JP2018009078A - 有機発光素子用インキ組成物、並びにこれを用いた有機発光素子およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】インクジェット吐出安定性に優れ、高い発光効率を実現できる有機発光素子用インキ組成物の提供。
【解決手段】式（１）で表される発光ホスト材料と、溶媒と、を含む、有機発光素子用インキ組成物であって、前記溶媒が、芳香族エーテル、芳香族エステル及び芳香族ケトンから選択される少なくとも１つを含む、有機発光素子用インキ組成物。

（Ｒ^１〜Ｒ^３は夫々独立してＨ、Ｄ、Ｆ、シリル基、置換／非置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテロアリール基；隣接する基と結合していてもよい）
【選択図】なし

Description

本発明は、有機発光素子用インキ組成物、並びにこれを用いた有機発光素子およびその製造方法に関する。

有機発光素子は、通常、陽極、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、および陰極を含む。当該有機発光素子に電界を印加すると、陽極から正孔輸送層に正孔が、陰極から電子輸送層に電子がそれぞれ注入され、次いで、正孔および電子は発光層に注入される。発光層では、注入された正孔および電子が再結合し、この際生じるエネルギーにより発光層中の発光材料が発光する。なお、有機発光素子は、場合により、正孔輸送層および／または電子輸送層を有しない場合がある。また、正孔注入層および電子注入層等の他の層を含む場合がある。

有機発光素子を構成する各層は、一般に、乾式成膜法または湿式成膜法を用いて形成される。
前記乾式成膜法は、一般に、有機材料を真空環境下で加熱蒸発させて蒸着膜を形成するものである。他方、前記湿式成膜法は、一般に、有機材料を含む塗布液（インキ組成物）を塗布し、得られた塗膜を乾燥して膜を形成するものである。

このうち、近年、高精細なパターニングが可能である、材料利用効率が高い等の観点から、湿式成膜法、特にインクジェット法が注目されている。
例えば、特許文献１には、インクジェット法に適用されうるインキ組成物が記載されている。具体的には、特許文献１には、成膜材料と、前記成膜材料を溶解または分散させる液性媒体とを含み、前記液性媒体は、所定の式で表わされる脂肪族エーテル系化合物を含むことを特徴とする成膜用インクに係る発明が記載されている。

特許文献１には、上記成膜用インクを用いると、使用する脂肪族エーテル系化合物が脱溶媒性または脱分散媒性に優れることから、得られる塗膜中に液性媒体が残存することを防止または抑制することができ、優れた膜質を有する膜が形成できることが記載されている。

なお、特許文献１には、成膜材料としてはπ系共役化合物が挙げられること、前記π系共役化合物としては、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン／スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ）、ポリ（２，７−（９，９−ジ−ｎ−オクチルフルオレン）−（１，４−フェニレン−（（４−ｓｅｃ−ブチルフェニル）イミノ）−１，４−フェニレン（ＴＦＢ）等の正孔輸送層を構成する材料またはその前駆体、およびビス（２−フェニルピリジン）イリジウム（アセチルアセトネート）等の金属錯体を含む燐光材料等が用いられることが記載されている。

特開２０１３−１３１５７４号公報

しかしながら、特許文献１に記載の成膜用インク（インキ組成物）は、成膜材料によっては、必ずしも優れた膜質が得られない場合があることが判明した。具体的には、所定の構造を有する有機ホスト材料を含む有機発光素子用インキ組成物では、インクジェット吐出安定性が十分でなく、得られる有機発光素子の発光効率が低いものとなりうる。

そこで、本発明は、所定の構造を有する有機ホスト材料を用いた場合に、インクジェット吐出安定性に優れ、高い発光効率を実現できる有機発光素子用インキ組成物を提供することを目的とする。

本発明者らは、上記課題を解決すべく、鋭意研究を行った。その結果、所定の構造を有する有機ホスト材料に対しては、芳香族エーテル、芳香族エステル、および芳香族ケトンからなる群から選択される少なくとも１つを用いることで上記課題が解決されうることを見出し、本発明を完成させるに至った。

すなわち、本発明は、下記化学式（１）で表される発光ホスト材料と、溶媒と、を含む、有機発光素子用インキ組成物であって、前記溶媒が、芳香族エーテル、芳香族エステル、および芳香族ケトンからなる群から選択される少なくとも１つを含む、有機発光素子用インキ組成物に関する。

（上記化学式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、およびＲ^３は、それぞれ独立して、水素原子、重水素原子、フッ素原子、シリル基、置換基を有していてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、またはヘテロアリール基を表し、隣接する基と結合していてもよい。）

有機発光素子用インキ組成物は、前記発光ホスト材料として、下記化学式（２）で表される化合物を少なくとも１種含んでもよい。

（上記化学式（２）中、Ｒ^１、Ｒ^２、およびＲ^３は、前記と同じ。ただしＲ^１〜Ｒ^３のうち少なくとも１つは、下記化学式（２−Ａ）により表される基である。）

（上記化学式（２−Ａ）中、Ｌ^１は、置換もしくは無置換のアルキレン基もしくはアリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ）−または単結合であり、
Ｘは、−Ｃ（Ｒ）＝または−Ｎ＝であり、但し各式中少なくとも１つのＸは−Ｎ＝であり、
Ｒ^４、Ｒ^５は、互いに独立して、水素原子、重水素原子、フッ素原子、シリル基、置換基を有していてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、またはヘテロアリール基を表し、隣接する基と結合してもよい。）

有機発光素子用インキ組成物は、ビカルバゾール（Ｂｉｃａｒｂａｚｏｌｅ）骨格を有する化合物を少なくとも１種含んでもよい。
前記発光ホスト材料の分子量が、２０００ｇ／ｍｏｌ以下であってもよい。

前記溶媒が、芳香族エーテルおよび／または芳香族エステルを含んでいてもよい。
前記溶媒の蒸気圧が、１ｍｍＨｇ以下であってもよい。

有機発光素子用インキ組成物は、インクジェット用有機発光素子用インキ組成物であってもよい。

本発明によれば、インクジェット吐出安定性に優れ、高い発光効率を実現できる有機発光素子用インキ組成物を得ることができる。

インクジェット法により塗布膜を形成する工程を模式的に示す部分断面図である。

以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。

＜有機発光素子用インキ組成物＞
本形態に係る有機発光素子用インキ組成物は、発光ホスト材料と、溶媒と、を含む。その他、必要に応じて、発光ドーパント材料、添加物等をさらに含んでいてもよい。なお、本明細書において、「発光」には、蛍光による発光および燐光による発光を含むものとする。

上述の有機発光素子用インキ組成物によれば、インクジェット吐出安定性に優れ、高い発光効率を実現できる有機発光素子用インキ組成物を得ることができる。この理由は必ずしも明らかではないが、以下のメカニズムによるものと推察される。また、本実施形態に係る有機発光素子用インキ組成物は、インクジェット吐出安定性に優れているため、インクジェット用有機発光素子用インキ組成物であることができる。

すなわち、前記化学式（１）で示される発光ホスト材料は、蒸着法により成膜された有機発光素子では良好な特性が得られていたが、インクジェット法を用いた場合、脂肪族エーテル系化合物を溶媒に用いた際には、溶媒の発光ホスト材料への相溶性が不足する為、インキ中で発光ホスト材料の凝集が生じる。そのため、インクジェットノズル付近で発光ホスト材料が析出され、液滴の直進性が悪化することでインクジェット吐出安定性が損なわれる。さらに、支持体上に着弾した液滴は乾燥時に更に凝集が促進される為、発光効率の低下を生じる。本発明のインキ組成物は、前記芳香族エーテル、芳香族エステル、および芳香族ケトンからなる群から選択される化合物を溶媒に用いることで、前記化学式（１）で示される発光ホスト材料に対して相溶性が改善され、さらには溶媒中の芳香族、およびエーテル基、カルボニル基が発光ホスト材料のスタッキング相互作用を緩和する為、発光ホスト材料の凝集が抑制される。すなわち、インクジェット吐出安定性および発光効率を向上させることができる。なお、上述のメカニズムはあくまで推察のものであり、他のメカニズムにより本発明の効果が得られる場合であっても本発明の技術的範囲に含まれる。

（発光ホスト材料）
発光ホスト材料は、通常、発光層に注入された正孔および電子を輸送する機能を有する。

本形態に係る発光ホスト材料は、下記化学式（１）で表される。

この際、上記化学式（１）において、Ｒ^１、Ｒ^２、およびＲ^３は、それぞれ独立して、水素原子、重水素原子、フッ素原子、シリル基；置換基を有していてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基を表す。この際、本明細書中、「水素原子」という場合、重水素原子も含むものとする。

前記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基などの直鎖アルキル基；イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基などの分岐鎖アルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などの環状アルキル基などが挙げられる。これらのうち、炭素数１〜１０のアルキル基であることが好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基であることがより好ましい。

前記アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、デセニル基、ドデセニル基、テトラデセニル基、ヘキサデセニル基、オクタデセニル基などの直鎖アルケニル基；メチルペンテニル基などの分岐鎖アルケニル基；クロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、４−メチルシクロヘキセン基などの環状のアルケニル基などが挙げられる。
前記アルキニル基としては、例えば、エテニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−ブテニル基、１−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、１−ヘプテニル基、１−オクテニル基、１−ノネニル基、１−デセニル基、１−ウンタデセニル基、１−ドデセニル基、１−トリデセニル基、１−テトラデセニル基、１−ペンタデセニル基、１−ヘキサデセニル基、１−ヘプタデセニル基、１−オクタデセニル基、１−ノナデセニル基などが挙げられる。

前記アリール基として、例えば、フェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基、ナフチル基、アントラニル基、フェナンスリル基、フェニルターフェニル基、ピレニル基、クリセニル基、フルオレニル基、９，９−ジメチルフルオレニル基、ビスフェニルフルオレニル基、（９−フルオレニル）フルオレニル基、スピロフルオレニル基、フルオランテニル基が挙げられる。置換基を有する場合、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハルゲノ基、シアノ基が好ましい。

前記ヘテロアリール基としては、例えば、チオフェン、チアゾール、フラン、オキサゾール、ピラン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、フラザン、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、ビピリミジン、ビピリダジン、ビトリアジン、フェニルピリミジン、ジフェニルピリミジン、トリフェニルピリミジン、フェニルピリダジン、ジフェニルピリダジン、トリフェニルピリダジン、フェニルトリアジン、ジフェニルトリアジン、トリフェニルトリアジン、ピリミジニルターフェニレン、ピリダジニルターフェニレン、トリアジニルターフェニレン、ベンゾチオフェン、ベンゾチアゾール、チアントレン、イソベンゾフラン、ベンゾオキサゾール、クロメン、キサンテン、フェノキサチイン、インドリジン、イソインドール、インドール、ベンゾイミダゾール、インダゾール、ベンゾトリアゾール、プリン、キノリジン、イソキノリン、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナントリジン、アクリジン、ペリミジン、フェナントロリン、フェナジン、フェノチアジン、フェノキサジン、ジベンゾジオキシン、ピリミドベンゾチオフェン、フェニルピリミドベンゾチオフェン、ジフェニルピリミドベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェンから水素原子を１個除いてできる１価基等が挙げられる。これらのうち、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジンから水素原子を１個除いてできる１価基であることが好ましい。

前記アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、およびヘテロアリール基は置換基を有していてもよい。当該置換基としては、特に制限されないが、ハロゲン原子；ヒドロキシ基；チオール基；ニトロ基；スルホ基；メトキシ基、エトキシ基、プロピル基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、フェニルオキシメチル基、フェニルオキシエトキシ基等のアルコキシ基；メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基等のアルキルカルボニル基；メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、プロピルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基等のエステル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ジメチルフルオレニル基等のアルキルアリール基、ジフェニルアミノフェニル基が挙げられる。また、Ｒ^１、Ｒ^２、またはＲ^３がアルキル基、アルケニル基、アルキニル基である場合には、アリール基、ヘテロアリール基が置換基となりうる。さらに、Ｒ^１、Ｒ^２、またはＲ^３がアリール基である場合には、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基およびヘテロアリール基が置換基となりうる。また、Ｒ^１、Ｒ^２、またはＲ^３がヘテロアリール基である場合には、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基およびヘテロアリール基が置換基となりうる。

上記式（１）で表される構造として、さらに好ましくは下記式（２）で表される構造または下記式（３）で表される構造（ビカルバゾール骨格を有する構造）を有する。

（上記化学式（２）中、Ｒ^１、Ｒ^２、およびＲ^３は、前記と同じ。ただしＲ^１〜Ｒ^３のうち少なくとも１つは、下記化学式（２−Ａ）により表される基である。）

（上記化学式（２−Ａ）中、Ｌ^１は、置換もしくは無置換のアルキレン基もしくはアリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ）−または単結合であり、

Ｘは、−Ｃ（Ｒ）＝または−Ｎ＝であり、但し各式中少なくとも１つのＸは−Ｎ＝であり、
Ｒ^４、Ｒ^５は、互いに独立して、水素原子、重水素原子、フッ素原子、シリル基、置換基を有していてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、またはヘテロアリール基を表し、隣接する基と結合してもよい。）

（上記一般式（３）中、Ｒ^１、Ｒ²、Ｒ^３は、前記と同じ。）

ここで、本実施形態に係る化学式（１）で表される化合物の具体例を以下に示す。ただし、本実施形態に係る化合物は、以下に例示する構造に限定されるわけではない。

上述の発光ホスト材料は、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
本発明に係る発光ホスト材料は、分子量は、５０００ｇ／ｍｏｌ以下であることが好ましく、２０００ｇ／ｍｏｌ以下であることがより好ましく、３００〜２０００ｇ／ｍｏｌであることがさらに好ましい。発光ホスト材料の分子量が５０００ｇ／ｍｏｌ以下であると、溶媒中に発光ホスト材料を容易に分散できることから好ましい。

また、上述した発光ホスト材料は、公知の有機合成方法を適宜組み合わせることにより製造可能である。

なお、発光ホスト材料としては、上述の化学式（１）で表される発光ホスト材料とともに、他の発光ホスト材料を含んでいてもよい。

当該他の発光ホスト材料としては、特に制限されないが、１，４−ビス（トリフェニルシリル）ベンゼン（ＵＧＨ−２）、１，３−ビス（トリフェニルシリル）ベンゼン等のシラン化合物；２，８−ビス（ジフェニルホスホリル）ジベンゾ［ｂ，ｄ］チオフェン（ＰＰＴ）、２，７−ビス（ジフェニルホスホリル）−９，９’−スピロフルオレン（ＳＰＰＯ１３）等のホスフィン化合物；トリフェニルアミン誘導体；ベンゾイミダゾール誘導体；キノリン誘導体；ペリレン誘導体；ピリジン誘導体；ピリミジン誘導体；トリアジン誘導体；キノキサリン誘導体；ジフェニルキノン誘導体；ニトロ置換フルオレン誘導体等が挙げられる。

なお、本明細書において、「低分子」とは、重量平均分子量（Ｍｗ）が５，０００以下のものを意味する。一方、本明細書において、「高分子」とは、重量平均分子量（Ｍｗ）が５，０００超のものを意味する。この際、本明細書において、「重量平均分子量（Ｍｗ）」の値は、低分子化合物の場合は飛行時間型質量分析（ＴＯＦ−ＭＳ）装置（株式会社島津製作所製）を用いて測定された値を、高分子化合物の場合は高速ゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）装置（東ソー株式会社製）を用いてポリスチレンを標準物質として測定した値を採用するものとする。

有機発光ホスト材料の含有率は、有機発光素子用インキ組成物の全質量に対して、０．１〜５０質量％であることが好ましく、０．１〜１０質量％であることがより好ましい。有機発光ホスト材料の含有率が０．１質量％以上であると、均一な膜を形成できることから好ましい。一方、有機発光ホスト材料の含有率が１０質量％以下であると、有機発光ホスト材料の析出を抑制できることから好ましい。

（発光ドーパント材料）
ドーパント材料として、例えば、ペリレン（ｐｅｒｌｅｎｅ）およびその誘導体、ルブレン（ｒｕｂｒｅｎｅ）およびその誘導体、クマリン（ｃｏｕｍａｒｉｎ）およびその誘導体、４−ジシアノメチレン−２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−６−メチル−４Ｈ−ピラン（４−ｄｉｃｙａｎｏｍｅｔｈｙｌｅｎｅ−２−（ｐ−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｓｔｙｒｙｌ）−６−ｍｅｔｈｙｌ−４Ｈ−ｐｙｒａｎ：ＤＣＭ）およびその誘導体、ビス［２−（４，６−ジフルオロフェニル）ピリジネート］ピコリネートイリジウム（ＩＩＩ）（ｂｉｓ［２−（４，６−ｄｉｆｌｕｏｒｏｐｈｅｎｙｌ）ｐｙｒｉｄｉｎａｔｅ］ｐｉｃｏｌｉｎａｔｅ ｉｒｉｄｉｕｍ（ＩＩＩ）：ＦＩｒｐｉｃ）、ビス（１‐フェニルイソキノリン）（アセチルアセトネート）イリジウム（ＩＩＩ）（ｂｉｓ（１−ｐｈｅｎｙｌｉｓｏｑｕｉｎｏｌｉｎｅ）（ａｃｅｔｙｌａｃｅｔｏｎａｔｅ）ｉｒｉｄｉｕｍ（ＩＩＩ）：Ｉｒ（ｐｉｑ）２（ａｃａｃ））、トリス（２−（３−ｐ−キシイル）フェニル）ピリジン イリジウム（ＩＩＩ）、トリス（２−フェニルピリジン）イリジウム（ＩＩＩ）（ｔｒｉｓ（２−ｐｈｅｎｙｌｐｙｒｉｄｉｎｅ）ｉｒｉｄｉｕｍ（ＩＩＩ）：Ｉｒ（ｐｐｙ）３）などイリジウム（Ｉｒ）錯体、オスミウム（Ｏｓ）錯体、白金錯体などを含んでもよい。

（溶媒）
本発明の有機発光素子用インキ組成物は、芳香族エーテル、芳香族エステル、および芳香族ケトンからなる群から選択される少なくとも１つの溶媒を含む。
前記芳香族エーテルとしては、特に制限されないが、下記化学式（４）で表されるものであることが好ましい。

上記化学式（４）において、Ｘ^１はＣ１〜Ｃ６のアルキル基であり、Ｘ^２は水素原子、メチル基、エチル基またはプロピル基を表す。
具体的な芳香族エーテルとしては、アニソール、４−メトキシトルエン、ｐ−エチルアニソール、ｐ−プロピルアニソール、ｐ−ブチルアニソール、フェネトール、１−プロピル−４−メトキシベンゼン、イソプロピルフェニルエーテル、フェニルプロピルエーテル、ブチルフェニルエーテル、ペンチルフェニルエーテル等が挙げられる。

前記芳香族エステルとしては、特に制限されないが、下記化学式（５）で表されるものであることが好ましい。

上記化学式（５）において、Ｙ^１はＣ１〜Ｃ３のアルキル基であり、Ｙ^２は水素原子、メチル基またはエチル基を表す。

具体的な芳香族エステルとしては、安息香酸メチル、４−メチル安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸イソプロピル等が挙げられる。
前記芳香族ケトンとしては、特に制限されないが、下記化学式（６）で表されるものであることが好ましい。

式（６）中、Ｚ^１はＣ１〜Ｃ４のアルキル基であり、Ｚ^２は水素原子；メチル基、エチル基を表す。
具体的な芳香族ケトンとしては、アセトフェノン、４’−メチルアセトフェノン、プロピオフェノン、４’−メチルプロピオフェノン、ブチロフェノン、４’−メチルブチロフェノン等が挙げられる。

上述の溶媒のうち、発光効率が高く、インクジェット吐出安定性が高い観点から、芳香族エーテルおよび／または芳香族エステルを含むことが好ましく、塗膜に残存した際に発光ホスト材料の電荷輸送を阻害する極性基、すなわちカルボニル基を有さない為、より高い発光効率が得られる観点から芳香族エーテルであることがより好ましい。

上述の溶媒の２０℃における水への溶解度は、１％以下であることが好ましく、０．９％以下であることがさらに好ましく、０．７％以下であることが特に好ましい。溶媒の２０℃における水への溶解度が１％以上である場合、有機発光素子のダークスポットが多発し、ショート不良や耐久性劣化を生じる場合がある。

上述の溶媒の粘度は、１．０〜３．５ｍＰａ・ｓであることが好ましく、１．２〜３．０ｍＰａ・ｓであることがさらに好ましく、１．５〜２．５ｍＰａ・ｓであることが特に好ましい。粘度が１．０ｍＰａ・ｓ以下の溶媒は、一般的には分子量が小さく蒸気圧も大きいため、インクジェットヘッドのノズルが詰まり易くなる傾向にある。一方、溶媒の粘度が３．０ｍＰａ・ｓ以上であると、得られるインク組成物の粘度が高くなり過ぎるため、インク組成物の微小液滴をインクジェットヘッドから吐出することが困難になる場合がある。

上記溶媒の表面張力は、２０〜４５ｍＮ／ｍであることが好ましく、２５〜４３ｍＮ／ｍであることがさらに好ましく、２８〜４０ｍＮ／ｍであることが特に好ましい。インク組成物の表面張力が２０ｍＮ／ｍ未満であると、インク組成物のノズル表面上における濡れ性が高過ぎるため、インキ組成物がノズルの周囲に付着し、液滴の飛翔方向が曲がり易くなる。一方、インク組成物の表面張力が４５ｍＮ／ｍ以上であると、ノズル先端におけるメニスカスの形状が安定しないため、インク組成物の吐出量や吐出タイミングの制御が困難になる場合がある。

なお、上述の溶媒は単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
また、インクジェットヘッドのノズルにおけるインキ組成物の乾燥を抑制できる観点から、溶媒の２５℃における蒸気圧は１ｍｍＨｇ以下であることが好ましく、０．５ｍｍＨｇ以下であることがより好ましく、０．０１〜０．５ｍｍＨｇであることがさらに好ましい。蒸気圧が０．０１以下の場合、乾燥後でも塗膜中に溶媒が残存し、有機発光素子の発光効率および耐久性を低下させる場合がある。

本発明の一実施形態において、インクジェット吐出物乾燥時の平滑性を改善させる為、または発光材料の溶解性を改善させる為に、その他溶媒をさらに含んでいてもよい。

前記その他溶媒としては、発光材料を溶解可能な溶媒であればよく、具体例としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロトルエン等のハロゲン系溶媒；ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン等の炭素数６以上の炭化水素系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、ブチルベンゼン、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ノニルベンゼン、デシルベンゼン、ウンデシルベンゼン、ドデシルベンゼン、テトラリン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族系溶媒が挙げられる。

なお、その他溶媒は単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
（添加剤）
本発明の有機発光素子用インキ組成物は、インクジェット吐出性を改善させる目的、又はインクジェット吐出物乾燥時の平滑性を改善させる目的で、必要に応じてレベリング剤、粘度調整剤等の添加剤が含有されていても良い。

レベリング剤
レベリング剤としては、特に制限されないが、シリコーン系化合物、フッ素系化合物、シロキサン系化合物、非イオン系界面活性剤、イオン系界面活性剤、チタネートカップリング剤などを用いることができる。これらのうち、シリコーン系化合物、フッ素系化合物が好ましい。

前記シリコーン系化合物としては、特に制限されないが、ジメチルシリコーン、メチルシリコーン、フェニルシリコーン、メチルフェニルシリコーン、アルキル変性シリコーン、アルコキシ変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーンなどが挙げられる。これらのうち、ジメチルシリコーン、メチルフェニルシリコーンが好ましい。

前記フッ素系化合物としては、特に制限されないが、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、フルオロアルキルメタクリレート、パーフルオロポリエーテル、パーフルオロアルキルエチレンオキシドなどが挙げられる。これらのうち、ポリテトラフルオロエチレンが好ましい。

前記シロキサン系化合物としては、特に制限されないが、ジメチルシロキサン化合物（商品名：ＫＦ９６Ｌ−１、ＫＦ９６Ｌ−５、ＫＦ９６Ｌ−１０、ＫＦ９６Ｌ−１００、信越シリコーン株式会社製）が挙げられる。

上述のレベリング剤のうち、シリコーン系化合物、フッ素系化合物、シロキサン系化合物を用いることが好ましく、シロキサン系化合物を用いることがより好ましい。
なお、上述のレベリング剤は、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

レベリング剤の添加率は、所望とする性能によっても異なるが、有機発光素子用インキ組成物の全質量に対して、０．００１〜５質量％であることが好ましく、０．００１〜１質量％であることがより好ましい。レベリング剤の添加率が０．００１質量％以上であると、塗膜の平滑性を改善できることから好ましい。一方、レべリング剤の添加率が５質量％以下であると、発光効率を向上できることから好ましい。

粘度調整剤
粘度調整剤としては、特に制限されないが、ポリ（α−メチルスチレン）、ポリスチレン、スチレン・アクリロニトリル共重合体、スチレン・ブタジエン・アクリロニトリル共重合体、ポリメチルメタクリレート、メタクリル・スチレン共重合体、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂を用いることができる。これらのうち、ポリ（α−メチルスチレン）、ポリスチレン、スチレン・アクリロニトリル共重合体、スチレン・ブタジエン・アクリロニトリル共重合体、ポリメチルメタクリレートが好ましい。
上述の粘度調整剤は単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

粘度調整剤の添加率は、所望とする性能によっても異なるが、有機発光素子用インキ組成物の全質量に対して、０．００１〜５質量％であることが好ましく、０．０１〜１質量％であることがより好ましい。粘度調整剤の添加率が０．００１質量％以上であると、発光ホスト材料の凝集を抑制し、発光効率を向上できることから好ましい。一方、粘度調整剤の添加率が５質量％以下であると、インクジェット液滴の飛翔形状を改善できることから好ましい。

＜有機発光素子＞
本発明の一実施形態によれば、有機発光素子が提供される。この際、前記有機発光素子は、少なくとも陽極、発光層、および陰極を含む。この際、前記発光層は、上述の化学式（１）で表される発光ホスト材料を含む。

なお、前記有機発光素子は、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、および電子注入層等の他の層を１以上含んでいてもよい。また、封止部材等の公知のものを含んでいてもよい。

以下、有機発光素子の各構成について詳細に説明する。
［陽極］
陽極としては、特に制限されないが、金（Ａｕ）等の金属、ヨウ化銅（ＣｕＩ）、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ_２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等が用いられうる。これらの材料は、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

陽極の膜厚としては、特に制限されないが、１０〜１０００ｎｍであることが好ましく、１０〜２００ｎｍであることがより好ましい。
陽極は、蒸着やスパッタリング等の方法により形成されうる。この際、フォトリソグラフィー法やマスクを用いた方法によりパターン形成を行ってもよい。

［正孔注入層］
正孔注入層は、有機発光素子において任意の構成要素であり、陽極から正孔を取り入れる機能を有する。通常、陽極から取り入れた正孔は、正孔輸送層または発光層に輸送される。

正孔注入材料としては、特に制限されないが、銅フタロシアニン等のフタロシアニン化合物；４，４’，４”-トリス［フェニル（ｍ−トリル）アミノ］トリフェニルアミン等のトリフェニルアミン誘導体；１，４，５，８，９，１２−ヘキサアザトリフェニレンヘキサカルボニトリル、２，３，５，６−テトラフルオロ−７，７，８，８−テトラシアノ−キノジメタン等のシアノ化合物；酸化バナジウム、酸化モリブデン等の酸化物；アモルファスカーボン；ポリアニリン（エメラルディン）、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）−ポリ（スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ）、ポリピロール等の導電性高分子が挙げられる。これらのうち、正孔注入材料は、導電性高分子であることが好ましく、ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳであることがより好ましい。

正孔注入層の膜厚としては、特に制限されないが、０．１ｎｍ〜５μｍであることが好ましい。
正孔注入層は、単層であっても、２以上が積層されたものであってもよい。

［正孔輸送層］
正孔輸送層は、有機発光素子において任意の構成要素であり、正孔を効率的に輸送する機能を有する。また、正孔輸送層は、電子の輸送を防止する機能を有しうる。正孔輸送層は、通常、陽極または正孔注入層から正孔を取り入れ、発光層に正孔を輸送する。

正孔輸送層に用いられうる正孔輸送材料としては、特に制限されないが、ＴＰＤ（Ｎ，Ｎ'−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’ジアミン）、α−ＮＰＤ（４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル）、ｍ−ＭＴＤＡＴＡ（４、４’，４”−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン）等の低分子トリフェニルアミン誘導体；ポリビニルカルバゾール、トリアリールアミン誘導体に置換基を導入して重合したジアミンポリマー等の高分子化合物が挙げられる。これらのうち、正孔輸送材料は、トリフェニルアミン誘導体、トリアリールアミン誘導体に置換基を導入して重合した高分子化合物であることが好ましく、フルオレン骨格を有するジアミンポリマーであることがより好ましい。

正孔輸送層の膜厚としては、特に制限されないが、１ｎｍ〜５μｍであることが好ましく、５ｎｍ〜１μｍであることがより好ましく、１０〜５００ｎｍであることがさらに好ましい。

［発光層］
発光層は、発光層に注入された正孔および電子の再結合により生じるエネルギーを利用して発光を生じさせる機能を有する。

この際、上述の通り、発光層は、上述の化学式（１）で表される発光ホスト材料を含む。その他、必要に応じて、上述の他の発光ホスト材料を併用してもよい。
また、前記発光層は、必要に応じて発光ドーパント材料を含んでいてもよい。

当該発光ドーパント材料としては、上述したものが用いられうることからここでは説明を省略する。
発光層の膜厚としては、特に制限されないが、２ｎｍ〜３０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜２０μｍであることがより好ましく、１５ｎｍ〜１５μｍであることがさらに好ましく、１５〜２００ｎｍであることが特に好ましい。上記範囲であると、高精度に膜厚を制御しうることから好ましい。

［電子輸送層］
電子輸送層は、有機発光素子において任意の構成要素であり、電子を効率的に輸送する機能を有する。また、電子輸送層は、正孔の輸送を防止する機能を有しうる。電子輸送層は、通常、陰極または電子注入層から電子を取り入れ、発光層に電子を輸送する。

電子輸送層に用いられうる電子輸送材料としては、特に制限されないが、トリス（８−キノリラート）アルミニウム（Ａｌｑ）、トリス（４−メチル−８−キノリノラート）アルミニウム（Ａｌｍｑ_３）、ビス（１０−ヒドロキシベンゾ［ｈ］キノリナート）ベリリウム（ＢｅＢｑ_２）、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（ｐ−フェニルフェノラート）アルミニウム（ＢＡｌｑ）、ビス（８−キノリノラート）亜鉛（Ｚｎｑ）、８−ヒドロキシキノリノラトリチウム（Ｌｉｑ）等のキノリン骨格またはベンゾキノリン骨格を有する金属錯体；ビス［２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンズオキサゾラート］亜鉛（Ｚｎ（ＢＯＸ）_２）等のベンズオキサゾリン骨格を有する金属錯体；ビス［２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾチアゾラート］亜鉛（Ｚｎ（ＢＴＺ）_２）ベンゾチアゾリン骨格を有する金属錯体；２−（４−ビフェニリル）−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール（ＰＢＤ）、３−（４−ビフェニリル）−４−フェニル−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）、１，３−ビス［５−（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール−２−イル］ベンゼン（ＯＸＤ−７）、９−［４−（５−フェニル−１，３，４−オキサジアゾール−２−イル）フェニル］カルバゾール（ＣＯ１１）、２，２’，２’’−（１，３，５−ベンゼントリイル）トリス（１−フェニル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール）（ＴＰＢＩ）、２−［３−（ジベンゾチオフェン−４−イル）フェニル］−１−フェニル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール（ｍＤＢＴＢＩｍ−ＩＩ）等のポリアゾール誘導体；ベンゾイミダゾール誘導体；キノリン誘導体；ペリレン誘導体；ピリジン誘導体；ピリミジン誘導体；トリアジン誘導体；キノキサリン誘導体；ジフェニルキノン誘導体；ニトロ置換フルオレン誘導体、ＫＬＥＴ−０３（商品名、ケミプロ化成製）等が挙げられる。これらのうち、電子輸送材料は、ベンゾイミダゾール誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、トリアジン誘導体、フェナントロリン誘導体であることが好ましい。

上述の電子輸送材料は、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
電子輸送層の膜厚としては、特に制限されないが、５ｎｍ〜５μｍであることが好ましく、５〜２００ｎｍであることがより好ましい。
電子輸送層は、単層であっても、２以上が積層されたものであってもよい。

［電子注入層］
電子注入層は、有機発光素子において任意の構成要素であり、陰極から電子を取り入れる機能を有する。通常、陰極から取り入れた電子は、電子輸送層または発光層に輸送される。

電子注入層に用いられうる電子注入材料としては、特に制限されないが、リチウム、カルシウム等のアルカリ金属；ストロンチウム、アルミニウム等の金属；フッ化リチウム、フッ化ナトリウム等のアルカリ金属塩；８−ヒドロキシキノリラートリチウム（Ｌｉｑ）等のアルカリ金属化合物；フッ化マグネシウム等のアルカリ土類金属塩；酸化アルミニウム等の酸化物等が挙げられる。これらのうち、電子注入材料は、アルカリ金属、アルカリ金属塩、アルカリ金属化合物であることが好ましく、アルカリ金属塩、アルカリ金属化合物であることがより好ましい。

上述の電子注入材料は、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
電子注入層の膜厚としては、特に制限されないが、０．１ｎｍ〜５μｍであることが好ましい。
電子注入層は、単層であっても、２以上が積層されたものであってもよい。

［陰極］
陰極としては、特に制限されないが、リチウム、ナトリウム、マグネシウム、アルミニウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）混合物、希土類金属等が挙げられる。これらの材料は、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

陰極は、通常、蒸着やスパッタリング等の方法により形成されうる。
陰極の膜厚としては、特に制限されないが、１０〜１０００ｎｍであることが好ましく、１０〜２００ｎｍであることがより好ましい。

［その他の層］
また、有機発光素子は、上述した以外の層を有してもよい。例えば、有機発光素子は、正孔ブロック層、電子ブロック層等を有していてもよい。正孔ブロック層は、発光層等の各層からの正孔の移動を阻止するための層であり、通常、発光層の陰極側に隣接して配置される。また、電子ブロック層は、発光層等の各層からの電子の移動を阻止するための層であり、通常、発光層の陽極側に隣接して配置される。正孔ブロック層、電子ブロック層の形成に用いられる材料は、特に限定されないが、各種公知のものを使用できる。また、正孔ブロック層の構成材料として、下記化学構造式で示すＨＢＬ−１が挙げられる。

＜有機発光素子の製造方法＞
本発明の一実施形態によれば、有機発光素子の製造方法が提供される。前記有機発光素子の製造方法は、有機発光素子用インキ組成物を、支持体上にインクジェット法により塗布して発光層を形成する工程（以下、「発光層形成工程」とも称する）を含む。

［発光層形成工程］
発光層形成工程は、有機発光素子用インキ組成物を、支持体上にインクジェット法により塗布して発光層を形成する工程である。
以下、図面を参照しながら、一実施形態における発光層形成工程について説明する。
より詳細には、図１は、インクジェット法により塗布膜を形成する工程を模式的に示す部分断面図である。図１には、基板１と、前記基板上に配置された陽極２と、前記陽極上に配置された正孔輸送層４とを有する。この際、基板上に複数有する前記陽極２および正孔輸送層３の積層体は、バンク３により離隔されている。有機発光素子用インキ組成物をインクジェットヘッド７のノズル６から吐出すると、前記正孔輸送層３上に有機発光素子用インキ組成物の塗膜５が形成される。得られた塗膜を乾燥することで、発光層を形成することができる。

（有機発光素子用インキ組成物）
有機発光素子用インキ組成物としては、上述したものが用いられうることからここでは説明を省略する。

（支持体）
支持体としては、発光層と隣接する有機発光素子の構成層であり、製造しようとする有機発光素子によって異なる。例えば、陽極、発光層、および陰極からなる有機発光素子を製造する場合には、支持体は陽極または陰極である。また、陽極、正孔注入層、発光層、電子注入層、陰極からなる有機発光素子を製造する場合には、支持体は正孔注入層または電子輸送層である。このように、支持体としては、陽極、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層、または陰極であり、好ましくは陽極、正孔注入層、正孔輸送層であり、より好ましくは正孔注入層または正孔輸送層であり、さらに好ましくは正孔輸送層である。

なお、支持体には、バンクが形成されていてもよい。バンクを有することにより、所望の箇所にのみ発光層を形成することができる。
前記バンクの高さは、０．１〜５．０μｍであることが好ましく、０．２〜３．０μｍであることがより好ましく、０．２〜２．０μｍであることがさらに好ましい。
また、前記バンク開口部の幅は、１０〜２００μｍであることが好ましく、３０〜２００μｍであることがより好ましく、５０〜１００μｍであることがさらに好ましい。

さらに、前記バンク開口部の長さは、１０〜４００μｍであることが好ましく、２０〜２００μｍであることがより好ましく、５０〜２００μｍであることがさらに好ましい。
また、前記バンクのテーパ角度は１０〜１００度であることが好ましく、１０〜９０度であることがより好ましく、１０〜８０度であることがさらに好ましい。

（塗布）
塗布はインクジェット法により行われる。より詳細には、有機発光素子用インキ組成物をインクジェットヘッドのノズルから支持体に対して吐出する。
この際、有機発光素子用インキ組成物の吐出量は、１〜５０ｐＬ／回であることが好ましく、１〜３０ｐＬ／回であることがより好ましく、１〜２０ｐＬ／回であることがさらに好ましい。

インクジェットヘッドの開口径は、ノズルの詰まりや吐出精度の観点から、５〜５０μｍであることが好ましく、１０〜３０μｍであることがより好ましい。
塗膜を形成する際の温度は特に限定されないが、有機発光素子用インキ組成物に含まれる発光材料（発光ホスト材料および／または発光ドーパント材料）の結晶化を抑制する等の観点から、１０〜５０℃であることが好ましく、１５〜４０℃であることがよりに好ましく、１５〜３０℃であることがさらに好ましい。

塗膜を形成する際の相対湿度は特に限定されないが、０．０１ｐｐｍ〜８０％であることが好ましく、０．０５ｐｐｍ〜６０％であることがより好ましく、０．１ｐｐｍ〜１５％であることがさらに好ましく、１ｐｐｍ〜１％であることが特に好ましく、５〜１００ｐｐｍであることが最も好ましい。相対湿度が０．０１ｐｐｍ以上であると、塗膜を形成する条件の制御が容易となることから好ましい。一方、相対湿度が８０％以下であると、得られる発光層に影響を及ぼし得る塗膜吸着水分量が低減できることから好ましい。

（乾燥）
得られた塗膜を乾燥することにより、発光層が形成されうる。
乾燥温度は特に限定されないが、室温（２５℃）で放置して行っても、加熱して行ってもよい。加熱して行う場合には、４０〜１３０℃であることが好ましく、４０〜８０℃であることがより好ましい。

また、乾燥時の圧力は減圧下で行うことが好ましく、０．００１〜１００Ｐａの減圧下で行うことがより好ましい。
さらに、乾燥時間は、１〜９０分であることが好ましく、１〜３０分であることがより好ましい。

［その他の層の形成工程］
有機発光素子を構成するその他の層、具体的には、陽極、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層、および陰極については、適宜公知の方法により形成することができる。

例えば、陽極および陰極は、蒸着やスパッタリング等の方法により形成することができる。
また、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層は、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法、ＬＢ法等により形成することができる。

以下、実施例を用いて本発明を説明するが、本発明は実施例の記載に制限されるものではない。また、実施例において特段の記載がない場合、「％」は「質量％」を意味する。

［合成例１］
（化合物２−７の合成（実施例））
以下のスキームに従い、化合物２−７を合成した。

まず、上記反応スキームに従い、常法に従い中間体ａ、ｂを合成した。
次いで、アルゴン下において反応溶器中に中間体ａ（２．２０ｇ、５．５２ｍｍｏｌ）、中間体ｂ（３．３０ｇ、４．９７ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）ジパラジウム（ｄｉｃｈｌｏｒｏｂｉｓ（ｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）ｄｉｐａｌｌａｄｉｕｍ）（０．０７８ｇ、０．１１ｍｍｏｌ）、ジオキサン（ｄｉｏｘａｎｅ）５５ｍｌ、０．５Ｎ炭酸ナトリウム水溶液２８ｍｌを加え、９０℃において８時間、混合物を撹拌した。反応終了後、室温まで放冷し、セライト（ｃｅｌｉｔｅ）を用いて不純物をろ別した。有機層を濃縮後、カラムクロマトグラム（ｃｏｌｕｍｎ ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｍ）を用いて精製し、化合物１−７を得た（２．９７ｇ、収率６９．９％、構造同定：ＬＣ−ＭＳ）。ガラス転移温度（Ｔｇ）の測定は、ＪＩＳ Ｋ ７１２１に準拠して、ＳＩＩ ＤＳＣ６２２０（セイコーインスツル（株）製）を用いて行った。

ＬＣＭＳ、ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ_６３Ｈ_４２Ｎ_４＝８５５、ｆｏｕｎｄ ｍ／ｚ＝８５５（Ｍ＋）
Ｔｇ：１４５．５℃

（合成例２）
（化合物３−５の合成）
以下の反応スキームに従い、化合物３-５を合成した。

アルゴン下において反応器中に、３−ブロモ−６，９−ジフェニルカルバゾール（３−ｂｒｏｍｏ−６，９−ｄｉｐｈｅｎｙｌｃａｒｂａｚｏｌｅ）（６．８ｇ、１７．１ｍｍｏｌ）、３−（４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキザボロラン−２−イル）−９Ｈ−カルバゾール（３−（４，４，５，５−ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ−１，３，２−ｄｉｏｘａｂｏｒｏｌａｎ−２−ｙｌ）−９Ｈ−ｃａｒｂａｚｏｌｅ）（５．０ｇ、１７．１ｍｍｏｌ）、トルエン（ｔｏｌｕｅｎｅ）５２ｍｌ、エタノール（ｅｔｈａｎｏｌ）１７ｍｌ、２Ｎ炭酸ナトリウム水溶液（Ｎａ_２ＣＯ_３ａｑ）２５ｍｌを加え撹拌した。次いで、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（ｔｅｔｒａｋｉｓｔｒｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ ｐａｌｌａｄｉｕｍ：Ｐｄ（ＰＰｈ_３）_４）（０．６０ｇ、０．５１ｍｍｏｌ）を添加し、８時間還流した。反応終了後、室温まで放冷し、トルエン／水により抽出したのち、カラムクロマトグラムを用いて精製し、中間体Ｃ得た（３．０ｇ、収率３６％)。

次いで、アルゴン下において、中間体ｃ（３．０ｇ、６．１９ｍｍｏｌ）、３−ブロモ−５’−フェニル−１，１，３’，１’’−テルフェニル（３−Ｂｒｏｍｏ−５’−ｐｈｅｎｙｌ−１,１’：３’，１’’−ｔｅｒｐｈｅｎｙｌ）（２．６４ｇ、６．８５ｍｍｏｌ）を脱水キシレン２６ｍｌに溶解した。次いで、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（ｔｒｉｓ（ｄｉｂｅｎｚｙｌｉｄｅｎｅａｃｅｔｏｎｅ）ｄｉｐａｌｌａｄｉｕｍ：Ｐｄ_２（ｄｂa）_３）（０．１２０ｇ、０．１３０ｍｍｏｌ）、テトラフルオロホウ酸トリ−ｔ−ブチルホスフィン（ｔｒｉ−ｔｅｒｔ−ｂｕｔｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｅ ｔｅｔｒａｆｌｕｏｒｏｂｏｒａｔｅ：（（ｔＢｕ）_３Ｐ／ＢＦ_４））（０．１５０ｇ、０．５２０ｍｍｏｌ）、ナトリウム−ｔ−ブトキシド（ｓｏｄｉｕｍ−ｔ−ｂｕｔｏｘｉｄｅ：ｔＢｕＯＮａ）（０．９０ｇ、９．３７ｍｍｏｌ）を添加し、８時間還流した。室温まで放冷後、セライト濾過し、トルエンと飽和食塩水により抽出した後、カラムクロマトグラムにより精製し、化合物３−５を得た。（淡黄色個体２．０g、収率４１％、構造同定：ＬＣ−ＭＳ）

ＬＣＭＳ、ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ_６〇Ｈ_４〇Ｎ_２＝７８９、ｆｏｕｎｄ ｍ／ｚ＝７８９（Ｍ＋）
Ｔｇ：１５６．６℃

［実施例１］
０．００９ｇの２−７と、０．０８６ｇの３−５、０．００５ｇのトリス（２−（３−ｐ−キシイル）フェニル）ピリジン イリジウム（ＩＩＩ）とを、９．９ｇのブチルフェニルエーテル（蒸気圧：０．２１ｍｍＨｇ）に添加することで、有機発光素子用インク組成物を製造した。

［実施例２］
溶媒を１−プロピル−４−メトキシベンゼン（蒸気圧：０．１１ｍｍＨｇ）に変更したことを除いては、実施例１と同様の方法で有機発光素子用インキ組成物を製造した。

［実施例３］
溶媒を安息香酸エチル（蒸気圧：０．１７ｍｍＨｇ）に変更したことを除いては、実施例１と同様の方法で有機発光素子用インキ組成物を製造した。

［実施例４］
溶媒を安息香酸イソプロピル（蒸気圧：０．１１ｍｍＨｇ）に変更したことを除いては、実施例１と同様の方法で有機発光素子用インキ組成物を製造した。

［実施例５］
溶媒を１−フェニル−１−ブタノン（ブチロフェノン）（蒸気圧：０．１２ｍｍＨｇ）に変更したことを除いては、実施例１と同様の方法で有機発光素子用インキ組成物を製造した。

［実施例６］
溶媒をｐ−メチルアセトフェノン（４’−メチルアセトフェノン）（蒸気圧：０．１８ｍｍＨｇ）に変更したことを除いては、実施例１と同様の方法で有機発光素子用インキ組成物を製造した。

［実施例７］
発光ホスト材料を、３−５同様の手法により合成した３−３５に変更したことを除いては、実施例と同様の方法で有機発光素子用インキ組成物を製造した。

［実施例８］
溶媒を安息香酸エチル（蒸気圧：０．１７ｍｍＨｇ）に変更したことを除いては、実施例７と同様の方法で有機発光素子用インキ組成物を製造した。

［比較例１］
溶媒を非芳香族溶媒であるジエチレングリコールエチルメチルエーテル（蒸気圧：０．９６ｍｍＨｇ）に変更したことを除いては、実施例１と同様の方法で有機発光素子用インキ組成物を製造した。

［評価］
実施例１〜８および比較例１で製造した有機発光素子用インキ組成物を用いて、各種性能の評価を行った。

（インクジェット（ＩＪ）吐出性）
インクジェットプリンターＤＭＰ２８３１（富士フィルム社製）を用いて、有機発光素子用インク組成物を３０秒間吐出し、１分間吐出を停止させた後、再吐出した。なお、ＩＪ吐出性の評価は以下の基準に従って行った。
再吐出可能、液滴直進性良好：◎
再吐出可能、液滴曲がり発生：○
再吐出不可：×
この際、ノズルクリーニングは、以下の通りの条件で行った。すなわち、ヘッドノズル面をインクジェットプリンターに搭載のクリーニングパッドに僅かに接触させて、ノズル面のインクを吸い取った。

（発光効率）
有機発光素子を作製し、発光効率を評価した。
有機発光素子の作製と評価
洗浄したＩＴＯ基板にＵＶ／Ｏ_３を照射し、スピンコートによりポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）−ポリ（スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ）を４５ｎｍ成膜し、大気中で１８０℃、１５分間加熱し、正孔注入層を形成した。次いで、ＨＴ−１（特開2014-001349高分子化合物8追試合成ポリマー Ｍｎ＝２８，０００、Ｍｗ＝１２２，０００）の０．６重量％キシレン溶液を、正孔注入層上にスピンコートにより２０ｎｍ成膜し、窒素雰囲気下にて２３０℃で３０分間乾燥させることで、正孔輸送層を形成した。次に、有機発光素子用インク組成物を、正孔輸送層上にスピンコートにより３０ｎｍ成膜し、１０^−１Ｐａに減圧した後、１１０℃で１５分間乾燥させることで、発光層を形成した。そして、５×１０^−３Ｐａの真空条件下で、正孔ブロック層として、下記化学構造式で示すＨＢＬ−１を１０ｎｍ、電子輸送層として、（８−キノリノラト）リチウム（Ｌｉｑ）およびＫＬＥＴ−０３（ケミプロ化成製）の共蒸着層を４５ｎｍ、電子注入層として８−ヒドロキシキノリノラトリチウム（Ｌｉｑ）を０．５ｎｍ、陰極としてアルミニウムを１００ｎｍ順次成膜した。最後に、グローブボックスに基板を搬送し、ガラス基板にて封止することで有機発光素子を作製した。

このように作製した有機発光素子に対し、外部電源に接続して有機発光素子からの発光をＢＭ−９（株式会社トプコン製）にて測光し、６０００ｃｄ／ｍ^２時の電流値より発光効率を算出した。
得られた結果を下記表１に示す。

表１の結果から、実施例１〜８で製造した有機発光素子用インク組成物は、非芳香族溶剤で製造した比較例１の有機発光素子用インキと比較して、インクジェット吐出安定性に優れることがわかる。更に、本発明の蒸気圧が１ｍｍＨｇ以下の芳香族溶剤を使用した場合、高い発光効率を示すことがわかった。

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。

１：基板
２：陽極
３：バンク
４：正孔輸送層
５：塗膜
６：ノズル
７：インクジェットヘッド。

Claims (7)

1. 下記化学式（１）：
   

   

   （上記化学式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、およびＲ^３は、それぞれ独立して、水素原子、重水素原子、フッ素原子、シリル基、置換基を有してもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、またはヘテロアリール基を表し、隣接する基と結合していてもよい。）
   で表される発光ホスト材料と、溶媒と、を含む、有機発光素子用インキ組成物であって、
   前記溶媒が、芳香族エーテル、芳香族エステル、および芳香族ケトンからなる群から選択される少なくとも１つを含む、有機発光素子用インキ組成物。
2. 前記発光ホスト材料として、下記化学式（２）で表される化合物を少なくとも１種含むことを特徴とする請求項１に記載の有機発光素子用インキ組成物。
   

   

   （上記化学式（２）中、Ｒ^１、Ｒ^２、およびＲ^３は、前記と同じ。ただしＲ^１〜Ｒ^３のうち少なくとも１つは、下記化学式（２−Ａ）により表される基である。）
   

   

   （上記化学式（２−Ａ）中、Ｌ１は、置換もしくは無置換のアルキレン基もしくはアリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ）−または単結合であり、
   Ｘは、−Ｃ（Ｒ）＝または−Ｎ＝であり、但し各式中少なくとも１つのＸは−Ｎ＝であり、
   Ｒ^４、Ｒ^５は、互いに独立して、水素原子、重水素原子、フッ素原子、シリル基、置換基を有していてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、またはヘテロアリール基を表し、隣接する基と結合してもよい。）
3. 前記発光ホスト材料として、ビカルバゾール（Ｂｉｃａｒｂａｚｏｌｅ）骨格を有する化合物を少なくとも１種含むことを特徴とする請求項１に記載の有機発光素子用インキ組成物。
4. 前記発光ホスト材料の分子量が、２０００ｇ／ｍｏｌ以下である、請求項１〜３のいずれかに記載の有機発光素子用インキ組成物。
5. 前記溶媒が、芳香族エーテルおよび／または芳香族エステルを含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の有機発光素子用インキ組成物。
6. 前記溶媒の蒸気圧が、１ｍｍＨｇ以下である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の有機発光素子用インキ組成物。
7. 請求項１〜６のいずれか１項に記載のインクジェット用有機発光素子用インキ組成物。
   

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