JPWO2020044750A1 - 円偏光板及びそれを用いた画像表示装置 - Google Patents

Abstract

偏光フィルムと、λ／４板として機能する位相差フィルムとを、この順に備え、前記偏光フィルムの吸収軸と位相差フィルムの遅相軸とのなす角が３５°〜５５°であり、前記位相差フィルムは、液晶材料を含み、前記位相差フィルムが下記式（α）及び（β）を満たし、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （α）、１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （β） 前記位相差フィルムが異物を含み、前記位相差フィルムの厚みが１．５μｍ以上であり、前記位相差フィルムの表面が実質的に平坦である、円偏光板。

Description

本発明は、円偏光板及びそれを用いた画像表示装置に関するものである。

近年、携帯電話やタブレット端末などの普及が進み、画像表示装置として液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置（有機ＥＬ表示装置）が広く用いられるようになってきた。有機ＥＬ表示装置は、通常、外光が金属電極（陰極）で反射されて鏡面のように視認されることを抑制するために、有機ＥＬパネルの視認側表面に円偏光板が配置される。また、表示装置は、その薄型化が市場から求められている。そのため、薄型化が求められる表示装置において、当該表示装置に用いられる偏光板や円偏光板等の各部材も薄型のものが好ましい。

前記円偏光板としては、一般的には偏光板とλ／４板との積層体が用いられている。円偏光板として、例えば、偏光フィルムと、特定の屈折率特性を有する１枚の位相差層を積層したものも知られている（例えば、特許文献１参照）。

位相差フィルムは樹脂フィルムを延伸することで製造される延伸フィルムが一般的であるが、この延伸フィルムを用いたλ／４板では薄型化には限界がある。そこで、さらなる薄型化に向けて重合性液晶化合物が硬化した層を用いたλ／４板が提案されている（例えば、特許文献２参照）。しかしながら、このようなλ／４板を備える円偏光板においては、その製造過程によっては、異物が混入することがあり、この異物（樹脂フィルムで構成されるλ／４板では問題とならなかった）が輝点となってしまい、表示特性に悪影響を与えることがある。また、製造歩留まりが低下するという問題が生じる場合がある。このような影響は、位相差値について逆波長分散性を持つ重合性液晶化合物が硬化した層を用いたλ／４板を用いた円偏光板では、いっそう大きい。より広帯域の波長で反射防止効果が得られるため輝点が視認されやすい傾向にあるためである。

特許第３３２５５６０号公報 特開２０１４−１２３１３４公報

本発明は前記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、非常に薄く、優れた反射防止特性を有し、かつ、異物に起因する画像表示装置の表示性能に対する悪影響が抑制された円偏光板を提供することにある。

すなわち、本発明は、以下の円偏光板及び画像表示装置を提供する。
［１］ 偏光フィルムと、λ／４板として機能する位相差フィルムとを、この順に備え、前記偏光フィルムの吸収軸と位相差フィルムの遅相軸とのなす角が３５°〜５５°であり、
前記位相差フィルムは、液晶材料を含み、
前記位相差フィルムが下記式（α）及び（β）を満たし、
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （α）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （β）
前記位相差フィルムが異物を含み、
前記位相差フィルムの厚みが１．５μｍ以上であり、
前記位相差フィルムの表面が実質的に平坦である、円偏光板。
［式中、Ｒｅ（４５０）は波長４５０ｎｍにおける面内位相差値を表し、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける面内位相差値を表し、Ｒｅ（６５０）は波長６５０ｎｍにおける面内位相差値を表す。］
［２］ 前記異物がラビングくずである、[１]に記載の円偏光板。
［３］ ［１］又は［２］に記載の円偏光板とタッチセンサとを備える積層体。
［４］ ［１］又は［２］に記載の円偏光板を有する画像表示装置。
［５］ ［３］に記載の積層体を有する画像表示装置。
［６］ 前記画像表示装置が、有機エレクトロルミネッセンス表示装置である［４］又は［５］に記載の画像表示装置。

本発明によれば、非常に薄く、優れた反射防止特性を有し、かつ、異物に起因する画像表示装置の表示性能に対する悪影響が抑制された円偏光板を得ることができる。

以下、本発明の好ましい実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。

（用語及び記号の定義）
本明細書における用語及び記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大となる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差値
面内の位相差値（Ｒｅ（λ））は、温度２３℃、波長λ（ｎｍ）におけるフィルムの面内の位相差値をいう。Ｒｅ（λ）は、フィルムの厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差値
面内の位相差値（Ｒｔｈ（λ））は、温度２３℃、波長λ（ｎｍ）におけるフィルムの厚み方向の位相差値をいう。Ｒｔｈ（λ）は、フィルムの厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄによって求められる。

（偏光フィルム）
偏光フィルムは、特に限定されず、各種のものを使用できる。偏光フィルムとしては、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料の二色性物質を吸着させて（染色して）一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。これらの中でも、ポリビニルアルコール系フィルムとヨウ素等の二色性物質からなる偏光フィルムが好適である。これらの偏光フィルムの膜厚は特に制限されないが、一般的に３〜８０μｍ程度である。薄型化が求められる表示装置に適用する偏光フィルムとしては、その膜厚は１５μｍ以下が好ましい。

ポリビニルアルコール系フィルムとしては、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化したものを用いることができる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルの他に、酢酸ビニルと共重合可能な他の単量体との共重合体等が挙げられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、及びアンモニウム基を有するアクリルアミド類等が挙げられる。

ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、通常、８５〜１００ｍｏｌ％程度であり、９８ｍｏｌ％以上が好ましい。このポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタール等も用いることができる。またポリビニルアルコール系樹脂の重合度は、通常、１，０００〜１０，０００程度であり、１，５００〜５，０００程度が好ましい。

ポリビニルアルコール系樹脂を製膜したものが、偏光フィルムの原反フィルムとして用いられる。ポリビニルアルコール系樹脂を製膜する方法は、公知の方法で製膜することができる。ポリビニルアルコール系樹脂の原反フィルムの膜厚は、得られる偏光フィルムの厚みを１５μｍ以下とすることを考慮すると、５〜３５μｍ程度であるのが好ましく、５〜２０μｍであるのがより好ましい。原反フィルムの膜厚が３５μｍを超えると、偏光フィルムを製造する際の延伸倍率を高くする必要があり、また得られる偏光フィルムの寸法収縮が大きくなる傾向にある。一方、原反フィルムの膜厚が５μｍを下回ると、延伸を施す際のハンドリング性が低下し、製造中に切断などの不具合が発生しやすくなる傾向にある。

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの一軸延伸は、二色性色素の染色前、染色と同時、又は染色の後に行うことができる。一軸延伸を染色の後で行う場合には、この一軸延伸は、ホウ酸処理の前又はホウ酸処理中に行ってもよい。また、これらの複数の段階で一軸延伸を行ってもよい。このホウ酸処理は、染色後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムを架橋させるという役割を担う。

一軸延伸にあたっては、周速の異なるロール間で一軸に延伸してもよいし、熱ロールを用いて一軸に延伸してもよい。また、一軸延伸は、大気中で延伸を行う乾式延伸であってもよいし、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを溶剤（例えば、水）中で膨潤させた状態で延伸を行う湿式延伸であってもよい。延伸倍率は、通常、３〜８倍程度である。

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色する方法としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素が含有された水溶液に浸漬する方法が採用される。二色性色素として、具体的には、ヨウ素や二色性染料が用いられる。なお、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムは、染色処理の前に水への浸漬処理を施しておくことが好ましい。

二色性色素としてヨウ素を用いる場合は、通常、ヨウ素及びヨウ化カリウムを含有する水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。この水溶液におけるヨウ素の含有量は、通常、水１００重量部あたり ０.０１〜１重量部程度である。また、ヨウ化カリウムの含有量は、通常、水１００重量部あたり ０.５〜２０重量部程度である。染色に用いる水溶液の温度は、通常、２０〜４０℃程度である。
また、この水溶液への浸漬時間（染色時間）は、通常、２０〜１，８００秒程度である。

一方、二色性色素として二色性染料を用いる場合は、通常、水溶性二色性染料を含む水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。この水溶液における二色性染料の含有量は、通常、水１００重量部あたり１×１０^-4〜１０重量部程度であり、１×１０^-3〜１重量部程度が好ましい。この水溶液は、硫酸ナトリウム等の無機塩を染色助剤として含有していてもよい。染色に用いる二色性染料水溶液の温度は、通常、２０〜８０℃程度である。また、この水溶液への浸漬時間（染色時間）は、通常、１０〜１，８００秒程度である。

二色性色素による染色後のホウ酸処理は、通常、染色されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸含有水溶液に浸漬することにより行うことができる。

ホウ酸含有水溶液におけるホウ酸の量は、通常、水１００重量部あたり、２〜１５重量部程度であり、５〜１２重量部が好ましい。二色性色素としてヨウ素を用いる場合には、このホウ酸含有水溶液はヨウ化カリウムを含有することが好ましい。ホウ酸含有水溶液におけるヨウ化カリウムの量は、通常、水１００重量部あたり、０．１〜１５重量部程度であり、５〜１２重量部程度が好ましい。ホウ酸含有水溶液への浸漬時間は、通常、６０〜１，２００秒程度であり、１５０〜６００秒程度が好ましく、２００〜４００秒程度がより好ましい。ホウ酸含有水溶液の温度は、通常、５０℃以上であり、５０〜８５℃が好ましく、６０〜８０℃がより好ましい。

ホウ酸処理後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムは、通常、水洗処理される。水洗処理は、例えば、ホウ酸処理されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを水に浸漬することにより行うことができる。水洗処理における水の温度は、通常、５〜４０℃程度である。また、浸漬時間は、通常、１〜１２０秒程度である。

水洗後は乾燥処理が施されて、偏光フィルムが得られる。乾燥処理は、熱風乾燥機や遠赤外線ヒーターを用いて行うことができる。乾燥処理の温度は、通常、３０〜１００℃程度であり、５０〜８０℃が好ましい。乾燥処理の時間は、通常、６０〜６００秒程度であり、１２０〜６００秒が好ましい。

乾燥処理によって、偏光フィルムの水分率は実用程度にまで低減される。その水分率は、通常、５〜２０重量％であり、８〜１５重量％が好ましい。水分率が５重量％を下回ると、偏光フィルムの可撓性が失われ、偏光フィルムがその乾燥後に損傷したり、破断したりする場合がある。また、水分率が２０重量％を上回ると、偏光フィルムの熱安定性に劣る場合がある。

また、偏光フィルムの製造工程におけるポリビニルアルコール系樹脂フィルムの延伸、染色、ホウ酸処理、水洗工程、乾燥工程は、例えば、特開２０１２−１５９７７８号に記載されている方法に準じて行ってもよい。この文献記載の方法では、基材フィルムへのポリビニルアルコール系樹脂のコーティングにより、偏光フィルムとなるポリビニルアルコール系樹脂層を形成する。

偏光フィルムの厚みは上述のとおり、好ましくは１５μｍ以下、より好ましくは３〜１０μｍである。

また、前記偏光フィルムは、当該偏光フィルムの片面のみに保護フィルムを有する片面保護偏光板や、偏光フィルムの両面に保護フィルムを有する両面保護偏光板として使用することができる。

偏光フィルムは、液晶化合物を含む組成物を塗布して得られる液晶塗布型偏光フィルムであってもよい。液晶化合物を含む組成物は、液晶化合物及び二色性色素を含むことができる。液晶化合物としては液晶状態を示す性質を有していればよく、特にスメクチック相等の高次の配向状態を有していることが高い偏光性能を発揮することができるため好ましい。また、液晶化合物は、重合性官能基を有していることも好ましい。二色性色素は、液晶化合物とともに配向して二色性を示す色素であって、二色性色素自身が液晶性を有していてもよいし、重合性官能基を有していることもできる。液晶化合物を含む組成物の中のいずれかの化合物は重合性官能基を有している。液晶化合物を含む組成物はさらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。液晶塗布型偏光フィルムは、配向膜上に液晶化合物を含む組成物を塗布して、硬化させることで製造することができる。液晶塗布型偏光フィルムは、フィルム型偏光フィルム（ポリビニルアルコール系樹脂フィルムから形成された偏光フィルム）に比べて厚さを薄く形成することができる。液晶塗布型偏光フィルムの厚さは０．５〜５μｍ、好ましくは１〜４μｍであってもよい。

（保護フィルム）
前記偏光フィルムの片面又は両面に設けられる保護フィルムを形成する材料としては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性等に優れるものが好ましい。例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー等が挙げられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロ系ないしはノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、又は、前記ポリマーのブレンド物等も前記保護フィルムを形成するポリマーの例として挙げられる。保護フィルムは、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型、紫外線硬化型の樹脂の硬化層として形成することもできる。偏光フィルムの両面に保護フィルムを設ける場合、その表裏で同じポリマー材料からなる保護フィルムを用いてもよく、異なるポリマー材料等からなる保護フィルムを用いてもよい。

保護フィルムの厚みは、一般には強度や取扱性等の作業性、薄膜性等の点より１〜１００μｍ程度である。好ましくは、５〜８０μｍ、より好ましくは、５〜５０μｍである。

偏光フィルムと保護フィルムとは通常、水系接着剤等を介して積層される。水系接着剤としては、イソシアネート系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ゼラチン系接着剤、ビニル系ラテックス系、水系ポリウレタン、水系ポリエステル等を例示できる。前記の他、偏光フィルムと保護フィルムとの接着剤としては、紫外線硬化型接着剤、電子線硬化型接着剤等が挙げられる。電子線硬化型接着剤は、前記各種の保護フィルムに対して、好適な接着性を示す。保護フィルム及び偏光フィルムは、偏光フィルムとの貼合に先立って、ケン化処理、コロナ処理、及びプラズマ処理等を施しておくことが好ましい。

前記保護フィルムの偏光フィルムを接着させない面には、ハードコート層や反射防止処理、帯電防止層やスティッキング防止層、拡散ないしアンチグレアを目的とした処理を施したものであってもよい。

偏光フィルムにおける位相差フィルムが積層されない側に用いる保護フィルムには、必要に応じて、偏光サングラスを介して視認する場合の視認性を改善する処理（代表的には、円偏光（又は楕円偏光）機能を付与すること、超高位相差を付与すること）が施されていてもよい。このような処理を施すことにより、偏光サングラス等の偏光レンズを介して表示画面を視認した場合でも、優れた視認性を実現することができる。したがって、円偏光板は、屋外で用いられ得る画像表示装置にも好適に適用され得る。

また、偏光フィルムと位相差フィルムとの間に用いる保護フィルムは、光学的に等方性であることが好ましい。本明細書において「光学的に等方性である」とは、Ｒｅ（５５０）が０ｎｍ〜１０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）が−２０ｎｍ〜＋２０ｎｍであることをいう。

（λ／４板として機能する位相差フィルム）
本発明で用いる液晶材料を含む位相差フィルムは、いわゆるλ／４板として機能し得る。位相差フィルムの波長５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）は９０〜１９０ｎｍであり、好ましくは１１０〜１７０ｎｍ、さらに好ましくは１２０〜１６０ｎｍである。

前記位相差フィルムは、液晶材料を含む。液晶材料を含むとは、当該液晶材料が液晶層を形成し得るものを含むことや、液晶材料を用い、この液晶材料が液晶状態のまま重合反応等により硬化した硬化物を含む概念である。液晶材料を用いることにより、得られる位相差層のｎｘとｎｙとの差を非液晶材料に比べて格段に大きくし得る。その結果、所望の面内位相差値を得るための位相差層の厚みを格段に小さくし得、得られる円偏光板、画像表示装置の薄型化に寄与し得る。また、円偏光板の製造においてロールツーロールが可能となり、製造工程を格段に短縮し得る。詳細については後述する。

前記液晶材料は、液晶相がネマチック相である（ネマチック液晶）を形成し得るものが好ましい。液晶材料の液晶性の発現機構は、リオトロピックであってもよいし、サーモトロピックであってもよい。液晶材料の配向状態は、好ましくは、ホモジニアス配向である。液晶材料としては、単独で用いてもよく、複数種を組み合わせて用いてもよい。

前記位相差フィルムは、好ましくは、液晶材料の硬化層である。具体的には、液晶材料が、重合性モノマー及び／又は架橋性モノマーであると好ましい。この重合性モノマー又は架橋性モノマーの液晶材料を以下、「重合性液晶」ということがある。重合性液晶を重合又は架橋させることで、当該重合性液晶を固定できる。重合性液晶を配向させた後に、例えば、重合性液晶を重合又は架橋させれば、それによって前記配向状態を固定することができる。ここで、重合によりポリマーが形成され、架橋により３次元網目構造が形成されることとなるが、これらは非液晶性である。したがって、形成された位相差フィルムは、例えば、重合性液晶といった液晶性化合物に特有の温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への転移が起きることはない。その結果により得られる位相差フィルムは、温度変化に影響されない、極めて安定性に優れた層となり得る。

重合性液晶を重合させることにより形成される層が面内位相差を発現するためには、重合性液晶を適した方向に配向させればよい。重合性液晶が棒状の場合は、重合性液晶の光軸を基材平面に対して水平に配向させることで面内位相差が発現する。この場合、光軸方向と遅相軸方向とは一致する。重合性液晶が円盤状の場合は、重合性液晶の光軸を基材平面に対して水平に配向させることで面内位相差が発現する。この場合、光軸と遅相軸とは直交する。重合性液晶の配向状態は、適当な配向膜を用い、この配向膜と重合性液晶との組み合わせにより調整することができる。

本発明では、以下に述べる重合性液晶の硬化層を用いることで、式（α）及び式（β）で表される光学特性を有する位相差フィルムを得ることができる。このような光学特性を発現するために、２枚以上の位相差フィルムを積層して、本発明の円偏光板の位相差フィルムとしてもよい。２枚以上の位相差フィルムを用いる場合、その中の１枚以上の位相差フィルムが液晶材料を含んでいればよい。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （α）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （β）

Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、０．９５以下であることが好ましく、０．９０以下であってもよい。Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）は、１．００を超えることが好ましい。

＜重合性液晶＞
前記のとおり、重合性液晶は、重合性基を有する液晶材料である。重合性基とは、重合反応に関与する基を意味し、光重合性基であることが好ましい。ここで、光重合性基とは、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。重合性液晶が有する液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック液晶でもよい。サーモトロピック液晶を秩序度で分類すると、ネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。

例えば、本発明で用いる重合性液晶は、好ましい光学特性を発現できることから、下記の式（１）で表される化合物（以下、「化合物（１）」ということがある）である。

Ｐ^１−Ｆ^１−（Ｂ^１−Ａ^１）_ｋ−Ｅ^１−Ｇ^１−Ｄ^１−Ａｒ−Ｄ^２−Ｇ^２−Ｅ^２−（Ａ^２−Ｂ^２）_ｌ−Ｆ^２−Ｐ^２ （１）

［式（１）中、Ａｒは芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する２価の基を表し、Ａｒ基中の芳香環に含まれるπ電子の数Ｎ_πは、１２以上である。
Ｄ^１及びＤ^２は、それぞれ独立に、＊−Ｏ−ＣＯ−（＊は、Ａｒに結合する位置を表す）、＊−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、＊−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、＊−ＣＲ^１Ｒ^２−、＊−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＲ^３Ｒ^４−、＊−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、＊−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−、＊−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、＊−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^１Ｒ^２−、＊−ＣＲ^１Ｒ^２−Ｏ−ＣＯ−Ｒ^３Ｒ^４−、＊−ＣＲ^１Ｒ^２−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^３Ｒ^４−、＊−ＮＲ^１−ＣＲ^２Ｒ^３−、＊−ＣＲ^２Ｒ^３−ＮＲ^１−、＊−ＣＯ−ＮＲ^１−、又は＊−ＮＲ^１−ＣＯ−を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ独立に、２価の脂環式炭化水素基を表す。該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のフルオロアルキル基、炭素数１〜４アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−に置換されていてもよい。
Ｅ^１、Ｅ^２、Ｂ^１及びＢ^２は、それぞれ独立に、−ＣＲ^５Ｒ^６−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^５−、−ＮＲ^５−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｏ−、−Ｓ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｓ−又は単結合を表す。Ｒ^５及びＲ^６は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に、２価の脂環式炭化水素基又は２価の芳香族炭化水素基を表す。該２価の脂環式炭化水素基及び２価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていてもよい。該炭素数１〜４のアルキル基及び該炭素数１〜４アルコキシ基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。
Ｆ^１及びＦ^２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルキレン基を表す。該アルキレン基に含まれる水素原子は、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基又はハロゲン原子に置換されていてもよく、該アルキレン基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置換されていてもよい。
Ｐ^１及びＰ^２は、それぞれ独立に、水素原子又は重合性基（ただし、Ｐ^１及びＰ^２のうち少なくとも１つは、重合性基を表す）を表す。］

化合物（１）は、式（２）及び式（３）で表される要件を充足することが好ましい。
（Ｎ_π−４）／３＜ｋ＋ｌ＋４ （２）
１２≦Ｎ_π≦２２ （３）
［式（２）及び式（３）中、Ｎ_π、ｋ及びｌは前記と同じ意味を表す。］

芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナンスロリン環等が挙げられる。芳香族複素環としては、フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環等が挙げられる。これらの中でも、ベンゼン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環が好ましい。

Ａｒは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する２価の基であって、該２価の基中に含まれる芳香環のπ電子の合計数Ｎ_πは、１２以上であり、好ましくは１２以上、２２以下であり、より好ましくは、１３以上、２２以下である。

Ａｒは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも二つの芳香環を有する２価の基が好ましい。

式（１）中、Ａｒが式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−１３）で表されるいずれかの２価の基であることが好ましい。

［式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−１３）中、Ｚ^１は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基又は炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。
Ｑ^１及びＱ^３は、それぞれ独立に、−ＣＲ^７Ｒ^８−、−Ｓ−、−ＮＲ^７−、−ＣＯ−又は−Ｏ−を表す。
Ｒ^７及びＲ^８は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｙ^１、Ｙ^２及びＹ^３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。
Ｗ^１及びＷ^２は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基又はハロゲン原子を表す。
ｍは、０〜６の整数を表す。
ｎは、０〜２の整数を表す。］

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。中でもフッ素原子、塩素原子、臭素原子が好ましい。

炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。中でも炭素数１〜４のアルキル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。

炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基としては、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、イソブチルスルフィニル基、ｓｅｃ−ブチルスルフィニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルフィニル基、ペンチルスルフィニル基、ヘキシル基スルフィニル等が挙げられる。中でも炭素数１〜４のアルキルスルフィニル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルスルフィニル基がより好ましく、メチルスルフィニル基が特に好ましい。

炭素数１〜６のアルキルスルホニル基としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、ｓｅｃ−ブチルスルホニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基等が挙げられる。中でも炭素数１〜４のアルキルスルホニル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルスルホニル基がより好ましく、メチルスルホニル基が特に好ましい。

炭素数１〜６のフルオロアルキル基としては、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等が挙げられる。中でも炭素数１〜４のフルオロアルキル基が好ましく、炭素数１〜２のフルオロアルキル基がより好ましく、トリフルオロメチル基が特に好ましい。

炭素数１〜６のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等が挙げられる。中でも炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜２のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基が特に好ましい。

炭素数１〜６のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基等が挙げられる。中でも炭素数１〜４のアルキルチオ基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルチオ基がより好ましく、メチルチオ基が特に好ましい。

炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基としては、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ−イソブチルアミノ基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、Ｎ−ペンチルアミノ基、Ｎ−ヘキシルアミノ基等が挙げられる。中でも炭素数１〜４のＮ−アルキルアミノ基が好ましく、炭素数１〜２のＮ−アルキルアミノ基がより好ましく、Ｎ−メチルアミノ基が特に好ましい。

炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノ基等が挙げられる。中でも炭素数２〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基が好ましく、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基が特に好ましい。

炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基としては、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−プロピルスルファモイル基、Ｎ−イソプロピルスルファモイル基、Ｎ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−イソブチルスルファモイル基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ペンチルスルファモイル基、Ｎ−ヘキシルスルファモイル基等が挙げられる。中でも炭素数１〜４のＮ−アルキルスルファモイル基が好ましく、炭素数１〜２のＮ−アルキルスルファモイル基がより好ましく、Ｎ−メチルスルファモイル基が特に好ましい。

炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルスルファモイル基等が挙げられる。中でも炭素数２〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基が好ましく、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基が特に好ましい。

Ｚ^１は、ハロゲン原子、メチル基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、メチルスルホニル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、メチルチオ基、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ−メチルスルファモイル基又はＮ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基であることが好ましい。

Ｒ^７及びＲ^８における炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。中でも炭素数１〜２のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
Ｑ^１は、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ_３）−であることが好ましく、Ｑ^３は、−Ｓ−、−ＣＯ−であることが好ましい。

Ｙ^１、Ｙ^２及びＹ^３における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基が挙げられる。中でもフェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも一つ含み、炭素数４〜２０の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基が好ましい。

かかる芳香族炭化水素基及び芳香族複素環基は、少なくとも一つの置換基を有していてもよく、置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基等が挙げられる。中でもハロゲン原子、炭素数１〜２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜２のアルキルスルホニル基、炭素数１〜２のフルオロアルキル基、炭素数１〜２のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキルチオ基、炭素数１〜２のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜２のアルキルスルファモイル基が好ましい。

ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基及び炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、前記したものと同様のものが挙げられる。

Ｙ^１、Ｙ^２及びＹ^３が、それぞれ独立に、式（Ｙ−１）〜式（Ｙ−６）で表されるいずれかの基であることが好ましい。

［式（Ｙ−１）〜式（Ｙ−６）中、Ｚ^２は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のチオアルキル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基又は炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。
ａ^１は、０〜５の整数、ａ^２は、０〜４の整数、ｂ^１は、０〜３の整数、ｂ^２は、０〜２の整数、Ｒは、水素原子又はメチル基を表す。］

Ｚ^２としては、ハロゲン原子、メチル基、シアノ基、ニトロ基、スルホン基、カルボキシル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、チオメチル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基又はＮ−メチルアミノ基が好ましい。

さらにＹ^１、Ｙ^２及びＹ^３が、それぞれ独立に、式（Ｙ−１）又は式（Ｙ−３）で表される基であることが、化合物（１）の製造工程やコストの点で特に好ましい。

Ｗ^１及びＷ^２が、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基又はメチル基であることが好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
ｍは０又は１であることが好ましい。ｎは０であることが好ましい。

式（１）中、Ａｒが式（Ａｒ−６）で示される基が好ましく、中でも、式（Ａｒ−６ａ）、式（Ａｒ−６ｂ）、式（Ａｒ−６ｃ）、式（Ａｒ−１０a）又は（Ａｒ−１０ｂ）で表される２価の基であることがより好ましい。

［式（Ａｒ−６ａ）〜式（Ａｒ−６ｃ）、式（Ａｒ−１０ａ）及び式（Ａｒ−１０ｂ）中、Ｚ^１，ｎ，Ｑ^１，Ｚ^２，ａ^１及びｂ^１は、前記と同じ意味を表す。］

Ａｒの例を式（ａｒ−１）〜式（ａｒ−１８９）に示す。

式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−４）で表される基の具体例として、式（ａｒ−１）〜式（ａｒ−２９）で表される基が挙げられる。

式（Ａｒ−５）で表される基の具体例として、式（ａｒ−３０）〜式（ａｒ−３９）で表される基が挙げられる。

式（Ａｒ−６）又は式（Ａｒ−７）で表される基の具体例として、式（ａｒ−４０）〜式（ａｒ−１１９）で表される基が挙げられる。

式（Ａｒ−８）又は式（Ａｒ−９）で表される基の具体例として、式（ａｒ−１２０）〜式（ａｒ−１２９）で表される基が挙げられる。

式（Ａｒ−１０）で表される基の具体例として、式（ａｒ−１３０）〜式（ａｒ−１４９）で表される基が挙げられる。

式（Ａｒ−１１）で示される基の具体例としては、式（ａｒ−１５０）〜式（ａｒ−１５９）で示される基が挙げられる。

式（Ａｒ−１２）で表される基の具体例として、式（ａｒ−１６０）〜式（ａｒ−１７９）で表される基が挙げられる。

式（Ａｒ−１３）で示される基の具体例としては、式（ａｒ−１８０）〜式（ａｒ−１８９）で示される基が挙げられる。

Ｄ^１及びＤ^２が、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、＊−Ｏ−ＣＲ^１Ｒ^２−、＊−ＮＲ^１−ＣＲ^２Ｒ^３−又は＊−ＮＲ^１−ＣＯ−（＊はＡｒとの結合部位を表わす。
）であることが好ましい。Ｄ^１及びＤ^２が、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−又は＊−ＮＲ^１−ＣＯ−（＊はＡｒとの結合部位を表わす。）であることがより好ましい。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であることが好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基であることがより好ましい。

Ｇ^１及びＧ^２としては、式（ｇ−１）〜式（ｇ−１０）で示されるヘテロ原子を含んでもよい脂環式炭化水素基が挙げられ、５員環又は６員環の脂環式炭化水素基であることが好ましい。

前記式（ｇ−１）〜（ｇ−１０）で示される基は、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシ基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜４のフルオロアルキル基；トリフルオロメトキシ基等の炭素数１〜４のフルオロアルコキシ基；シアノ基；ニトロ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子で置換されていてもよい。

Ｇ^１及びＧ^２としては、式（ｇ−１）で表される６員環からなる脂環式炭化水素基であることが好ましく、１，４−シクロヘキシレン基であることがさらに好ましく、ｔｒａｎｓ−１，４−シクロへキシレン基であることが特に好ましい。

Ａ^１及びＡ^２における２価の脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基としては、前記式（ｇ−１）〜式（ｇ−１０）で表される５員環又は６員環などからなる脂環式炭化水素基や、式（ａ−１）〜式（ａ−８）で表される炭素数６〜２０程度の２価の芳香族炭化水素基が挙げられる。

なお、Ａ^１及びＡ^２として、前記例示された基の水素原子の一部が、メチル基、エチル基、ｉ−プロピル基又はｔ−ブチル基などの炭素数１〜４程度のアルキル基；メトキシ基又はエトキシ基などの炭素数１〜４程度のアルコキシ基；トリフルオロメチル基；トリフルオロメチルオキシ基；シアノ基；ニトロ基；フッ素原子、塩素原子又は臭素原子などのハロゲン原子に置換されていてもよい。

Ａ^１及びＡ^２としては、特に、いずれも同種類の基であると、化合物（１）の製造が容易であることから好ましい。またＡ^１及びＡ^２としては、単環の１，４−フェニレン基又は１，４−シクロヘキシレン基であると好ましく、化合物（１）の製造が容易なことから、特に１，４−フェニレン基が好ましい。

Ｂ^１及びＢ^２は、同じ種類の２価の基であると、化合物（１）の製造が容易なことから好ましい。さらに化合物（１）の製造がより容易なことから、Ｂ^１及びＢ^２のうち、Ａ^１及びＡ^２のみと結合しているＢ^１及びＢ^２が、それぞれ独立に、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−Ｏ−又は単結合であることが好ましく、特に高い液晶性を示すことから、−ＣＯ−Ｏ−又は−Ｏ−ＣＯ−が好ましい。Ｂ^１及びＢ^２のうち、Ｅ^１又はＥ^２と結合しているＢ^１及びＢ^２が、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−又は単結合であることがより好ましい。

ｋ及びｌは、液晶性の観点から、それぞれ独立に、０〜３の整数を表すことが好ましく、ｋ及びｌは０〜２であることがより好ましい。ｋ及びｌの合計は、５以下が好ましく、４以下がより好ましい。

Ｐ^１及びＰ^２は、それぞれ独立に、水素原子又は重合性基（ただし、Ｐ^１及びＰ^２のうち少なくとも１つは、重合性基を表す）を表す。Ｐ^１及びＰ^２が両方とも重合性基であると、得られる位相差フィルムの膜硬度が優れる傾向があることから好ましい。
重合性基とは、本発明の化合物（１）を重合させることのできる置換基であり、具体的には、ビニル基、ｐ−スチルベン基、アクリロイル基、メタクロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクロイルオキシ基、カルボキシル基、メチルカルボニル基、水酸基、アミド基、炭素数１〜４のアルキルアミノ基、アミノ基、エポキシ基、オキセタニル基、アルデヒド基、イソシアネート基又はチオイソシアネート基などが例示される。また重合性基には、前記例示の基とＥ^１及びＥ^２を結合するために、Ｂ^１及びＢ^２として示される基が含まれていてもよい。たとえば光重合させるのに適した、ラジカル重合性、カチオン重合性基が好ましく、特に取り扱いが容易な上、製造も容易であることからアクリロイル基又はメタクロイル基が好ましく、アクリロイル基がより好ましい。Ｐ^１及びＰ^２がいずれも重合性基であると、得られる位相差フィルムの膜硬度が優れる傾向があることからより好ましい。

−Ｄ^１−Ｇ^１−Ｅ^１−（Ａ^１−Ｂ^１）_ｋ−Ｆ^１−Ｐ^１、−Ｄ^２−Ｇ^２−Ｅ^２−（Ａ^２−Ｂ^２）_ｌ−Ｆ^２−Ｐ^２の例としては、式（Ｒ−１）〜式（Ｒ−１３４）で表される基が挙げられる。＊（アスタリスク）は、Ａｒとの結合位置を示す。また式（Ｒ−１）〜式（Ｒ−１３４）におけるｎは２〜１２の整数を表す。

さらに化合物（１）としては、化合物（ｉ）〜化合物（ｘｘｘｉｖ）が挙げられる。表中のＲ１は、−Ｄ^１−Ｇ^１−Ｅ^１−（Ａ^１−Ｂ^１）_ｋ−Ｆ^１−Ｐ^１を、Ｒ２は、−Ｄ^２−Ｇ^２−Ｅ^２−（Ａ^２−Ｂ^２）_ｌ−Ｆ^２−Ｐ^２を表す。

なお、化合物（ｘｘｘ）及び化合物（ｘｘｘｉ）においては、Ｒ１及びＲ２のうちのいずれか一方は、（Ｒ−５７）〜（Ｒ−１２０）のいずれかである。
前記表１中、化合物（ｘｖｉｉ）は、Ａｒで示される基が式（ａｒ−７８）で示される基である化合物、Ａｒで示される基が式（ａｒ−７９）で示される基である化合物又はＡｒで示される基が式（ａｒ−７８）で示される基である化合物と式（ａｒ−７９）で示される基である化合物との混合物のいずれかであることを意味する。
前記表２中、化合物（ｘｘｘ）は、Ａｒで示される基が式（ａｒ−１２０）で示される基である化合物、Ａｒで示される基が式（ａｒ−１２１）で示される基である化合物又はＡｒで示される基が式（ａｒ−１２０）で示される基である化合物と式（ａｒ−１２１）で示される基である化合物との混合物のいずれかであることを意味し、化合物（ｘｘｘｉ）は、Ａｒで示される基が式（ａｒ−１２２）で示される基である化合物、Ａｒで示される基が式（ａｒ−１２３）で示される基である化合物又はＡｒで示される基が式（ａｒ−１２２）で示される基である化合物と式（ａｒ−１２３）で示される基である化合物との混合物のいずれかであることを意味する。

さらに表１に示した化合物の代表的な構造式を以下に例示する。位相差フィルムの形成においては、異なる複数の種類の化合物（１）を用いてもよい。

化合物（１）として、さらに、例えば以下のものが例示される。ただし、式中ｎ１及びｎ２は、それぞれ独立に２〜１２の整数を示す。

化合物（１）は、Methoden der Organischen Chemie、Organic Reactions、Organic Syntheses、Comprehensive Organic Synthesis、新実験化学講座等に記載されている公知の有機合成反応（例えば、縮合反応、エステル化反応、ウイリアムソン反応、ウルマン反応、ウイッティヒ反応、シッフ塩基生成反応、ベンジル化反応、薗頭反応、鈴木−宮浦反応、根岸反応、熊田反応、檜山反応、ブッフバルト−ハートウィッグ反応、フリーデルクラフト反応、ヘック反応、アルドール反応など）を、その構造に応じて、適宜組み合わせることにより、製造することができる。

例えば、Ｄ^１及びＤ^２が＊−Ｏ−ＣＯ−である化合物（１）の場合には、式（１−１）

（式中、Ａｒは前記と同一の意味を表わす。）
で示される化合物と式（１−２）

（式中、Ｇ^１、Ｅ^１、Ａ^１、Ｂ^１、Ｆ^１、Ｐ^１及びｋは前記と同一の意味を表わす。）で示される化合物とを反応させることにより、式（１−３）

（式中、Ａｒ、Ｇ^１、Ｅ^１、Ａ^１、Ｂ^１、Ｆ^１、Ｐ^１及びｋは前記と同一の意味を表わす。）
で示される化合物を得、得られた式（１−３）で示される化合物と式（１−４）

（式中、Ｇ^２、Ｅ^２、Ａ^２、Ｂ^２、Ｆ^２、Ｐ^２及びｌは前記と同一の意味を表わす。）で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
式（１−１）で示される化合物と式（１−２）で示される化合物との反応及び式（１−３）で示される化合物と式（１−４）で示される化合物との反応は、エステル化剤の存在下に実施することが好ましい。

エステル化剤（縮合剤）としては、反応性、コスト、使用できる溶媒の点から、ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド 塩酸塩、ビス（２、６−ジイソプロピルフェニル）カルボジイミド、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド、ビスイソプロピルカルボジイミド、２，２’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾールが好ましい。

重合性液晶を含む組成物は、式（１）で表される化合物に加え、その他の液晶化合物（ただし、化合物（１）とは異なる。）を含有していてもよい。

その他の液晶化合物も重合性基を有するものが好ましい。その他の液晶化合物の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の３章 分子構造と液晶性の、３．２ ノンキラル棒状液晶分子、３．３ キラル棒状液晶分子に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物が挙げられる。
その他の液晶化合物として、異なる複数の化合物を併用してもよい。

その他の液晶化合物としては、例えば、式（４）で表される化合物（以下「化合物（４）」という場合がある）等が挙げられる。

Ｐ^１１−Ｅ^１１−（Ｂ^１１−Ａ^１１）_ｔ−Ｂ^１２−Ｇ （４）
［式（４）中、Ａ^１１は、芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基又は複素環基を表し、該芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基及び複素環基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルアミノ基、ニトロ基、ニトリル基又はメルカプト基に置換されていてもよい。
Ｂ^１１及びＢ^１２は、それぞれ独立に、−ＣＲ^１４Ｒ^１５−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＯ−ＮＲ^１４−、−ＮＲ^１４−ＣＯ−、−ＯＣＨ_２−、−ＯＣＦ_２−、−ＮＲ^１４−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−又は単結合を表す。Ｒ^１４及びＲ^１５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ^１４及びＲ^１５が連結して炭素数４〜７のアルキレン基を構成してもよい。
Ｅ^１１は、炭素数１〜１２のアルキレン基を表す。該アルキレン基に含まれる水素原子は、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子に置換されていてもよい。
Ｐ^１１は、重合性基を表す。
Ｇは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１３のアルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、炭素数１〜１３のフルオロアルキル基、炭素数１〜１３のアルキルアミノ基、ニトリル基、ニトロ基であるか、炭素数１〜１２のアルキレン基を介して結合する重合性基を表し、該アルキレン基に含まれる水素原子は、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子に置換されていてもよい。
ｔは、１〜５の整数を表す。］

特に、Ｐ^１１及びＧにおける重合性基としては、化合物（１）と重合することができる基であればよく、ビニル基、ビニルオキシ基、ｐ−スチルベン基、アクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクロイル基、メタクロイルオキシ基、カルボキシル基、アセチル基、水酸基、カルバモイル基、アミノ基、炭素数１〜４のアルキルアミノ基、エポキシ基、オキセタニル基、ホルミル基、−Ｎ＝Ｃ＝Ｏ又はＮ＝Ｃ＝Ｓ等が挙げられる。なかでも、光重合に適するという点で、ラジカル重合性基又はカチオン重合性基が好ましく、取り扱いが容易で、液晶化合物の製造も容易であるという点で、アクリロイルオキシ基、メタクロイルオキシ基又はビニルオキシ基が好ましい。

また、Ａ^１１の芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基及び複素環基の炭素数は、それぞれ、例えば３〜１８であり、５〜１２であることが好ましく、５又は６であることが特に好ましい。

化合物（４）としては、例えば、式（４−１）及び式（４−２）で表される化合物が挙げられる。

P¹¹-E¹¹-(B¹¹-A¹¹)_t1-B¹²-E¹²-P¹² （４−１）
P¹¹-E¹¹-(B¹¹-A¹¹)_t2-B¹²-F¹¹ （４−２）
［式（４−１）及び式（４−２）中、Ｐ^１１、Ｅ^１１、Ｂ^１１、Ａ^１１、Ｂ^１２は前記と同義である。
Ｆ^１１は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１３のアルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、炭素数１〜１３のフルオロアルキル基、炭素数１〜１３のアルキルアミノ基、シアノ基、ニトロ基を表す。
Ｅ^１２は、Ｅ^１１と同義である。
Ｐ^１２は、Ｐ^１１と同義である。
ｔ^１及びｔ^２はｔと同義である。］

さらに、これら式（４−１）及び（４−２）で表される化合物として、式（Ｉ）、式（II）、式（III）、式（IV）又は式（Ｖ）で表される化合物を含む。

P¹¹-E¹¹-B¹¹-A¹¹-B¹²-A¹²-B¹³-A¹³-B¹⁴-A¹⁴-B¹⁵-A¹⁵-B¹⁶-E¹²-P¹² （Ｉ）
P¹¹-E¹¹-B¹¹-A¹¹-B¹²-A¹²-B¹³-A¹³-B¹⁴-A¹⁴-B¹⁵-E¹²-P¹² （ＩＩ）
P¹¹-E¹¹-B¹¹-A¹¹-B¹²-A¹²-B¹³-A¹³-B¹⁴-E¹²-P¹² （ＩＩＩ）
P¹¹-E¹¹-B¹¹-A¹¹-B¹²-A¹²-B¹³-A¹³-B¹⁴-F¹¹ （ＩＶ）
P¹¹-E¹¹-B¹¹-A¹¹-B¹²-A¹²-B¹³-F¹¹ （Ｖ）
［式（Ｉ）〜式（Ｖ）中、Ａ^１２〜Ａ^１５は、Ａ^１１と同義であり、Ｂ^１３〜Ｂ^１６は、Ｂ^１１と同義である］。

なお、式（４−１）、式（４−２）、式（Ｉ）、式（II）、式（III）、式（IV）及び式（Ｖ）で表される化合物においては、Ｐ^１１とＥ^１１との組み合わせを適宜選択することにより、さらにＰ^１２とＥ^１２との組み合わせを適宜選択することにより、両者がエーテル結合又はエステル結合を介して結合されていることが好ましい。

化合物（４）の具体例としては、たとえば以下の式（Ｉ−１）〜式（Ｉ−５）、式（ＩＩ−１）〜式（ＩＩ−６）、式（ＩＩＩ−１）〜式（ＩＩＩ−１９）、式（ＩＶ−１）〜式（ＩＶ−１４）、式（Ｖ−１）〜式（Ｖ−５）で表される化合物などが挙げられる。ただし、式中ｋは、１〜１１の整数を表す。これらの液晶化合物であれば、合成が容易であり、市販されているなど、入手が容易であることから好ましい。

その他の液晶化合物を使用する場合、その使用量は、たとえばその他の液晶化合物と化合物（１）との合計１００重量部に対して、９０重量部以下である。

重合性液晶を含む組成物（以下、「液晶組成物」という。）は、さらに重合開始剤を含有することが好ましい。重合開始剤は、光重合開始剤であることが好ましい。光重合開始剤としては、たとえばベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ベンジルケタール類、α−ヒドロキシケトン類、α−アミノケトン類、ヨードニウム塩又はスルホニウム塩等が挙げられ、より具体的には、イルガキュア（Irgacure）９０７、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２５０、イルガキュア３６９（以上、全てチバスペシャリティーケミカルズ社製）、セイクオールＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、全て精工化学株式会社製）、カヤキュア（kayacure）ＢＰ１００（日本化薬株式会社製）、カヤキュアＵＶＩ−６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５２又はアデカオプトマーＳＰ−１７０（以上、全て株式会社ＡＤＥＫＡ製）等を挙げることができる。

重合開始剤の使用量は、たとえば、重合性液晶１００重量部に対して、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは、０．５重量部〜１０重量部である。重合開始剤の使用量が、前記範囲内であれば、配向性を乱すことなく、化合物（１）を重合させることができる。

位相差フィルムの波長分散特性は、化合物（１）に由来する構造単位の含有量によって、任意に決定することができる。位相差フィルムにおける構造単位の中で化合物（１）に由来する構造単位の含有量を増加させると、よりフラットな波長分散特性、さらには式（α）及び式（β）を満たす逆波長分散特性を示す。

位相差フィルムの波長分散特性は、適当な予備実験により確認することができる。以下、好ましい重合性液晶である化合物（１）を用いる場合の予備実験について示す。化合物（１）に由来する構造単位の含有量が異なる液晶組成物を２〜５種類程度調製し、それぞれの液晶組成物について後述するように、同じ膜厚の位相差フィルムを製造して得られる位相差フィルムの位相差値を求め、その結果から、化合物（１）に由来する構造単位の含有量と、位相差フィルムの位相差値との相関を求め、得られた相関関係から、前記膜厚における位相差フィルムに所望の位相差値を与えるために必要な化合物（１）に由来する構造単位の含有量を決定すればよい。

前記位相差フィルムの膜厚は、λ／４板として最も適切に機能し得るように設定され得る。位相差フィルムの厚みは、好ましくは１．５〜１０μｍ、さらに好ましくは１．５〜８μｍ、特に好ましくは１．５〜５μｍである。

（λ／４板として機能する位相差フィルムの製造方法）
位相差フィルムの製造方法について、以下に説明する。まず、化合物（１）に、必要に応じて、有機溶剤、その他の液晶化合物、重合開始剤、重合禁止剤、光増感剤又はレベリング剤などの添加剤を加えて、液晶組成物を調製する。特に成膜が容易となることから、液晶組成物は液状であることが好ましい。さらに、この液晶組成物は、有機溶剤を含むことが好ましく、得られた位相差フィルムを硬化する働きをもつことから、液晶組成物は重合開始剤を含むことが好ましい。

重合開始剤の使用量は、たとえば、重合性液晶１００重量部に対して、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは、０．５重量部〜１０重量部である。前記範囲内であれば、重合性液晶の配向性を乱すことなく、重合性液晶を重合させることができる。

〔重合禁止剤〕
液晶組成物は、重合禁止剤を含むことができる。重合禁止剤としては、たとえばハイドロキノン又はアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類、ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類、ピロガロール類、２，２、６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補足剤、チオフェノール類、β−ナフチルアミン類或いはβ−ナフトール類等を挙げることができる。

重合禁止剤を用いることにより、重合性液晶の重合を制御することができ、得られる位相差フィルムの安定性を向上させることができる。重合禁止剤の使用量は、たとえば重合性液晶１００重量部に対して、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは０．５重量部〜１０重量部である。前記範囲内であれば、液晶化合物の配向性を乱すことなく、重合性液晶を重合させることができる。なお、重合性液晶として、化合物（１）に加え、その他の液晶化合物を用いる場合には、重合禁止剤の好ましい使用量の目安は、前記と同じである。

〔光増感剤〕
液晶組成物は、光増感剤を含むことができる。光増感剤としては、たとえばキサントン又はチオキサントン等のキサントン類、アントラセン又はアルキルエーテルなどの置換基を有するアントラセン類、フェノチアジンあるいはルブレンを挙げることができる。

光増感剤を用いることにより、重合性液晶の重合を高感度化することができる。光増感剤の使用量としては、重合性液晶１００重量部に対して、たとえば０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは０．５重量部〜１０重量部である。前記範囲内であれば、重合性液晶の配向性を乱すことなく、重合させることができる。なお、重合性液晶として、化合物（１）に加え、その他の液晶化合物を用いる場合には、光増感剤の好ましい使用量の目安は前記と同じである。

〔レベリング剤〕
液晶組成物は、レベリング剤を含むことができる。レベリング剤としては、たとえば放射線硬化塗料用添加剤（ビックケミージャパン製：ＢＹＫ−３５２，ＢＹＫ−３５３，ＢＹＫ−３６１Ｎ）、塗料添加剤（東レ・ダウコーニング株式会社製：ＳＨ２８ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ）、塗料添加剤（信越化学工業株式会社製：ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１）又はフッ素系添加剤（大日本インキ化学工業株式会社製：Ｆ−４４５、Ｆ−４７０、Ｆ−４７９）等を挙げることができる。

レベリング剤を用いることにより、位相差フィルムを平滑化することができる。さらに光学フィルムの製造過程で、液状の液晶組成物の流動性を制御したり、得られる位相差フィルムの架橋密度を調整したりすることができる。レベリング剤の使用量は、重合性液晶１００重量部に対して、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは０．５重量部〜１０重量部である。前記範囲内であれば、重合性液晶の配向性を乱すことなく、この重合性液晶を重合させることができる。

〔有機溶剤〕
液晶組成物は前記のとおり、有機溶剤を含むことが好ましい。液晶組成物の調製に用いる有機溶剤としては、重合性液晶を溶解し得る有機溶剤が好ましい。さらに、重合反応に不活性な溶剤であればよく、具体的には、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ又はブチルセロソルブなどのアルコール；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、ガンマーブチロラクトン又はプロピレングリコールメチルエーテルアセテートなどのエステル系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン又はメチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤；ペンタン、ヘキサン又はヘプタンなどの脂肪族炭化水素溶剤；トルエン、キシレン又はクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、乳酸エチル、クロロホルム、フェノールなどが挙げられる。これら有機溶剤は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。特に本実施形態の組成物は相溶性に優れ、アルコール、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、非塩素系脂肪族炭化水素溶剤及び非塩素系芳香族炭化水素溶剤などにも溶解し得ることから、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素を用いなくとも、溶解して塗工させることができる。

液晶組成物の粘度は、塗布しやすいように、たとえば１０Ｐａ・ｓ以下、好ましくは０．１〜７Ｐａ・ｓ程度に調整されることが好ましい。

液晶組成物における固形分の濃度は、たとえば５〜５０重量％である。固形分の濃度が５％以上であると、位相差フィルムが薄くなりすぎない傾向があることから好ましい。また５０％以下であると、位相差フィルムの膜厚にムラが生じにくくなる傾向があることから好ましい。

続いて支持基材に、液晶組成物を塗布し、乾燥、重合させて、当該支持基材上に目的の位相差フィルムを得ることができる。この位相差フィルムの製造について以下、詳述する。

［未重合フィルム調製工程］
支持基材の上に、液晶組成物を塗布し、乾燥すると、未重合フィルムが得られる。未重合フィルムがネマチック相などの液晶相を示す場合、得られる位相差フィルムは、モノドメイン配向による複屈折性を有する。未重合フィルムは０〜１２０℃程度、好ましくは、２５〜８０℃の低温で配向することから、配向膜として前記に例示したような耐熱性に関して必ずしも十分ではない支持基材を用いることができる。また、配向後さらに３０〜１０℃程度に冷却しても結晶化することがないため、取扱いが容易である。なお組成物の塗布量や濃度を適宜調整することにより、所望の位相差を与えるように膜厚を調製することができる。

支持基材への液晶組成物の塗布方法としては、たとえば押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法又はダイコーティング法などが挙げられる。またディップコーター、バーコーター又はスピンコーターなどのコーターを用いて塗布する方法などが挙げられる。

前記支持基材としては、たとえばガラス、プラスチックシート、プラスチックフィルム又は透光性フィルムを挙げることができる。なお前記透光性フィルムとしては、たとえばポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマーなどのポリオレフィンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメタクリル酸エステルフィルム、ポリアクリル酸エステルフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルム又はポリフェニレンオキシドフィルムなどが挙げられる。

たとえば位相差フィルムの貼合工程、運搬工程、保管工程など、フィルムの強度が必要な工程でも、支持基材を用いることにより、破れなどなく容易に取り扱うことができる。

また、支持基材上に配向膜を形成して、配向膜上に液晶組成物を塗布することが好ましい。配向膜は、液晶組成物の塗布時に、この液晶組成物に溶解しない溶剤耐性を持つこと、溶剤の除去や加熱処理時に、耐熱性をもつこと、ラビング時に、摩擦などによる剥がれなどが起きないことが好ましい。配向膜は、適当なポリマーを含有する組成物（配向膜形成用組成物）から形成することができる。

前記ポリマーとしては、たとえば分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸又はポリアクリル酸エステル類等のポリマーを挙げることができる。これらのポリマーは、単独で用いてもよいし、２種類以上混ぜたり、共重合体したりしてもよい。これらのポリマーは、脱水や脱アミンなどによる重縮合や、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等の連鎖重合、配位重合や開環重合等で容易に得ることができる。

これらのポリマーは、溶剤に溶解して、塗布できるものが好ましい。この溶剤は、使用するポリマーの溶解性に応じて適切なものが選択できる。溶剤を具体的に例示すると、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ又はブチルセロソルブなどのアルコール；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、ガンマーブチロラクトン又はプロピレングリコールメチルエーテルアセテートなどのエステル系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン又はメチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤；ペンタン、ヘキサン又はヘプタンなどの脂肪族炭化水素溶剤；トルエン、キシレン又はクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、乳酸エチル、クロロホルムなどが挙げられる。これら溶剤は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。

配向膜を形成するために、市販の配向膜材料をそのまま使用してもよい。市販の配向膜材料としては、サンエバー（登録商標、日産化学株式会社製）又はオプトマー（登録商標、ＪＳＲ株式会社製）等が挙げられる。

このような配向膜を用いれば、延伸による屈折率制御を行う必要がないため、複屈折の面内ばらつきが小さくなる。それゆえ、大型の画像表示装置にも対応可能な大きな面積の位相差フィルムを提供できるという効果を奏する。

前記支持基材上に配向膜を形成する方法としては、たとえば前記支持基材上に、市販の配向膜材料や配向膜の材料となるポリマーを含む溶液にして塗布し、その後、アニールすることにより、前記支持基材上に配向膜を形成することができる。

このようにして得られる配向膜の厚さは、たとえば１０ｎｍ〜１００００ｎｍであり、好ましくは１０ｎｍ〜１０００ｎｍである。前記範囲とすれば、重合性液晶を該配向膜上で所望の角度に配向させることができる。

またこれら配向膜は、必要に応じてラビング処理を行うことができる。これらにより重合性液晶を所望の方向に配向させることができる。

配向膜をラビングする方法としては、たとえばラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールを、ステージに載せられ、搬送されている配向膜に接触させる方法を用いることができる。

前記の通り、未重合フィルム調製工程では、支持基材の上に積層した配向膜上に未重合フィルム（液晶層）を積層する。それゆえ、ロールフィルムでのフィルムの生産が可能である。

溶剤の乾燥は、重合を進行させるとともに行ってもよいが、重合前にほとんどの溶剤を乾燥させることが、成膜性の点から好ましい。

溶剤の乾燥方法としては、たとえば自然乾燥、通風乾燥、減圧乾燥などの方法が挙げられる。具体的な加熱温度としては、１０〜１２０℃であることが好ましく、２５〜８０℃であることがさらに好ましい。また加熱時間としては、１０秒間〜６０分間であることが好ましく、３０秒間〜３０分間であることがより好ましい。加熱温度及び加熱時間が前記範囲内であれば、前記支持基材として、耐熱性が必ずしも十分ではない支持基材を用いることができる。

［未重合フィルム重合工程］
未重合フィルム重合工程では、前記未重合フィルム調製工程で得られた未重合フィルムに含まれる重合性液晶を重合し、硬化させる（以下、この未重合フィルムに含まれる重合性液晶の重合を、「未重合フィルムの重合」ということがある）。これにより重合性液晶の配向性が固定化されたフィルム、すなわち重合フィルムとなる。したがってフィルムの平面方向に屈折率変化が小さく、フィルムの法線方向に屈折率変化が大きい重合フィルムを製造することができる。

未重合フィルムを重合させる方法は、用いる重合性液晶の種類に応じて、決定されるものである。前記のとおり、重合性液晶として好ましい化合物（１）を用いる場合、この化合物（１）に含まれるＰ^１及び／又はＰ^２の重合性基が光重合性であれば光重合、該重合性基が熱重合性であれば熱重合により、前記未重合フィルムを重合させることができる。本発明では、特に光重合により未重合フィルムを重合させることが好ましい。光重合によれば低温で未重合フィルムを重合させることができるので、支持基材の耐熱性の選択幅が広がる。また工業的にも製造が容易となる。また成膜性の観点からも光重合が好ましい。光重合は、未重合フィルムに可視光、又は紫外光を照射することにより行う。取り扱い性の観点から、紫外光が特に好ましい。光照射は、化合物（１）が液晶相をとる温度に加温しながら行ってもよい。この際、マスキングなどによって重合フィルムをパターニングすることもできる。

このような製造方法により得られる位相差フィルムは、配向膜との密着性が良好であるから、位相差フィルムの製造が容易である。

さらに、重合性液晶を用いて得られる位相差フィルムは、延伸することによって位相差を与える延伸フィルムと比較して、薄膜であるという利点がある。

前記の製造方法において、前記工程に続いて、支持基材を剥離する工程を含んでいてもよい。このような構成とすることにより、得られるフィルムは、支持基材と、配向膜と、位相差フィルムとからなる積層体となる。また前記支持基材を剥離する工程に加えて、当該積層体から配向膜を剥離する工程をさらに含んでいてもよい。このような構成とすることにより、配向膜のない位相差フィルムを得ることができる。

かくして得られた位相差フィルムは、透明性に優れ、様々な画像表示装置用フィルムとして使用される。形成される位相差フィルムの厚みは、前記のとおり、得られる位相差フィルムの位相差値によって、異なるものである。

本発明の円偏光板において、λ／４板として機能する、液晶材料を含む位相差フィルムは異物を含む。異物は、製造過程で不可避的に混入し得る異物であり、例えば液晶化合物の配向処理により生じた異物であり、より具体的にはラビング処理により生じた異物（ラビングくず）である。位相差フィルムが延伸フィルムで構成される場合には、このような異物はそもそも存在せず、仮に異物が存在した場合であっても延伸フィルムの厚みに起因して表示欠陥へと至ることはないと推定される。前記のとおり、本発明の特徴の１つは、位相差フィルムが非常に薄い液晶材料からなる形態において問題（表示欠陥）となり得る異物の悪影響を防止するものである。具体的には、液晶材料からなる位相差フィルムにおける実在異物数は、１つの実施形態においては１００個／ｍ^２以上であり、例えば１５０個／ｍ^２〜３００個／ｍ^２程度であり得る。異物の平均粒子径は代表的には１．３μｍ以下であり、好ましくは０．１μｍ〜１．０μｍである。このような平均粒子径の範囲を達成するために、ラビング処理後に配向膜のラビング処理をされた面にエアーを吹きつけるなどして、３μｍ以上の粒子径を持つ異物のほとんどを除去する処理を行うことが好ましい。一方で、本発明の実施形態による円偏光板は、表示欠陥数が好ましくは１０個／ｍ^２以下であり、より好ましくは８個／ｍ^２以下である。すなわち、本発明の実施形態によれば、位相差フィルムに異物が多数存在しても、そのような異物の大部分を表示欠陥として認識されないようにすることができる。なお、実在異物数は、円偏光板を例えば光学顕微鏡（例えば、微分干渉顕微鏡）で観察することにより認識・計測することができる。表示欠陥数は、円偏光板を例えば光学顕微鏡に配置し、延伸フィルムからなる位相差フィルムを用いた検査用円偏光板を配置して得られた疑似的クロスニコル状態において、輝点として認識・計測することができる。

λ／４板として機能する位相差フィルムは、その厚みが１．５μｍ以上であり、その表面は実質的に平坦である。位相差フィルムの厚みの上限は、特に限定されないが、５μｍとすることができる。このような厚みとすることで、異物が存在したとしてもの表面を実質的に平坦とすることができる。なお、本明細書において「実質的に平坦」とは、高さ０．４μｍ以上の突出部が存在しないことをいう。

異物の平均粒子径に対する位相差フィルムの厚みの比率は、好ましくは１．２以上であり、より好ましくは１．５〜４．０である。当該比率がこのような範囲であれば、異物による突起の発生を低減し、実質的に平坦な表面を良好に実現することができる。結果として、異物による表示欠陥を良好に防止することができる。

（第２の位相差フィルム）
本発明で用いる位相差フィルムとしては、前記の位相差フィルムに第２の位相差フィルムを積層一体化したものを用いることもできる。このように第２の位相差フィルム等、複数種の位相差フィルムを積層した積層体を用いる場合には、この積層体を構成第する複数種の位相差フィルムのうち、少なくとも１つの位相差フィルムが、液晶材料を含み、前記式（α）及び式（β）を満たし、膜厚が１．５μｍ以上のものである。第２の位相差フィルムとしては、ラビング処理や光配向処理等の処理を行わないで作製されたものを用いることが好ましい。このような位相差フィルムは、配向欠陥などの発生を抑制でき、輝点欠陥がほぼなく表示品位が損なわれない。例えば、第２の位相差フィルムとしては、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙの関係を示すものが好ましく用いられる。このような屈折率特性を有する第２の位相差フィルムを備えることで、例えば、反射防止偏光板として使用した場合に、反射光を吸収する効果の角度依存性が低減し、様々な角度で反射した反射光に対して、その出射を防止することができるため、好ましい。

１つの実施形態においては、前記第２の位相差フィルムは、その屈折率がｎｘ＝ｎｙの関係を示す。ここで、「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。具体的には、Ｒｅ（５５０）が１０ｎｍ未満であることをいう。

前記第２の位相差フィルムのＲｔｈ（５５０）は、−２６０ｎｍ〜−１０ｎｍが好ましく、−２３０ｎｍ〜−１５ｎｍがより好ましく、−２１５ｎｍ〜−２０ｎｍがさらに好ましい。このような範囲であることで、前記効果が顕著となるため、好ましい。

前記第２の位相差フィルムは、任意の適切な材料で形成することができ、特に限定されるものではないが、ホメオトロピック配向に固定された液晶層であることが好ましい。ホメオトロピック配向させることができる液晶材料（液晶化合物）は、液晶モノマーであっても液晶ポリマーであってもよい。当該液晶化合物及び当該液晶層の形成方法の具体例としては、例えば、特開２００２−３３３６４２号公報の［００２０］〜［００４２］に記載の液晶化合物及び形成方法が挙げられる。この場合、厚みは、０．１μｍ〜５μｍが好ましく、０．２μｍ〜３μｍがより好ましい。

第２の位相差フィルムが積層された位相差フィルムの波長５５０ｎｍにおけるＲｅ（５５０）も９０〜１９０ｎｍであり、好ましくは１１０〜１７０ｎｍ、さらに好ましくは１２０〜１６０ｎｍである。第２の位相差フィルムのＲｅ（５５０）がこの範囲であると、λ／４板として機能する第１の位相差フィルムと積層させても、積層体の位相差フィルムもλ／４板として機能する。

第２の位相差フィルムを積層一体化するには、任意の接着剤層又は粘着剤層を使用することができる。接着剤層又は粘着剤層は、例えば、（メタ）アクリル系ポリマーをベースポリマーとするアクリル系粘着剤やゴム系樹脂から形成されるゴム系粘着剤が、光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性等に優れているため、好ましい。接着剤としては、水系、溶剤系、ホットメルト系、活性エネルギー線硬化型等の各種形態のものが用いられるが、水系接着剤又は活性エネルギー線硬化型接着剤が好適である。また、公知のいかなる接着剤層又は粘着剤層も使用することができる。

（円偏光板）
本発明の円偏光板を構成する各層の積層には、任意の適切な接着剤（接着剤層）や粘着剤が用いられる。偏光フィルムと位相差フィルムとの積層には、代表的には活性エネルギー線（例えば、紫外線）硬化型接着剤や粘着剤層が用いられる。接着剤層の厚みは、好ましくは０．０１μｍ〜７μｍ、より好ましくは０．０１μｍ〜５μｍ、さらに好ましくは０．０１μｍ〜２μｍである。また粘着剤層の厚みは、１〜３０μｍ、より好ましくは、３〜２０μｍ、さらに好ましくは、３〜１５μｍである。

前記偏光フィルムや保護フィルムを有する偏光板、前記位相差フィルムには、積層する前にコロナ処理，プラズマ処理等の表面改質処理や易接着層を形成するなどの処理を施しておいてもよい。

（円偏光板の構成）
本発明の円偏光板の構成についてより詳細に説明する。

例えば、偏光フィルムの片面のみに保護フィルムを有する片面保護偏光板を用いる場合は、保護フィルム／偏光フィルム／粘接着剤層／位相差フィルムから構成される円偏光板とすることができる。また、偏光フィルムの両面に保護フィルムを有する両面保護偏光板を用いる場合は、保護フィルム／偏光フィルム／保護フィルム／粘接着剤層／位相差フィルムから構成される円偏光板とすることができる。

前記構成において、偏光フィルムの吸収軸と位相差フィルムの遅相軸とのなす角度は、３５°〜５５°であり、３８°〜５２°がより好ましく、４０°〜５０°がさらに好ましく、４２°〜４８°がさらに好ましく、４４°〜４６°が特に好ましい。
当該角度がこのような範囲であれば、所望の円偏光機能が実現され得るため好ましい。なお、本明細書において角度に言及するときは、特に明記しない限り、当該角度は時計回り及び反時計回りの両方の方向の角度を包含する。

本発明の円偏光板には、前記以外の接着剤層や粘着剤層、下塗り層（プライマー層）等の介在層や、易接着層を含んでいてもよい。

また、本発明の円偏光板には、機能層を設けることができる。機能層を設けることで、偏光フィルムに生じる貫通クラック及びナノスリット等の欠陥の発生を抑制することができるため、好ましい。機能層は、各種の形成材から形成することができる。機能層は、例えば、樹脂材料を偏光フィルムに塗布することにより形成することができる。

前記機能層を形成する樹脂材料としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ＰＶＡ系樹脂、アクリル系樹脂等を挙げることができる。これら樹脂材料は１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができるが、これらの中でも、ポリウレタン系樹脂、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系樹脂からなる群から選択される１種以上が好ましく、ＰＶＡ系樹脂がより好ましい。また、前記樹脂の形態は、水系、溶剤系のいずれでもよい。前記樹脂の形態は、水系樹脂が好ましく、ＰＶＡ系樹脂が好ましい。また、水系樹脂としては、アクリル樹脂水溶液やウレタン樹脂水溶液を用いることができる。

前記機能層は、厚くなりすぎると光学信頼性と耐水性が低下するため、機能層の厚みは１５μｍ以下であるのが好ましく、１０μｍ以下であるのがより好ましく、８μｍ以下がさらに好ましく、６μｍ以下がさらに好ましく、５μｍ以下がさらに好ましく、３μｍ以下が特に好ましい。一方、機能層の厚みは０．２μｍ以上であることが好ましく、０．５μｍ以上であるのがより好ましく、０．７μｍ以上であるのがさらに好ましい。当該厚みの機能層により、クラックの発生を抑制することができるため、好ましい。

（粘着剤付き円偏光板）
本発明の円偏光板は、少なくともいずれか一方の表面に粘着剤層を設けて粘着剤付き円偏光板とすることができる。粘着剤層は、位相差フィルムを基準にして、偏光フィルム側とは反対側に設けることができる。用いる粘着剤は、特に限定されるものではなく、公知のものを用いることができる。

この粘着剤層としては、光学透明性に優れ、適度な濡れ性、凝集性、及び接着性等の粘着特性を示すものであればよいが、耐久性等に優れるものが好ましく用いられる。具体的に粘着剤層を形成する粘着剤としては、例えば、アクリル系樹脂やゴム系樹脂からなる感圧性接着剤（アクリル系粘着剤やゴム系粘着剤ともいう）が挙げられる。

前記アクリル系粘着剤から形成される粘着剤層は、特に限定されるものではないが、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、及び（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルのような（メタ）アクリル酸エステル系樹脂や、これらの（メタ）アクリル酸エステルを２種類以上用いた共重合樹脂が好ましく用いられる。また、これらの樹脂には、極性モノマーが共重合されている。極性モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリルアミド、２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、及びグリシジル（メタ）アクリレートといったカルボキシル基、水酸基、アミド基、アミノ基，及びエポキシ基等の極性官能基を有するモノマーが挙げられる。また、粘着剤には、通常、アクリル系樹脂とともに架橋剤が配合されている。

粘着剤にはこの他、各種の添加剤が配合されていてもよい。好適な添加剤として、シランカップリング剤や帯電防止剤がある。シランカップリング剤は、ガラスとの接着力を高めるうえで有効である。帯電防止剤は、静電気の発生を低減又は防止するうえで有効である。

すくなくとも一方の粘着剤の厚みは、３〜５０μｍとすることが好ましい。さらに好ましくは、３〜３０μｍである。

粘着剤層に導電性を持たせる場合には、その抵抗値は適宜選択されればよいが、例えば１×１０^９〜１×１０^１１Ω／□の範囲であることが好ましい。

円偏光板に形成する前記粘着剤層の形成方法は、公知の方法により行うことができる。

（積層体）
本発明の円偏光板に、後述のウインドウや、後述のタッチセンサを積層させることで、積層体を得ることができる。ウインドウは、後述のものの他、ガラスを使用することもできる。積層体としては、円偏光板とタッチセンサとを備える積層体、円偏光板とウインドウとを備える積層体、又は、円偏光板とタッチセンサとウインドウとを備える積層体が挙げられる。円偏光板とタッチセンサとウインドウとを備える積層体は、ウインドウ、タッチセンサ、及び円偏光板がこの順に積層されていてもよいし、ウインドウ、円偏光板、及びタッチセンサがこの順に積層されていてもよい。

（画像表示装置）
本発明の画像表示装置は、本発明の円偏光板又は積層体を有することを特徴とする。
例えば、前記粘着剤層を介して円偏光板は画像表示素子に積層され得る。

画像表示装置としての種類は問わず公知のものが使用できる。例えば、有機ＥＬ表示装置に本発明の円偏光板が好適に用いることができる。とくに、フレキシブル有機ＥＬ表示装置の反射防止偏光板として好適に用いることができる。

（フレキシブル画像表示装置）
フレキシブル画像表示装置は、フレキシブル画像表示装置用積層体と、有機ＥＬ表示パネルとを含み、有機ＥＬ表示パネルに対して視認側にフレキシブル画像表示装置用積層体が配置され、折り曲げ可能に構成されている。フレキシブル画像表示装置用積層体としては、ウインドウ、円偏光板、タッチセンサを含有していてもよく、それらの積層順は任意であるが、視認側からウインドウ、円偏光板、タッチセンサ又はウインドウ、タッチセンサ、円偏光板の順に積層されていることが好ましい。タッチセンサの視認側に円偏光板が存在すると、タッチセンサのパターンが視認されにくくなり表示画像の視認性が良くなるので好ましい。それぞれの部材は接着剤、粘着剤等を用いて積層することができる。
また、前記ウインドウ、円偏光板、タッチセンサのいずれかの層に遮光パターンを具備することができる。

（ウインドウ）
ウインドウは、フレキシブル画像表示装置の視認側に配置され、その他の構成要素を外部からの衝撃又は温湿度等の環境変化から保護する役割を担っている。従来このような保護層としてはガラスが使用されてきたが、フレキシブル画像表示装置におけるウインドウはガラスのようにリジッドで堅いものではなく、フレキシブルな特性を有する。前記ウインドウは、フレキシブルな透明基材からなり、少なくとも一面にハードコート層を含んでいてもよい。

ウインドウに用いる透明基材は、可視光線の透過率が７０％以上、好ましくは８０％以上である。前記透明基材は、透明性のある高分子フィルムなら、どのようなものでも使用可能である。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ノルボルネン又はシクロオレフィンを含む単量体の単位を有するシクロオレフィン系誘導体等のポリオレフィン類、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、プロピオニルセルロース等の（変性）セルロース類、メチルメタクリレート（共）重合体等のアクリル類、スチレン（共）重合体等のポリスチレン類、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体類、アクリロニトリル・スチレン共重合体類、エチレン‐酢酸ビニル共重合体類、ポリ塩化ビニル類、ポリ塩化ビニリデン類、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート等のポリエステル類、ナイロン等のポリアミド類、ポリイミド類、ポリアミドイミド類、ポリエーテルイミド類、ポリエーテルスルホン類、ポリスルホン類、ポリビニルアルコール類、ポリビニルアセタール類、ポリウレタン類、エポキシ樹脂類等の高分子で形成されたフィルムであってもよい。これらの高分子はそれぞれ単独又は2種以上混合して使用することができる。この高分子フィルムは、未延伸、１軸又は２軸延伸フィルムのいずれでもよい。好ましくは、前記記載の透明基材の中でも透明性及び耐熱性に優れたポリアミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム又はポリイミドフィルム、ポリエステル系フィルム、オレフィン系フィルム、アクリルフィルム、セルロース系フィルムが好ましい。高分子フィルムの中には、シリカ等の無機粒子、有機微粒子、ゴム粒子等を分散させることも好ましい。さらに、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、可塑剤、熱安定剤、光安定剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤などの配合剤を含有させてもよい。前記透明基材の厚さは５〜２００μｍ、好ましくは、２０〜１００μｍである。

前記ウインドウには透明基材の少なくとも一面にハードコート層が設けられていてもよい。ハードコート層の厚さは特に限定されず、例えば、２〜１００μｍであってもよい。
前記ハードコート層の厚さがこのような範囲であれば、十分な耐擦傷性を確保し、耐屈曲性に優れるという効果がある。また、硬化収縮によるカール発生を低くすることもできる。

前記ハードコート層は、活性エネルギー線あるいは熱エネルギーを照射して架橋構造を形成する反応性材料を含むハードコート組成物の硬化により形成することができる。中でも、活性エネルギー線硬化によるものが好ましい。活性エネルギー線とは、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることができるエネルギー線と定義される。活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線及び電子線などを挙げることができる。紫外線が特に好ましい。前記ハードコート組成物は、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも１種の重合物を含有する。

前記ラジカル重合性化合物とは、ラジカル重合性基を有する化合物である。前記ラジカル重合性化合物が有するラジカル重合性基としては、ラジカル重合反応を生じ得る官能基であればよく、炭素‐炭素不飽和二重結合を含む基などが挙げられる。具体的には、ビニル基、（メタ）アクリロイル基等が挙げられる。なお、前記ラジカル重合性化合物が２個以上のラジカル重合性基を有する場合、これらのラジカル重合性基はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。前記ラジカル重合性化合物が１分子中に有するラジカル重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、２つ以上であることが好ましい。前記ラジカル重合性化合物としては、反応性の高さの点から、中でも（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好ましく、１分子中に２〜６個の（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレートモノマーと称される化合物やエポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレートと称される分子内に数個の（メタ）アクリロイル基を有する分子量が数百から数千のオリゴマーを好ましく使用できる。エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート及びポリエステル（メタ）アクリレートから選択された１種以上を含むことが好ましい。

前記カチオン重合性化合物とは、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基等のカチオン重合性基を有する化合物である。前記カチオン重合性化合物が１分子中に有するカチオン重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、２つ以上であることが好ましく、更に３つ以上であることが好ましい。また、前記カチオン重合性化合物としては、中でも、カチオン重合性基としてエポキシ基及びオキセタニル基の少なくとも１種を有する化合物が好ましい。エポキシ基、オキセタニル基等の環状エーテル基は、重合反応に伴う収縮が小さいという点から好ましい。また、環状エーテル基のうちエポキシ基を有する化合物は多様な構造の化合物が入手し易く、得られたハードコート層の耐久性に悪影響を与えず、ラジカル重合性化合物との相溶性もコントロールし易いという利点がある。また、環状エーテル基のうちオキセタニル基は、エポキシ基と比較して重合度が高くなりやすく、低毒性であり、得られたハードコート層のカチオン重合性化合物から得られるネットワーク形成速度を早め、ラジカル重合性化合物と混在する領域でも未反応のモノマーを膜中に残さずに独立したネットワークを形成する等の利点がある。

エポキシ基を有するカチオン重合性化合物としては、例えば、脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル又は、シクロヘキセン環、シクロペンテン環含有化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化する事によって得られる脂環族エポキシ樹脂；脂肪族多価アルコール、又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジル（メタ）アクリレートのホモポリマー、コポリマーなどの脂肪族エポキシ樹脂；ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦや水添ビスフェノールＡ等のビスフェノール類、又はそれらのアルキレンオキサイド付加体、カプロラクトン付加体等の誘導体と、エピクロルヒドリンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル、及びノボラックエポキシ樹脂等でありビスフェノール類から誘導されるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂等が挙げられる。
前記ハードコート組成物には重合開始剤をさらに含むことができる。重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等であり、適宜選択して用いることができる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。

ラジカル重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくともいずれかによりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であればよい。例えば、熱ラジカル重合開始剤としては、過酸化水素、過安息香酸等の有機過酸化物、アゾビスブチロニトリル等のアゾ化合物等があげられる。

活性エネルギー線ラジカル重合開始剤としては、分子の分解でラジカルが生成されるＴｙｐｅ１型ラジカル重合開始剤と、３級アミンと共存して水素引き抜き型反応でラジカルを生成するＴｙｐｅ２型ラジカル重合開始剤があり、それぞれ単独で又は併用して使用することもできる。

カチオン重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくともいずれかによりカチオン重合を開始させる物質を放出することが可能であればよい。カチオン重合開始剤としては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、シクロペンタジエニル鉄（ＩＩ）錯体等が使用できる。これらは、構造の違いによって活性エネルギー線照射又は加熱のいずれか又はいずれでもカチオン重合を開始することができる。前記重合開始剤は、前記ハードコート組成物全体１００重量％に対して０．１〜１０重量％を含むことができる。前記重合開始剤の含量が０．１重量％未満の場合、硬化を十分に進行させることができず、最終的に得られた塗膜の機械的物性や密着力を具現することが難しく、１０重量％を超える場合、硬化収縮による接着力不良や割れ現象及びカール現象が発生することがある。

前記ハードコート組成物はさらに溶剤、添加剤からなる群から選択される一つ以上をさらに含むことができる。前記溶剤は、前記重合性化合物及び重合開始剤を溶解又は分散させることができるもので、本技術分野のハードコート組成物の溶剤として知られているものなら制限なく使用することができる。前記添加剤は、無機粒子、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、帯電防止剤、潤滑剤、防汚剤などをさらに含むことができる。

（タッチセンサ）
タッチセンサは入力手段として用いられる。タッチセンサとしては、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式等様々な様式が提案されており、いずれの方式でも構わない。中でも静電容量方式が好ましい。静電容量方式タッチセンサは活性領域及び前記活性領域の外郭部に位置する非活性領域に区分される。活性領域は表示パネルで画面が表示される領域（表示部）に対応する領域であって、使用者のタッチが感知される領域であり、非活性領域は表示装置で画面が表示されない領域（非表示部）に対応する領域である。タッチセンサはフレキシブルな特性を有する基板と；前記基板の活性領域に形成された感知パターンと；前記基板の非活性領域に形成され、前記感知パターンとパッド部を介して外部の駆動回路と接続するための各センシングラインを含むことができる。フレキシブルな特性を有する基板としては、前記ウインドウの透明基板と同様の材料が使用できる。タッチセンサの基板は、靱性が２，０００ＭＰａ％以上のものがタッチセンサのクラック抑制の面から好ましい。より好ましくは靱性が２，０００ＭＰａ％〜３０，０００ＭＰａ％であってもよい。

前記感知パターンは、第１方向に形成された第１パターン及び第２方向に形成された第２パターンを備えることができる。第１パターンと第２パターンは互いに異なる方向に配置される。第１パターン及び第２パターンは、同一層に形成され、タッチされる地点を感知するためには、それぞれのパターンが電気的に接続されなければならない。第１パターンは各単位パターンが継ぎ手を介して互いに接続された形態であるが、第２パターンは各単位パターンがアイランド形態に互いに分離された構造になっているので、第２パターンを電気的に接続するためには別途のブリッジ電極が必要である。感知パターンは周知の透明電極素材を適用することができる。例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、亜鉛酸化物（ＺｎＯ）、インジウム亜鉛スズ酸化物（ＩＺＴＯ）、カドミウムスズ酸化物（ＣＴＯ）、ＰＥＤＯＴ（ｐｏｌｙ（３，４―ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ））、炭素ナノチューブ（ＣＮＴ）、グラフェン、金属ワイヤなどを挙げることができ、これらは単独又は２種以上混合して使用することができる。好ましくはＩＴＯを使用することができる。金属ワイヤに使用される金属は特に限定されず、例えば、銀、金、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、チタン、テルル、クロムなどを挙げることができる。これらは単独又は２種以上混合して使用することができる。

ブリッジ電極は感知パターン上部に絶縁層を介して前記絶縁層上部に形成することができ、基板上にブリッジ電極が形成されており、その上に絶縁層及び感知パターンを形成することができる。前記ブリッジ電極は感知パターンと同じ素材で形成することもでき、モリブデン、銀、アルミニウム、銅、パラジウム、金、白金、亜鉛、スズ、チタン又はこれらのうちの２種以上の合金などの金属で形成することもできる。第１パターンと第２パターンは電気的に絶縁されなければならないので、感知パターンとブリッジ電極の間には絶縁層が形成される。絶縁層は第１パターンの継ぎ手とブリッジ電極の間にのみ形成することもでき、感知パターンを覆う層の構造に形成することもできる。後者の場合は、ブリッジ電極は絶縁層に形成されたコンタクトホールを介して第２パターンを接続することができる。前記タッチセンサはパターンが形成されたパターン領域と 、パターンが形成されていない非パターン領域間の透過率の差、具体的には、これらの領域における屈折率の差によって誘発される光透過率の差を適切に補償するための手段として基板と電極の間に光学調節層をさらに含むことができ、前記光学調節層は無機絶縁物質又は有機絶縁物質を含むことができる。光学調節層は光硬化性有機バインダー及び溶剤を含む光硬化組成物を基板上にコーティングして形成することができる。前記光硬化組成物は無機粒子をさらに含むことができる。前記無機粒子によって光学調節層の屈折率が上昇することができる。

前記光硬化性有機バインダーは、例えば、アクリレート系単量体、スチレン系単量体、カルボン酸系単量体などの各単量体の共重合体を含むことができる。前記光硬化性有機バインダーは、例えば、エポキシ基含有繰り返し単位、アクリレート繰り返し単位、カルボン酸繰り返し単位等の互いに異なる各繰り返し単位を含む共重合体であってもよい。前記無機粒子は、例えば、ジルコニア粒子、チタニア粒子、アルミナ粒子などを含むことができる。 前記光硬化組成物は、光重合開始剤、重合性モノマー、硬化補助剤などの各添加剤をさらに含むこともできる。

前記フレキシブル画像表示装置用積層体を形成する各層（ウインドウ、円偏光板、タッチセンサ）は接着剤によって積層することができる。接着剤としては、水系接着剤、有機溶剤系、無溶剤系接着剤、固体接着剤、溶剤揮散型接着剤、湿気硬化型接着剤、加熱硬化型接着剤、嫌気硬化型、活性エネルギー線硬化型接着剤、硬化剤混合型接着剤、熱溶融型接着剤、感圧型接着剤（粘着剤）、再湿型接着剤等汎用に使用されているものが使用できる。中でも水系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、粘着剤がよくもちいられる。接着剤層の厚さは、求められる接着力等に応じて適宜調節することができ、０．０１μｍ〜５００μｍ、好ましくは０．１μｍ〜３００μｍであり、前記フレキシブル画像表示装置用積層体には複数存在するがそれぞれの厚み種類は同じであっても異なっていてもよい。

（遮光パターン）
前記遮光パターンは、フレキシブル画像表示装置のベゼル又はハウジングの少なくとも一部として適用することができる。遮光パターンによって前記フレキシブル画像表示装置の辺縁部に配置される配線が隠されて視認されにくくすることで、画像の視認性が向上する。前記遮光パターンは単層又は複層の形態であってもよい。遮光パターンのカラーは特に制限されることはなく、黒色、白色、金属色などの多様なカラーを有する。遮光パターンはカラーを具現するための顔料と、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーンなどの高分子で形成することができる。これらの単独又は２種類以上の混合物で使用することもできる。前記遮光パターンは、印刷、リソグラフィ、インクジェットなど各種の方法にて形成することができる。遮光パターンの厚さは１μｍ〜１００μｍであってもよく、好ましくは２μｍ〜５０μｍでる。また、光パターンの厚み方向に傾斜等の形状を付与することも好ましい。

以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。例中、含有量ないし使用量を表す部及び％は、特記ないかぎり重量基準である。なお、以下の例における各物性の測定は、次の方法で行った。

（１）厚さの測定：
株式会社ニコン製のデジタルマイクロメーター“MH-15M”を用いて測定した。

（２）面内レターデーション及び厚み方向レターデーションの測定：
王子計測機器株式会社製の平行ニコル回転法を原理とする位相差計“KOBRA（登録商標）-WPR”を用い、２３℃の温度において、各波長での面内レターデーション及び厚み方向レターデーションを測定した。

（３）実在異物数
実施例及び比較例で得られた円偏光板を、微分干渉顕微鏡（ＯＬＹＭＰＵＳ ＬＧ−ＰＳ２）を用いて倍率５０倍で観測し、認識される異物数を測定した。

（４）表示欠陥数
デジタル光学顕微鏡（株式会社キーエンス製 デジタルマイクロスコープＶＨＸ−５００）を用いて、倍率１００倍で表示欠陥数を観測した。具体的には、実施例及び比較例で得られた円偏光板を顕微鏡に配置し、後述の製造例５で作製した円偏光板を検査用偏光板として配置した疑似的クロスニコル状態で観測を行った。観測された輝点の数を表示欠陥数とした。

［製造例１］偏光フィルムの作製
厚み３０μｍのポリビニルアルコールフィルム（平均重合度約２４００、ケン化度９９．９モル％以上）を、乾式延伸により約４倍に一軸延伸し、さらに緊張状態を保ったまま、４０℃の純水に４０秒間浸漬した後、ヨウ素／ヨウ化カリウム／水の重量比が０．０５２／５．７／１００の水溶液に２８℃で３０秒間浸漬して染色処理を行った。その後、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水の重量比が１１．０／６．２／１００の水溶液に７０℃で１２０秒間浸漬した。引き続き、８℃の純水で１５秒間洗浄した後、３００Ｎの張力で保持した状態で、６０℃で５０秒間、次いで７５℃で２０秒間乾燥して、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素が吸着配向している厚み１２μｍの偏光フィルムを得た。

［製造例２］位相差フィルムＡの作製
ポリビニルアルコール（ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型、和光純薬工業株式会社製）の２質量％水溶液を配向膜形成用組成物とした。
以下に示す重合性液晶化合物Ａ、及び重合性液晶化合物Ｂを９０：１０の質量比で混合した混合物に対して、レベリング剤（Ｆ−５５６；ＤＩＣ社製）を１．０部、及び重合開始剤である２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン（「イルガキュア３６９（Ｉｒｇ３６９）」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を６部添加した。
さらに、固形分濃度が１３％となるようにＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）を添加し、８０℃で１時間攪拌することにより、液晶組成物を得た。
重合性液晶化合物Ａは特開２０１０−３１２２３号公報に記載の方法で製造した。また、重合性液晶化合物Ｂは、特開２００９−１７３８９３号公報に記載の方法に準じて製造した。以下にそれぞれの分子構造を示す。
［重合性液晶化合物Ａ］

［重合性液晶化合物Ｂ］

〔支持基材、配向膜、配向液晶硬化膜からなる積層体の製造〕
支持基材として５０μｍ厚のシクロオレフィン系フィルム〔日本ゼオン（株）製の商品名「ＺＦ−１４−５０」〕上にコロナ処理を実施した後、配向膜形成用組成物をバーコーターで塗布し、６０℃で１分間、さらに８０℃で３分乾燥し、厚み８９ｎｍの膜を形成した。
続いて、得られた膜の表面にラビング処理を施し配向膜を形成した。ラビング処理は、半自動ラビング装置（商品名：ＬＱ−００８型、常陽工学株式会社製）を用いて、布（商品名：ＹＡ−２０−ＲＷ、吉川化工株式会社製）によって、押し込み量０．１５ｍｍ、回転数５００ｒｐｍ、１６．７ｍｍ／ｓの条件で行った。その後、配向膜のラビング処理をされた面に圧縮エアーを吹き付けた。なお、ラビング処理の方向は、偏光フィルムに貼り合わせる際に偏光フィルムの吸収軸の方向に対して視認側から見て反時計回りに４５°方向となるようにした。
次いで、配向膜に、液晶組成物を、バーコーターを用いて塗布し、１２０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプ〔ウシオ電機（株） の商品名：「ユニキュアＶＢ−１５２０１ＢＹ−Ａ」〕を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：５００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより、配向液晶硬化膜を形成し、基材、配向膜及び位相差フィルムからなる積層体を得た。

前記方法にて製造した位相差フィルムのＲｅ（λ）は、粘着剤を介してガラスに貼合した後、支持基材であるシクロオレフィン系フィルムを剥離した（このシクロオレフィン系フィルムを剥離して得られたフィルムを「位相差フィルムＡ」とする）後に測定した。得られた位相差フィルムＡの膜厚をレーザー顕微鏡で測定したところ、膜厚は２．１μｍであった。各波長における位相差値Ｒｅ（λ）を測定結果は、Ｒｅ（４５０）＝１２１ｎｍ、Ｒｅ（５５０）＝１４２ｎｍ、Ｒｅ（６５０）＝１４６ｎｍであった。Ｒｅ（５５０）が９０〜１９０ｎｍの範囲内であり、λ／４板として機能するものであった。Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８５、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０３であり、式（α）及び式（β）の関係を満たすものであった。加えて、位相差フィルムＡの表面には高さ０．４μｍ以上の突出部は認められなかったことから、実質的に平坦であることを確認した。

［製造例３］位相差フィルムＢの作製
ポリビニルアルコール（ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型、和光純薬工業株式会社製）の２質量％水溶液を配向膜形成用組成物とした。

次に、ネマチック液晶相を示す重合性液晶（ＢＡＳＦ社製、商品名ＰａｌｉｏｃｏｌｏｒＬＣ２４２）１０ｇと、当該重合性液晶化合物に対する光重合開始剤（チバスペシャリティーケミカルズ社製、商品名イルガキュア（登録商標）９０７、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤１％含有）０．５ｇとを、トルエン４０ｇに溶解して、液晶組成物を調製した。

支持基材として５０μｍ厚のシクロオレフィン系フィルム〔日本ゼオン（株）製の商品名「ＺＦ−１４−５０」〕上にコロナ処理を実施した後、配向膜形成用組成物をバーコーターで塗布し、６０℃で１分間、さらに８０℃で３分乾燥し、厚み９５ｎｍの膜を形成した。
続いて、得られた膜の表面にラビング処理を施し配向膜を形成した。ラビング処理は、半自動ラビング装置（商品名：ＬＱ−００８型、常陽工学株式会社製）を用いて、布（商品名：ＹＡ−２０−ＲＷ、吉川化工株式会社製）によって、押し込み量０．１５ｍｍ、回転数５００ｒｐｍ、１６．７ｍｍ／ｓの条件で行った。なお、ラビング処理の方向は、偏光フィルムに貼り合わせる際に偏光フィルムの吸収軸の方向に対して視認側から見て反時計回りに４５°方向となるようにした。

次いで、この配向膜上に、液晶組成物を、バーコーターを用いて塗布し、１００℃で１分間乾燥した。その後、高圧水銀ランプを用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１２００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより、この配向膜上に位相差フィルムＢを形成した。得られた位相差フィルムＢの膜厚をレーザー顕微鏡で測定したところ、膜厚は９７３ｎｍであった。位相差値を測定したところ、Ｒｅ（５５０）＝１３５ｎｍであり、配向角は前記ＴＡＣの長手方向に対して７５°であった。また、波長４５０ｎｍならびに波長６５０ｎｍの位相差値を測定したところ、Ｒｅ（４５０）＝１４５ｎｍ、Ｒｅ（６５０）＝１３２ｎｍであった。Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０７，Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．９８であり、式（α）及び式（β）の関係を満たすものではなかった。位相差フィルムＢの表面には高さ０．４μｍ以上の突出部が多数認められ、実質的に平坦ではなかった。

［製造例４］第２の位相差フィルムＣの作製
基材フィルム（トリアセチルセルロースフィルム、厚み８０μｍ）の表面に市販の垂直配向膜（ＪＡＬＳ−２０４Ｒ、日本合成ゴム株式会社製）をメチルエチルケトンで１：１に希釈したのち、ワイヤーバーコーターで塗布した（塗布量２．４ｍｌ／ｍ²）。直ちに、１２０℃の温風で１２０秒乾燥した。

次に、下記の棒状液晶化合物３．８ｇ、光重合開始剤（イルガキュア（登録商標）９０７）０．０６ｇ、増感剤（カヤキュア（登録商標）ＤＥＴＸ、日本化薬株式会社製）０．０２ｇ、下記の空気界面側垂直配向剤０．００２ｇを９．２ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を調製した。前記配向膜を形成したフィルムの配向膜側に、この溶液をワイヤーバーで塗布し、１００℃で２分間加熱し、棒状液晶化合物を配向させた。次に、８０℃で１２０Ｗ／ｃｍ^２高圧水銀灯により、２０秒間ＵＶ 照射し棒状液晶化合物を架橋して、その後、室温まで放冷してポジティブＣプレートの特性を持つ位相差層を作製した。得られた位相差層の厚みは０．５μｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は−７０．３ｎｍであった。

棒状液晶化合物

空気界面側垂直配向剤：
特願２００３−１１９９５９号記載の例示化合物（ＩＩ−４）

［製造例５］検査用円偏光板の作製
製造例１で得られた偏光フィルムの片面に、接着剤層の厚さが０．１μｍになるようにポリビニルアルコール系接着剤を塗布し、保護フィルム（トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（商品名：ＫＣ２ＵＡＷ、厚み：２５μｍ、コニカミノルタ株式会社製）を貼合せたのち、８０℃で２分間の乾燥を行い、片面保護フィルム付き偏光板を作製した。
得られた片面保護フィルム付き偏光板の偏光フィルム側に、アクリル系粘着剤（リンテック株式会社製、ＮＣＦ ＃Ｌ２、厚み５μｍ）を介して、位相差フィルム（日本ゼオン株式会社製 延伸フィルム；ＺＤ１２シリーズ；Ｒｅ（５５０）＝１４１ｎｍ）を貼り合わせた。ここで、位相差フィルムの遅相軸が偏光フィルムの吸収軸に対して時計回りに４５°となるように貼り合わせた。

[実施例１]
製造例１で得られた偏光フィルムの片面に、接着剤層の厚さが０．１μｍになるようにポリビニルアルコール系接着剤を塗布しながら、保護フィルム（トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（商品名：ＫＣ２ＵＡＷ、厚み：２５μｍ、コニカミノルタ社製）を貼合せたのち、８０℃で２分間の乾燥を行い、片面保護フィルム付き偏光板を作製した。
得られた片面保護フィルム付き偏光板の偏光フィルム側に、アクリル系粘着剤（リンテック社製、ＮＣＦ ＃Ｌ２、厚み５μｍ）を介して、製造例２で得られた位相差フィルムＡを貼り合わせた。ここで、位相差フィルムＡの遅相軸が偏光フィルムの吸収軸に対して反時計回りに４５°となるように貼り合わせた。さらに位相差フィルムＡの基材フィルムを剥離した後、アクリル系粘着剤（リンテック社製、Ｐ−３１３２、厚み２５μｍ）を貼りあわせ円偏光板を得た。得られた円偏光板は、ＴＡＣフィルム／接着剤層／偏光フィルム／アクリル系粘着剤層／位相差フィルムＡ／アクリル系粘着剤／セパレータからなる構造を有していた。

得られた円偏光板を寸法１００ｍｍ×１００ｍｍに切り出した。得られた円偏光板を前記（３）及び（４）の評価に供した。得られた円偏光板１００枚を検査した結果、位相差フィルムＡの実在異物数は約２００個／ｍ^２であり、円偏光板の表示欠陥数は７個／ｍ^２であった。異物は、ポリビニルアルコールであり、ラビングくずであった。

[実施例２]
製造例１で得られた偏光フィルムの両面に、接着剤層の厚さが０．１μｍになるようにポリビニルアルコール系接着剤を塗布しながら、保護フィルム（トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（商品名：ＫＣ２ＣＴ、厚み：２０μｍ、コニカミノルタ社製）を貼合せたのち、８０℃で２分間の乾燥を行い、両面保護フィルム付き偏光板を作製した。
実施例１の片面保護フィルム付き偏光板を、前記両面保護フィルム付き偏光板に変更した以外は同様に評価サンプルを作製した。得られた円偏光板は、ＴＡＣフィルム／接着剤層／偏光フィルム／接着剤層／ＴＡＣフィルム／アクリル系粘着剤層／位相差フィルムＡ／アクリル系粘着剤／セパレータからなる構造を有していた。

得られた円偏光板を寸法１００ｍｍ×１００ｍｍに切り出した。得られた円偏光板を前記（３）及び（４）の評価に供した。得られた円偏光板１００枚を検査した結果、位相差フィルムの実在異物数は約２００個／ｍ^２であり、円偏光板の表示欠陥数は６個／ｍ^２であった。異物は、ポリビニルアルコールであり、ラビングくずであった。

[実施例３]
製造例１で得られた偏光フィルムの片面に、接着剤層の厚さが０．１μｍになるようにポリビニルアルコール系接着剤を塗布しながら、保護フィルム（トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（商品名：ＫＣ２ＵＡＷ、厚み：２５μｍ、コニカミノルタ社製）を貼合せたのち、８０℃で２分間の乾燥を行い、片面保護フィルム付き偏光板を作製した。
得られた片面保護フィルム付き偏光板の偏光フィルム側に、アクリル系粘着剤（リンテック社製、ＮＣＦ ＃Ｌ２、厚み５μｍ）を介して、製造例２で得られた位相差フィルムＡを貼り合わせた。ここで、位相差フィルムＡの遅相軸が偏光フィルムの吸収軸に対して反時計回りに４５°となるように貼り合わせた。さらに位相差フィルムＡの基材フィルムを剥離した後、アクリル系粘着剤（リンテック社製、ＮＣＦ ＃Ｌ２、厚み５μｍ）を介して、製造例４で得られた位相差フィルムＣを貼り合わせた。最後に、位相差フィルムＣの基材フィルムを剥離した後、アクリル系粘着剤（リンテック社製、Ｐ−３１３２、厚み２５μｍ）を貼りあわせ円偏光板を得た。得られた円偏光板は、ＴＡＣフィルム／接着剤層／偏光フィルム／粘着剤層／位相差フィルムＡ／アクリル系粘着剤／位相差フィルムＣ／アクリル系粘着剤／セパレータからなる構造を有していた。

得られた円偏光板を寸法１００ｍｍ×１００ｍｍに切り出した。得られた円偏光板を前記（３）及び（４）の評価に供した。得られた円偏光板１００枚を検査した結果、位相差フィルムＡの実在異物数は約２００個／ｍ^２であり、円偏光板の表示欠陥数は７個／ｍ^２であった。異物は、ポリビニルアルコールであり、ラビングくずであった。

[比較例１]
実施例１の位相差フィルムＡを製造例３で得られた位相差フィルムＢに変更した以外は同様に円偏光板を作製した。

得られた円偏光板を寸法１００ｍｍ×１００ｍｍに切り出した。得られた円偏光板を前記（３）及び（４）の評価に供した。得られた円偏光板１００枚を検査した結果、位相差フィルムの実在異物数は約２００個／ｍ^２であり、円偏光板の表示欠陥数は１６８個／ｍ^２であった。異物は、ポリビニルアルコールであり、ラビングくずであった。

本発明によれば、非常に薄く、優れた反射防止特性を有し、かつ、異物に起因する画像表示装置の表示性能に対する悪影響が抑制された円偏光板を得ることができるので有用である。

（用語及び記号の定義）
本明細書における用語及び記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大となる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差値
面内の位相差値（Ｒｅ（λ））は、温度２３℃、波長λ（ｎｍ）におけるフィルムの面内の位相差値をいう。Ｒｅ（λ）は、フィルムの厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。
（３）厚み方向の位相差値
厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ（λ））は、温度２３℃、波長λ（ｎｍ）におけるフィルムの厚み方向の位相差値をいう。Ｒｔｈ（λ）は、フィルムの厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄによって求められる。

Claims (6)

1. 偏光フィルムと、λ／４板として機能する位相差フィルムとを、この順に備え、前記偏光フィルムの吸収軸と位相差フィルムの遅相軸とのなす角が３５°〜５５°であり、
   前記位相差フィルムは、液晶材料を含み、
   前記位相差フィルムが下記式（α）及び（β）を満たし、
   Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （α）
   １．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （β）
   前記位相差フィルムが異物を含み、
   前記位相差フィルムの厚みが１．５μｍ以上であり、
   前記位相差フィルムの表面が実質的に平坦である、円偏光板。
   ［式中、Ｒｅ（４５０）は波長４５０ｎｍにおける面内位相差値を表し、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける面内位相差値を表し、Ｒｅ（６５０）は波長６５０ｎｍにおける面内位相差値を表す。］
2. 前記異物がラビングくずである、請求項１に記載の円偏光板。
3. 請求項１または２に記載の円偏光板とタッチセンサとを備える積層体。
4. 請求項１または２に記載の円偏光板を有する画像表示装置。
5. 請求項３に記載の積層体を有する画像表示装置。
6. 前記画像表示装置が、有機エレクトロルミネッセンス表示装置である請求項４または５に記載の画像表示装置。