WO2022092254A1 - 導電性光学積層体 - Google Patents

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WO2022092254A1
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layer
optical laminate
transparent conductive
conductive layer
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純一 長瀬
聡司 三田
Original Assignee
日東電工株式会社
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    • B32B2307/42—Polarizing, birefringent, filtering

Definitions

  • the present invention relates to a conductive optical laminate.
  • a conductive film used for an electrode of a touch sensor or the like a conductive film in which a metal oxide layer such as an indium tin oxide composite oxide layer (ITO layer) is formed on a resin film is often used.
  • the conductive film on which the metal oxide layer is formed has a problem of insufficient flexibility.
  • a conductive film having excellent flexibility a conductive film including a transparent conductive layer including metal nanowires or metal mesh using silver, copper or the like has been proposed.
  • the conductive film is often used in combination with an image display panel, and at that time, it may be used by being arranged near the polarizing element.
  • the component contained in the polarizing element particularly, the iodine component
  • the iodine component affects the metal nanowires and the like in the transparent conductive layer of the conductive film, and the conductivity of the conductive film is lowered. Can occur.
  • the present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to prevent deterioration of the metal nanowires while providing a polarizing element and a transparent conductive layer containing a metal nanowire or a metal mesh. It is an object of the present invention to provide a conductive optical laminate.
  • the conductive optical laminate of the present invention includes a polarizing element, a block layer, and a transparent conductive layer in this order, the block layer is a resin layer, and the transparent conductive layer includes metal nanowires or a metal mesh.
  • the block layer comprises an acrylic resin and an epoxy resin.
  • the acrylic resin contains a structural unit derived from an acrylic monomer and a structural unit derived from the monomer (a) represented by the following formula (1).
  • X is a group consisting of a vinyl group, a (meth) acrylic group, a styryl group, a (meth) acrylamide group, a vinyl ether group, an epoxy group, an oxetane group, a hydroxyl group, an amino group, an aldehyde group, and a carboxyl group.
  • R 1 and R 2 each independently have a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, and a substituent.
  • the content ratio of the structural unit derived from the monomer (a) is more than 0 parts by weight and less than 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the acrylic resin. Is. In one embodiment, the total thickness of the block layer is 0.1 ⁇ m to 16 ⁇ m. In one embodiment, the conductive optical laminate has a plurality of block layers. In one embodiment, the conductive optical laminate further comprises a substrate, and the transparent conductive layer is arranged on the substrate.
  • the conductive optical laminate further comprises a protective layer arranged between the block layer and the transparent conductive layer so as to protect the transparent conductive layer.
  • the metal constituting the metal nanowire is one or more metals selected from the group consisting of gold, platinum, silver, copper, aluminum, rhodium and nickel.
  • the metal constituting the metal mesh is one or more metals selected from the group consisting of gold, platinum, silver, copper, aluminum, rhodium and nickel.
  • the metal nanowires are composed of a material obtained by plating one or more metals selected from the group consisting of gold, platinum, silver, copper, aluminum, rhodium and nickel.
  • the metal mesh comprises a material obtained by plating one or more metals selected from the group consisting of gold, platinum, silver, copper, aluminum, rhodium and nickel.
  • a conductive optical laminate in which deterioration of the metal nanowires is prevented while providing a transparent conductive layer containing a polarizing element and metal nanowires.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a conductive optical laminate according to one embodiment of the present invention.
  • the conductive optical laminate 100 includes a polarizing element 10, a block layer 20, and a transparent conductive layer 30 in this order.
  • the transparent conductive layer 30 includes metal nanowires or metal mesh (not shown).
  • the conductive optical laminate may further comprise a substrate 40.
  • the transparent conductive layer 30 may be arranged on the base material 40.
  • 2 (a) to 2 (e) are schematic cross-sectional views of a conductive optical laminate according to another embodiment of the present invention.
  • the conductive optical laminates 200, 400, and 600 are arranged so as to protect the transparent conductive layer 30. 31 may be possessed.
  • the protective layer 31 may be arranged between the block layer 20 and the transparent conductive layer 30.
  • the protective layer 31 is preferably arranged directly on the transparent conductive layer 30 (ie, without intervening other layers).
  • each layer for example, a polarizing element, a block layer, a transparent conductive layer, another layer which may be arbitrarily arranged, etc.
  • Any suitable adhesive layer or adhesive layer may be arranged between them (adhesive layer 50 in the illustrated example).
  • the block layer 20 may be arranged in a plurality of layers (for example, two layers). As shown in FIGS. 2 (d) and 2 (e), in one embodiment, the block layer 20 may be arranged in two layers via the pressure-sensitive adhesive layer 50 (or the adhesive layer). By providing a plurality of block layers, the effect of preventing deterioration of the metal nanowires becomes remarkable.
  • the composition (composition, thickness, etc.) of the plurality of block layers may be the same or different.
  • a second block layer may be provided on the side opposite to the block layer of the polarizing element (not shown). The block layer and the second block layer may have the same configuration or different configurations, respectively.
  • the conductive optical laminate may further comprise any suitable other layer.
  • the conductive optical laminate may have a polarizing element protective film disposed on at least one side of the polarizing element. In one embodiment, only one side of the polarizing element is protected by the polarizing element protective film.
  • the block layer (and / or the second block layer) serves to protect the transducer and is arranged as an alternative to the splitter protective film.
  • a component typically, an iodine component
  • a transparent conductive layer by providing a block layer between the polarizing element and the transparent conductive layer, a component (typically, an iodine component) in the polarizing element becomes a transparent conductive layer. It can be prevented from affecting. As a result, deterioration of the metal nanowires in the transparent conductive layer is prevented, and it is possible to provide a conductive optical laminate having excellent conductivity and excellent durability.
  • any suitable splitter is used.
  • a dichroic substance such as iodine or a dichroic dye is adsorbed on a hydrophilic polymer film such as a polyvinyl alcohol-based film, a partially formalized polyvinyl alcohol-based film, or an ethylene / vinyl acetate copolymerization system partially saponified film.
  • a hydrophilic polymer film such as a polyvinyl alcohol-based film, a partially formalized polyvinyl alcohol-based film, or an ethylene / vinyl acetate copolymerization system partially saponified film.
  • examples thereof include uniaxially stretched films, polyvinyl alcohol dehydrated products, polyvinyl chloride dehydrogenated products, and other polyene-based oriented films.
  • a decoder in which a dichroic substance such as iodine is adsorbed on a polyvinyl alcohol-based film and uniaxially stretched is particularly preferable because it has a high polarization dichroic ratio.
  • the thickness of the stator is preferably 0.5 ⁇ m to 80 ⁇ m.
  • a polarizing element that is uniaxially stretched by adsorbing iodine on a polyvinyl alcohol-based film is typically produced by dyeing by immersing polyvinyl alcohol in an aqueous solution of iodine and stretching it to 3 to 7 times the original length.
  • Stretching may be performed after dyeing, stretching while dyeing, or stretching and then dyeing. In addition to stretching and dyeing, it is produced by subjecting it to treatments such as swelling, cross-linking, adjustment, washing with water, and drying.
  • the iodine content of the modulator is 2% to 25% by weight (preferably 10% to 25% by weight, more preferably 15% to 25% by weight).
  • the term "iodine content” means the amount of all iodine contained in the polarizing element (PVA-based resin film). More specifically, in the substituent, iodine exists in the form of iodine ion (I ⁇ ), iodine molecule (I 2 ), polyiodine ion (I 3 ⁇ , I 5 ⁇ ), etc., as used herein. Iodine content means the amount of iodine that includes all of these forms.
  • the iodine content can be calculated, for example, by a calibration curve method for fluorescent X-ray analysis.
  • the polyiodine ion exists in a state where the PVA-iodine complex is formed in the substituent. By forming such a complex, absorption dichroism can be exhibited in the wavelength range of visible light.
  • the complex of PVA and triiodide ion (PVA ⁇ I 3- ) has an absorption peak near 470 nm, and the complex of PVA and triiodide ion (PVA ⁇ I 5- ) is around 600 nm. Has an absorptive peak.
  • polyiodide ions can absorb light over a wide range of visible light, depending on their morphology.
  • iodine ion (I ⁇ ) has an absorption peak near 230 nm and is not substantially involved in the absorption of visible light. Therefore, polyiodide ions present in the form of a complex with PVA may mainly contribute to the absorption performance of the stator.
  • the simple substance transmittance of the polarizing element is, for example, 30% or more.
  • the theoretical upper limit of the single transmittance is 50%, and the practical upper limit is 46%.
  • the single transmittance (Ts) is a Y value measured by a two-degree field of view (C light source) of JIS Z8701 and corrected for luminosity factor.
  • C light source a two-degree field of view
  • a spectrophotometer with an integrating sphere manufactured by JASCO Corporation. It can be measured using the product name: V7100).
  • the degree of polarization of the polarizing element is, for example, 99.0% or more, preferably 99.5% or more, and more preferably 99.9% or more.
  • the protective film is arranged on at least one surface of the above-mentioned polarizing element.
  • a block layer may be arranged between the polarizing element with a protective film and the transparent conductive layer.
  • the protective film any suitable film is used. Specific examples of the material that is the main component of such a film include transparent resins such as cellulosic resins such as triacetyl cellulose (TAC).
  • the block layer is a resin layer.
  • the block layer comprises an acrylic resin and / or an epoxy resin.
  • the content ratio of the acrylic resin and the epoxy resin is preferably 95: 5 to 60:40 or 40: 60 to 1:99 in terms of weight ratio; more preferably. Is 95: 5 to 80:20, or 20:80 to 5:95; more preferably 90:10 to 70:30, or 30:70 to 10:90. Within such a range, it is possible to form a block layer having excellent adhesion to adjacent layers and excellent transparency.
  • the acrylic resin contains a structural unit derived from an acrylic monomer and a structural unit derived from the monomer (a) represented by the following formula (1).
  • the acrylic resin containing the structural unit derived from the acrylic monomer and the structural unit derived from the monomer represented by the following formula (1) is referred to as "acrylic resin (A)".
  • the monomer (a) represented by the following formula (1) may be simply referred to as “monomer (a)”.
  • X is a group consisting of a vinyl group, a (meth) acrylic group, a styryl group, a (meth) acrylamide group, a vinyl ether group, an epoxy group, an oxetane group, a hydroxyl group, an amino group, an aldehyde group, and a carboxyl group.
  • R 1 and R 2 each independently have a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, and a substituent.
  • R 1 and R 2 may be linked to each other to form a ring).
  • aliphatic hydrocarbon group a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent and a cyclic alkyl group having 3 to 20 carbon atoms which may have a substituent may be used.
  • An alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms can be mentioned.
  • the aryl group include a phenyl group having 6 to 20 carbon atoms which may have a substituent and a naphthyl group having 10 to 20 carbon atoms which may have a substituent.
  • the heterocyclic group include a 5-membered ring group or a 6-membered ring group containing at least one heteroatom which may have a substituent.
  • R 1 and R 2 may be connected to each other to form a ring.
  • R 1 and R 2 are preferably a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom.
  • the reactive group contained in the functional group represented by X is preferably a (meth) acrylic group and / or a (meth) acrylamide group.
  • the functional group represented by X is preferably a functional group represented by the following formula.
  • Z is a group consisting of a vinyl group, a (meth) acrylic group, a styryl group, a (meth) acrylamide group, a vinyl ether group, an epoxy group, an oxetane group, a hydroxyl group, an amino group, an aldehyde group, and a carboxyl group.
  • the following compounds can be used as the monomer represented by the general formula (1).
  • the content ratio of the structural unit derived from the monomer (a) is preferably more than 0 parts by weight and less than 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the acrylic resin (A). , More preferably 0.01 parts by weight or more and less than 50 parts by weight, still more preferably 0.05 parts by weight to 20 parts by weight, still more preferably 0.1 parts by weight to 10 parts by weight. Within such a range, a conductive optical laminate having excellent durability can be obtained.
  • the content ratio of the structural unit derived from the acrylic monomer is preferably more than 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the acrylic resin (A).
  • any suitable acrylic monomer can be used as the acrylic monomer.
  • a (meth) acrylic acid ester-based monomer having a linear or branched structure and a (meth) acrylic acid ester-based monomer having a cyclic structure can be mentioned.
  • (meth) acrylic refers to acrylic and / or methacrylic.
  • Examples of the (meth) acrylic acid ester-based monomer having a linear or branched structure include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid. Examples thereof include isopropyl, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, methyl 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and the like. .. Preferably, methyl (meth) acrylate is used.
  • the (meth) acrylic acid ester-based monomer only one kind may be used, or two or more kinds may be used in combination.
  • Examples of the (meth) acrylate-based monomer having a cyclic structure include cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, 1-adamantyl (meth) acrylate, and ( Dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, biphenyl (meth) acrylate, o-biphenyloxyethyl (meth) acrylate, o-biphenyloxyethoxy Ethyl (meth) acrylate, m-biphenyloxyethyl acrylate, p-biphenyloxyethyl (meth) acrylate, o-biphenyloxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, p-biphenyloxy-2-
  • 1-adamantyl (meth) acrylate and dicyclopentanyl (meth) acrylate are used.
  • these monomers a polymer having a high glass transition temperature can be obtained. Only one kind of these monomers may be used, or two or more kinds thereof may be used in combination.
  • (meth) acryloyl means acryloyl group and / or methacryloyl group.
  • a silsesquioxane compound having a (meth) acryloyl group may be used instead of the above (meth) acrylic acid ester-based monomer.
  • a silsesquioxane compound having a (meth) acryloyl group By using the silsesquioxane compound, an acrylic polymer having a high glass transition temperature can be obtained.
  • the silsesquioxane compound is known to have various skeleton structures such as a cage-type structure, a ladder-type structure, and a random structure.
  • the silsesquioxane compound may have only one of these structures, or may have two or more of these structures. Only one kind of silsesquioxane compound may be used, or two or more kinds may be used in combination.
  • silsesquioxane compound having a (meth) acryloyl group for example, MAC grade and AC grade of Toagosei Co., Ltd. SQ series can be used.
  • the MAC grade is a silsesquioxane compound containing a methacryloyl group, and specific examples thereof include MAC-SQ TM-100, MAC-SQ SI-20, and MAC-SQ HDM.
  • the AC grade is a silsesquioxane compound containing an acryloyl group, and specific examples thereof include AC-SQ TA-100 and AC-SQ SI-20.
  • the acrylic resin (A) is preferably obtained by solution-polymerizing a monomer component such as an acrylic monomer and the monomer (a).
  • a monomer component such as an acrylic monomer and the monomer (a).
  • Any suitable solvent can be used as the solvent used in the solution polymerization.
  • water alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol; aromatic or aliphatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, cyclohexane, n-hexane; ester compounds such as ethyl acetate; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone.
  • Compounds; Examples thereof include cyclic ether compounds such as tetrahydrofuran and dioxane.
  • the polymerization reaction can be carried out at any suitable temperature and time.
  • the polymerization reaction can be carried out in the range of 50 ° C. to 100 ° C., preferably 60 ° C. to 80 ° C.
  • the reaction time is, for example, 1 hour to 8 hours, preferably 3 hours to 5 hours.
  • any suitable epoxy resin can be used.
  • an epoxy resin having an aromatic ring is preferably used. By using an epoxy resin having an aromatic ring, it is possible to form a block layer having better adhesion to a polarizing element.
  • the epoxy resin having an aromatic ring include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin and other bisphenol type epoxy resins; phenol novolac epoxy resin, cresol novolak epoxy.
  • Novolak type epoxy resin such as based resin, hydroxybenzaldehyde phenol novolak epoxy resin; polyfunctional epoxy resin such as tetrahydroxyphenylmethane glycidyl ether, tetrahydroxybenzophenone glycidyl ether, epoxidized polyvinylphenol, naphthol type Examples thereof include epoxy-based resins, naphthalene-type epoxy-based resins, and biphenyl-type epoxy-based resins.
  • a bisphenol A type epoxy resin, a biphenyl type epoxy resin, and a bisphenol F type epoxy resin are used. By using these epoxy resins, it is possible to form a block layer that can preferably prevent the movement of the iodine component. Only one type of poxy resin may be used, or two or more types may be used in combination.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the epoxy resin is preferably 20,000 or more, more preferably 30,000 or more, and further preferably 37,000 or more.
  • Mw weight average molecular weight
  • the weight average molecular weight can be measured, for example, by GPC.
  • the thickness of the single layer of the block layer is preferably 0.1 ⁇ m to 8 ⁇ m, more preferably 0.2 ⁇ m to 3 ⁇ m, and further preferably 0.4 ⁇ m to 1 ⁇ m.
  • the total thickness of the block layer is preferably 0.1 ⁇ m to 16 ⁇ m, more preferably 0.1 ⁇ m to 8 ⁇ m, still more preferably 0.2 ⁇ m to 6 ⁇ m, still more preferably 0.2 ⁇ m to 3 ⁇ m. It is more preferably 0.2 ⁇ m to 2 ⁇ m, and particularly preferably 0.4 ⁇ m to 1 ⁇ m.
  • the total thickness of the block layer corresponds to the thickness of the single layer when the block layer is a single layer, and corresponds to the total thickness of each layer when the block layer is a plurality of layers.
  • the elastic modulus of the cross section of the block layer is preferably 4 GPa to 8 GPa, more preferably 5 GPa to 6 GPa. Within such a range, it is possible to form a block layer that is less likely to cause cracks and can effectively function as a polarizing element protective film.
  • the elastic modulus of the cross section of the block layer can be measured by using a nanoindenter (for example, manufactured by Hydron Inc., product name: Triboinder) under the following conditions. Indenter used: Berkovic (triangular pyramid type) Measurement method: Single push measurement Measurement temperature: 23 ° C Push-in depth setting: 50 nm
  • the moisture permeability of the block layer is preferably 10 g / m 2.24 h to 2000 g / m 2.24 h, more preferably 100 g / m 2.24 h to 1800 g / m 2.24 h, and further preferably 150 g / m. It is 2.24h to 1500g / m 2.24h .
  • the moisture permeability can be determined according to the JIS Z0208 moisture permeability test (cup method).
  • the transparent conductive layer includes metal nanowires or metal meshes as described above.
  • the transparent conductive layer further comprises a polymer matrix.
  • metal nanowires or metal meshes are present in the polymer matrix.
  • the polymer matrix protects the metal nanowires or the metal mesh. As a result, corrosion of metal nanowires or metal mesh is prevented, and an optical laminate having better durability can be obtained.
  • the thickness of the single layer of the transparent conductive layer is preferably 50 nm to 150 nm, more preferably 55 nm to 140 nm, further preferably 60 nm to 130 nm, and particularly preferably 65 nm to 120 nm.
  • the surface resistance value of the transparent conductive layer is preferably 0.01 ⁇ / ⁇ to 1000 ⁇ / ⁇ , more preferably 0.1 ⁇ / ⁇ to 500 ⁇ / ⁇ , and particularly preferably 0.1 ⁇ / ⁇ to 300 ⁇ /. ⁇ , most preferably 0.1 ⁇ / ⁇ to 100 ⁇ / ⁇ .
  • the transparent conductive layer is patterned.
  • any suitable method can be adopted depending on the morphology of the transparent conductive layer.
  • the shape of the pattern of the transparent conductive layer can be any suitable shape depending on the application. For example, the patterns described in JP-A-2011-51357, JP-A-2010-164938, JP-A-2008-310550, JP-A-2003-511799, and JP-A-2010-541109 can be mentioned.
  • the transparent conductive layer After the transparent conductive layer is formed on the substrate, it can be patterned by any suitable method depending on the morphology of the transparent conductive layer.
  • the total light transmittance of the transparent conductive layer is preferably 85% or more, more preferably 90% or more, and further preferably 95% or more.
  • the metal nanowire is a conductive substance whose material is metal, whose shape is needle-shaped or thread-shaped, and whose diameter is nanometer-sized.
  • the metal nanowires may be linear or curved. If a transparent conductive layer made of metal nanowires is used, the metal nanowires form a mesh, so that even a small amount of metal nanowires can form a good electrical conduction path, and conductivity with low electrical resistance can be formed. A sex optical laminate can be obtained.
  • the ratio (aspect ratio: L / d) of the thickness d to the length L of the metal nanowire is preferably 10 to 100,000, more preferably 50 to 100,000, and particularly preferably 100 to 100. It is 10,000.
  • the metal nanowires having such a large aspect ratio the metal nanowires can cross well and a small amount of metal nanowires can exhibit high conductivity. As a result, a transparent conductive layer having high light transmittance can be obtained.
  • the "thickness of the metal nanowire” means the diameter of the metal nanowire when the cross section is circular, and the minor diameter when the cross section of the metal nanowire is elliptical, and is polygonal. In some cases it means the longest diagonal.
  • the thickness and length of the metal nanowires can be confirmed by a scanning electron microscope or a transmission electron microscope.
  • the thickness of the metal nanowires is preferably less than 500 nm, more preferably less than 200 nm, particularly preferably 10 nm to 100 nm, and most preferably 10 nm to 60 nm. Within such a range, a transparent conductive layer having high light transmittance can be formed.
  • the length of the metal nanowires is preferably 1 ⁇ m to 1000 ⁇ m, more preferably 1 ⁇ m to 500 ⁇ m, and particularly preferably 1 ⁇ m to 100 ⁇ m. Within such a range, a conductive optical laminate having high conductivity can be obtained.
  • any suitable metal can be used as long as it is a highly conductive metal.
  • the metal constituting the metal nanowire include one or more metals selected from the group consisting of gold, platinum, silver, copper, aluminum, rhodium and nickel. Further, a material obtained by plating these metals (for example, gold plating) may be used.
  • the metal nanowires are preferably composed of one or more metals selected from the group consisting of gold, platinum, silver and copper.
  • any appropriate method can be adopted as the method for manufacturing the metal nanowires.
  • Examples thereof include a method of reducing silver nitrate in a solution, a method of applying an applied voltage or a current to the surface of the precursor from the tip of the probe, pulling out a metal nanowire at the tip of the probe, and continuously forming the metal nanowire. ..
  • silver nanowires can be synthesized by liquid phase reduction of a silver salt such as silver nitrate in the presence of a polyol such as ethylene glycol and polyvinylpyrrolidone. Uniformly sized silver nanowires are available, for example, from Xia, Y. et al. et al. , Chem. Mater. (2002), 14, 4736-4745, Xia, Y. et al. et al. , Nano letters (2003) 3 (7), 955-960, can be mass-produced according to the method described.
  • the content ratio of the metal nanowires in the transparent conductive layer is preferably 30% by weight to 100% by weight, more preferably 30% by weight to 90% by weight, still more preferably, with respect to the total weight of the transparent conductive layer. It is 45% by weight to 80% by weight. Within such a range, a transparent conductive layer having excellent conductivity and light transmission can be obtained.
  • the density of the metal nanowires is preferably 1.3 g / cm 3 to 10.5 g / cm 3 , and more preferably 1.5 g / cm 3 to 3.0 g / cm 3 . Within such a range, a conductive layer having excellent conductivity and light transmission can be obtained.
  • the transparent conductive layer containing the metal mesh is formed by forming fine metal lines in a grid pattern on the base material.
  • any suitable metal can be used as long as it is a highly conductive metal.
  • the metal constituting the metal mesh include one or more metals selected from the group consisting of gold, platinum, silver, copper, aluminum, rhodium and nickel. Further, a material obtained by plating these metals (for example, gold plating) may be used.
  • the metal mesh is preferably composed of one or more metals selected from the group consisting of gold, platinum, silver and copper.
  • Polymer matrix Any suitable polymer can be used as the polymer constituting the polymer matrix.
  • the polymer include acrylic polymers; polyester polymers such as polyethylene terephthalate; aromatic polymers such as polystyrene, polyvinyltoluene, polyvinyl xylene, polyimide, polyamide and polyamideimide; polyurethane polymers; epoxy polymers; polyolefin polymers.
  • PETA pentaerythritol triacrylate
  • NPGDA neopentylglycol diacrylate
  • DPHA dipentaerythritol hexaacrylate
  • DPPA dipentaerythritol pentaacrylate
  • TMPTA trimethylolpropane triacrylate
  • a curable resin composed of acrylate preferably an ultraviolet curable resin
  • the conductive optical laminate may have a protective layer arranged so as to protect the transparent conductive layer.
  • any suitable resin composition can be used as the material for forming the protective layer.
  • the resin contained in the resin composition include a thermosetting resin, a photocurable resin (ultraviolet curable resin, visible light curable resin), an electron beam curable resin, and the like, from the viewpoint of workability. UV curable resin is preferable.
  • the resin composition containing the thermosetting resin is composed of, for example, an epoxy resin, an unsaturated polyester resin, a phenol resin or a polyurethane resin, and a curing agent added as needed.
  • the resin composition containing the photocurable resin or the electron beam curable resin is, for example, a polymerizable monomer such as a monofunctional acrylate or a polyfunctional acrylate; or a polymerizable prepolymer such as a polyester acrylate, an epoxy acrylate or a polyurethane acrylate; It is composed of a photoinitiator added as needed.
  • the protective layer may be made of a conductive resin.
  • the conductive resin include poly (3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT), polyaniline, polythiophene, polydiacetylene and the like.
  • the protective layer may be made of an inorganic material.
  • the inorganic material include silica, mullite, alumina, SiC, MgO-Al 2 O 3 -SiO 2 , Al 2 O 3 -SiO 2 , MgO-Al 2 O 3 -SiO 2 -Li 2 O and the like. ..
  • the thickness of the protective layer is, for example, 1 ⁇ m to 100 ⁇ m, more preferably 2 ⁇ m to 50 ⁇ m, and further preferably 3 ⁇ m to 20 ⁇ m.
  • the substrate is typically composed of any suitable resin.
  • the resin constituting the base material include cycloolefin resin, polyimide resin, polyvinylidene chloride resin, polyvinyl chloride resin, polyethylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin and the like.
  • a cycloolefin resin is used. If a base material made of a cycloolefin resin is used, a conductive optical laminate having excellent flexibility can be obtained.
  • polynorbornene As the cycloolefin-based resin, for example, polynorbornene can be preferably used.
  • Polynorbornene refers to a (co) polymer obtained by using a norbornene-based monomer having a norbornene ring in a part or all of a starting material (monomer).
  • various products are commercially available. Specific examples include Zeon Corporation's product names "Zeonex” and "Zeonoa”, JSR's product name "Arton”, TICONA's product name "Topus”, and Mitsui Chemicals' product name. "APEL" can be mentioned.
  • the glass transition temperature of the resin constituting the base material is preferably 50 ° C. to 200 ° C., more preferably 60 ° C. to 180 ° C., and further preferably 70 ° C. to 160 ° C.
  • a substrate having a glass transition temperature in such a range can prevent deterioration when forming the transparent conductive layer.
  • the thickness of the base material is preferably 8 ⁇ m to 500 ⁇ m, more preferably 10 ⁇ m to 250 ⁇ m, further preferably 10 ⁇ m to 150 ⁇ m, and particularly preferably 15 ⁇ m to 100 ⁇ m.
  • the total light transmittance of the base material is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and particularly preferably 90% or more. Within such a range, a conductive optical laminate suitable as a conductive optical laminate provided for a touch panel or the like can be obtained.
  • the substrate may further contain any suitable additive, if desired.
  • additives include plasticizers, heat stabilizers, light stabilizers, lubricants, antioxidants, UV absorbers, flame retardants, colorants, antistatic agents, compatibilizers, cross-linking agents, and thickeners. And so on.
  • the type and amount of the additive used can be appropriately set according to the purpose.
  • various surface treatments may be applied to the above-mentioned base material. Any appropriate method is adopted for the surface treatment depending on the purpose. For example, low pressure plasma treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona treatment, flame treatment, acid or alkali treatment can be mentioned.
  • the transparent substrate is surface-treated to make the surface of the transparent substrate hydrophilic. If the base material is made hydrophilic, the processability when applying the composition for forming a transparent conductive layer prepared by an aqueous solvent is excellent. In addition, it is possible to obtain a conductive optical laminate having excellent adhesion between the base material and the transparent conductive layer.
  • Adhesive layer adhesive layer
  • any layer can be placed between each layer (for example, a polarizing element, a block layer, a transparent conductive layer, or any other layer that can be arbitrarily arranged).
  • a suitable adhesive layer or adhesive layer may be arranged.
  • the adhesive constituting the adhesive layer examples include acrylic adhesive, rubber adhesive, vinyl alkyl ether adhesive, silicone adhesive, polyester adhesive, polyamide adhesive, urethane adhesive, and the like. Fluorine-based adhesives, epoxy-based adhesives, and polyether-based adhesives can be mentioned.
  • the pressure-sensitive adhesive may be used alone or in combination of two or more. Acrylic adhesives are preferably used from the viewpoints of transparency, processability, durability and the like.
  • the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is typically 5 ⁇ m to 300 ⁇ m, preferably 10 ⁇ m to 150 ⁇ m, and more preferably 15 ⁇ m to 100 ⁇ m.
  • an adhesive having any appropriate form can be adopted.
  • Specific examples include water-based adhesives, solvent-based adhesives, emulsion-based adhesives, solvent-free adhesives, active energy ray-curable adhesives, and heat-curable adhesives.
  • the active energy ray-curable adhesive include an electron beam-curable adhesive, an ultraviolet-curable adhesive, and a visible light-curable adhesive.
  • a water-based adhesive and an active energy ray-curable adhesive can be preferably used.
  • Specific examples of the water-based adhesive include isocyanate-based adhesives, polyvinyl alcohol-based adhesives, gelatin-based adhesives, vinyl-based latex-based adhesives, water-based polyurethanes, and water-based polyesters.
  • the active energy ray-curable adhesive examples include (meth) acrylate-based adhesives.
  • the curable component in the (meth) acrylate-based adhesive examples include a compound having a (meth) acryloyl group and a compound having a vinyl group.
  • a compound having an epoxy group or an oxetanyl group can also be used as the cationic polymerization curable adhesive.
  • the compound having an epoxy group is not particularly limited as long as it has at least two epoxy groups in the molecule, and various generally known curable epoxy compounds can be used.
  • Preferred epoxy compounds include compounds having at least two epoxy groups and at least one aromatic ring in the molecule (aromatic epoxy compounds) and at least one of them having at least two epoxy groups in the molecule. Examples thereof include a compound (alicyclic epoxy compound) formed between two adjacent carbon atoms constituting an alicyclic ring.
  • the thickness of the adhesive layer is typically 0.01 ⁇ m to 7 ⁇ m, preferably 0.01 ⁇ m to 5 ⁇ m.
  • the conductive optical laminate can be manufactured by any suitable method.
  • a laminate containing a polarizing element hereinafter, also referred to as a polarizing plate
  • a laminate containing a transparent conductive layer hereinafter, also referred to as a conductive film
  • the body can be obtained.
  • the block layer 20 may be arranged on a polarizing plate (FIGS. 1 and 2 (a)), may be arranged on a conductive film (FIG. 2 (b), FIG. 2 (c)), and may be polarized. It may be arranged on both the plate and the conductive film (FIG. 2 (d), FIG. 2 (e)).
  • the polarizing plate and the conductive film can be bonded to each other via the pressure-sensitive adhesive layer or the adhesive layer.
  • the block layer can be formed by any suitable method. For example, it can be formed by applying a composition for forming a block layer to a predetermined layer (for example, a polarizing element, a transparent conductive layer, a protective layer).
  • a predetermined layer for example, a polarizing element, a transparent conductive layer, a protective layer.
  • the composition for forming a block layer contains a resin constituting the block layer (for example, an acrylic resin, an epoxy resin, etc.), and further contains any suitable other component, if necessary.
  • a resin constituting the block layer for example, an acrylic resin, an epoxy resin, etc.
  • other components include solvents and additives.
  • a solvent that can be used for solution polymerization of the resin constituting the block layer may be used, or another solvent may be used.
  • other solvents include ethyl acetate, toluene, methyl ethyl ketone, cyclopentanone and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
  • the coating methods for the block layer forming composition include bar coater coating, air knife coating, gravure coating, gravure reverse coating, reverse roll coating, lip coating, die coating, dip coating, and offset printing. , Flexographic printing, screen printing and the like can be adopted.
  • the transparent conductive layer in the conductive film is, for example, a substrate (or a laminate of the substrate and another layer) coated with a composition for forming a conductive layer containing metal nanowires.
  • the coating layer can then be dried to form.
  • the composition for forming a conductive layer may contain any suitable solvent in addition to metal nanowires.
  • the composition for forming a conductive layer can be prepared as a dispersion liquid of metal nanowires.
  • the solvent include water, an alcohol solvent, a ketone solvent, an ether solvent, a hydrocarbon solvent, an aromatic solvent and the like. From the viewpoint of reducing the environmental load, it is preferable to use water.
  • the composition for forming a conductive layer may further contain any suitable additive depending on the purpose. Examples of the additive include a corrosion inhibitor for preventing corrosion of metal nanowires, a surfactant for preventing aggregation of metal nanowires, and the like. The type, number and amount of additives used can be appropriately set according to the purpose.
  • the transparent conductive layer contains a polymer matrix
  • the polymer matrix is subjected to a polymer solution (polymer composition) on a layer composed of metal nanowires after the composition for forming a conductive layer is applied and dried as described above. , Monomer composition), and then the coating layer of the polymer solution may be dried or cured to form.
  • a transparent conductive layer may be formed by using a composition for forming a conductive layer containing a polymer constituting the polymer matrix.
  • the dispersion concentration of the metal nanowires in the composition for forming the conductive layer is preferably 0.1% by weight to 1% by weight. Within such a range, a transparent conductive layer having excellent conductivity and light transmission can be formed.
  • any appropriate method can be adopted as the method for applying the composition for forming the conductive layer.
  • the coating method include spray coating, bar coating, roll coating, die coating, inkjet coating, screen coating, dip coating, letterpress printing method, intaglio printing method, gravure printing method and the like.
  • any suitable drying method for example, natural drying, blast drying, heat drying
  • the drying temperature is typically 50 ° C. to 200 ° C., preferably 80 ° C. to 150 ° C.
  • the drying time is typically 1 to 10 minutes.
  • the polymer solution contains a polymer constituting the polymer matrix or a precursor of the polymer (monomer constituting the polymer).
  • the polymer solution may contain a solvent.
  • the solvent contained in the polymer solution include alcohol-based solvents, ketone-based solvents, tetrahydrofuran, hydrocarbon-based solvents, aromatic solvents and the like.
  • the solvent is volatile.
  • the boiling point of the solvent is preferably 200 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or lower, still more preferably 100 ° C. or lower.
  • the transparent conductive layer containing the metal mesh can be formed by any suitable method.
  • a photosensitive composition containing a silver salt (a composition for forming a conductive layer) is applied onto the transparent film, and then exposure treatment and development treatment are performed to form a fine metal wire into a predetermined pattern. It can be obtained by forming. Further, the conductive layer can also be obtained by printing a paste containing metal fine particles in a predetermined pattern. Details of such a conductive layer and a method for forming the same are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-18634, and the description thereof is incorporated herein by reference. Further, as another example of the conductive layer made of a metal mesh and the method for forming the same, the conductive layer described in JP-A-2003-331654 and the method for forming the conductive layer can be mentioned.
  • the protective layer is, for example, a material for forming the protective layer after forming the transparent conductive layer as described above.
  • a protective layer forming composition containing (for example, a predetermined resin) or a precursor of a protective layer forming material (for example, a monomer constituting the above resin) is applied, and then dried and, if necessary, cured. Can be formed.
  • the coating method the above method can be adopted.
  • any suitable drying method for example, natural drying, blast drying, heat drying
  • the drying temperature is typically 100 ° C. to 200 ° C.
  • the drying time is typically 1 to 10 minutes.
  • the curing treatment can be performed under any suitable conditions depending on the resin constituting the protective layer.
  • the composition for forming a protective layer may contain a solvent.
  • the solvent contained in the protective layer forming composition include alcohol-based solvents, ketone-based solvents, tetrahydrofurans, hydrocarbon-based solvents, aromatic solvents and the like.
  • the solvent is volatile.
  • the boiling point of the solvent is preferably 200 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or lower, still more preferably 100 ° C. or lower.
  • the protective layer forming composition may further contain any suitable additive depending on the purpose.
  • suitable additive include a cross-linking agent, a polymerization initiator, a stabilizer, a surfactant, a corrosion inhibitor and the like.
  • the ultraviolet curable adhesive includes 40 parts by weight of N-hydroxyethylacrylamide (HEAA), 60 parts by weight of acryloyl morpholine (ACMO), and 3 parts by weight of a photoinitiator (manufactured by BASF, trade name: IRGACURE 819). The one prepared by mixing with the parts was used.
  • HEAA N-hydroxyethylacrylamide
  • ACMO acryloyl morpholine
  • IRGACURE 819 3 parts by weight of a photoinitiator
  • MMA manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., trade name: methyl methacrylate monomer
  • a composition for forming a block layer was prepared by mixing 10 parts by weight of the polymer (A) and 90 parts by weight of an epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, trade name "JER 1256B40").
  • the obtained composition for forming a block layer is applied to the surface of the polarizing element of the polarizing element A with a protective film so as to have a thickness of 0.4 ⁇ m after drying to form a block layer, and the polarizing element A with a protective film is formed.
  • a laminate a composed of (protective film / adhesive layer / polarizing element) / block layer was obtained.
  • organosilane as a silane coupling agent manufactured by Soken Kagaku Co., Ltd., trade name: A100
  • thiol group-containing silane coupling agent manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: X41-1810 0.
  • An acrylic pressure-sensitive adhesive (solution) was obtained by blending 2 parts by weight and 0.3 parts by weight of an antioxidant (manufactured by BASF, trade name: Irganox1010).
  • the obtained acrylic pressure-sensitive adhesive composition was uniformly applied to the surface of a polyethylene terephthalate film (separator) treated with a silicone-based release agent with a fountain coater, and then placed in an air-circulating constant temperature oven at 155 ° C. for 2 minutes. After drying, a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 20 ⁇ m was formed on the surface of the separator. This pressure-sensitive adhesive layer was transferred to the surface of the block layer of the layered body a to obtain the layered body A (polarizer A with protective film / block layer / pressure-sensitive adhesive layer).
  • the composition for forming a transparent conductive layer is used on the substrate using a bar coater (manufactured by Daiichi Rika Co., Ltd., product name “Barcoater No. 12”).
  • a bar coater manufactured by Daiichi Rika Co., Ltd., product name “Barcoater No. 12”.
  • a coating layer having a Wet thickness of 18 ⁇ m.
  • it was dried at 120 ° C. for 1 minute to form a transparent conductive layer, and a transparent conductive film I (base material / transparent conductive layer) including a base material and a transparent conductive layer was obtained.
  • the resistance of the obtained film was measured and found to be 50 ⁇ .
  • a polymer (A) solid content concentration: 33% by weight.
  • the weight average molecular weight of the obtained polymer (A) was 85,000.
  • a composition for forming a block layer was prepared by mixing 10 parts by weight of the polymer (A) and 90 parts by weight of an epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, trade name "JER 1256B40").
  • the obtained composition for forming a block layer is applied to the surface of the transparent conductive layer of the transparent conductive film I so that the thickness after drying is 0.4 ⁇ m to form a block layer, and the transparent conductive film III (transparent conductive film III) is formed.
  • Substrate / transparent conductive layer / block layer) was obtained.
  • MMA manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., trade name: methyl methacrylate monomer
  • a composition for forming a block layer was prepared by mixing 10 parts by weight of the polymer (A) and 90 parts by weight of an epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, trade name "JER 1256B40"). The obtained composition for forming a block layer is applied to the surface of the protective layer of the transparent conductive film II so that the thickness after drying is 0.4 ⁇ m to form a block layer, and the transparent conductive film IV (base) is formed. Material / transparent conductive layer / protective layer / block layer) was obtained.
  • Example 1 The laminate A (polarizer A with protective film / block layer / adhesive layer) obtained in Production Example 2 and the transparent conductive film I (base material / transparent conductive layer) obtained in Production Example 4 are combined with each other.
  • the pressure-sensitive adhesive layer and the transparent conductive layer were laminated so as to be in contact with each other to obtain a conductive optical laminate (polarizer A with protective film / block layer / pressure-sensitive adhesive layer / transparent conductive layer / base material).
  • Example 2 The laminate A (polarizer A with protective film / block layer / adhesive layer) obtained in Production Example 2 and the transparent conductive film II (base material / transparent conductive layer / protective layer) obtained in Production Example 5. Are laminated so that the pressure-sensitive adhesive layer and the protective layer are in contact with each other, and a conductive optical laminate (polarizer A with a protective film / block layer / pressure-sensitive adhesive layer / protective layer / transparent conductive layer / base material) is formed. Obtained.
  • Example 3 The laminate B (polarizer A with protective film / adhesive layer) obtained in Production Example 3 and the transparent conductive film III (base material / transparent conductive layer / block layer) obtained in Production Example 6 were combined with each other. The pressure-sensitive adhesive layer and the block layer were laminated so as to be in contact with each other to obtain a conductive optical laminate (polarizer A with protective film / pressure-sensitive adhesive layer / block layer / transparent conductive layer / base material).
  • Example 4 The laminate B (polarizer A with protective film / adhesive layer) obtained in Production Example 3 and the transparent conductive film IV (base material / transparent conductive layer / protective layer / block layer) obtained in Production Example 7. are laminated so that the pressure-sensitive adhesive layer and the block layer are in contact with each other, and a conductive optical laminate (polarizer A with a protective film / pressure-sensitive adhesive layer / block layer / protective layer / transparent conductive layer / base material) is formed. Obtained.
  • Example 5 The laminate A (polarizer A with protective film / block layer / adhesive layer) obtained in Production Example 2 and the transparent conductive film III (base material / transparent conductive layer / block layer) obtained in Production Example 6 are laminated so that the pressure-sensitive adhesive layer and the block layer are in contact with each other, and a conductive optical laminate (polarizer A with protective film / block layer / pressure-sensitive adhesive layer / block layer / transparent conductive layer / base material) is formed. Obtained.
  • Example 6 The laminate A (polarizer A with protective film / block layer / adhesive layer) obtained in Production Example 2 and the transparent conductive film IV (base material / transparent conductive layer / protective layer /) obtained in Production Example 7.
  • the block layer is laminated so that the pressure-sensitive adhesive layer and the block layer are in contact with each other, and the conductive optical laminate (polarizer A with protective film / block layer / pressure-sensitive adhesive layer / block layer / protective layer / transparent conductivity) is laminated.
  • Layer / substrate was obtained.
  • Example 7 A polarizing element A with a protective film (protective film / adhesive layer / polarizing element) was obtained in the same manner as in Production Example 1.
  • An ultraviolet curable adhesive is applied to the surface of the polarizing element A with a protective film on the polarizing element side so that the cured thickness is 1 ⁇ m, and the coated surface is a (meth) acrylic resin film A having a lactone ring structure.
  • a corona-treated surface (thickness 40 ⁇ m) is bonded, the ultraviolet curable adhesive is cured, and a polarizing element B with a protective film provided with a block layer (protective film / adhesive layer / polarizing element / adhesive layer / block).
  • a layer (protective film)) was obtained.
  • the polarizing element B with a protective film (protective film / adhesive layer / polarizing element / adhesive layer / block layer (protective film)) and the transparent conductive film I (base material / transparent conductive layer) obtained in Production Example 4 ) Is laminated so that the pressure-sensitive adhesive layer and the transparent conductive layer are in contact with each other, and the conductive optical laminate (polarizer B with protective film (protective film / adhesive layer / polarizing element / adhesive layer / block layer). (Protective film)) / adhesive layer / transparent conductive layer / base material) was obtained.
  • the conductive optical laminates obtained in Examples and Comparative Examples were cut into a size of 50 mm ⁇ 50 mm and bonded to non-alkali glass via an acrylic adhesive to obtain an evaluation sample.
  • the conductive optical laminate was arranged so that the base material was on the non-alkali glass side and the polarizing element with the protective film was on the outside.
  • the initial resistance value of the transparent conductive layer was measured using "Type EC-80" manufactured by Napson.
  • the evaluation sample was stored in an environment of 65 ° C./90% humidity for 500 hours, and then returned to room temperature, and then the resistance value of the transparent conductive layer was measured.
  • the evaluation sample was stored in an environment of temperature 85 ° C./humidity 85% for 50 hours, and then returned to room temperature, and then the resistance value of the transparent conductive layer was measured.
  • the degree of deterioration of the metal nanowires was evaluated from the resistivity change calculated from the resistance value after storage / the resistance value before storage (initial resistance value). The results are shown in Table 1. When the resistance value is ⁇ (that is, when it exceeds the measurable range), it is described as “unmeasurable”.
  • the deterioration of the metal nanowires in the transparent conductive layer is prevented by providing the block layer between the polarizing element and the transparent conductive layer. Ru.
  • Such an effect becomes remarkable by preferably adjusting the composition of the block layer (Examples 1 to 6), and the resistance change under more severe conditions (85 ° C./85%) can be suppressed.
  • Polarizer 10
  • Block layer 30
  • Transparent conductive layer 40
  • Substrate 100, 200, 300, 400, 500, 600 Conductive optical laminate

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Abstract

偏光子と金属ナノワイヤを含む透明導電層とを備えながらも、当該金属ナノワイヤの劣化が防止された導電性光学積層体を提供する。　本発明の導電性光学積層体は、偏光子と、ブロック層と、透明導電層とをこの順に備え、該ブロック層が、樹脂層である。１つの実施形態においては、上記ブロック層が、アクリル系樹脂およびエポキシ系樹脂を含む。１つの実施形態においては、上記導電性光学積層体は、上記ブロック層を複数層有する。

Description

導電性光学積層体
　本発明は、導電性光学積層体に関する。
　従来、タッチセンサーの電極等に用いられる導電性フィルムとして、樹脂フィルム上にインジウム・スズ複合酸化物層（ＩＴＯ層）等の金属酸化物層が形成された導電性フィルムが多用されている。しかし、金属酸化物層が形成された導電性フィルムには、屈曲性が不十分であるという問題がある。屈曲性に優れた導電性フィルムとして、銀や銅などを用いた金属ナノワイヤまたは金属メッシュを含む透明導電層を備える導電性フィルムが提案されている。
特表２００９－５０５３５８号公報
　導電性フィルムは、画像表示パネルと組み合わせて用いられることも多く、その際、偏光子の近くに配置されて用いられることがある。このような場合、偏光子に含まれる成分（特に、ヨウ素成分）が影響して、導電性フィルムの透明導電層中の金属ナノワイヤ等が劣化し、当該導電性フィルムの導電性が低下するという問題が生じ得る。
　本発明は上記の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、偏光子と金属ナノワイヤまたは金属メッシュを含む透明導電層とを備えながらも、当該金属ナノワイヤの劣化が防止された導電性光学積層体を提供することにある。
　本発明の導電性光学積層体は、偏光子と、ブロック層と、透明導電層とをこの順に備え、該ブロック層が、樹脂層であり、該透明導電層が金属ナノワイヤまたは金属メッシュを含む。
　１つの実施形態においては、上記ブロック層が、アクリル系樹脂およびエポキシ系樹脂を含む。
　１つの実施形態においては、上記アクリル系樹脂が、アクリル系単量体由来の構成単位と、下記式（１）で表される単量体（ａ）由来の構成単位とを含む。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 （式中、Ｘはビニル基、（メタ）アクリル基、スチリル基、（メタ）アクリルアミド基、ビニルエーテル基、エポキシ基、オキセタン基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルデヒド基、および、カルボキシル基からなる群より選択される少なくとも１種の反応性基を含む官能基を表し、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよいアリール基、または、置換基を有していてもよいヘテロ環基を表し、Ｒ１およびＲ２は互いに連結して環を形成してもよい。）
　１つの実施形態においては、上記アクリル系樹脂において、上記単量体（ａ）由来の構成単位の含有割合が、該アクリル系樹脂１００重量部に対して、０重量部を超えて５０重量部未満である。
　１つの実施形態においては、上記ブロック層の総厚みが、０．１μｍ～１６μｍである。
　１つの実施形態においては、上記導電性光学積層体は、上記ブロック層を複数層有する。
　１つの実施形態においては、上記導電性光学積層体は、基材をさらに備え、上記透明導電層が、該基材上に配置される。
　１つの実施形態においては、上記導電性光学積層体は、上記ブロック層と上記透明導電層との間において、該透明導電層を保護するようにして配置された保護層をさらに備える。
　１つの実施形態においては、上記金属ナノワイヤを構成する金属が、金、白金、銀、銅、アルミニウム、ロジウムおよびニッケルからなる群より選ばれた１種以上の金属である。
　１つの実施形態においては、上記金属メッシュを構成する金属が、金、白金、銀、銅、アルミニウム、ロジウムおよびニッケルからなる群より選ばれた１種以上の金属である。
　１つの実施形態においては、上記金属ナノワイヤが、金、白金、銀、銅、アルミニウム、ロジウムおよびニッケルからなる群より選ばれた１種以上の金属にメッキ処理を行った材料から構成される。
　１つの実施形態においては、上記金属メッシュが、金、白金、銀、銅、アルミニウム、ロジウムおよびニッケルからなる群より選ばれた１種以上の金属にメッキ処理を行った材料から構成される。
　本発明によれば、偏光子と金属ナノワイヤを含む透明導電層とを備えながらも、当該金属ナノワイヤの劣化が防止された導電性光学積層体を提供することができる。
本発明の１つの実施形態による導電性光学積層体の概略断面図である。 （ａ）～（ｅ）は、本発明の別の実施形態による導電性光学積層体の概略断面図である。
Ａ．導電性光学積層体の全体構成
　図１は、本発明の１つの実施形態による導電性光学積層体の概略断面図である。導電性光学積層体１００は、偏光子１０と、ブロック層２０と、透明導電層３０とをこの順に備える。透明導電層３０は、金属ナノワイヤまたは金属メッシュを含む（図示せず）。好ましくは、導電性光学積層体は基材４０をさらに備え得る。透明導電層３０は、基材４０上に配置され得る。
　図２（ａ）～（ｅ）は、本発明の別の実施形態による導電性光学積層体の概略断面図である。
　導電性光学積層体２００、４００、６００は、図２（ａ）、図２（ｃ）、図２（ｅ）に示すように、透明導電層３０を保護するようにして配置された、保護層３１を有していてもよい。保護層３１は、ブロック層２０と透明導電層３０との間に配置され得る。保護層３１は透明導電層３０に直接（すなわち、他の層を介することなく）配置されていることが好ましい。
　図１および図２（ａ）～（ｅ）に示すように、上記導電性光学積層体においては、各層（例えば、偏光子、ブロック層、透明導電層、任意で配置され得るその他の層等）間には、任意の適切な粘着剤層または接着剤層が配置されていてもよい（図示例では、粘着剤層５０）。
　ブロック層２０は、複数層（例えば、２層）、配置されていてもよい。図２（ｄ）および（ｅ）に示すように、１つの実施形態においては、ブロック層２０は、粘着剤層５０（または、接着剤層）を介するようにして、２層配置され得る。ブロック層を複数層設けることにより、金属ナノワイヤの劣化を防止する効果は、顕著となる。複数層あるブロック層の構成（組成、厚み等）は、それぞれ、同じであってもよく、異なっていてもよい。また、偏光子のブロック層とは反対側に第２のブロック層を設けてもよい（図示せず）。ブロック層および第２のブロック層は、それぞれ、同じ構成であってもよく、異なる構成であってもよい。
　図示していないが、上記導電性光学積層体は、任意の適切なその他の層をさらに備え得る。例えば、導電性光学積層体は、偏光子の少なくとも一方の側に配置された偏光子保護フィルムを有していてもよい。１つの実施形態においては、偏光子の片側のみが偏光子保護フィルムにより保護される。１つの実施形態においては、ブロック層（および／または第２のブロック層）が、偏光子を保護する機能を発揮し、偏光子保護フィルムの代替として配置される。
　本発明においては、上記で例示されるように、偏光子と透明導電層との間に、ブロック層を設けることにより、偏光子中の成分（代表的には、ヨウ素成分）が透明導電層に影響を及ぼすことを防止できる。その結果、透明導電層中の金属ナノワイヤの劣化が防止され、優れた導電性を有し、かつ、耐久性に優れる導電性光学積層体を提供することができる。
Ｂ．偏光子
　上記偏光子としては、任意の適切な偏光子が用いられる。例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。これらの中でも、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素などの二色性物質を吸着させて一軸延伸した偏光子が、偏光二色比が高く、特に好ましい。偏光子の厚みは、好ましくは、０．５μｍ～８０μｍである。
　ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて一軸延伸した偏光子は、代表的には、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の３～７倍に延伸することで作製される。延伸は染色した後に行ってもよいし、染色しながら延伸してもよいし、延伸してから染色してもよい。延伸、染色以外にも、例えば、膨潤、架橋、調整、水洗、乾燥等の処理が施されて作製される。
　１つの実施形態においては、偏光子のヨウ素含有量が、２重量％～２５重量％（好ましくは１０重量％～２５重量％、より好ましくは１５重量％～２５重量％）である。本明細書において「ヨウ素含有量」とは、偏光子（ＰＶＡ系樹脂フィルム）中に含まれるすべてのヨウ素の量を意味する。より具体的には、偏光子中においてヨウ素はヨウ素イオン（Ｉ－）、ヨウ素分子（Ｉ２）、ポリヨウ素イオン（Ｉ３ －、Ｉ５ －）等の形態で存在するところ、本明細書におけるヨウ素含有量は、これらの形態をすべて包含したヨウ素の量を意味する。ヨウ素含有量は、例えば、蛍光Ｘ線分析の検量線法により算出することができる。なお、ポリヨウ素イオンは、偏光子中でＰＶＡ－ヨウ素錯体を形成した状態で存在している。このような錯体が形成されることにより、可視光の波長範囲において吸収二色性が発現し得る。具体的には、ＰＶＡと三ヨウ化物イオンとの錯体（ＰＶＡ・Ｉ３ －）は４７０ｎｍ付近に吸光ピークを有し、ＰＶＡと五ヨウ化物イオンとの錯体（ＰＶＡ・Ｉ５ －）は６００ｎｍ付近に吸光ピークを有する。結果として、ポリヨウ素イオンは、その形態に応じて可視光の幅広い範囲で光を吸収し得る。一方、ヨウ素イオン（Ｉ－）は２３０ｎｍ付近に吸光ピークを有し、可視光の吸収には実質的には関与しない。したがって、ＰＶＡとの錯体の状態で存在するポリヨウ素イオンが、主として偏光子の吸収性能に関与し得る。
　偏光子の単体透過率は、例えば、３０％以上である。なお、単体透過率の理論上の上限は５０％であり、実用的な上限は４６％である。また、単体透過率（Ｔｓ）は、ＪＩＳ　Ｚ８７０１の２度視野（Ｃ光源）により測定して視感度補正を行なったＹ値であり、例えば、積分球付き分光光度計（日本分光株式会社製、製品名：Ｖ７１００）を用いて測定することができる。
　偏光子の偏光度は、例えば、９９．０％以上であり、好ましくは９９．５％以上であり、より好ましくは９９．９％以上である。
　１つの実施形態においては、上記偏光子の少なくとも一方の面に、保護フィルムが配置される。導電性光学積層体が、保護フィルム付偏光子を有する場合、保護フィルム付偏光子と透明導電層との間に、ブロック層が配置され得る。上記保護フィルムとしては、任意の適切なフィルムが用いられる。このようなフィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂等の透明樹脂等が挙げられる。
Ｃ．ブロック層
　代表的には、上記ブロック層は、樹脂層である。１つの実施形態においては、ブロック層は、アクリル系樹脂および／またはエポキシ系樹脂を含む。アクリル系樹脂とエポキシ系樹脂との含有割合（アクリル系樹脂：エポキシ系樹脂）は、重量比で、好ましくは９５：５～６０：４０、または、４０：６０～１：９９であり；より好ましくは９５：５～８０：２０、または、２０：８０～５：９５であり；さらに好ましくは９０：１０～７０：３０、または、３０：７０～１０：９０である。このような範囲であれば、隣接する層との密着性に優れ、かつ、透明性に優れるブロック層を形成することができる。
　好ましくは、上記アクリル系樹脂は、アクリル系単量体由来の構成単位と、下記式（１）で表される単量体（ａ）由来の構成単位とを含む。本明細書において、アクリル系単量体由来の構成単位と、下記式（１）で表される単量体由来の構成単位とを含むアクリル系樹脂を、「アクリル系樹脂（Ａ）」ということもある。また、下記式（１）で表される単量体（ａ）を、単に「単量体（ａ）」ということもある。単量体（ａ）由来の構成単位を含むアクリル系樹脂（Ａ）とエポキシ系樹脂とを併用してブロック層を形成することにより、偏光子成分の移動を防止して、耐久性に顕著に優れる導電性光学積層体を得ることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 （式中、Ｘはビニル基、（メタ）アクリル基、スチリル基、（メタ）アクリルアミド基、ビニルエーテル基、エポキシ基、オキセタン基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルデヒド基、および、カルボキシル基からなる群より選択される少なくとも１種の反応性基を含む官能基を表し、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよいアリール基、または、置換基を有していてもよいヘテロ環基を表し、Ｒ１およびＲ２は互いに連結して環を形成してもよい）。
　上記脂肪族炭化水素基としては、置換基を有していてもよい炭素数１～２０の直鎖または分岐のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数３～２０の環状アルキル基、炭素数２～２０のアルケニル基が挙げられる。上記アリール基としては、置換基を有していてもよい炭素数６～２０のフェニル基、置換基を有していてもよい炭素数１０～２０のナフチル基等が挙げられる。ヘテロ環基としては、置換基を有していてもよい少なくとも１つのヘテロ原子を含む５員環基または６員環基が挙げられる。なお、Ｒ１およびＲ２は互いに連結して環を形成してもよい。Ｒ１およびＲ２は、好ましくは水素原子、もしくは、炭素数１～３の直鎖または分岐のアルキル基であり、より好ましくは水素原子である。
　１つの実施形態においては、上記Ｘで表される官能基が含む反応性基は、好ましくは、（メタ）アクリル基および／または（メタ）アクリルアミド基である。これらの反応性基を有することにより、偏光子とブロック層との密着性が向上し得る。
　１つの実施形態においては、上記Ｘで表される官能基は、下記式で表される官能基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 （式中、Ｚはビニル基、（メタ）アクリル基、スチリル基、（メタ）アクリルアミド基、ビニルエーテル基、エポキシ基、オキセタン基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルデヒド基、および、カルボキシル基からなる群より選択される少なくとも１種の反応性基を含む官能基を表し、Ｙはフェニレン基またはアルキレン基を表す）。
　一般式（１）で表される単量体としては、具体的には以下の化合物を用いることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　アクリル系樹脂（Ａ）において、単量体（ａ）由来の構成単位の含有割合は、アクリル系樹脂（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは０重量部を超えて５０重量部未満であり、より好ましくは０．０１重量部以上５０重量部未満であり、さらに好ましくは０．０５重量部～２０重量部であり、さらに好ましくは０．１重量部～１０重量部である。このような範囲であれば、耐久性に優れる導電性光学積層体を得ることができる。
　アクリル系樹脂（Ａ）において、アクリル系単量体由来の構成単位の含有割合は、アクリル系樹脂（Ａ）１００重量部に対して、５０重量部を超えることが好ましい。
　アクリル系単量体としては任意の適切なアクリル系単量体を用いることができる。例えば、直鎖または分岐構造を有する（メタ）アクリル酸エステル系単量体、および、環状構造を有する（メタ）アクリル酸エステル系単量体が挙げられる。本明細書において、（メタ）アクリルとは、アクリルおよび／またはメタクリルをいう。
　直鎖または分岐構造を有する（メタ）アクリル酸エステル系単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ－プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ－ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ－ブチル、（メタ）アクリル酸メチル２－エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸２－ヒドロキシエチル等が挙げられる。好ましくは、（メタ）アクリル酸メチルが用いられる。（メタ）アクリル酸エステル系単量体は、１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　環状構造を有する（メタ）アクリル酸エステル系単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、ビフェニル（メタ）アクリレート、ｏ－ビフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ｏ－ビフェニルオキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、ｍ－ビフェニルオキシエチルアクリレート、ｐ－ビフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ｏ－ビフェニルオキシ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ｐ－ビフェニルオキシ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ｍ－ビフェニルオキシ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ－（メタ）アクリロイルオキシエチル－ｏ－ビフェニル＝カルバマート、Ｎ－（メタ）アクリロイルオキシエチル－ｐ－ビフェニル＝カルバマート、Ｎ－（メタ）アクリロイルオキシエチル－ｍ－ビフェニル＝カルバマート、ｏ－フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート等のビフェニル基含有モノマー、ターフェニル（メタ）アクリレート、ｏ－ターフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。好ましくは、（メタ）アクリル酸１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニルが用いられる。これらの単量体を用いることにより、ガラス転移温度の高い重合体が得られる。これらの単量体は１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。なお、本明細書において、（メタ）アクリロイルとは、アクリロイル基および／またはメタクリロイル基をいう。
　また、上記（メタ）アクリル酸エステル系単量体に代えて、（メタ）アクリロイル基を有するシルセスキオキサン化合物を用いてもよい。シルセスキオキサン化合物を用いることにより、ガラス転移温度が高いアクリル系重合体が得られる。シルセスキオキサン化合物は、種々の骨格構造、例えば、カゴ型構造、ハシゴ型構造、ランダム構造などの骨格を持つものが知られている。シルセスキオキサン化合物は、これらの構造を１種のみを有するものでもよく、２種以上を有するものでもよい。シルセスキオキサン化合物は１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　（メタ）アクリロイル基を有するシルセスキオキサン化合物として、例えば、東亜合成株式会社ＳＱシリーズのＭＡＣグレード、および、ＡＣグレードを用いることができる。ＭＡＣグレードは、メタクリロイル基を含有するシルセスキオキサン化合物であり、具体的には、例えば、ＭＡＣ－ＳＱ　ＴＭ－１００、ＭＡＣ－ＳＱ　ＳＩ－２０、ＭＡＣ－ＳＱ　ＨＤＭ等が挙げられる。ＡＣグレードは、アクリロイル基を含有するシルセスキオキサン化合物であり、具体的には、例えば、ＡＣ－ＳＱ　ＴＡ－１００、ＡＣ－ＳＱ　ＳＩ－２０等が挙げられる。
　アクリル系樹脂（Ａ）は、好ましくはアクリル系単量体および単量体（ａ）等の単量体成分を溶液重合することにより得られる。溶液重合で使用する溶媒としては、任意の適切な溶媒を用いることができる。例えば、水；メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール等のアルコール；ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、ｎ－ヘキサン等の芳香族または脂肪族炭化水素；酢酸エチル等のエステル化合物；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン化合物；テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル化合物等が挙げられる。これらの溶媒は１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、有機溶媒と水とを併用してもよい。重合反応は、任意の適切な温度、および、時間で行うことができる。例えば、５０℃～１００℃、好ましくは６０℃～８０℃の範囲で重合反応を行うことができる。また、反応時間は、例えば、１時間～８時間であり、好ましくは３時間～５時間である。
　上記エポキシ系樹脂としては、任意の適切なエポキシ系樹脂を用いることができる。エポキシ系樹脂としては、好ましくは芳香族環を有するエポキシ系樹脂が用いられる。芳香族環を有するエポキシ系樹脂を用いることにより、より偏光子との密着性に優れるブロック層を形成することができる。芳香族環を有するエポキシ系樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ系樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ系樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ系樹脂などのビスフェノール型エポキシ系樹脂；フェノールノボラックエポキシ系樹脂、クレゾールノボラックエポキシ系樹脂、ヒドロキシベンズアルデヒドフェノールノボラックエポキシ系樹脂などのノボラック型のエポキシ系樹脂；テトラヒドロキシフェニルメタンのグリシジルエーテル、テトラヒドロキシベンゾフェノンのグリシジルエーテル、エポキシ化ポリビニルフェノールなどの多官能型のエポキシ系樹脂、ナフトール型エポキシ系樹脂、ナフタレン型エポキシ系樹脂、ビフェニル型エポキシ系樹脂などが挙げられる。好ましくは、ビスフェノールＡ型エポキシ系樹脂、ビフェニル型エポキシ系樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ系樹脂が用いられる。これらのエポキシ系樹脂を用いることにより、ヨウ素成分の移動を好ましく阻止し得るブロック層を形成することができる。ポキシ樹脂は１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　エポキシ系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは２０，０００以上であり、より好ましくは３０，０００以上であり、さらに好ましくは３７，０００以上である。エポキシ系樹脂の重量平均分子量が上記範囲であることにより、ヨウ素成分の移動を好ましく阻止し得るブロック層を形成することができる。重量平均分子量は、例えば、ＧＰＣにより測定することができる。
　ブロック層の単層厚みは、好ましくは０．１μｍ～８μｍであり、より好ましくは０．２μｍ～３μｍ、さらに好ましくは０．４μｍ～１μｍである。上記のように、アクリル系樹脂およびエポキシ系樹脂を含むブロック層を形成すれば、薄くともヨウ素成分の移動を好ましく阻止し得るブロック層を形成することができる。
　上記ブロック層の総厚みは、好ましくは０．１μｍ～１６μｍであり、より好ましくは０．１μｍ～８μｍであり、さらに好ましくは０．２μｍ～６μｍであり、さらに好ましくは０．２μｍ～３μｍであり、さらに好ましくは０．２μｍ～２μｍであり、特に好ましくは０．４μｍ～１μｍである。ブロック層の総厚みとは、ブロック層が単層である場合には単層厚みに相当し、ブロック層が複数層である場合には、各層の厚みを合計した厚みに相当する。
　ブロック層の断面の弾性率は、好ましくは４ＧＰａ～８ＧＰａであり、より好ましくは５ＧＰａ～６ＧＰａである。このような範囲であれば、クラックが発生しがたく、偏光子保護フィルムとしても有効に機能し得るブロック層を形成することができる。本明細書において、ブロック層の断面の弾性率は、ナノインデンター（例えば、Ｈｙｓｉｔｒｏｎ　Ｉｎｃ.製、製品名：Ｔｒｉｂｏｉｎｄｅｎｔｅｒ）を用い、以下の条件で測定され得る。
使用圧子：Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ（三角錐型）
測定方法：単一押し込み測定
測定温度：２３℃
押し込み深さ設定：５０ｎｍ
　ブロック層の透湿度は、好ましくは１０ｇ／ｍ２・２４ｈ～２０００ｇ／ｍ２・２４ｈであり、より好ましくは１００ｇ／ｍ２・２４ｈ～１８００ｇ／ｍ２・２４ｈであり、さらに好ましくは１５０ｇ／ｍ２・２４ｈ～１５００ｇ／ｍ２・２４ｈである。透湿度が上記範囲であることにより、偏光子保護フィルムとしても有効に機能し得るブロック層を形成することができる。なお、透湿度は、ＪＩＳ　Ｚ０２０８の透湿度試験（カップ法）に準拠して決定され得る。
Ｄ．透明導電層
　透明導電層は、上記のとおり、金属ナノワイヤまたは金属メッシュを含む。１つの実施形態においては、透明導電層はポリマーマトリックスをさらに含む。この実施形態においては、ポリマーマトリックス中に、金属ナノワイヤまたは金属メッシュが存在する。ポリマーマトリックスから構成される導電層においては、ポリマーマトリックスにより金属ナノワイヤまたは金属メッシュが保護される。その結果、金属ナノワイヤまたは金属メッシュの腐食が防止され、耐久性により優れる光学積層体を得ることができる。
　上記透明導電層の単層厚みは、好ましくは５０ｎｍ～１５０ｎｍであり、より好ましくは５５ｎｍ～１４０ｎｍであり、さらに好ましくは６０ｎｍ～１３０ｎｍであり、特に好ましくは６５ｎｍ～１２０ｎｍである。
　上記透明導電層の表面抵抗値は、好ましくは０．０１Ω／□～１０００Ω／□であり、より好ましくは０．１Ω／□～５００Ω／□であり、特に好ましくは０．１Ω／□～３００Ω／□であり、最も好ましくは０．１Ω／□～１００Ω／□である。
　１つの実施形態においては、上記透明導電層はパターン化されている。パターン化の方法としては、透明導電層の形態に応じて、任意の適切な方法が採用され得る。透明導電層のパターンの形状は、用途に応じて任意の適切な形状であり得る。例えば、特表２０１１－５１１３５７号公報、特開２０１０－１６４９３８号公報、特開２００８－３１０５５０号公報、特表２００３－５１１７９９号公報、特表２０１０－５４１１０９号公報に記載のパターンが挙げられる。透明導電層は基材上に形成された後、透明導電層の形態に応じて、任意の適切な方法を用いてパターン化することができる。
　上記透明導電層の全光線透過率は、好ましくは８５％以上であり、より好ましくは９０％以上であり、さらに好ましくは９５％以上である。
（金属ナノワイヤを含む導電層）
　上記金属ナノワイヤとは、材質が金属であり、形状が針状または糸状であり、径がナノメートルサイズの導電性物質をいう。金属ナノワイヤは直線状であってもよく、曲線状であってもよい。金属ナノワイヤで構成された透明導電層を用いれば、金属ナノワイヤが網の目状となることにより、少量の金属ナノワイヤであっても良好な電気伝導経路を形成することができ、電気抵抗の小さい導電性光学積層体を得ることができる。
　上記金属ナノワイヤの太さｄと長さＬとの比（アスペクト比：Ｌ／ｄ）は、好ましくは１０～１００，０００であり、より好ましくは５０～１００，０００であり、特に好ましくは１００～１０，０００である。このようにアスペクト比の大きい金属ナノワイヤを用いれば、金属ナノワイヤが良好に交差して、少量の金属ナノワイヤにより高い導電性を発現させることができる。その結果、光透過率の高い透明導電層を得ることができる。なお、本明細書において、「金属ナノワイヤの太さ」とは、金属ナノワイヤの断面が円状である場合はその直径を意味し、楕円状である場合はその短径を意味し、多角形である場合は最も長い対角線を意味する。金属ナノワイヤの太さおよび長さは、走査型電子顕微鏡または透過型電子顕微鏡によって確認することができる。
　上記金属ナノワイヤの太さは、好ましくは５００ｎｍ未満であり、より好ましくは２００ｎｍ未満であり、特に好ましくは１０ｎｍ～１００ｎｍであり、最も好ましくは１０ｎｍ～６０ｎｍである。このような範囲であれば、光透過率の高い透明導電層を形成することができる。
　上記金属ナノワイヤの長さは、好ましくは１μｍ～１０００μｍであり、より好ましくは１μｍ～５００μｍであり、特に好ましくは１μｍ～１００μｍである。このような範囲であれば、導電性の高い導電性光学積層体を得ることができる。
　上記金属ナノワイヤを構成する金属としては、導電性の高い金属である限り、任意の適切な金属が用いられ得る。上記金属ナノワイヤを構成する金属としては、例えば、金、白金、銀、銅、アルミニウム、ロジウムおよびニッケルからなる群より選ばれた１種以上の金属が挙げられる。また、これらの金属にメッキ処理（例えば、金メッキ処理）を行った材料を用いてもよい。金属ナノワイヤは、金、白金、銀および銅からなる群より選ばれた１種以上の金属により構成されることが好ましい。
　上記金属ナノワイヤの製造方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。例えば溶液中で硝酸銀を還元する方法、前駆体表面にプローブの先端部から印可電圧又は電流を作用させ、プローブ先端部で金属ナノワイヤを引き出し、該金属ナノワイヤを連続的に形成する方法等が挙げられる。溶液中で硝酸銀を還元する方法においては、エチレングリコール等のポリオール、およびポリビニルピロリドンの存在下で、硝酸銀等の銀塩の液相還元することにより、銀ナノワイヤが合成され得る。均一サイズの銀ナノワイヤは、例えば、Ｘｉａ，Ｙ．ｅｔａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．（２００２）、１４、４７３６－４７４５　、Ｘｉａ，　Ｙ．ｅｔａｌ．，　Ｎａｎｏ　ｌｅｔｔｅｒｓ（２００３）３（７）、９５５－９６０　に記載される方法に準じて、大量生産が可能である。
　上記透明導電層における金属ナノワイヤの含有割合は、透明導電層の全重量に対して、好ましくは３０重量％～１００重量％であり、より好ましくは３０重量％～９０重量％であり、さらに好ましくは４５重量％～８０重量％である。このような範囲であれば、導電性および光透過性に優れる透明導電層を得ることができる。
　上記金属ナノワイヤの密度は、好ましくは１．３ｇ／ｃｍ３～１０．５ｇ／ｃｍ３であり、より好ましくは１．５ｇ／ｃｍ３～３．０ｇ／ｃｍ３である。このような範囲であれば、導電性および光透過性に優れる導電層を得ることができる。
（金属メッシュを含む透明導電層）
　金属メッシュを含む透明導電層は、上記基材上に、金属細線が格子状のパターンに形成されてなる。金属メッシュを構成する金属としては、導電性の高い金属である限り、任意の適切な金属が用いられ得る。上記金属メッシュを構成する金属としては、例えば、金、白金、銀、銅、アルミニウム、ロジウムおよびニッケルからなる群より選ばれた１種以上の金属が挙げられる。また、これらの金属にメッキ処理（例えば、金メッキ処理）を行った材料を用いてもよい。金属メッシュは、金、白金、銀および銅からなる群より選ばれた１種以上の金属により構成されることが好ましい。
（ポリマーマトリックス）
　上記ポリマーマトリックスを構成するポリマーとしては、任意の適切なポリマーが用いられ得る。該ポリマーとしては、例えば、アクリル系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、ポリビニルトルエン、ポリビニルキシレン、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド等の芳香族系ポリマー；ポリウレタン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；ポリオレフィン系ポリマー；アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＡＢＳ）；セルロース；シリコン系ポリマー；ポリ塩化ビニル；ポリアセテート；ポリノルボルネン；合成ゴム；フッ素系ポリマー等が挙げられる。好ましくは、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）、ネオペンチルグリコールジアクリレート（ＮＰＧＤＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）等の多官能アクリレートから構成される硬化型樹脂（好ましくは紫外線硬化型樹脂）が用いられる。
Ｅ．保護層
　上記のとおり、導電性光学積層体は、透明導電層を保護するようにして配置された保護層を有していてもよい。
　上記保護層を形成する材料としては、任意の適切な樹脂組成物が用いられ得る。樹脂組成物に含まれる樹脂としては、例えば、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂（紫外線硬化性樹脂、可視光硬化性樹脂）、電子線硬化性樹脂などが挙げられ、作業性の観点から、紫外線硬化性樹脂が好ましい。熱硬化性樹脂を含む樹脂組成物は、例えば、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂またはポリウレタン樹脂と、必要に応じて添加される硬化剤によって構成される。光硬化性樹脂または電子線硬化性樹脂を含む樹脂組成物は、例えば、単官能アクリレート、多官能アクリレートなどの重合性モノマー；またはポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ポリウレタンアクリレートなどの重合性プレポリマー；と、必要に応じて添加される光開始剤によって構成される。
　上記保護層は、導電性樹脂から構成されていてもよい。導電性樹脂としては、例えば、ポリ（３，４－エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）、ポリアニリン、ポリチオフェン、およびポリジアセチレン等が挙げられる。
　上記保護層は、無機材料から構成されていてもよい。無機材料としては、例えば、シリカ、ムライト、アルミナ、ＳｉＣ、ＭｇＯ－Ａｌ２Ｏ３－ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３－ＳｉＯ２、ＭｇＯ－Ａｌ２Ｏ３－ＳｉＯ２－Ｌｉ２Ｏ等が挙げられる。
　上記保護層の厚みは、例えば、１μｍ～１００μｍであり、より好ましくは２μｍ～５０μｍであり、さらに好ましくは３μｍ～２０μｍである。
Ｆ．基材
　上記基材は、代表的には、任意の適切な樹脂から構成される。上記基材を構成する樹脂としては、例えば、シクロオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂等が挙げられる。好ましくは、シクロオレフィン系樹脂が用いられる。シクロオレフィン系樹脂から構成される基材を用いれば、屈曲性に優れる導電性光学積層体を得ることができる。
　上記シクロオレフィン系樹脂として、例えば、ポリノルボルネンが好ましく用いられ得る。ポリノルボルネンとは、出発原料（モノマー）の一部または全部に、ノルボルネン環を有するノルボルネン系モノマーを用いて得られる（共）重合体をいう。上記ポリノルボルネンとしては、種々の製品が市販されている。具体例としては、日本ゼオン社製の商品名「ゼオネックス」、「ゼオノア」、ＪＳＲ社製の商品名「アートン（Ａｒｔｏｎ）」、ＴＩＣＯＮＡ社製の商品名「トーパス」、三井化学社製の商品名「ＡＰＥＬ」が挙げられる。
　上記基材を構成する樹脂のガラス転移温度は、好ましくは５０℃～２００℃であり、より好ましくは６０℃～１８０℃であり、さらに好ましくは７０℃～１６０℃である。このような範囲のガラス転移温度を有する基材であれば、透明導電層を形成する際の劣化が防止され得る。
　上記基材の厚みは、好ましくは８μｍ～５００μｍであり、より好ましくは１０μｍ～２５０μｍであり、さらに好ましくは１０μｍ～１５０μｍであり、特に好ましくは１５μｍ～１００μｍである。
　上記基材の全光線透過率は、好ましくは８０％以上であり、より好ましくは８５％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。このような範囲であれば、タッチパネル等に備えられる導電性光学積層体として好適な導電性光学積層体を得ることができる。
　上記基材は、必要に応じて任意の適切な添加剤をさらに含み得る。添加剤の具体例としては、可塑剤、熱安定剤、光安定剤、滑剤、抗酸化剤、紫外線吸収剤、難燃剤、着色剤、帯電防止剤、相溶化剤、架橋剤、および増粘剤等が挙げられる。使用される添加剤の種類および量は、目的に応じて適宜設定され得る。
　必要に応じて、上記基材に対して各種表面処理を行ってもよい。表面処理は目的に応じて任意の適切な方法が採用される。例えば、低圧プラズマ処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理が挙げられる。１つの実施形態においては、透明基材を表面処理して、透明基材表面を親水化させる。基材を親水化させれば、水系溶媒により調製された透明導電層形成用組成物を塗工する際の加工性が優れる。また、基材と透明導電層との密着性に優れる導電性光学積層体を得ることができる。
Ｇ．粘着剤層、接着剤層
　上記のとおり、上記導電性光学積層体においては、各層（例えば、偏光子、ブロック層、透明導電層、任意で配置され得るその他の層等）間には、任意の適切な粘着剤層または接着剤層が配置されていてもよい。
　粘着剤層を構成する粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリアミド系粘着剤、ウレタン系粘着剤、フッ素系粘着剤、エポキシ系粘着剤、ポリエーテル系粘着剤が挙げられる。粘着剤は単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。透明性、加工性、耐久性などの点から、アクリル系粘着剤が好ましく用いられる。
　粘着剤層の厚みは、代表的には５μｍ～３００μｍであり、好ましくは１０μｍ～１５０μｍであり、より好ましくは１５μｍ～１００μｍである。
　接着剤層を構成する接着剤としては、任意の適切な形態の接着剤が採用され得る。具体例としては、水性接着剤、溶剤型接着剤、エマルション系接着剤、無溶剤型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、熱硬化型接着剤が挙げられる。活性エネルギー線硬化型接着剤としては、電子線硬化型接着剤、紫外線硬化型接着剤、可視光線硬化型接着剤が挙げられる。水性接着剤および活性エネルギー線硬化型接着剤が好適に用いられ得る。水性接着剤の具体例としては、イソシアネート系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ゼラチン系接着剤、ビニル系ラテックス系、水系ポリウレタン、水系ポリエステルが挙げられる。活性エネルギー線硬化型接着剤の具体例としては、（メタ）アクリレート系接着剤が挙げられる。（メタ）アクリレート系接着剤における硬化性成分としては、例えば、（メタ）アクリロイル基を有する化合物、ビニル基を有する化合物が挙げられる。また、カチオン重合硬化型接着剤としてエポキシ基やオキセタニル基を有する化合物も使用することができる。エポキシ基を有する化合物は、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有するものであれば特に限定されず、一般に知られている各種の硬化性エポキシ化合物を用いることができる。好ましいエポキシ化合物として、分子内に少なくとも２個のエポキシ基と少なくとも１個の芳香環を有する化合物（芳香族系エポキシ化合物）や、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有し、そのうちの少なくとも１個は脂環式環を構成する隣り合う２個の炭素原子との間で形成されている化合物（脂環式エポキシ化合物）等が例として挙げられる。
　接着剤層の厚みは、代表的には０．０１μｍ～７μｍであり、好ましくは０．０１μｍ～５μｍである。
Ｈ．導電性光学積層体の製造方法
　上記導電性光学積層体は、任意の適切な方法により製造することができる。１つの実施形態においては、偏光子を含む積層体（以下、偏光板ともいう）と、透明導電層を含む積層体（以下、導電性フィルムともいう）とを貼り合わせることにより、導電性光学積層体が得られ得る。ブロック層２０は、偏光板に配置されていてもよく（図１、図２（ａ））、導電性フィルムに配置されていてもよく（図２（ｂ）、図２（ｃ））、偏光板および導電性フィルムの両方に配置されていてもよい（図２（ｄ）、図２（ｅ））。偏光板と導電性フィルムとは、上記粘着剤層または接着剤層を介して、貼り合わせることができる。
　ブロック層は、任意の適切な方法により形成することができる。例えば、所定の層（例えば、偏光子、透明導電層、保護層）に、ブロック層形成用組成物を塗工することにより形成することができる。
　ブロック層形成用組成物は、ブロック層を構成する樹脂（例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂等）を含み、必要に応じて、任意の適切な他の成分をさらに含む。他の成分としては、例えば、溶媒、および、添加剤が挙げられる。溶媒としては、ブロック層を構成する樹脂を溶液重合する際に用いることができる溶媒を用いてもよく、他の溶媒を用いてもよい。他の溶媒としては、例えば、酢酸エチル、トルエン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン等が挙げられる。これらの溶媒は、１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　ブロック層形成用組成物の塗工方法としては、バーコーター塗工、エアナイフ塗工、グラビア塗工、グラビアリバース塗工、リバースロール塗工、リップ塗工、ダイ塗工、ディップ塗工、オフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷など種々の方法を採用することができる。
（導電性フィルムの作製）
　１つの実施形態においては、導電性フィルムにおける透明導電層は、例えば、基材（または、基材とその他の層との積層体）に、金属ナノワイヤを含む導電層形成用組成物を塗布し、その後、塗布層を乾燥させて、形成することができる。
　上記導電層形成用組成物は、金属ナノワイヤの他、任意の適切な溶媒を含み得る。導電層形成用組成物は、金属ナノワイヤの分散液として準備され得る。上記溶媒としては、水、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、エーテル系溶媒、炭化水素系溶媒、芳香族系溶媒等が挙げられる。環境負荷低減の観点から、水を用いることが好ましい。上記導電層形成用組成物は、目的に応じて任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。上記添加剤としては、例えば、金属ナノワイヤの腐食を防止する腐食防止材、金属ナノワイヤの凝集を防止する界面活性剤等が挙げられる。使用される添加剤の種類、数および量は、目的に応じて適切に設定され得る。
　上記透明導電層がポリマーマトリックスを含む場合、ポリマーマトリックスは、上記のようにして、導電層形成用組成物を塗布し乾燥させた後、金属ナノワイヤから構成される層上にポリマー溶液（ポリマー組成物、モノマー組成物）を塗布し、その後、ポリマー溶液の塗布層を乾燥または硬化させて、形成され得る。また、ポリマーマトリックスを構成するポリマーを含有する導電層形成用組成物を用いて、透明導電層を形成してもよい。
　上記導電層形成用組成物中の金属ナノワイヤの分散濃度は、好ましくは０．１重量％～１重量％である。このような範囲であれば、導電性および光透過性に優れる透明導電層を形成することができる。
　上記導電層形成用組成物の塗布方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。塗布方法としては、例えば、スプレーコート、バーコート、ロールコート、ダイコート、インクジェットコート、スクリーンコート、ディップコート、凸版印刷法、凹版印刷法、グラビア印刷法等が挙げられる。塗布層の乾燥方法としては、任意の適切な乾燥方法（例えば、自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥）が採用され得る。例えば、加熱乾燥の場合には、乾燥温度は代表的には５０℃～２００℃であり、好ましくは８０℃～１５０℃である。乾燥時間は代表的には１～１０分である。
　上記ポリマー溶液は、上記ポリマーマトリックスを構成するポリマー、または該ポリマーの前駆体（該ポリマーを構成するモノマー）を含む。
　上記ポリマー溶液は溶剤を含み得る。上記ポリマー溶液に含まれる溶剤としては、例えば、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、炭化水素系溶剤、または芳香族系溶剤等が挙げられる。好ましくは、該溶剤は、揮発性である。該溶剤の沸点は、好ましくは２００℃以下であり、より好ましくは１５０℃以下であり、さらに好ましくは１００℃以下である。
　金属メッシュを含む透明導電層は、任意の適切な方法により形成させることができる。該透明導電層は、例えば、銀塩を含む感光性組成物（導電層形成用組成物）を上記透明フィルム上に塗布し、その後、露光処理および現像処理を行い、金属細線を所定のパターンに形成することにより得ることができる。また、該導電層は、金属微粒子を含むペーストを所定のパターンに印刷して得ることもできる。このような導電層およびその形成方法の詳細は、例えば、特開２０１２－１８６３４号公報に記載されており、その記載は本明細書に参考として援用される。また、金属メッシュから構成される導電層およびその形成方法の別の例としては、特開２００３－３３１６５４号公報に記載の導電層およびその形成方法が挙げられる。
　導電性光学積層体（実質的には、透明電性フィルム）が保護層を有する場合、該保護層は、例えば、上記のようにして透明導電層を形成した後、さらに上記保護層形成用材料（例えば、所定の樹脂）または保護層形成用材料の前駆体（例えば、上記樹脂を構成する単量体）を含む保護層形成用組成物を塗布し、その後乾燥、ならびに必要に応じて硬化処理して形成させることができる。塗布方法としては、上記の方法が採用され得る。乾燥方法としては、任意の適切な乾燥方法（例えば、自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥）が採用され得る。例えば、加熱乾燥の場合には、乾燥温度は代表的には１００℃～２００℃であり、乾燥時間は代表的には１～１０分である。硬化処理は、保護層を構成する樹脂に応じて任意の適切な条件により行われ得る。
　上記保護層形成用組成物は溶剤を含み得る。上記保護層形成用組成物に含まれる溶剤としては、例えば、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、炭化水素系溶剤、または芳香族系溶剤等が挙げられる。好ましくは、該溶剤は、揮発性である。該溶剤の沸点は、好ましくは２００℃以下であり、より好ましくは１５０℃以下であり、さらに好ましくは１００℃以下である。
　上記保護層形成用組成物は、目的に応じて任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。添加剤としては、例えば、架橋剤、重合開始剤、安定剤、界面活性剤、腐食防止剤等が挙げられる。
　以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例になんら限定されるものではない。
［製造例１］保護フィルム付偏光子の製造
　基材として、長尺状で、吸水率０．７５％、Ｔｇ７５℃の非晶質のイソフタル酸共重合ポリエチレンテレフタレート（ＩＰＡ共重合ＰＥＴ）フィルム（厚み：１００μｍ）を用いた。基材の片面に、コロナ処理を施し、このコロナ処理面に、ポリビニルアルコール（重合度４２００、ケン化度９９．２モル％）およびアセトアセチル変性ＰＶＡ（重合度１２００、アセトアセチル変性度４．６％、ケン化度９９．０モル％以上、日本合成化学工業社製、商品名：ゴーセファイマーＺ２００）を９：１の比で含む水溶液を２５℃で塗布および乾燥して、厚み１３μｍのＰＶＡ系樹脂層を形成し、積層体を作製した。
　得られた積層体を、１３０℃のオーブン内で周速の異なるロール間で縦方向（長手方向）に２．４倍に自由端一軸延伸した（空中補助延伸）。
　次いで、積層体を、液温４０℃の不溶化浴（水１００重量部に対して、ホウ酸を４重量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（不溶化処理）。
　次いで、積層体を３０℃の染色溶液（水１００重量部に対し、ヨウ化カリウム７．０重量部、および、固体ヨウ素１．０重量部を添加した水溶液）に、得られる偏光子の透過率が４２％以上となるよう浸漬させて染色した（染色処理）。
　次いで、液温４０℃の架橋浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを３重量部配合し、ホウ酸を５重量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３５秒間浸漬させた（架橋処理）。
　その後、積層体を、液温７０℃のホウ酸水溶液（ホウ酸濃度：４．０重量％）に浸漬させながら、周速の異なるロール間で縦方向（長手方向）に総延伸倍率が５．５倍となるように一軸延伸を行った（水中延伸）。
　その後、積層体を液温２０℃の洗浄浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを４重量部配合して得られた水溶液）に３秒間浸漬させた（洗浄処理）。
　次いで、６０℃のオーブンで６０秒間乾燥させ、厚み５μｍのＰＶＡ系樹脂層（偏光子）を有する積層体を得た。
　得られた積層体の偏光子側の面に、紫外線硬化型接着剤を硬化後の厚みが１μｍとなるように塗布し、該塗布面にラクトン環構造を有する（メタ）アクリル樹脂フィルムＡ（厚み４０μｍ）のコロナ処理を施した面を貼り合わせ、紫外線硬化型接着剤を硬化させた。その後、積層体からＰＥＴフィルムを剥離し、保護フィルム付偏光子Ａ（保護フィルム（４０μｍ）／接着剤層（１μｍ）／偏光子（５μｍ））を得た。
　なお、上記紫外線硬化型接着剤としては、Ｎ－ヒドロキシエチルアクリルアミド（ＨＥＡＡ）４０重量部と、アクリロイルモルホリン（ＡＣＭＯ）６０重量部と、光開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　８１９）３重量部とを混合して調製したものを用いた。
［製造例２］積層体Ａ（保護フィルム付偏光子／ブロック層／粘着剤層）の製造
（保護フィルム付偏光子Ａの製造）
　製造例１と同様にして、保護フィルム付偏光子Ａを製造した。
（ブロック層の形成）
　メタクリル酸メチル（ＭＭＡ、富士フイルム和光純薬製、商品名：メタクリル酸メチルモノマー）９７．０重量部、上記式（１ｅ）で表される単量体３．０重量部、重合開始剤（富士フイルム和光純薬社製、商品名：２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル））０．２重量部をトルエン２００重量部に溶解した。次いで、窒素雰囲気下で７０℃に加熱しながら５時間重合反応を行い、重合体（Ａ）（固形分濃度：３３重量％）を得た。得られた重合体（Ａ）の重量平均分子量は８５，０００であった。
　重合体（Ａ）１０重量部と、エポキシ樹脂（三菱ケミカル社製、商品名「ＪＥＲ　１２５６Ｂ４０」）９０重量部とを混合し、ブロック層形成用組成物を調製した。得られたブロック層形成用組成物を、保護フィルム付偏光子Ａの偏光子表面に、乾燥後厚みが０．４μｍとなるように塗工してブロック層を形成し、保護フィルム付偏光子Ａ（保護フィルム／接着剤層／偏光子）／ブロック層からなる積層体ａを得た。
（粘着剤層の形成）
　撹拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器を備えた４つ口フラスコに、ブチルアクリレート９９重量部、および、アクリル酸４－ヒドロキシブチル１重量部を含有するモノマー混合物を仕込んだ。さらに、上記モノマー混合物（固形分）１００重量部に対して、重合開始剤として２，２´－アゾビスイソブチロニトリル０．１重量部を酢酸エチルと共に仕込み、緩やかに撹拌しながら窒素ガスを導入して窒素置換した後、フラスコ内の液温を６０℃付近に保って７時間重合反応を行った。その後、得られた反応液に、酢酸エチルを加えて固形分濃度を３０％に調整した。このようにして、重量平均分子量１４０万のアクリル系ポリマー（ベースポリマー）の溶液を調製した。
　上記アクリル系ポリマーの溶液の固形分１００重量部に対して、架橋剤としてトリメチロールプロパンキシリレンジイソシアネート（三井化学社製、商品名：タケネートＤ１１０Ｎ）０．０９５重量部およびジベンゾイルパーオキサイド０．３重量部、シランカップリング剤としてオルガノシラン（綜研化学社製、商品名：Ａ１００）０．２重量部およびチオール基含有シランカップリング剤（信越化学工業社製、商品名：Ｘ４１－１８１０）０．２重量部、ならびに、酸化防止剤（ＢＡＳＦ社製、商品名：Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０）０．３重量部を配合して、アクリル系粘着剤（溶液）を得た。
　得られたアクリル系粘着剤組成物を、シリコーン系剥離剤で処理されたポリエチレンテレフタレートフィルム（セパレーター）の表面にファウンテンコーターで均一に塗工し、次いで、１５５℃の空気循環式恒温オーブンで２分間乾燥し、セパレーター表面に厚さ２０μｍの粘着剤層を形成した。
　この粘着剤層を、積層体ａのブロック層表面に転写して、積層体Ａ（保護フィルム付偏光子Ａ／ブロック層／粘着剤層）を得た。
［製造例３］積層体Ｂ（保護フィルム付偏光子Ａ／粘着剤層）の製造
（保護フィルム付偏光子Ａの製造）
　製造例１と同様にして、保護フィルム付偏光子Ａを製造した。
（粘着剤層の形成）
　製造例２と同様にして、セパレーター表面に厚さ２０μｍの粘着剤層を形成した。
　この粘着剤層を、保護フィルム付偏光子Ａの偏光子表面に転写して、積層体Ｂ（保護フィルム付偏光子Ａ／粘着剤層）を得た。
［製造例４］透明導電性フィルムＩ（基材／透明導電層）の製造
（導電層形成用組成物の調製）
　Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．２００２，１４，４７３６－４７４５に記載の方法に基づいて、銀ナノワイヤを合成した。
　純水に、上記で得られた銀ナノワイヤを０．２重量％、および、ドデシル－ペンタエチレングリコールを０．１重量％の濃度となるように分散し、透明導電層形成用組成物を得た。
（透明導電性フィルムＩの製造）
　基材としてＰＥＴフィルム（三菱樹脂製、商品名「Ｓ１００」）を用いた。この基材を搬送ロールを用いて搬送しながら、当該基材上に、バーコーター（第一理科株式会社製、製品名「バーコーター　Ｎｏ．１２」）を用いて上記透明導電層形成用組成物を塗布してＷｅｔ厚み１８μｍの塗布層を形成した。その後１２０℃で１分間乾燥させて、透明導電層を形成し、基材および透明導電層を備える透明導電性フィルムＩ（基材／透明導電層）を得た。得られたフィルムの抵抗を測定したところ、５０Ωであった。
［製造例５］透明導電性フィルムＩＩ（基材／透明導電層／保護層）の製造
　製造例４と同様にして、透明導電性フィルムＩ（基材／透明導電層）を製造した。
　透明導電性フィルムＩの透明導電層面に、紫外線硬化性樹脂（ダイセル・オルネクス社製、商品名「ＫＲＭ　９４９５」）の希釈液（酢酸エチル；１ｗｔ％）を、Ｗｅｔ膜厚が１μｍとなるように塗布し、１００℃×１分乾燥、紫外線２００ｍＪを照射後、乾燥膜厚が１００ｎｍの保護層を形成して、透明導電性フィルムＩＩ（基材／透明導電層／保護層）を得た。
［製造例６］透明導電性フィルムＩＩＩ（基材／透明導電層／ブロック層）の製造
　製造例４と同様にして、透明導電性フィルムＩ（基材／透明導電層）を製造した。
（ブロック層の形成）
　メタクリル酸メチル（ＭＭＡ、富士フイルム和光純薬製、商品名：メタクリル酸メチルモノマー）９７．０重量部、上記式（１ｅ）で表される単量体３．０重量部、重合開始剤（富士フイルム和光純薬社製、商品名：２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル））０．２重量部をトルエン２００重量部に溶解した。次いで、窒素雰囲気下で７０℃に加熱しながら５時間重合反応を行い、重合体（Ａ）（固形分濃度：３３重量％）を得た。得られた重合体（Ａ）の重量平均分子量は８５，０００であった。
　重合体（Ａ）１０重量部と、エポキシ樹脂（三菱ケミカル社製、商品名「ＪＥＲ　１２５６Ｂ４０」）９０重量部とを混合し、ブロック層形成用組成物を調製した。得られたブロック層形成用組成物を、透明導電性フィルムＩの透明導電層表面に、乾燥後厚みが０．４μｍとなるように塗工してブロック層を形成し、透明導電性フィルムＩＩＩ（基材／透明導電層／ブロック層）を得た。
［製造例７］透明導電性フィルムＩＶ（基材／透明導電層／保護層／ブロック層）の製造
　製造例５と同様にして、透明導電性フィルムＩＩ（基材／透明導電層／保護層）を製造した。
（ブロック層の形成）
　メタクリル酸メチル（ＭＭＡ、富士フイルム和光純薬製、商品名：メタクリル酸メチルモノマー）９７．０重量部、上記式（１ｅ）で表される単量体３．０重量部、重合開始剤（富士フイルム和光純薬社製、商品名：２，２’－アゾビス（イソブチロニトリル））０．２重量部をトルエン２００重量部に溶解した。次いで、窒素雰囲気下で７０℃に加熱しながら５時間重合反応を行い、重合体（Ａ）（固形分濃度：３３重量％）を得た。得られた重合体（Ａ）の重量平均分子量は８５，０００であった。
　重合体（Ａ）１０重量部と、エポキシ樹脂（三菱ケミカル社製、商品名「ＪＥＲ　１２５６Ｂ４０」）９０重量部とを混合し、ブロック層形成用組成物を調製した。得られたブロック層形成用組成物を、透明導電性フィルムＩＩの保護層表面に、乾燥後厚みが０．４μｍとなるように塗工してブロック層を形成し、透明導電性フィルムＩＶ（基材／透明導電層／保護層／ブロック層）を得た。
［実施例１］
　製造例２で得られた積層体Ａ（保護フィルム付偏光子Ａ／ブロック層／粘着剤層）と、製造例４で得られた透明導電性フィルムＩ（基材／透明導電層）とを、粘着剤層と透明導電層とが接触するようにして積層し、導電性光学積層体（保護フィルム付偏光子Ａ／ブロック層／粘着剤層／透明導電層／基材）を得た。
［実施例２］
　製造例２で得られた積層体Ａ（保護フィルム付偏光子Ａ／ブロック層／粘着剤層）と、製造例５で得られた透明導電性フィルムＩＩ（基材／透明導電層／保護層）とを、粘着剤層と保護層とが接触するようにして積層し、導電性光学積層体（保護フィルム付偏光子Ａ／ブロック層／粘着剤層／保護層／透明導電層／基材）を得た。
［実施例３］
　製造例３で得られた積層体Ｂ（保護フィルム付偏光子Ａ／粘着剤層）と、製造例６で得られた透明導電性フィルムＩＩＩ（基材／透明導電層／ブロック層）とを、粘着剤層とブロック層とが接触するようにして積層し、導電性光学積層体（保護フィルム付偏光子Ａ／粘着剤層／ブロック層／透明導電層／基材）を得た。
［実施例４］
　製造例３で得られた積層体Ｂ（保護フィルム付偏光子Ａ／粘着剤層）と、製造例７で得られた透明導電性フィルムＩＶ（基材／透明導電層／保護層／ブロック層）とを、粘着剤層とブロック層とが接触するようにして積層し、導電性光学積層体（保護フィルム付偏光子Ａ／粘着剤層／ブロック層／保護層／透明導電層／基材）を得た。
［実施例５］
　製造例２で得られた積層体Ａ（保護フィルム付偏光子Ａ／ブロック層／粘着剤層）と、製造例６で得られた透明導電性フィルムＩＩＩ（基材／透明導電層／ブロック層）とを、粘着剤層とブロック層とが接触するようにして積層し、導電性光学積層体（保護フィルム付偏光子Ａ／ブロック層／粘着剤層／ブロック層／透明導電層／基材）を得た。
［実施例６］
　製造例２で得られた積層体Ａ（保護フィルム付偏光子Ａ／ブロック層／粘着剤層）と、製造例７で得られた透明導電性フィルムＩＶ（基材／透明導電層／保護層／ブロック層）とを、粘着剤層とブロック層とが接触するようにして積層し、導電性光学積層体（保護フィルム付偏光子Ａ／ブロック層／粘着剤層／ブロック層／保護層／透明導電層／基材）を得た。
［実施例７］
　製造例１と同様にして、保護フィルム付偏光子Ａ（保護フィルム／接着剤層／偏光子）を得た。この保護フィルム付偏光子Ａの偏光子側の面に、紫外線硬化型接着剤を硬化後の厚みが１μｍとなるように塗布し、該塗布面にラクトン環構造を有する（メタ）アクリル樹脂フィルムＡ（厚み４０μｍ）のコロナ処理を施した面を貼り合わせ、紫外線硬化型接着剤を硬化させ、ブロック層を備える保護フィルム付偏光子Ｂ（保護フィルム／接着剤層／偏光子／接着剤層／ブロック層（保護フィルム））を得た。
　この保護フィルム付偏光子Ｂ（保護フィルム／接着剤層／偏光子／接着剤層／ブロック層（保護フィルム））と、製造例４で得られた透明導電性フィルムＩ（基材／透明導電層）とを、粘着剤層と透明導電層とが接触するようにして積層し、導電性光学積層体（保護フィルム付偏光子Ｂ（保護フィルム／接着剤層／偏光子／接着剤層／ブロック層（保護フィルム））／粘着剤層／透明導電層／基材）を得た。
［比較例１］
　製造例３で得られた積層体Ｂ（保護フィルム付偏光子Ａ／粘着剤層）と、製造例４で得られた透明導電性フィルムＩ（基材／透明導電層）とを、粘着剤層と透明導電層とが接触するようにして積層し、導電性光学積層体（保護フィルム付偏光子Ａ／粘着剤層／透明導電層／基材）を得た。
［比較例２］
　製造例３で得られた積層体Ｂ（保護フィルム付偏光子Ａ／粘着剤層）と、製造例５で得られた透明導電性フィルムＩＩ（基材／透明導電層／保護層）とを、粘着剤層と保護層とが接触するようにして積層し、導電性光学積層体（保護フィルム付偏光子Ａ／粘着剤層／保護層／透明導電層／基材）を得た。
＜評価＞
　実施例および比較例で得られた導電性光学積層体を５０ｍｍ×５０ｍｍのサイズに切り出し、アクリル系粘着剤を介して、無アルカリガラスに貼り合わせて評価サンプルを得た。導電性光学積層体は、基材が無アルカリガラス側、保護フィルム付偏光子が外側となるようにして配置した。
　次いで、透明導電層の初期抵抗値を、ナプソン社製「形式ＥＣ－８０」を用いて測定した。さらに、評価サンプルを、温度６５℃／湿度９０％の環境下に５００時間保管し、その後室温に戻してから、透明導電層の抵抗値を測定した。
　また、別途、評価サンプルを、温度８５℃／湿度８５％の環境下に５０時間保管し、その後室温に戻してから、透明導電層の抵抗値を測定した。
　保管後の抵抗値／保管前の抵抗値（初期抵抗値）により算出される抵抗率変化から、金属ナノワイヤの劣化度合いを評価した。結果を表１に示す。なお、抵抗値が∞の場合（すなわち、測定可能範囲を超える場合）、「測定不能」と表記している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
　表１から明らかなように、本発明の導電性光学積層体によれば、偏光子と透明導電層との間に、ブロック層を設けることにより、透明導電層中の金属ナノワイヤの劣化が防止される。このような効果は、ブロック層の組成を好ましく調整することにより顕著となり（実施例１～６）、より過酷な条件（８５℃／８５％）下での抵抗変化も抑制され得る。
 
　１０　　　　　　偏光子
　２０　　　　　　ブロック層
　３０　　　　　　透明導電層
　４０　　　　　　基材
　１００、２００、３００、４００、５００、６００　　導電性光学積層体
　
　

Claims (12)

  1. 　偏光子と、ブロック層と、透明導電層とをこの順に備え、
    　該ブロック層が、樹脂層であり、
    　該透明導電層が、金属ナノワイヤまたは金属メッシュを含む、
    　導電性光学積層体。
  2. 　前記ブロック層が、アクリル系樹脂および／またはエポキシ系樹脂を含む、請求項１に記載の導電性光学積層体。
  3. 　前記アクリル系樹脂が、アクリル系単量体由来の構成単位と、下記式（１）で表される単量体（ａ）由来の構成単位とを含む、請求項２に記載の導電性光学積層体：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     （式中、Ｘはビニル基、（メタ）アクリル基、スチリル基、（メタ）アクリルアミド基、ビニルエーテル基、エポキシ基、オキセタン基、ヒドロキシル基、アミノ基、アルデヒド基、および、カルボキシル基からなる群より選択される少なくとも１種の反応性基を含む官能基を表し、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよいアリール基、または、置換基を有していてもよいヘテロ環基を表し、Ｒ１およびＲ２は互いに連結して環を形成してもよい。）
  4. 　前記アクリル系樹脂において、前記単量体（ａ）由来の構成単位の含有割合が、該アクリル系樹脂１００重量部に対して、０重量部を超えて５０重量部未満である、請求項３に記載の導電性光学積層体。
  5. 　前記ブロック層の総厚みが、０．１μｍ～１６μｍである、請求項１から４のいずれかに記載の導電性光学積層体。
  6. 　前記ブロック層を複数層有する、請求項１から５のいずれかに記載の導電性光学積層体。
  7. 　基材をさらに備え、
    　前記透明導電層が、該基材上に配置される、
    　請求項１から６のいずれかに記載の導電性光学積層体。
  8. 　前記ブロック層と前記透明導電層との間において、該透明導電層を保護するようにして配置された保護層をさらに備える、請求項１から７のいずれかに記載の導電性光学積層体。
  9. 　前記金属ナノワイヤを構成する金属が、金、白金、銀、銅、アルミニウム、ロジウムおよびニッケルからなる群より選ばれた１種以上の金属である、請求項１から８のいずれかに記載の導電性光学積層体。
  10. 　前記金属メッシュを構成する金属が、金、白金、銀、銅、アルミニウム、ロジウムおよびニッケルからなる群より選ばれた１種以上の金属である、請求項１から８のいずれかに記載の導電性光学積層体。
  11. 　前記金属ナノワイヤが、金、白金、銀、銅、アルミニウム、ロジウムおよびニッケルからなる群より選ばれた１種以上の金属にメッキ処理を行った材料から構成される、請求項１から８のいずれかに記載の導電性光学積層体。
  12. 　前記金属メッシュが、金、白金、銀、銅、アルミニウム、ロジウムおよびニッケルからなる群より選ばれた１種以上の金属にメッキ処理を行った材料から構成される、請求項１から８のいずれかに記載の導電性光学積層体。
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