる。１つの実施形態においては、透明基材を表面処理して、透明基材表面を親水化させる。
　以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。各特性の測定方法は以下の通りである。なお、特に明記しない限り、実施例および比較例における「部」および「％」は重量基準である。
（１）信頼性評価
　センサー積層体（長さ５０ｍｍ×幅５０ｍｍ）を６５℃９０％ＲＨに２４０時間投入した際の抵抗値上昇率を非接触抵抗測定器（ナプソン（株）　ＮＣ－８０）で測定した。初期抵抗値に対して、表面抵抗値の上昇率が２０％以下であれば合格、上昇率が２０％を超えた場合は不合格とした。
（２）屈曲性評価
　センサー積層体を屈曲させた後の抵抗値を測定した。
　センサー積層体（長さ１００ｍｍ×幅２０ｍｍ）の導電層側長手方向両端にＡｇペーストを塗布して試験片を得た。この試験片を、導電層を外側にしてステンレスの丸棒（半径：Ｒｍｍ）に掛け、当該丸棒に沿って長手方向が曲がるように１８０°屈曲させた。次いで、長手方向の両端部にクリップを介して分銅（各５００ｇ）を下げ、その状態で１０秒間保持した。
　上記操作の後、分銅・クリップを取り外し、Ａｇペースト部間の表面抵抗値（屈曲後の抵抗値）をテスターにて確認した。屈曲前の表面抵抗値に対して、表面抵抗値の上昇率が２０％以下であれば合格、上昇率が２０％を超えた場合は不合格とした。
［実施例１］
（透明導電層形成用組成物（ＰＮ）の調製）　
　上記銀ナノワイヤ分散液２５重量部、純水７５重量部で希釈して固形分濃度０．０５重量％の透明導電層形成用組成物（ＰＮ）を調製した。
（モノマー組成物の調製）　
　ペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業社製、商品名「ビスコート　＃３００」）１重量部、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名　「イルガキュア９０７」）０．２重量部をイソプロピルアルコール８０重量部、ジアセトンアルコール１９重量部で希釈して、固形分濃度１重量％のモノマー組成物を得た。
（透明導電性フィルムの作製）
　基材（シクロオレフィンフィルム（日本ゼオン社製、商品名「ＺＥＯＮＯＲ（登録商標）」、厚み５５μｍ）の一方の側に、上記透明導電層形成用組成物（ＰＮ）を塗布し、乾燥させた。さらに、透明導電層形成用組成物　（ＰＮ）塗布層上に、上記モノマー組成物を塗布し、９０℃で１分間乾燥し、その後、３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線照射し、透明導電層を形成した。
（位相差フィルムの作製）
　イソソルビド（ロケットフレール社製、商品名：ＰＯＬＹＳＯＲＢ）を４４５．１重量部、９、９－（４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン（大阪瓦斯ケミカル（株）製）を９０６．２重量部、分子量１０００のポリエチレングリコールを１５．４重量部、ジフェニルカーボネート（三洋化成工業（株）製）を１１２０．４重量部、及び触媒として炭酸セシウム（０．２重量％水溶液）６．２７重量部を、それぞれ反応器に投入し、窒素雰囲気下にて、反応の第１段目の工程として、反応容器の熱媒温度を１５０℃にし、必要に応じて攪拌しながら、原料を溶解させた（約１５分）。次いで、反応容器内の圧力を常圧から１３．３ｋＰａにし、反応容器の熱媒温度を１９０℃まで１時間で上昇させながら、発生するフェノールを反応容器外へ抜き出した。この工程を経てポリカーボネートを作製した。
　作製したポリカーボネートを８０℃で５時間真空乾燥した後、単軸押出機（いすず化工機社製、スクリュー径２５ｍｍ、シリンダー設定温度：２２０℃、Ｔダイ（幅２００ｍｍ、設定温度：２２０℃）、チルロール（設定温度：１２０～１３０℃））及び巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、厚み１００μｍの原反フィルムを作製した。この試料を、バッチ式二軸延伸装置（東洋精機社製）で、延伸温度を１２７～１７７℃で調節しながらＲ１（５５０）が１４０±１０ｎｍとなるように、延伸速度７２０ｍｍ／分（ひずみ速度１２００％／分）で、１×２．０倍の一軸延伸を行い、厚み３５μｍのλ／４位相差フィルムを得た。
（偏光板貼合センサー積層体）
　保護フィルム／偏光子／位相差フィルムの構成を有する円偏光板にアクリル系粘着剤層を介して厚みの位相差フィルムと上記透明導電層を隣接するようにして貼り合わせ、センサー積層体を得た。アクリル系粘着剤層の厚みは１５μｍとし、上記のとおり位相差フィルムの厚みは３５μｍとし、すなわち、偏光子と該透明導電層との距離Ａを５０μｍとした。
　得られたセンサー積層体を上記評価に供した。結果を表１に示す。
［実施例２］
　アクリル系粘着剤層の厚みを２３μｍとしたこと（距離Ａを５８μｍとしたこと）以外は、実施例１と同様にして、センサー積層体を得た。得られたセンサー積層体を上記評価に供した。結果を表１に示す。
［比較例１］
　位相差フィルムの厚みを６０μｍとしたこと（距離Ａを７５μｍとしたこと）以外は、施例１と同様にして、センサー積層体を得た。得られたセンサー積層体を上記評価に供した。結果を表１に示す。
［実施例３］
　保護フィルム／偏光子／位相差フィルムの構成を有する円偏光板に代えて、保護フィルム／偏光子／第１の位相差層（厚み：５μｍの液晶性位相差層）／第２の位相差層（厚み：３μｍの液晶性位相差層）の構成を有する円偏光板を用いたこと、アクリル系粘着剤層の厚みを３０μｍしたこと以外は、実施例１と同様にして、センサー積層体を得た（距離Ａ：３８μｍ）。得られたセンサー積層体を上記評価に供した。結果を表１に示す。
［実施例４］
　アクリル系粘着剤層の厚みを４５μｍとしたこと（距離Ａを５３μｍとしたこと）以外は、実施例３と同様にして、センサー積層体を得た。得られたセンサー積層体を上記評価に供した。結果を表１に示す。
［比較例２］
　アクリル系粘着剤層の厚みを１５μｍとしたこと（距離Ａを２３μｍとしたこと）以外は、実施例３と同様にして、センサー積層体を得た。得られたセンサー積層体を上記評価に供した。結果を表１に示す。
［参考例１］
　硬化樹脂層が形成されたシクロオレフィンフィルムに、厚みが２５ｎｍの非晶質のインジウム・スズ酸化物からなる透明導電層を反応性スパッタリングにより成膜した透明導電性フィルムを保護フィルム／偏光子／第１の位相差層／第２の位相差層の構成を有する円偏光板を１５μｍのアクリル系粘着剤層を介して第２の位相差層と透明導電層を隣接するように貼り合わせた偏光板貼合センサー積層体を得た。この偏光板貼合センサー積層体を上記屈曲性評価に供したところ、結果は不合格となった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
　１０　　　透明導電性フィルム
　１１　　　透明導電層
　１２　　　透明基材
　２０　　　偏光板
　２１　　　偏光子
　２２　　　透明導電性フィルム側構造体
　２２ａ　　第１の位相差層
　２２ｂ　　第２の位相差層
　２２ｃ　　粘着剤層
　２３　　　保護層
　１００　　センサー積層体

Claims (4)

  1. 　透明導電性フィルムと、
    　該透明導電性フィルムの少なくとも片側に配置された偏光板とを備え、
    　該透明導電性フィルムが、金属ナノワイヤを含む透明導電層を備え、
    　該偏光板が、偏光子を備え、
    　該偏光子と該透明導電層との距離が２５μｍ以上７０μｍ未満である、
    　センサー積層体。
  2. 　前記偏光子と透明導電層との距離が、前記偏光板における該偏光子以外の構造体であって、該偏光子と該透明導電層との間に配置される透明導電性フィルム側構造体により、確保される、請求項１に記載のセンサー積層体。
  3. 　前記透明導電性フィルム側構造体が、第１の位相差層と、第２の位相差層と、粘着剤層とを前記偏光子側からこの順に備える、請求項２に記載のセンサー積層体。
  4. 　前記透明導電性フィルムが、透明基材と、該透明基材の少なくとも片側に配された前記透明導電層を備え、
    　該透明基材が、シクロオレフィン系樹脂から構成される、
    　請求項１から３のいずれかに記載のセンサー積層体。
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