TWI753950B - 有機el顯示裝置 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種彎曲耐性優異，且抑制了由環境變化所導致之翹曲之發生之有機EL顯示裝置。 本發明之有機EL顯示裝置具備有機EL面板、配置於該有機EL面板之一側之第1光學積層體、及配置於該有機EL面板之另一側之第2光學積層體，該第1光學積層體之厚度為300 μm以下，該第2光學積層體之厚度為300 μm以下，該第1光學積層體之平衡含水率為2.5%以下，該第2光學積層體之平衡含水率為2.5%以下。

Description

有機EL顯示裝置

本發明係關於一種有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示裝置。

近年來，以智慧型手機為代表之智慧型裝置，又，數位標牌或視窗顯示器等顯示裝置於較強之外光之下使用之機會增加。隨之，產生了由顯示裝置本身或用於顯示裝置之觸控面板部或玻璃基板、金屬配線等反射體所導致之外光反射或背景之映入等問題。尤其是，近年來被實用化之有機電致發光(EL)顯示裝置由於具有反射性較高之金屬層，故而易於產生外光反射或背景之映入等問題。因此，已知使用具有特定之功能之光學積層體(例如，作為抗反射膜之圓偏振光板)，而防止該等問題(例如，專利文獻1)。 近年來，對有機EL顯示裝置之可撓性化、可彎曲化之需求增強。可撓性較高之有機EL顯示裝置具有輕量性、薄性、可撓性優異，又，設計性亦優異等各種優點。對用於此種可撓性較高之有機EL顯示裝置，尤其是被稱為摺疊式(foldable)之可摺疊之顯示裝置之光學積層體需求較高之彎曲耐性(反覆彎曲性)。又，亦需求其為較薄且可撓性優異之顯示裝置，另一方面，不會產生由環境變化所導致之翹曲等形狀變化。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本專利特開2006-171235號公報

[發明所欲解決之問題] 本發明係為了解決上述先前之問題而成者，其目的在於提供一種彎曲耐性優異，且抑制了由環境變化所導致之翹曲之發生之有機EL顯示裝置。 [解決問題之技術手段] 本發明之有機EL顯示裝置具備有機EL面板、配置於該有機EL面板之一側之第1光學積層體、及配置於該有機EL面板之另一側之第2光學積層體，該第1光學積層體之厚度為300 μm以下，該第2光學積層體之厚度為300 μm以下，該第1光學積層體之平衡含水率為2.5%以下，該第2光學積層體之平衡含水率為2.5%以下。 於一實施形態中，上述第1光學積層體之厚度與上述第2光學積層體之厚度之差之絕對值為150 μm以下。 於一實施形態中，上述第1光學積層體之平衡含水率與上述第2光學積層體之平衡含水率之差之絕對值為1%以下。 於一實施形態中，上述第1光學積層體之25℃下之拉伸彈性模數為1.5 GPa～10 GPa。 於一實施形態中，上述第2光學積層體之25℃下之拉伸彈性模數為1.5 GPa～10 GPa。 於一實施形態中，上述第1光學積層體至少依序具備基材、偏光元件、光學補償層、及黏著劑層。 於一實施形態中，上述第1光學積層體具備導電層。 於一實施形態中，上述有機EL顯示裝置之翹曲量較佳為3 mm以下。 於一實施形態中，上述有機EL顯示裝置能以10 mm以下之曲率半徑彎曲。 [發明之效果] 根據本發明，可提供一種彎曲耐性優異，且抑制了由環境變化所導致之翹曲之發生之有機EL顯示裝置。

以下，對本發明之有代表性之實施形態進行說明，但本發明並不限定於該等實施形態。 (用語及記號之定義) 本說明書中之用語及記號之定義如下所述。 (1)折射率(nx、ny、nz) 「nx」係面內之折射率變為最大之方向(即，遲相軸方向)之折射率，「ny」係於面內與遲相軸正交之方向(即，進相軸方向)之折射率，「nz」係厚度方向之折射率。 (2)面內相位差(Re) 「Re(λ)」係利用23℃下之波長λnm之光測得之膜之面內相位差。例如，「Re(450)」係利用23℃下之波長450 nm之光測得之膜之面內相位差。Re(λ)係於將膜之厚度設為d(nm)時，由式：Re＝(nx-ny)×d求出。 (3)厚度方向之相位差(Rth) 「Rth(λ)」係利用23℃下之波長550 nm之光測得之膜之厚度方向之相位差。例如，「Rth(450)」係利用23℃下之波長450 nm之光測得之膜之厚度方向之相位差。Rth(λ)係於將膜之厚度設為d(nm)時，由式：Rth＝(nx-nz)×d求出。 (4)Nz係數 Nz係數係由Nz＝Rth/Re求出。 (5)液晶化合物之配向固化層 「配向固化層」係指液晶化合物在層內於特定之方向上配向而其配向狀態被固定之層。再者，「配向固化層」係包含使液晶單體硬化而獲得之配向硬化層之概念。 (6)角度 於本說明書中，提及角度時，只要無特別明確記載，則該角度包含順時針及逆時針之兩者之方向之角度。 A.有機EL顯示裝置之整體構成 圖1係根據本發明之一實施形態之有機EL顯示裝置之概略剖視圖。本實施形態之有機EL顯示裝置100具備有機EL面板200、配置於有機EL面板200之一側之第1光學積層體300、及配置於有機EL面板200之另一側之第2光學積層體400。 於一實施形態中，第1光學積層體300具備偏光元件320、及配置於偏光元件320之至少單側之光學補償層330。於一實施形態中，光學補償層330與偏光元件320之積層體作為圓偏振光板而發揮功能。第1光學積層體300較佳為以將光學補償層330作為基準而偏光元件320成為視認側之方式配置。 於一實施形態中，第1光學積層體300依序具備基材310、偏光元件320、光學補償層330、及黏著劑層340。較佳為，第1光學積層體300以基材310成為視認側之方式配置於有機EL面板200之視認側。基材310較佳為可撓性。於一實施形態中，基材310具有代替有機EL顯示裝置之覆蓋玻璃作為表面保護層之功能，且作為偏光元件320之保護層而發揮功能。代替覆蓋玻璃之結果為，可將光學積層體(作為結果，為有機EL顯示裝置)薄型化。較佳為，基材310與偏光元件320經由任意之適當之接著劑而積層(未圖示)。 第1光學積層體之構成並不限定於圖1所示之構成，可為任意之適當之構成。可視需要進而設置任意之適當之其他層，又，亦可根據用途而省略任一層。又，各層之配置亦可適當變更。作為其他層，例如，可列舉：導電層、印刷層、覆蓋膜、抗反射層、防污層、力感測器等。導電層例如可配置於光學補償層330之與偏光元件320相反之側。藉由設置此種導電層，而第1光學積層體可應用於有機EL面板與偏光元件之間裝入有觸控感測器之所謂內部觸控面板型輸入顯示裝置。印刷層例如形成於第1光學積層體之周緣部(更具體而言，係與有機EL顯示裝置之邊框對應之位置)。印刷層可形成於基材310之偏光元件320側，亦可形成於光學補償層330之與偏光元件320相反之側。於印刷層形成於光學補償層330之與偏光元件320相反之側，且形成有導電層及印刷層之兩者之情形時，代表性而言，可於光學補償層與導電層之間形成印刷層。 於一實施形態中，第2光學積層體400具備基材410、及設置於基材上之黏著劑層440。基材410可作為有機EL面板200之表面保護層而發揮功能。基材410較佳為可撓性。較佳為，第2光學積層體經由黏著劑層440而積層於有機EL面板200。第2光學積層體之構成並不限定於圖1所示之構成，可為任意之適當之構成。亦可視需要進而設置任意之適當之其他層。 有機EL顯示裝置較佳為可彎曲。更詳細而言，有機EL顯示裝置之至少一部分能以較佳為10 mm以下，更佳為8 mm以下之曲率半徑彎曲。有機EL顯示裝置可於任意之適當之部分彎曲。例如，有機EL顯示裝置可如摺疊式之顯示裝置般於中央部彎曲，就最大限度地確保設計性及顯示畫面之觀點而言，亦可於端部彎曲。進而，有機EL顯示裝置可沿著其長邊方向彎曲，亦可沿著其短邊方向彎曲。自不待言，只要根據用途而有機EL顯示裝置之特定部分可彎曲(例如，四角之一部分或全部可於斜方向彎曲)即可。 如下所述，於光學補償層包含相位差膜之情形時，能以相位差膜之遲相軸方向相對於有機EL顯示裝置之彎曲方向較佳為20°～70°，更佳為30°～60°，進而較佳為40°～50°，尤佳為45°附近之方式配置第1光學積層體。如下所述，於光學補償層具有第1液晶配向固化層與第2液晶配向固化層之積層構造之情形時，能以第1液晶配向固化層之遲相軸方向相對於有機EL顯示裝置之彎曲方向較佳為10°～20°，更佳為11°～19°，進而較佳為12°～18°，尤佳為15°附近之方式配置第1光學積層體。於此情形時，第2液晶配向固化層之遲相軸方向相對於有機EL顯示裝置之彎曲方向，較佳為70°～80°，更佳為71°～79°，進而較佳為72°～78°，尤佳為75°附近。再者，由於第1液晶配向固化層及第2液晶配向固化層非常薄且彎曲之影響較少，故而軸角度之調整亦可不及相位差膜之情形嚴密。於任一實施形態中，均可藉由調整光學補償層之遲相軸方向與有機EL顯示裝置之彎曲方向之關係，而獲得抑制了由彎曲所導致之顏色變化之可彎曲之有機EL顯示裝置。於一實施形態中，有機EL顯示裝置之彎曲方向係長邊方向或與長邊方向正交之方向(短邊方向)。於此種實施形態中，只要將光學積層體之偏光元件之吸收軸設定為相對於長邊方向(或短邊方向)正交或平行，則積層於有機EL面板時，只要將偏光元件之吸收軸方向對位即可，無需將光學補償層之遲相軸對位。以此方式，可進行利用卷對卷方式之製造。 上述有機EL顯示裝置之翹曲量較佳為3 mm以下，更佳為1 mm以下。該翹曲量係將有機EL顯示裝置(對角線5英吋之矩形狀)載置於水平面並測定距4個角各自之水平面之高度而獲得之測定值之平均值。 B.第1光學積層體 第1光學積層體之厚度為300 μm以下，較佳為280 μm以下，更佳為260 μm以下，進而較佳為250 μm以下，尤佳為200 μm以下。只要為此種範圍，則可獲得薄型且彎曲性優異，且即便反覆彎曲亦不易破損之有機EL顯示裝置。又，可獲得翹曲較少之有機EL顯示裝置。第1光學積層體之厚度之下限亦根據其構成而有所不同，例如為50 μm。 第1光學積層體之厚度與第2光學積層體之厚度可相同，亦可不同。第1光學積層體之厚度與第2光學積層體之厚度之差之絕對值較佳為150 μm以下，更佳為120 μm以下，進而較佳為100 μm以下，尤佳為50 μm以下。藉由減小第1光學積層體之厚度與第2光學積層體之厚度之差，可獲得翹曲更少之有機EL顯示裝置。 第1光學積層體之平衡含水率為2.5%以下。只要為此種範圍，則可獲得抑制了由溫濕度環境之變化所導致之翹曲之發生的有機EL顯示裝置。光學積層體之平衡含水率可根據構成光學積層體之層之種類、厚度等而進行調整。例如，於光學積層體具備含水率相對較高之層(例如，偏光元件、黏著劑層)之情形時，根據該層之厚度、組成等而調整該光學積層體之平衡含水率。本發明之特徵在於，特定出光學積層體之厚度，且適當地調整平衡含水率，藉此，顯著地抑制有機EL顯示裝置之翹曲。再者，於本說明書中，「平衡含水率」係於濕度55%、溫度23℃將光學積層體放置24小時之時之平衡含水率。「平衡含水率」之測定方法如下所述。 第1光學積層體之平衡含水率較佳為2%以下，更佳為1.5%以下。只要為此種範圍，則上述本發明之效果變得更顯著。第1光學積層體之平衡含水率越小越佳，但其下限例如為0.3%。 第1光學積層體之平衡含水率與第2光學積層體之平衡含水率之差之絕對值較佳為1%以下，更佳為0.8%以下，進而較佳為0.6%以下，尤佳為0.5%以下。藉由減小第1光學積層體之平衡含水率與第2光學積層體之平衡含水率之差，可獲得翹曲更少之有機EL顯示裝置。 第1光學積層體之由加溫(80℃×24 h)所導致之收縮率相對於加溫前之面積，較佳為1.0%以下，更佳為0.8%以下，進而較佳為0.5%以下。只要為此種範圍，則可抑制由環境變化所導致之翹曲之發生。 第1光學積層體之拉伸彈性模數於25℃，較佳為1.5 GPa～10 GPa，更佳為2 GPa～8 GPa。只要為此種範圍，則可使其為彎曲性優異，且不易斷裂之光學積層體。拉伸彈性模數可依據JIS K 7127(試片：啞鈴試片)而進行測定。 於一實施形態中，上述第1光學積層體為長條狀。長條狀之光學積層體例如可捲繞為滾筒狀而進行保管及/或搬運。 以下，對第1光學積層體之有代表性之構成要素進行說明。 B-1.基材 於一實施形態中，基材包含硬塗層及樹脂膜。於光學積層體中，硬塗層可配置於樹脂膜之與偏光元件相反之側之面。根據樹脂膜之構成，可省略硬塗層，亦可於樹脂膜之兩側形成硬塗層。基材可將樹脂膜或硬塗層與樹脂膜之積層體直接貼合於偏光元件而形成，亦可將包含下述樹脂之塗佈液塗佈於偏光元件而形成。 B-1-1.基材之特性 以下，關於基材之特性之說明中之「基材」於樹脂膜單獨之情形時，意指樹脂膜，於包含硬塗層及樹脂膜之情形時，意指其等之積層體。 上述基材具有能以3 mm以下(例如，3 mm、2 mm、1 mm)之曲率半徑彎折較佳為20萬次，更佳為30萬次，進而較佳為50萬次之彎曲性。藉由基材具有此種彎曲性，而於將光學積層體應用於有機EL顯示裝置之情形時可實現可彎曲或可摺疊之有機EL顯示裝置。於基材在樹脂膜之單側具有硬塗層之情形時，彎曲性之試驗係將硬塗層作為內側並將其彎折而進行。基材之彎曲性可藉由夾持心軸而單側之夾頭反覆進行180°彎折之耐折試驗機而測定。 基材較佳為具有彎折後之回復性。彎折後之回復性係指在彎折後不留下折痕之情況下恢復至原本之狀態。彎折後之回復性例如可利用以1 mm之曲率半徑對基材(樹脂膜或積層體)反覆進行180°之彎折之後直至留下折痕為止之反覆次數進行評價。基材較佳為具有於該條件下為10000次以上之回復性。 基材之視認側表面(硬塗層表面或樹脂膜表面)較佳為具有9H以上之鉛筆硬度。進而，該視認側表面具有即便於1000 g負載下進行較佳為300次，更佳為500次，進而較佳為1000次之往返摩擦亦不會產生擦傷之耐擦傷性。只要鉛筆硬度及耐擦傷性為此種範圍，則基材可作為覆蓋玻璃之替代物而良好地發揮功能。鉛筆硬度可依據JIS K 5400-5-4而進行測定。又，耐擦傷性可根據利用鋼絲絨#0000於1000 g負載下對表面進行特定之次數之往返摩擦時之擦傷之狀態而進行評價。 基材之透光率較佳為91%以上，更佳為93%以上，進而較佳為95%以上。基材霧度較佳為0.5%以下，更佳為0.4%以下，進而較佳為0.3%以下。只要基材之透光率及/或霧度為此種範圍，則於光學積層體應用於有機EL顯示裝置之情形時可實現良好之視認性。 B-1-2.硬塗層 硬塗層可包含能滿足上述B-1-1項所記載之特性之任意之適當之材料。作為構成材料之具體例，可列舉：熱硬化型樹脂、熱塑型樹脂、活性能量線硬化型樹脂(例如，紫外線硬化型樹脂、電子束硬化型樹脂)、二液混合型樹脂等。較佳為紫外線硬化型樹脂。其原因在於：可藉由簡單之加工操作而高效率地形成硬塗層。作為紫外線硬化型樹脂，例如，可列舉：聚酯系、丙烯酸系、胺基甲酸酯系、醯胺系、矽酮系、環氧系等各種樹脂。其等包含紫外線硬化型之單體、低聚物、聚合物等。較佳為丙烯酸系樹脂。紫外線硬化型丙烯酸系樹脂包含較佳為具有2個以上之紫外線聚合官能基，更佳為具有3～6個紫外線聚合官能基之單體成分及低聚物成分。代表性而言，紫外線硬化型樹脂中調配有光聚合起始劑。硬化方式可為自由基聚合方式，亦可為陽離子聚合方式。於一實施形態中，亦可使用上述構成材料中調配了二氧化矽粒子或籠狀倍半矽氧烷化合物等之有機無機混合材料。硬塗層之構成材料及形成方法例如記載於日本專利特開2011-237789號公報中。該公報之記載係作為參考而援用於本說明書中。 硬塗層亦可於上述構成材料中調配滑動環材料而形成。藉由調配滑動環材料，可賦予良好之可撓性。作為滑動環材料之代表例，可列舉聚輪烷。代表性而言，聚輪烷具有環糊精(CD)環狀分子於直鏈狀之聚乙二醇(PEG)主鏈滑動之結構。PEG主鏈之兩末端用金剛烷胺修飾，以防止CD環狀分子之脫落。於本發明中所使用之聚輪烷中，CD環狀分子被化學修飾而被賦予活性能量線聚合性基。於使用滑動環材料之情形時，作為上述硬塗層構成材料，較佳地使用具有自由基聚合性基之自由基聚合性單體。作為自由基聚合性基，例如，可列舉：(甲基)丙烯醯基、(甲基)丙烯醯氧基等。其原因在於：其與聚輪烷之相溶性優異，且可選擇多樣之材料。若聚輪烷(實質上為CD環狀分子之聚合性基)與硬塗層構成材料之活性能量線硬化性成分發生反應而硬化，則獲得即便於硬化後交聯點亦可動之硬塗層。其結果為，可緩和彎折時之應力，彎折耐久性提高。聚輪烷及硬化機制例如記載於日本專利特開2015-155530號公報中。該公報之記載係作為參考而援用於本說明書中。 硬塗層亦可於上述構成材料中調配奈米纖維及/或奈米晶體而形成。作為奈米纖維之代表例，可列舉：纖維素奈米纖維、幾丁質奈米纖維、幾丁聚醣奈米纖維。藉由調配該等奈米纖維，可一面維持優異之透明性，一面獲得可撓性、鉛筆硬度、耐擦傷性、耐摩耗性優異之硬塗層。奈米纖維及/或奈米晶體(於組合使用之情形時，為其合計)能以相對於硬塗層整體較佳為0.1重量%～40重量%之比率調配。關於奈米纖維，平均纖維直徑例如為1 nm～100 nm，平均纖維長例如為10 nm～1000 nm。包含奈米纖維之硬塗層例如記載於日本專利特開2012-131201號公報、日本專利特開2012-171171號公報中。該公報之記載係作為參考而援用於本說明書中。 硬塗層之厚度較佳為1 μm～20 μm，更佳為2 μm～15 μm。若厚度過小，則存在硬度不充分，而起因於彎折等之尺寸變化之抑制效果不充分之情況。若厚度過大，則存在對彎曲性及/或摺疊性造成不良影響之情況。 B-1-3.樹脂膜 樹脂膜可包含能滿足上述B-1-1項所記載之特性之任意之適當之材料。作為構成材料之具體例，可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂、聚萘二甲酸乙二酯系樹脂、乙酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醯胺醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚偏二氯乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚苯硫醚系樹脂等。該等樹脂可單獨使用，亦可將2種以上組合而使用。較佳為聚芳酯系樹脂及/或聚醯亞胺系樹脂。 樹脂膜亦可於上述構成材料中調配微粒子。更具體而言，樹脂膜亦可為上述構成材料之基質中分散了奈米級之微粒子之所謂奈米複合材料膜。只要為此種構成，則會賦予非常優異之硬度及耐擦傷性，故而可省略硬塗層。微粒子之平均粒徑例如為1 nm～100 nm左右。代表性而言，微粒子包含無機氧化物。較佳為，微粒子用特定之官能基修飾表面。作為構成微粒子之無機氧化物，例如，可列舉：氧化鋯、添加氧化釔之氧化鋯、鋯酸鉛、鈦酸鍶、鈦酸錫、氧化錫、氧化鉍、氧化鈮、氧化鉭、鉭酸鉀、氧化鎢、氧化鈰、氧化鑭、氧化鎵等、二氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、鈦酸鋇。 樹脂膜之厚度較佳為5 μm～100 μm，更佳為10 μm～80 μm。只要為此種厚度，則薄型化、處理性、機械強度之平衡優異。 B-2.偏光元件 作為偏光元件，可採用任意之適當之偏光元件。例如，形成偏光元件之樹脂膜可為單層之樹脂膜，亦可為兩層以上之積層體。 作為包含單層之樹脂膜之偏光元件之具體例，可列舉：對聚乙烯醇(PVA)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜實施利用碘或二色性染料等二色性物質之染色處理及延伸處理而成者、PVA之脫水處理物或聚氯乙烯之脫氯化氫處理物等多烯系配向膜等。就光學特性優異之方面而言，較佳為使用利用碘將PVA系膜染色並將其單軸延伸而獲得之偏光元件。 上述利用碘之染色例如藉由將PVA系膜浸漬於碘水溶液中而進行。上述單軸延伸之延伸倍率較佳為3～7倍。延伸可於染色處理後進行，亦可一面進行染色一面進行。又，亦可於延伸之後進行染色。視需要對PVA系膜實施膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如，藉由在染色之前將PVA系膜浸漬於水中而進行水洗，不僅可將PVA系膜表面之污垢或抗黏連劑洗淨，而且可使PVA系膜膨潤而防止染色不均等。 作為使用積層體而獲得之偏光元件之具體例，可列舉使用樹脂基材與積層於該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂膜)之積層體、或者樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體而獲得之偏光元件。使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體而獲得之偏光元件例如可藉由如下步驟而製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材，使其乾燥而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，從而獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體之步驟；對該積層體進行延伸及染色而使PVA系樹脂層為偏光元件。於本實施形態中，代表性而言，延伸包含使積層體浸漬於硼酸水溶液中而將其延伸之步驟。進而，延伸可進一步包含視需要在硼酸水溶液中之延伸之前將積層體於高溫(例如，95℃以上)下進行空中延伸之步驟。所獲得之樹脂基材/偏光元件之積層體可直接使用(即，可將樹脂基材作為偏光元件之保護層)，亦可將樹脂基材自樹脂基材/偏光元件之積層體剝離，並於該剝離面積層根據目的之任意之適當之保護層而使用。此種偏光元件之製造方法之詳細內容例如記載於日本專利特開2012-73580號公報中。關於該公報，其整體之記載係作為參考而援用於本說明書中。 偏光元件之厚度較佳為25 μm以下，較佳為15 μm以下，更佳為10 μm以下，進而較佳為1 μm～10 μm，進而較佳為3 μm～10 μm，尤佳為3 μm～8 μm。只要偏光元件之厚度為此種範圍，則可良好地抑制加熱時之捲曲，及獲得良好之加熱時之外觀耐久性。進而，只要偏光元件之厚度為此種範圍，則可有助於光學積層體(作為結果，為有機EL顯示裝置)之薄型化。 偏光元件較佳為於波長380 nm～780 nm之任一波長下顯示出吸收二色性。偏光元件之單體透過率較佳為43.0%～46.0%，更佳為44.5%～46.0%。偏光元件之偏光度較佳為97.0%以上，更佳為99.0%以上，進而較佳為99.9%以上。 B-3.光學補償層 於一實施形態中，上述光學補償層包含相位差膜。於此情形時，該相位差膜亦可作為偏光元件之保護層(內側保護層)而發揮功能。其結果為，可有助於光學積層體(作為結果，為有機EL顯示裝置)之進一步薄型化。再者，亦可視需要於偏光元件與相位差膜之間配置內側保護層(內側保護膜)。 於另一實施形態中，光學補償層具有液晶化合物之配向固化層(以下，簡稱為液晶配向固化層)之積層構造。藉由使用液晶化合物，可使所獲得之光學補償層之nx與ny之差與非液晶材料相比明顯更大，故而可顯著地減小用以獲得所需之面內相位差之光學補償層之厚度。其結果為，可實現光學積層體(作為結果，為有機EL顯示裝置)之進一步薄型化。 B-3-1.包含相位差膜之光學補償層 於光學補償層包含相位差膜之情形時，該相位差膜可作為所謂λ/4板而發揮功能。相位差膜之面內相位差Re(550)較佳為100 nm～180 nm，更佳為135 nm～155 nm。 相位差膜較佳為滿足Re(450)＜Re(550)＜Re(650)之關係。即，相位差膜較佳為顯示出相位差值根據測定光之波長而變大之逆頻散之波長依存性。相位差膜之Re(450)/Re(550)較佳為0.8以上且未達1.0，更佳為0.8～0.95。Re(550)/Re(650)較佳為0.8以上且未達1.0，更佳為0.8～0.97。 關於相位差膜，代表性而言，折射率特性顯示出nx＞ny之關係，具有遲相軸。相位差膜之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度較佳為35°～55°，更佳為38°～52°，進而較佳為42°～48°，尤佳為約45°。只要該角度為此種範圍，則藉由使相位差膜為λ/4板，可獲得具有非常優異之圓偏振光特性(作為結果，為非常優異之抗反射特性)之光學積層體。 只要相位差膜具有nx＞ny之關係，則會顯示出任意之適當之折射率橢球。較佳為，相位差膜之折射率橢球顯示出nx＞ny≧nz之關係。再者，此處，「ny＝nz」不僅包含ny與nz完全相等之情形，而且包含實質上相等之情形。因此，在不損害本發明之效果之範圍內，可能有ny＜nz之情形。相位差膜之Nz係數較佳為0.9～2，更佳為0.9～1.5，進而較佳為0.9～1.3。藉由滿足此種關係，而於將光學積層體用於有機EL顯示裝置之情形時，可達成非常優異之反射色相。 關於相位差膜，其光彈性係數之絕對值較佳為2×10^-12 (m² /N)以上，更佳為10×10^-12 (m² /N)～100×10^-12 (m² /N)，進而較佳為20×10^-12 (m² /N)～40×10^-12 (m² /N)。只要光彈性係數之絕對值為此種範圍，則即便為較小之厚度，亦可一面確保充分之相位差，一面維持有機EL顯示裝置之彎曲性，進而，可進一步抑制由彎曲時之應力所導致之相位差變化(作為結果，為有機EL顯示裝置之顏色變化)。 相位差膜之厚度較佳為1 μm～70 μm，更佳為1 μm～20 μm，進而較佳為1 μm～10 μm。本發明之光學積層體可一面維持所需之光學特性，一面使用厚度薄於先前之λ/4板之膜，故而可有助於光學積層體(作為結果，為有機EL顯示裝置)之薄型化。 相位差膜係由可滿足如上所述之特性之任意之適當的樹脂形成。作為形成相位差膜之樹脂，可列舉：聚碳酸酯樹脂、聚乙烯醇縮醛樹脂、環烯烴系樹脂、丙烯酸系樹脂、纖維素酯系樹脂等。較佳為聚碳酸酯樹脂。 作為上述聚碳酸酯樹脂，只要獲得本發明之效果，則可使用任意之適當之聚碳酸酯樹脂。較佳為，聚碳酸酯樹脂包含來自茀系二羥基化合物之結構單元、來自異山梨酯系二羥基化合物之結構單元、以及來自選自由脂環式二醇、脂環式二甲醇、二、三或聚乙二醇、及伸烷基二醇或螺二醇所組成之群中之至少1種二羥基化合物之結構單元。較佳為，聚碳酸酯樹脂包含來自茀系二羥基化合物之結構單元、來自異山梨酯系二羥基化合物之結構單元、以及來自脂環式二甲醇之結構單元及/或來自二、三或聚乙二醇之結構單元，進而較佳為包含來自茀系二羥基化合物之結構單元、來自異山梨酯系二羥基化合物之結構單元、及來自二、三或聚乙二醇之結構單元。聚碳酸酯樹脂亦可視需要包含來自其他二羥基化合物之結構單元。再者，可較佳地用於本發明之聚碳酸酯樹脂之詳細內容例如記載於日本專利特開2014-10291號公報、日本專利特開2014-26266號公報中，該記載係作為參考而援用於本說明書中。 聚碳酸酯樹脂之玻璃轉移溫度較佳為110℃以上250℃以下，更佳為120℃以上230℃以下。若玻璃轉移溫度過低，則處於耐熱性變差之傾向，存在膜成形後引起尺寸變化之可能性，又，存在降低所獲得之有機EL顯示裝置之圖像品質之情況。若玻璃轉移溫度過高，則存在膜成形時之成形穩定性變差之情況，又，存在損害膜之透明性之情況。再者，玻璃轉移溫度係依據JIS K 7121(1987)而求出。 上述聚碳酸酯樹脂之分子量可用比濃黏度表示。比濃黏度係使用二氯甲烷作為溶劑，並將聚碳酸酯濃度精密地製備為0.6 g/dL，於溫度20.0℃±0.1℃，使用烏氏黏度管而測定。比濃黏度之下限通常較佳為0.30 dL/g，更佳為0.35 dL/g以上。比濃黏度之上限通常較佳為1.20 dL/g，更佳為1.00 dL/g，進而較佳為0.80 dL/g。若比濃黏度小於上述下限值，則存在發生成形品之機械強度變小之問題之情況。另一方面，若比濃黏度大於上述上限值，則存在發生成形時之流動性降低，生產性或成形性降低之問題之情況。 相位差膜係例如藉由將由上述聚碳酸酯系樹脂形成之膜延伸而獲得。作為由聚碳酸酯系樹脂形成膜之方法，可採用任意之適當之成形加工法。作為具體例，可列舉：壓縮成形法、轉移成形法、射出成形法、擠出成形法、吹塑成形法、粉末成形法、FRP(Fiber Reinforced Plastic，纖維強化塑膠)成形法、流延塗佈法(例如，流延法)、壓延成形法、熱壓法等。較佳為擠出成形法或流延塗佈法。其原因在於，可提高所獲得之膜之平滑性，而獲得良好之光學均勻性。成形條件可根據所使用之樹脂之組成或種類、相位差膜所需之特性等而適當設定。 樹脂膜(未延伸膜)之厚度可根據所獲得之相位差膜之所需之厚度、所需之光學特性、下述延伸條件等而設定為任意之適當之值。較佳為50 μm～300 μm。 上述延伸可採用任意之適當之延伸方法、延伸條件(例如，延伸溫度、延伸倍率、延伸方向)。具體而言，可單獨使用自由端延伸、固定端延伸、自由端收縮、固定端收縮等各種延伸方法，亦可同時或逐次使用。關於延伸方向，亦可於長度方向、寬度方向、厚度方向、斜方向等各種方向或維度進行。 藉由適當選擇上述延伸方法、延伸條件，可獲得具有上述所需之光學特性(例如，折射率特性、面內相位差、Nz係數)之相位差膜。 於一實施形態中，相位差膜係藉由將樹脂膜單軸延伸或固定端單軸延伸而製作。作為固定端單軸延伸之具體例，可列舉一面使樹脂膜於長邊方向移行，一面於寬度方向(橫方向)將其延伸之方法。延伸倍率較佳為1.1倍～3.5倍。 於另一實施形態中，相位差膜可藉由將長條狀之樹脂膜於相對於長邊方向成特定之角度之方向連續地斜向延伸而製作。藉由採用斜向延伸，可獲得具有相對於膜之長邊方向成特定之角度之配向角(於特定之角度之方向，為遲相軸)之長條狀之延伸膜，例如，與偏光元件進行積層時可採用卷對卷方式，可簡化製造步驟。再者，於光學積層體中，上述特定之角度可為偏光元件之吸收軸與相位差層之遲相軸所成之角度。如上所述，該角度較佳為35°～55°，更佳為38°～52°，進而較佳為42°～48°。 作為用於斜向延伸之延伸機，例如，可列舉可於橫及/或縱方向附加左右不同之速度之進給力或拉伸力或牽引力之拉幅機式延伸機。拉幅機式延伸機有橫單軸延伸機、同時雙軸延伸機等，但只要可將長條狀之樹脂膜連續地斜向延伸，則可使用任意之適當之延伸機。 於上述延伸機中，藉由分別適當地控制左右之速度，可獲得具有上述所需之面內相位差，且於上述所需之方向具有遲相軸之相位差膜(實質上為長條狀之相位差膜)。 作為斜向延伸之方法，例如，可列舉日本專利特開昭50-83482號公報、日本專利特開平2-113920號公報、日本專利特開平3-182701號公報、日本專利特開2000-9912號公報、日本專利特開2002-86554號公報、日本專利特開2002-22944號公報等中記載之方法。 上述膜之延伸溫度可根據相位差膜所需之面內相位差值及厚度、所使用之樹脂之種類、所使用之膜之厚度、延伸倍率等而變化。具體而言，延伸溫度較佳為Tg-30℃～Tg+30℃，進而較佳為Tg-15℃～Tg+15℃，最佳為Tg-10℃～Tg+10℃。藉由在此種溫度延伸，而於本發明中可獲得具有適當之特性之相位差膜。再者，Tg係膜之構成材料之玻璃轉移溫度。 作為聚碳酸酯系樹脂膜，亦可使用市售之膜。作為市售品之具體例，可列舉：帝人公司製造之商品名「PURE-ACE WR-S」、「PURE-ACE WR-W」、「PURE-ACE WR-M」、日東電工公司製造之商品名「NRF」。可直接使用市售之膜，亦可根據目的對市售之膜進行2次加工(例如，延伸處理、表面處理)而使用。 (內側保護層) 於設置上述內側保護層(內側保護膜)之情形時，該內側保護膜較佳為光學各向同性。於本說明書中，「為光學各向同性」係指，面內相位差Re(550)為0 nm～10 nm，厚度方向之相位差Rth(550)為-10 nm～+10 nm。 內側保護膜之厚度較佳為20 μm～200 μm，更佳為30 μm～100 μm，進而較佳為35 μm～95 μm。 只要獲得上述所需之特性，則內側保護膜由任意之適當之膜形成。作為成為該膜之主成分之材料之具體例，可列舉：三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、或聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降𦯉烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等透明樹脂等。又，亦可列舉：(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、矽酮系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。除此以外，例如，亦可列舉矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又，亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)中記載之聚合物膜。作為該膜之材料，例如，可使用含有側鏈具有經取代或未經取代之亞胺基之熱塑性樹脂、以及側鏈具有經取代或未經取代之苯基及腈基之熱塑性樹脂之樹脂組合物，例如，可列舉：具有包含異丁烯及N-甲基順丁烯二醯亞胺之交替共聚物、以及丙烯腈-苯乙烯共聚物之樹脂組合物。該聚合物膜例如可為上述樹脂組合物之擠出成形物。 B-3-2.包含液晶配向固化層之積層體之光學補償層 於一實施形態中，包含液晶配向固化層之積層體之光學補償層具有第1液晶配向固化層及第2液晶配向固化層。於光學積層體中，光學補償層可自偏光元件之側依序具有第1液晶配向固化層及第2液晶配向固化層。 (第1液晶配向固化層) 第1液晶配向固化層可作為所謂λ/2板而發揮功能。藉由將第1液晶配向固化層設為所謂λ/2板，將下述第2液晶配向固化層設為所謂λ/4板，將其等之遲相軸相對於偏光元件之吸收軸設定於特定之方向，可獲得於寬頻帶中具有優異之圓偏振光特性之光學積層體。第1液晶配向固化層之面內相位差Re(550)較佳為180 nm～320 nm，更佳為200 nm～290 nm，進而較佳為230 nm～280 nm。 代表性而言，第1液晶配向固化層之折射率橢球顯示出nx＞ny＝nz之關係。第1液晶配向固化層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度較佳為10°～20°，更佳為13°～17°，進而較佳為約15°。只要第1液晶配向固化層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度為此種範圍，則藉由將第1液晶配向固化層及第2液晶配向固化層之面內相位差分別設定為特定之範圍，並將第2液晶配向固化層之遲相軸相對於偏光元件之吸收軸以如下所述之特定之角度配置，可獲得於寬頻帶中具有非常優異之圓偏振光特性(作為結果，為非常優異之抗反射特性)之光學積層體。 第1液晶配向固化層之厚度較佳為1 μm～7 μm，更佳為1.5 μm～2.5 μm。如上所述，藉由使用液晶化合物，可使所獲得之光學補償層之nx與ny之差與非液晶材料相比明顯更大，故而可顯著地減小用以獲得所需之面內相位差之層厚。因此，能以遠遠薄於樹脂膜之厚度實現與樹脂膜同等之面內相位差。 於本實施形態中，代表性而言，第1液晶配向固化層係以棒狀之液晶化合物排列於特定之方向之狀態配向(沿面配向)。可於液晶化合物之配向方向表現遲相軸。作為液晶化合物，例如，可列舉液晶相為向列相之液晶化合物(向列型液晶)。作為此種液晶化合物，例如，可使用液晶聚合物或液晶單體。液晶化合物之液晶性之表現機構可為溶致型、熱致型之任一者。液晶聚合物及液晶單體可分別單獨使用，亦可組合使用。 於液晶化合物為液晶單體之情形時，該液晶單體較佳為聚合性單體及交聯性單體。其原因在於，可藉由使液晶單體聚合或交聯(即，硬化)，而將液晶單體之配向狀態固定。使液晶單體配向之後，例如，只要使液晶單體彼此聚合或交聯，則可藉此將上述配向狀態固定。此處，藉由聚合而會形成聚合物，藉由交聯而會形成三維網狀結構，但其等為非液晶性。因此，所形成之第1液晶配向固化層不會發生例如由液晶性化合物所特有之溫度變化所導致之向液晶相、玻璃相、結晶相之轉移。其結果為，第1液晶配向固化層會成為不受到溫度變化影響之穩定性極其優異之層。 液晶單體顯示出液晶性之溫度範圍根據其種類而不同。具體而言，該溫度範圍較佳為40℃～120℃，進而較佳為50℃～100℃，最佳為60℃～90℃。 作為上述液晶單體，可採用任意之適當之液晶單體。例如，可使用日本專利特表2002-533742(WO00/37585)、EP358208(US5211877)、EP66137(US4388453)、WO93/22397、EP0261712、DE19504224、DE4408171、及GB2280445等中記載之聚合性液晶原基化合物等。作為此種聚合性液晶原基化合物之具體例，例如，可列舉：BASF公司之商品名LC242、Merck公司之商品名E7、Wacker-Chem公司之商品名LC-Sillicon-CC3767。作為液晶單體，例如較佳為向列性液晶單體。 第1液晶配向固化層可藉由對特定之基材之表面實施配向處理，於該表面塗佈包含液晶化合物之塗佈液並使該液晶化合物配向於與上述配向處理對應之方向，並將該配向狀態固定而形成。藉由使用此種配向處理，可使液晶化合物相對於長條狀之基材之長條方向配向於特定之方向，作為結果，可於所形成之液晶配向固化層之特定方向表現遲相軸。例如，可於長條狀之基材上形成相對於長條方向成15°之方向上具有遲相軸之液晶配向固化層。此種液晶配向固化層即便於需要於斜方向具有遲相軸之情形時，亦可利用卷對卷方式進行積層，故而光學積層體之生產性可大幅提高。於一實施形態中，基材為任意之適當之樹脂膜，形成於該基材上之配向固化層可轉印於偏光元件之表面。於另一實施形態中，基材可為內側保護層(內側保護膜)。於此情形時，可省略轉印步驟，自配向固化層之形成起連續地藉由卷對卷方式進行積層。 作為上述配向處理，可採用任意之適當之配向處理。具體而言，可列舉：機械配向處理、物理配向處理、化學配向處理。作為機械配向處理之具體例，可列舉：摩擦處理、延伸處理。作為物理配向處理之具體例，可列舉：磁場配向處理、電場配向處理。作為化學配向處理之具體例，可列舉：斜向蒸鍍法、光配向處理。關於各種配向處理之處理條件，可根據目的而採用任意之適當之條件。 液晶化合物之配向係藉由根據液晶化合物之種類以顯示出液晶相之溫度進行處理而進行。藉由進行此種溫度處理，液晶化合物取得液晶狀態，從而該液晶化合物根據基材表面之配向處理方向而配向。 於一實施形態中，配向狀態之固定係藉由將如上所述般配向之液晶化合物冷卻而進行。於液晶化合物為聚合性單體或交聯性單體之情形時，配向狀態之固定係藉由對如上所述般配向之液晶化合物實施聚合處理或交聯處理而進行。 液晶化合物之具體例及配向固化層之形成方法之詳細內容記載於日本專利特開2006-163343號公報中。該公報之記載係作為參考而援用於本說明書中。 (第2液晶配向固化層) 第2液晶配向固化層可作為所謂λ/4板而發揮功能。藉由將第2液晶配向固化層設為所謂λ/4板，將第1液晶配向固化層如上所述般設為所謂λ/2板，將其等之遲相軸相對於偏光元件之吸收軸設定於特定之方向，可獲得於寬頻帶中具有優異之圓偏振光特性之光學積層體。第2液晶配向固化層之面內相位差Re(550)如上所述般較佳為100 nm～180 nm，更佳為110 nm～170 nm，進而較佳為120 nm～160 nm。 代表性而言，第2液晶配向固化層之折射率橢球顯示出nx＞ny＝nz之關係。第2液晶配向固化層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度如上所述般較佳為65°～85°，更佳為72°～78°，進而較佳為約75°。只要第2液晶配向固化層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度為此種範圍，則藉由將第1液晶配向固化層及第2液晶配向固化層之面內相位差分別設定為特定之範圍，並將第1液晶配向固化層之遲相軸相對於偏光元件之吸收軸以如上所述之特定之角度配置，可獲得於寬頻帶中具有非常優異之圓偏振光特性(作為結果，為非常優異之抗反射特性)之光學積層體。 第2液晶配向固化層之厚度較佳為0.5 μm～2 μm，更佳為1 μm～1.5 μm。 第2液晶配向固化層之構成材料、特性、製造方法等係如上述D-2-1項中關於第1液晶配向固化層所說明般。 對第1液晶配向固化層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度約為15°，第2液晶配向固化層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度約為75°之實施形態進行了說明，但該軸角度之關係亦可相反。具體而言，第1液晶配向固化層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度可較佳為65°～85°，更佳為72°～78°，進而較佳為約75°，於此情形時，第2液晶配向固化層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度可較佳為10°～20°，更佳為13°～17°，進而較佳為約15°。 B-4.黏著劑層或接著劑層 構成光學積層體之各層之積層係使用任意之適當之黏著劑層或接著劑層。 作為構成接著劑層之接著劑，可採用任意之適當之形態之接著劑。作為具體例，可列舉：水性接著劑、溶劑型接著劑、乳液系接著劑、無溶劑型接著劑、活性能量線硬化型接著劑、熱硬化型接著劑。作為活性能量線硬化型接著劑，可列舉：電子束硬化型接著劑、紫外線硬化型接著劑、可見光線硬化型接著劑。可較佳地使用水性接著劑及活性能量線硬化型接著劑。作為水性接著劑之具體例，可列舉：異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑(PVA系接著劑)、明膠系接著劑、乙烯系乳膠系、水系聚胺基甲酸酯、水系聚酯。作為活性能量線硬化型接著劑之具體例，可列舉(甲基)丙烯酸酯系接著劑。再者，(甲基)丙烯酸酯意指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。作為(甲基)丙烯酸酯系接著劑中之硬化性成分，例如，可列舉：具有(甲基)丙烯醯基之化合物、具有乙烯基之化合物。又，作為陽離子聚合硬化型接著劑，亦可使用具有環氧基或氧雜環丁基之化合物。具有環氧基之化合物只要為於分子內具有至少2個環氧基者，則並無特別限定，可使用一般知曉之各種硬化性環氧化合物。作為較佳之環氧化合物，作為例可列舉：於分子內具有至少2個環氧基及至少1個芳香環之化合物(芳香族系環氧化合物)、或於分子內具有至少2個環氧基且其中至少1個形成於構成脂環式環之相鄰之2個碳原子之間之化合物(脂環式環氧化合物)等。 於一實施形態中，作為構成上述接著劑層之接著劑，使用PVA系接著劑。藉由使用PVA系接著劑，即便於使用不使活性能量線透過之材料之情形時，亦可將材料彼此接著。於另一實施形態中，作為構成上述接著劑層之接著劑，使用活性能量線硬化型接著劑。只要使用活性能量線硬化型接著劑，則即便為材料表面為疏水性且利用PVA接著劑不會接著之材料，亦可獲得充分之層間剝離力。 接著劑層之儲存彈性模數於70℃以下之區域中較佳為1.0×10⁶ Pa以上，更佳為1.0×10⁷ Pa以上。接著劑層之儲存彈性模數之上限例如為1.0×10¹⁰ Pa。接著劑層之儲存彈性模數會影響對光學積層體施加熱循環(-40℃至80℃等)時之偏光元件龜裂，於儲存彈性模數較低之情形時，易於發生偏光元件龜裂之異常。具有較高之儲存彈性模數之溫度區域更佳為80℃以下，進而較佳為90℃以下。 代表性而言，接著劑層之厚度為0.01 μm～7 μm，較佳為0.01 μm～5 μm。 除基材與偏光元件之積層以外之積層可使用上述接著劑層或黏著劑層。 作為構成黏著劑層之黏著劑，例如，可列舉：丙烯酸系黏著劑、橡膠系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、矽酮系黏著劑、聚酯系黏著劑、聚醯胺系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、氟系黏著劑、環氧系黏著劑、聚醚系黏著劑。黏著劑可單獨使用，亦可將2種以上組合而使用。就透明性、加工性、耐久性等方面而言，較佳地使用丙烯酸系黏著劑。 代表性而言，黏著劑層之厚度為10 μm～250 μm，較佳為10 μm～150 μm。黏著劑層可為單一層，亦可具有積層構造。 黏著劑層之儲存彈性模數(G')於25℃下，較佳為0.01 MPa～1.00 MPa，更佳為0.05 MPa～0.50 MPa。只要黏著劑層之儲存彈性模數為此種範圍，則可獲得具有非常優異之彎曲性之光學積層體。作為結果，可實現可彎曲或可摺疊之有機EL顯示裝置。 B-5.導電層 代表性而言，導電層為透明(即，導電層為透明導電層)。藉由在光學補償層之與偏光元件相反之側形成導電層，光學積層體可應用於顯示單元(有機EL單元)與偏光元件之間裝入有觸控感測器之所謂內部觸控面板型輸入顯示裝置。 導電層可單獨作為光學積層體之構成層，亦可作為與基材之積層體(附基材導電層)而積層於光學補償層。於包含單獨導電層之情形時，導電層可自形成有該導電層之基材轉印至光學補償層。 導電層可視需要圖案化。藉由圖案化，可形成導通部及絕緣部。作為結果，可形成電極。電極可作為感知對觸控面板之接觸之觸控感測器電極而發揮功能。圖案之形狀較佳為作為觸控面板(例如，靜電電容方式觸控面板)而良好地運作之圖案。作為具體例，可列舉：日本專利特表2011-511357號公報、日本專利特開2010-164938號公報、日本專利特開2008-310550號公報、日本專利特表2003-511799號公報、日本專利特表2010-541109號公報中記載之圖案。 導電層之全光線透過率較佳為80%以上，更佳為85%以上，進而較佳為90%以上。例如，只要使用下述導電性奈米線，則可形成形成有開口部之透明導電層，可獲得透光率較高之透明導電層。 導電層之密度較佳為1.0 g/cm³ ～10.5 g/cm³ ，更佳為1.3 g/cm³ ～3.0 g/cm³ 。 導電層之表面電阻值較佳為0.1 Ω/□～1000 Ω/□，更佳為0.5 Ω/□～500 Ω/□，進而較佳為1 Ω/□～250 Ω/□。 作為導電層之代表例，可列舉：包含金屬氧化物之導電層、包含導電性奈米線之導電層、包含金屬網之導電層。較佳為包含導電性奈米線之導電層或包含金屬網之導電層。其原因在於，由於耐彎曲性優異，即便彎曲亦不易喪失導電性，故而可形成可良好地彎折之導電層。 包含金屬氧化物之導電層可藉由任意之適當之成膜方法(例如，真空蒸鍍法、濺鍍法、CVD(Chemical Vapor Deposition，化學氣相沈積)法、離子鍍覆法、噴霧法等)，於任意之適當之基材上成膜金屬氧化物膜而形成。作為金屬氧化物，例如，可列舉：氧化銦、氧化錫、氧化鋅、銦-錫複合氧化物、錫-銻複合氧化物、鋅-鋁複合氧化物、銦-鋅複合氧化物。其中，較佳為銦-錫複合氧化物(ITO)。 包含導電性奈米線之導電層可在將導電性奈米線分散於溶劑中而成之分散液(導電性奈米線分散液)塗佈於任意之適當之基材上之後，使塗佈層乾燥而形成。作為導電性奈米線，只要獲得本發明之效果，則可使用任意之適當之導電性奈米線。導電性奈米線係指，形狀為針狀或線狀，直徑為奈米尺寸之導電性物質。導電性奈米線可為直線狀，亦可為曲線狀。關於包含導電性奈米線之導電層，如上所述，其耐彎曲性優異。又，包含導電性奈米線之導電層藉由導電性奈米線彼此形成間隙而成為網眼狀，即便為少量之導電性奈米線，亦可形成良好之導電路徑，可獲得電阻較小之導電層。進而，藉由導電性奈米線成為網眼狀，可於網眼之間隙形成開口部，而獲得透光率較高之導電層。作為導電性奈米線，例如，可列舉：包含金屬之金屬奈米線、包含碳奈米管之導電性奈米線等。 導電性奈米線之粗細度d與長度L之比(縱橫比：L/d)較佳為10～100,000，更佳為50～100,000，進而較佳為100～10,000。如此，只要使用縱橫比較大之導電性奈米線，則導電性奈米線可良好地交叉，從而可藉由少量之導電性奈米線表現較高之導電性。其結果為，可獲得透光率較高之導電層。再者，於本說明書中，關於「導電性奈米線之粗細度」，於導電性奈米線之剖面為圓狀之情形時，意指其直徑，於其為橢圓狀之情形時，意指其短徑，於其為多邊形之情形時，意指最長之對角線。導電性奈米線之粗細度及長度可藉由掃描型電子顯微鏡或穿透型電子顯微鏡而進行確認。 導電性奈米線之粗細度較佳為未達500 nm，更佳為未達200 nm，進而較佳為1 nm～100 nm，尤佳為1 nm～50 nm。只要為此種範圍，則可形成透光率較高之導電層。導電性奈米線之長度較佳為2.5 μm～1000 μm，更佳為10 μm～500 μm，進而較佳為20 μm～100 μm。只要為此種範圍，則可獲得導電性較高之導電層。 作為構成導電性奈米線(金屬奈米線)之金屬，只要為導電性較高之金屬，則可使用任意之適當之金屬。金屬奈米線較佳為包含選自由金、鉑、銀及銅所組成之群中之1種以上之金屬。其中，就導電性之方面而言，較佳為銀、銅或金，更佳為銀。又，亦可使用對上述金屬進行鍍覆處理(例如，鍍金處理)而成之材料。 作為碳奈米管，可使用任意之適當之碳奈米管。例如，使用所謂多層碳奈米管、二層碳奈米管、單層碳奈米管等。其中，就導電性較高之方面而言，較佳地使用單層碳奈米管。 作為金屬網，只要獲得本發明之效果，則可使用任意之適當之金屬網。例如，可使用設置於膜基材上之金屬配線層呈網狀形成圖案而成者。 導電性奈米線及金屬網之詳細內容例如記載於日本專利特開2014-113705號公報及日本專利特開2014-219667號公報中。該公報之記載係作為參考而援用於本說明書中。 導電層之厚度較佳為0.01 μm～10 μm，更佳為0.05 μm～3 μm，進而較佳為0.1 μm～1 μm。只要為此種範圍，則可獲得導電性及透光性優異之導電層。再者，於導電層包含金屬氧化物之情形時，導電層之厚度較佳為0.01 μm～0.05 μm。 B-6.印刷層 如上所述，印刷層形成於光學積層體之周緣部，更具體而言，於俯視下與有機EL顯示裝置之邊框對應之位置。亦如上所述，印刷層可形成於基材之偏光元件側(實質上為樹脂膜之偏光元件側)，亦可形成於光學補償層之與偏光元件相反之側。印刷層可為實施了特定之設計之設計層，亦可為純色之著色層。印刷層較佳為純色之著色層，更佳為黑色之著色層。藉由將黑色之著色層形成於與邊框對應之位置，可將非顯示區域隱蔽，故而只要使用本實施形態之光學積層體，則可實現不使用邊框之有機EL顯示裝置。其結果為，可提供最表面無階差之具有極其優異之外觀之有機EL顯示裝置。進而，於將印刷層形成於光學補償層之情形時，會獲得以下之優點：即，只要為此種構成，則印刷層必然地配置於偏光元件之下側(有機EL顯示裝置側)，其結果為，藉由偏光元件而減輕印刷層之界面之反射光。因此，可實現具有更優異之外觀之有機EL顯示裝置。 印刷層可藉由使用任意之適當之墨水或塗料之任意之適當之印刷法而形成。作為印刷法之具體例，可列舉：凹版印刷、膠版印刷、絲網印刷、自轉印片之轉印印刷。 代表性而言，所使用之墨水或塗料包含黏合劑、著色劑、溶劑、及可視需要使用之任意之適當之添加劑。作為黏合劑，可列舉：氯化聚烯烴(例如，氯化聚乙烯、氯化聚丙烯)、聚酯系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、乙酸乙烯酯樹脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、纖維素系樹脂。黏合劑樹脂可單獨使用，亦可併用2種以上。於一實施形態中，黏合劑樹脂為熱聚合性樹脂。熱聚合性樹脂與光聚合性樹脂相比，使用量較少即可，故而可增大著色劑之使用量(著色層中之著色劑含量)。其結果為，尤其於形成黑色之著色層之情形時，可形成全光線透過率非常小且具有優異之隱蔽性之著色層。於一實施形態中，黏合劑樹脂為丙烯酸系樹脂，較佳為包含多官能單體(例如，季戊四醇三丙烯酸酯)作為共聚成分之丙烯酸系樹脂。藉由使用包含多官能單體作為共聚成分之丙烯酸系樹脂，可形成具有適當之彈性模數之著色層，故而於將相位差膜製成捲筒形狀之情形時，可良好地防止黏連。除此以外，亦形成由印刷層之厚度所產生之階差，該階差可有效地對抗黏連發揮功能。 作為著色劑，可根據目的而使用任意之適當之著色劑。作為著色劑之具體例，可列舉：鈦白、鋅白、碳黑、鐵黑、紅丹、鉻朱紅、群青、鈷藍、鉻黃、鈦黃等無機顏料；酞菁藍、陰丹士林藍、異吲哚啉酮黃、聯苯胺黃、喹吖啶酮紅、多偶氮紅、苝紅、苯胺黑等有機顏料或染料；包含鋁、黃銅等鱗片狀箔片之金屬顏料；包含二氧化鈦被覆雲母、鹼性碳酸鉛等鱗片狀箔片之珍珠光澤顏料(珠光顏料)。於形成黑色之著色層之情形時，較佳地使用碳黑、鐵黑、苯胺黑。於此情形時，較佳為併用著色劑。其原因在於：可將可見光寬範圍且均等地吸收，而形成不帶顏色之(即，烏黑之)著色層。例如，除了上述著色劑以外，亦可使用偶氮化合物及/或醌化合物。於一實施形態中，著色劑包含作為主成分之碳黑及其他著色劑(例如，偶氮化合物及/或醌化合物)。根據此種構成，可形成不帶顏色，且經時穩定性優異之著色層。於形成黑色之著色層之情形時，著色劑能以相對於黏合劑樹脂100重量份較佳為50重量份～200重量份之比率使用。於此情形時，著色劑中之碳黑之含有比率較佳為80%～100%。藉由以此種比率使用著色劑(尤其是碳黑)，可形成全光線透過率非常小，且經時穩定性優異之著色層。 印刷層之厚度較佳為3 μm～5 μm。進而，關於印刷層，厚度3 μm～5 μm下之全光線透過率較佳為0.01%以下，更佳為0.008%以下。只要全光線透過率為此種範圍，則可在不使用邊框之情況下將有機EL顯示裝置之非顯示區域良好地隱蔽。 C.第2光學積層體 第2光學積層體之厚度為300 μm以下，較佳為280 μm以下，更佳為260 μm以下，進而較佳為250 μm以下，尤佳為200 μm以下。只要為此種範圍，則可獲得薄型且彎曲性優異，且即便反覆彎曲亦不易破損之有機EL顯示裝置。又，可獲得翹曲較少之有機EL顯示裝置。第2光學積層體之厚度之下限亦根據其構成而不同，例如為20 μm。 第2光學積層體之平衡含水率為2.5%以下。只要為此種範圍，則可獲得抑制了由溫濕度環境之變化所導致之翹曲之發生之有機EL顯示裝置。第2光學積層體之平衡含水率較佳為2%以下，更佳為1.5%以下。只要為此種範圍，則上述本發明之效果會變得更顯著。第2光學積層體之平衡含水率越小越佳，但其下限例如為0.1%。 第2光學積層體之由加溫(80℃×24 h)所導致之收縮率相對於加溫前之面積，較佳為1.0%以下，更佳為0.8%以下，進而較佳為0.5%以下。只要為此種範圍，則可抑制由環境變化所導致之翹曲之發生。 第2光學積層體之拉伸彈性模數於25℃下，較佳為1.5 GPa～10 GPa，更佳為2 GPa～8 GPa。只要為此種範圍，則可使其為彎曲性優異，且不易斷裂之光學積層體。 於一實施形態中，上述第2光學積層體為長條狀。 如上所述，於一實施形態中，第2光學積層體具備基材、及設置於基材上之黏著劑層。作為基材，可使用上述B-1項中所說明之基材。作為黏著劑層，可使用上述B-4項中所說明之黏著劑層。 D.有機EL面板 作為有機EL面板，只要獲得本發明之效果，則可採用任意之適當之有機EL面板。圖2係說明用於本發明之有機EL面板之一形態之概略剖視圖。代表性而言，有機EL面板200具有基板210、第1電極220、有機EL層230、第2電極240、及覆蓋其等之密封層250。有機EL面板200可視需要進而具有任意之適當之層。例如，可於基板上設置平坦化層(未圖示)，亦可於第1電極與第2電極之間設置用以防止短路之絕緣層(未圖示)。 基板210只要能以上述特定之曲率半徑彎曲，則可包含任意之適當之材料。代表性而言，基板210包含具有可撓性之材料。只要使用具有可撓性之基板，則除了上述本發明之效果以外，於使用長條狀之光學積層體之情形時，能以所謂卷對卷式製程製造有機EL顯示裝置，故而可實現低成本及大量生產。進而，基板210較佳為包含具有阻隔性之材料。此種基板可保護有機EL層230免受氧或水分之破壞。作為具有阻隔性及可撓性之材料之具體例，可列舉：賦予了可撓性之薄玻璃、賦予了阻隔性之熱塑性樹脂或熱硬化性樹脂膜、合金、金屬。作為熱塑性樹脂或熱硬化性樹脂，例如，可列舉：聚酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、環氧系樹脂、聚胺基甲酸酯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、矽酮系樹脂、氟系樹脂、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物樹脂。作為合金，例如，可列舉：不鏽鋼、36合金、42合金。作為金屬，例如，可列舉：銅、鎳、鐵、鋁、鈦。基板之厚度較佳為5 μm～500 μm，更佳為5 μm～300 μm，進而較佳為10 μm～200 μm。只要為此種厚度，則能以上述特定之曲率半徑使有機EL顯示裝置彎曲，以及使可撓性、操作性及機械強度之平衡優異。又，可將有機EL面板較佳地用於卷對卷式製程。 代表性而言，第1電極220可作為陽極而發揮功能。於此情形時，作為構成第1電極之材料，就使電洞注入性變得容易之觀點而言，較佳為功函數較大之材料。作為此種材料之具體例，可列舉：銦錫氧化物(ITO)、銦鋅氧化物(IZO)、添加了氧化矽之銦錫氧化物(ITSO)、包含氧化鎢之銦氧化物(IWO)、包含氧化鎢之銦鋅氧化物(IWZO)、包含氧化鈦之銦氧化物(ITiO)、包含氧化鈦之銦錫氧化物(ITTiO)、包含鉬之氧化銦錫(ITMO)等透明導電性材料；以及金、銀、鉑等金屬及其等之合金。 有機EL層230係包含各種有機薄膜之積層體。於圖示例中，有機EL層230具有包含電洞注入性有機材料(例如，三苯胺衍生物)且為了提高自陽極之電洞注入效率而設置之電洞注入層230a、例如包含酞菁銅之電洞傳輸層230b、包含發光性有機物質(例如，蒽、雙[N-(1-萘基)-N-苯基]聯苯胺、N,N'-二苯基-N-N-雙(1-萘基)-1,1'-(聯苯)-4,4'-二胺(NPB))之發光層230c、例如包含8-羥基喹啉鋁錯合物之電子傳輸層230d、及包含電子注入性材料(例如，苝衍生物、氟化鋰)且為了提高自陰極之電子注入效率而設置之電子注入層230e。有機EL層230並不限定於圖示例，可採用發光層230c中電子與電洞可再耦合而產生發光之任意之適當之組合。有機EL層230之厚度較佳為儘量薄。其原因在於，較佳為儘可能使發光之光透過。有機EL層230可包含例如為5 nm～200 nm，較佳為10 nm左右之極薄之積層體。 代表性而言，第2電極240可作為陰極而發揮功能。於此情形時，作為構成第2電極之材料，就使電子注入變得容易而提高發光效率之觀點而言，較佳為功函數較小之材料。作為此種材料之具體例，可列舉：鋁、鎂及其等之合金。 密封層250包含任意之適當之材料。密封層25較佳為包含阻隔性及透明性優異之材料。作為構成密封層之材料之代表例，可列舉：環氧樹脂、聚脲。於一實施形態中，密封層250可塗佈環氧樹脂(代表性而言，為環氧樹脂接著劑)，並於其上貼附阻隔性片材而形成。 有機EL面板200較佳為可利用卷對卷式製程連續地製造。有機EL面板200例如可利用依據2012-169236號公報中記載之順序之順序而製造。該公報之記載係作為參考而援用於本說明書中。進而，有機EL面板200可利用卷對卷式製程與長條狀之光學積層體100連續地積層，而連續地製造有機EL顯示裝置300。 再者，可彎曲之有機EL顯示裝置之詳細內容例如記載於日本專利第4601463號或日本專利第4707996號中。該等記載係作為參考而援用於本說明書中。 [實施例] 以下，藉由實施例而對本發明具體地進行說明，但本發明並不受到該等實施例限定。實施例中之評價方法如下所述。又，於實施例中，只要無特別明確記載，則「份」及「%」係重量基準。 (1)第1光學積層體及第2光學積層體之平衡含水率 將第1光學積層體及第2光學積層體分別切斷為100 mm×150 mm，並將其作為測定樣本。將該樣本於濕度55%、溫度23℃下放置24小時之後，測定該樣本之重量(a)。於120℃投入5小時，並測定剛取出後之重量(b)。由下述式算出平衡含水率。 平衡含水率(%)：(a-b)/a×100 (2)耐折性試驗 使用圖3所示之井元製作所股份有限公司製造之耐折試驗機。 將有機EL顯示裝置100之一端固定於可彎折之治具A，對另一端施加特定負載(100 g/10 mm)。藉由將基材側作為內側而夾持10 mmf之心軸B(即，將彎曲部之曲率半徑設為5 mm)，並將治具A彎折，而使有機EL顯示裝置100自平坦之狀態彎曲至彎曲角度X成為175°為止。再者，作為心軸，使用表面經含氟氧化鋁膜處理(TUFRAM(註冊商標))者。 進行上述彎曲10萬次(將治具往返彎曲10萬次)之後，藉由目視及顯微鏡觀察，而確認顯示裝置之斷裂、龜裂、及層間剝離之有無。 將未確認到有顯示裝置之斷裂、龜裂、及層間剝離之情形設為○，將確認到有顯示裝置之斷裂、龜裂、及層間剝離之情形設為×。 (3)翹曲 將有機EL顯示裝置(對角線5英吋之矩形狀)載置於水平面，並測定距4個角各自之水平面之高度。將4個測定值之平均值作為翹曲量。 ◎：無翹曲 ○：翹曲量為1 mm以下 △：翹曲量為1～3 mm以下。於實際使用上無問題。 ×：翹曲量超過3 mm。於實際使用上有問題。 (4)彈性模數 依據JIS K 7127(試片：啞鈴試片)而測定第2光學積層體之彈性模數。 [實施例1] (偏光元件A之製作) 藉由與日本專利特開2016-126130之實施例1同樣之方法，而獲得偏光元件(厚度：5 μm)。 (相位差膜A之製作) 藉由與日本專利特開2016-126130之實施例1同樣之方法，而獲得相位差膜(厚度：55 μm)。 (黏著劑層之製作) 於具備攪拌翼、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶中添加丙烯酸丁酯99重量份、丙烯酸4-羥丁酯1重量份、作為聚合起始劑之2,2'-偶氮二異丁腈0.2重量份、作為聚合溶劑之乙酸乙酯200重量份，並充分地進行氮氣置換之後，一面於氮氣氣流下進行攪拌，一面將燒瓶內之液溫保持為55℃附近，而進行10小時之聚合反應，從而製備丙烯酸系聚合物溶液。上述丙烯酸系聚合物之重量平均分子量為150萬。 於上述丙烯酸系聚合物溶液之固形物成分100重量份中均勻地混合攪拌作為過氧化物之過氧化二苯甲醯(日本油脂公司製造，商品名「Nyper BMT」)0.2重量份、作為異氰酸酯系交聯劑之三羥甲基丙烷/甲苯二異氰酸酯之加成體(Nippon Polyurethane Industry公司製造，商品名「Coronate L」)0.2重量份、及矽烷偶合劑(信越化學工業公司製造，商品名「KBM403」)0.1重量份，而製備丙烯酸系黏著劑溶液A(固形物成分15重量%)。 將上述丙烯酸系黏著劑溶液塗佈於實施了脫模處理之聚對苯二甲酸乙二酯膜(厚度：38 μm)之隔片上，於155℃加熱1分鐘，而形成乾燥後之厚度為50 μm之黏著劑層。 (第1光學積層體A之製作) 經由接著劑(厚度：1 μm)依序貼合作為基材之聚芳酯樹脂膜(厚度：40 μm)、上述偏光元件A、及上述相位差膜A。進而，將上述黏著劑層轉印於相位差膜A之與偏光元件A相反之側之面，而獲得總厚度為152 μm之第1光學積層體A(基材(40 μm)/接著劑(1 μm)/偏光元件A(5 μm)/接著劑(1 μm)/相位差膜A(55 μm)/黏著劑層(50 μm))。此時，偏光元件A之吸收軸與相位差膜A之遲相軸所成之角係設為48°。 將所獲得之第1光學積層體A供上述(1)之評價使用。將結果示於表2中。 (第2光學積層體A之製作) 調配具有3個OH基之多元醇(旭硝子公司製造，商品名「PREMINOL S3011」，Mn＝10000)85重量份、具有3個OH基之多元醇(三洋化成公司製造，商品名「SANNIX GP-3000」，Mn＝3000)13重量份、具有3個OH基之多元醇(三洋化成公司製造，商品名「SANNIX GP-1000」)2重量份、多官能脂環族系異氰酸酯化合物(Nippon Polyurethane Industry公司製造，商品名「Coronate HX」)18重量份、觸媒(日本化學產業股份有限公司製造，商品名「Ferric Acetylacetonate」)0.04重量份、抗劣化劑(BASF公司製造，商品名「Irganox1010」)0.5重量份、脂肪酸酯(肉豆蔻酸異丙酯，花王公司製造，商品名「EXCEPARL IPM」，Mn＝270)30重量份、1-乙基-3-甲基咪唑鎓雙(氟甲磺醯基)醯亞胺(第一工業製藥公司製造，商品名「AS110」)1.5重量份、兩末端型之聚醚改性聚矽氧油(信越化學工業公司製造，商品名「KF-6004」)0.01重量份、及作為稀釋溶劑之乙酸乙酯241重量份，並利用分散機進行攪拌，而獲得胺基甲酸酯系黏著劑組合物B。 使用槽輥，將上述胺基甲酸酯系黏著劑組合物塗佈於聚酯樹脂基材(東麗公司製造，商品名「Lumirror S10」，厚度：38 μm)，於乾燥溫度130℃、乾燥時間3分鐘之條件下將其固化並乾燥，而獲得總厚度63 μm之第2光學積層體A(基材(38 μm)/黏著劑層(25 μm))。 將所獲得之第2光學積層體A供上述(1)及(4)之評價使用。將結果示於表2中。 (有機EL顯示裝置之製作) 將上述第1光學積層體A及第2光學積層體A切成5英吋尺寸，並將第1光學積層體A之黏著劑層側貼合於5英吋之有機EL面板之視認側。繼而，將第2光學積層體A之黏著劑層側貼合於該有機EL面板之背面側，而獲得有機EL顯示裝置。 將所獲得之有機EL顯示裝置供上述(2)及(3)之評價使用。將結果示於表2中。 [實施例2] (第1光學積層體B之製作) 藉由與日本專利特開2016-126130之實施例2同樣之方法，而形成包含液晶配向固化層(第1液晶配向固化層(λ/2板)及第2液晶配向固化層(λ/4板))之光學補償層A(厚度：3 μm)。 配置光學補償層A代替相位差膜A，除此以外，與實施例1同樣地獲得總厚度為100 μm之第1光學積層體B(基材(40 μm)/接著劑(1 μm)/偏光元件A(5 μm)/接著劑(1 μm)/包含液晶配向固化層之光學補償層A(3 μm)/黏著劑層(50 μm))。再者，包含液晶配向固化層之光學補償層A係以第1液晶配向固化層成為偏光元件A之方式配置。又，第1液晶配向固化層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度係設為15°，第2液晶配向固化層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度係設為75°。 將所獲得之第1光學積層體B供上述(1)之評價使用。將結果示於表2中。 (有機EL顯示裝置之製作) 使用第1光學積層體B代替第1光學積層體A，除此以外，與實施例1同樣地獲得有機EL顯示裝置。 將所獲得之有機EL顯示裝置供上述(2)及(3)之評價使用。將結果示於表2中。 [實施例3] (ITO膜之製作) 於厚度50 μm之包含聚對苯二甲酸乙二酯膜之基材(折射率：1.65)之一面塗佈包含三聚氰胺樹脂、醇酸樹脂及有機矽烷縮合物之熱硬化型樹脂(以重量比計，三聚氰胺樹脂：醇酸樹脂：有機矽烷縮合物＝2：2：1)，並使其硬化，而形成厚度35 nm之透明介電體(下塗)層(折射率：1.54)。 繼而，於氬氣95%及氧氣5%之混合氣體(0.5 Pa)之氣體氛圍下，使用氧化銦97重量%、氧化錫3重量%之燒結體材料，藉由反應性濺鍍法，而於透明介電體層上形成厚度22 nm之ITO膜(折射率：2.00)作為透明導電層。於140℃之條件下將該膜加熱60分鐘，使ITO膜結晶化，而製作厚度為50 μm之ITO膜。 (第1光學積層體C之製作) 依序積層作為覆蓋膜之聚芳酯樹脂膜(厚度：40 μm)、由上述丙烯酸系黏著劑溶液A形成之黏著劑層(厚度：50 μm)、作為基材之聚醯亞胺樹脂膜(厚度：20 μm)、接著劑層(厚度：1 μm)、上述偏光元件A(厚度：5 μm)、接著劑層(厚度：1 μm)、上述包含液晶配向固化層之光學補償層A(厚度：3 μm)、由上述丙烯酸系黏著劑溶液A形成之黏著劑層(厚度：20 μm)、上述ITO膜(厚度：50 μm)、及由上述丙烯酸系黏著劑溶液A形成之黏著劑層(厚度：50 μm)，而製作總厚度為240 μm之第1光學積層體C。再者，包含液晶配向固化層之光學補償層A係以第1液晶配向固化層成為偏光元件A之方式配置。又，第1液晶配向固化層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度係設為15°，第2液晶配向固化層之遲相軸與偏光元件之吸收軸所成之角度係設為75°。 將所獲得之第1光學積層體C供上述(1)之評價使用。將結果示於表2中。 (有機EL顯示裝置之製作) 使用第1光學積層體C代替第1光學積層體A，除此以外，與實施例1同樣地獲得有機EL顯示裝置。 將所獲得之有機EL顯示裝置供上述(2)及(3)之評價使用。將結果示於表2中。 [實施例4] (第2光學積層體B之製作) 將聚酯樹脂基材之厚度設為75 μm，將黏著劑層之厚度設為50 μm，除此以外，與實施例1同樣地製作總厚度為125 μm之第2光學積層體B。 將所獲得之第2光學積層體B供上述(1)及(4)之評價使用。將結果示於表2中。 (有機EL顯示裝置之製作) 使用第2光學積層體B代替第2光學積層體A，除此以外，與實施例3同樣地獲得有機EL顯示裝置。 將所獲得之有機EL顯示裝置供上述(2)及(3)之評價使用。將結果示於表2中。 [實施例5] (偏光元件B之製作) 藉由與日本專利特開2016-126130之比較例1同樣之方法，而獲得偏光元件B(厚度：22 μm)。 (第1光學積層體D之製作) 使用偏光元件B代替偏光元件A，除此以外，與實施例3同樣地獲得總厚度為257 μm之第1光學積層體D(聚芳酯樹脂膜(40 μm)/黏著劑層(50 μm)/基材(20 μm)/接著劑層(1 μm)/偏光元件B(22 μm)/接著劑層(1 μm)/包含液晶配向固化層之光學補償層A(3 μm)/黏著劑層(20 μm)/ITO膜(50 μm)/黏著劑層(50 μm))。 將所獲得之第1光學積層體D供上述(1)之評價使用。將結果示於表2中。 (有機EL顯示裝置之製作) 使用第1光學積層體D代替第1光學積層體C，使用第2光學積層體B代替第2光學積層體A，除此以外，與實施例3同樣地獲得有機EL顯示裝置。 將所獲得之有機EL顯示裝置供上述(2)及(3)之評價使用。將結果示於表2中。 [比較例1] (第1光學積層體E之製作) 使用三乙醯纖維素膜(厚度：40 μm)代替作為基材之聚醯亞胺樹脂膜，使用相位差膜A(厚度：55 μm)代替包含液晶配向固化層之光學補償層A，除此以外，與實施例3同樣地獲得總厚度為312 μm之第1光學積層體E。 將所獲得之第1光學積層體E供上述(1)之評價使用。將結果示於表2中。 (有機EL顯示裝置之製作) 使用第1光學積層體E代替第1光學積層體C，除此以外，與實施例3同樣地獲得有機EL顯示裝置。 將所獲得之有機EL顯示裝置供上述(2)及(3)之評價使用。將結果示於表2中。 [比較例2] (第1光學積層體F之製作) 使用偏光元件B(厚度：22 μm)代替偏光元件A，除此以外，與實施例1同樣地獲得第1光學積層體F。 將所獲得之第1光學積層體F供上述(1)之評價使用。將結果示於表2中。 (有機EL顯示裝置之製作) 使用第1光學積層體F代替第1光學積層體A，除此以外，與實施例1同樣地獲得有機EL顯示裝置。 將所獲得之有機EL顯示裝置供上述(2)及(3)之評價使用。將結果示於表2中。 [比較例3] (第1光學積層體G之製作) 使用聚芳酯樹脂膜(厚度：100 μm)代替作為覆蓋膜之聚芳酯樹脂膜(厚度：40 μm)，除此以外，與實施例3同樣地獲得總厚度為400 μm之第1光學積層體G(聚芳酯樹脂膜(200 μm)/黏著劑層(50 μm)/基材(20 μm)/接著劑層(1 μm)/偏光元件A(5 μm)/接著劑層(1 μm)/包含液晶配向固化層之光學補償層A(3 μm)/黏著劑層(20 μm)/ITO膜(50 μm)/黏著劑層(50 μm))。 將所獲得之第1光學積層體G供上述(1)之評價使用。將結果示於表2中。 (第2光學積層體C之製作) 將聚酯樹脂基材之厚度設為150 μm，將黏著劑層之厚度設為100 μm，除此以外，與實施例1同樣地製作總厚度為250 μm之第2光學積層體C。 將所獲得之第2光學積層體C供上述(1)及(4)之評價使用。將結果示於表2中。 (有機EL顯示裝置之製作) 使用第1光學積層體G代替第1光學積層體C，使用第2光學積層體C代替第2光學積層體A，除此以外，與實施例3同樣地獲得有機EL顯示裝置。 將所獲得之有機EL顯示裝置供上述(2)及(3)之評價使用。將結果示於表2中。 表1表示實施例及比較例中所製作之有機EL顯示裝置之構成之概略。再者，於表1中，省略接著劑層之記載。 [表1]

[表2]

由表1可明確，根據本發明，藉由適當地調整第1光學積層體及第2光學積層體之厚度、以及平衡含水率，可提供一種彎曲耐性優異，且抑制了由環境變化所導致之翹曲之發生之有機EL顯示裝置。

100‧‧‧有機EL顯示裝置200‧‧‧有機EL面板210‧‧‧基板220‧‧‧第1電極230‧‧‧有機EL層230a‧‧‧電洞注入層230b‧‧‧電洞傳輸層230c‧‧‧發光層230d‧‧‧電子傳輸層230e‧‧‧電子注入層240‧‧‧第2電極250‧‧‧密封層300‧‧‧第1光學積層體310‧‧‧基材320‧‧‧偏光元件330‧‧‧光學補償層340‧‧‧黏著劑層400‧‧‧第2光學積層體410‧‧‧基材440‧‧‧黏著劑層A‧‧‧治具B‧‧‧心軸X‧‧‧彎曲角

圖1係根據本發明之一實施形態之有機EL顯示裝置之概略剖視圖。 圖2係說明用於本發明之有機EL面板之一形態之概略剖視圖。 圖3係說明用於實施例及比較例之耐折性試驗之耐折試驗機之圖。

100‧‧‧有機EL顯示裝置

200‧‧‧有機EL面板

300‧‧‧第1光學積層體

310‧‧‧基材

320‧‧‧偏光元件

330‧‧‧光學補償層

340‧‧‧黏著劑層

400‧‧‧第2光學積層體

410‧‧‧基材

440‧‧‧黏著劑層

Claims (8)

1. 一種有機EL顯示裝置，其具備有機EL面板、配置於該有機EL面板之一側之第1光學積層體、及配置於該有機EL面板之另一側之第2光學積層體，上述第1光學積層體至少依序具備基材、偏光元件、光學補償層、及黏著劑層，該第1光學積層體之厚度為300μm以下，該第2光學積層體之厚度為300μm以下，該第1光學積層體之平衡含水率為2.5%以下，該第2光學積層體之平衡含水率為2.5%以下。
2. 如請求項1之有機EL顯示裝置，其中上述第1光學積層體之厚度與上述第2光學積層體之厚度之差的絕對值為150μm以下。
3. 如請求項1或2之有機EL顯示裝置，其中上述第1光學積層體之平衡含水率與上述第2光學積層體之平衡含水率之差之絕對值為1%以下。
4. 如請求項1或2之有機EL顯示裝置，其中上述第1光學積層體之25℃下之拉伸彈性模數為1.5GPa~10GPa。
5. 如請求項1或2之有機EL顯示裝置，其中上述第2光學積層體之25℃下之拉伸彈性模數為1.5GPa~10GPa。
6. 如請求項1或2之有機EL顯示裝置，其中上述第1光學積層體具備導電層。
7. 如請求項1或2之有機EL顯示裝置，其翹曲量較佳為3mm以下。
8. 如請求項1或2之有機EL顯示裝置，其能以10mm以下之曲率半徑彎曲。

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