JP7319843B2 - 有機ｅｌ素子用組成物 - Google Patents

Description

本発明は、有機ＥＬ素子用組成物に関し、当該有機ＥＬ組成用組成物から形成される膜、当該膜の製造方法、及び当該膜を備える有機ＥＬ素子にも関する。

有機ＥＬ素子（有機エレクトロルミネッセンス素子）は、発光効率が高く、駆動電圧が低いことから、ディスプレイおよび照明の用途に好適に使用することが可能である。有機ＥＬ素子は、発光層、電荷輸送層等の有機層を備える。有機層は、溶媒中に、有機ＥＬ材料（有機エレクトロルミネッセンス材料）等の高分子化合物を溶解させた有機ＥＬ素子用組成物を用いることで、インクジェット印刷法に代表される吐出型の塗布法を用いて形成することができる。これまでに、有機ＥＬ素子用組成物について検討がなされている。

特開２０１３－０２６１６４号公報（特許文献１）には、インクジェット印刷法に用いる有機ＥＬ素子用組成物として、有機ＥＬ材料（具体的には、高分子有機ＥＬ材料）と、芳香族炭化水素溶媒（具体的には、シクロヘキシルベンゼン）と、芳香族エーテル溶媒（具体的には、４－メチルアニソール）とを含む組成物が開示されている。

特開２０１３－０２６１６４号公報

本発明は、高分子化合物と溶媒とを含有する有機ＥＬ素子用組成物であって、これを塗布して膜を製造する場合に、平坦性に優れる膜の製造に有用な有機ＥＬ素子用組成物を提供することを目的とする。本発明はまた、該有機ＥＬ素子用組成物から形成される膜、当該膜の製造方法、及び当該膜を備える有機ＥＬ素子を提供することを目的とする。

本発明は、以下に示す有機ＥＬ素子用組成物、膜、膜の製造方法、及び有機ＥＬ素子を提供する。

〔１〕 固形分と溶媒とを含む有機ＥＬ素子用組成物であって、
前記固形分は、前記固形分の全量に対して５質量％以上含まれる主高分子化合物を少なくとも１種と、前記固形分の全量に対して３０質量％以上含まれる主低分子化合物を少なくとも１種と、を含み、
前記溶媒は、前記溶媒の全量に対して５質量％以上含まれる主溶媒を少なくとも２種含み、
前記主溶媒の中で大気圧での沸点が最も高い第１溶媒と、前記主高分子化合物の中で重量平均分子量が最も大きい第１高分子化合物とが、前記第１溶媒と前記第１高分子化合物とのみからなる溶液の温度２３℃における粘度が１．３０×１０ｃＰ以上１．７７×１０^３ｃＰ以下となるような含有比率で含まれており、前記第１高分子化合物の重量平均分子量は１．４×１０^５未満である、有機ＥＬ素子用組成物。
〔２〕 前記第１溶媒の大気圧での沸点が２５０℃以上である、〔１〕に記載の有機ＥＬ素子用組成物。
〔３〕 前記第１溶媒は式（１）で表される化合物である、〔１〕又は〔２〕に記載の有機ＥＬ素子用組成物。

［式（１）中、Ｒ^１は、炭素原子数が１０～１２のアルキル基を表す。］
〔４〕 前記第１溶媒の濃度は、前記溶媒の全量に対して５質量％以上６０質量％以下である、〔１〕～〔３〕のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子用組成物。
〔５〕 前記主溶媒は、第２溶媒をさらに含み、
前記第２溶媒は、式（１）で表される化合物を除く芳香族炭化水素である、〔１〕～〔４〕のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子用組成物。
〔６〕 前記第２溶媒は、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、及びテトラリンからなる群より選択される、〔５〕に記載の有機ＥＬ素子用組成物。
〔７〕 前記主溶媒は、第３溶媒をさらに含み、
前記第３溶媒は、芳香族エーテルである、〔１〕～〔６〕のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子用組成物。
〔８〕 前記第３溶媒は、メチルアニソール、ジメチルアニソール、エチルアニソール、ブチルフェニルエーテル、ブチルアニソール、ペンチルアニソール、ヘキシルアニソール、ヘプチルアニソール、オクチルアニソール、及びフェノキシトルエンからなる群より選択される、〔７〕に記載の有機ＥＬ素子用組成物。
〔９〕 前記主高分子化合物は、いずれも重量平均分子量が３．０×１０^４以上である、〔１〕～〔８〕のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子用組成物。
〔１０〕 前記第１高分子化合物は、発光性化合物である、〔１〕～〔９〕のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子用組成物。
〔１１〕 温度２３℃における粘度が１ｃＰ以上１０ｃＰ以下である、〔１〕～〔１０〕のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子用組成物。
〔１２〕 〔１〕～〔１１〕のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子用組成物から形成される膜。
〔１３〕 〔１２〕に記載の膜を備える有機ＥＬ素子。
〔１４〕 〔１〕～〔１１〕のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子用組成物を準備する準備工程と、
前記有機ＥＬ素子用組成物を塗布して塗膜を形成する塗布工程と、
前記塗膜を乾燥する乾燥工程と、を有する、膜の製造方法。
〔１５〕 前記乾燥工程は、前記塗膜を減圧雰囲気で乾燥する工程である、〔１４〕に記載の膜の製造方法。
〔１６〕 前記準備工程は、前記第１溶媒と前記第１高分子化合物とが、前記第１溶媒と前記第１高分子化合物とのみからなる前記溶液の温度２３℃における前記粘度が２．２０×１０ｃＰ以上１．７７×１０^３ｃＰ以下となるような含有比率で含まれている有機ＥＬ素子用組成物を準備する工程であり、
前記乾燥工程は、前記塗膜を温度が３０℃以上５０℃以下の減圧雰囲気で乾燥する工程である、〔１５〕に記載の膜の製造方法。
〔１７〕 前記準備工程は、前記第１溶媒と前記第１高分子化合物とが、前記第１溶媒と前記第１高分子化合物とのみからなる前記溶液の温度２３℃における前記粘度が１．３０×１０ｃＰ以上８．７０×１０^２ｃＰ以下となるような含有比率で含まれている有機ＥＬ素子用組成物を準備する工程であり、
前記乾燥工程は、前記塗膜を温度が２０℃以上３０℃未満の減圧雰囲気で乾燥する工程である、〔１５〕に記載の膜の製造方法。
〔１８〕 前記乾燥工程は、前記乾燥雰囲気を、大気圧から、１０００Ｐａ／秒以上３００００Ｐａ／秒以下の減圧速度で１０００Ｐａの圧力まで減圧する工程を含む、〔１５〕～〔１７〕のいずれか１項に記載の膜の製造方法。

本発明の有機ＥＬ素子用組成物によると、平坦性に優れる膜を製造することができる。

各減圧条件における減圧制御方法を示す図である。 試験例１の基準溶液の粘度ｘと平坦度ｙとをプロットしたグラフである。 試験例２の基準溶液の粘度ｘと平坦度ｙとをプロットしたグラフである。 試験例３の基準溶液の粘度ｘと平坦度ｙとをプロットしたグラフである。 試験例４の基準溶液の粘度ｘと平坦度ｙとをプロットしたグラフである。 試験例５の基準溶液の粘度ｘと平坦度ｙとをプロットしたグラフである。 試験例６の基準溶液の粘度ｘと平坦度ｙとをプロットしたグラフである。 試験例７の基準溶液の粘度ｘと平坦度ｙとをプロットしたグラフである。 試験例８の基準溶液の粘度ｘと平坦度ｙとをプロットしたグラフである。 試験例９の基準溶液の粘度ｘと平坦度ｙとをプロットしたグラフである。 試験例１０の基準溶液の粘度ｘと平坦度ｙとをプロットしたグラフである。

本明細書で共通して用いられる用語は、特記しない限り、以下の意味である。
「高分子化合物」とは、分子量分布を有し、ポリスチレン換算の重量平均分子量が１×１０^３～１×１０^８である重合体を意味する。高分子化合物は、ブロック共重合体、ランダム共重合体、交互共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよいし、その他の態様であってもよい。高分子化合物の末端基は、重合活性基がそのまま残っていると、高分子化合物を発光素子の作製に用いた場合に発光特性または輝度寿命が低下する可能性があるので、好ましくは安定な基である。この末端基としては、好ましくは主鎖と共役結合している基であり、例えば、炭素－炭素結合を介してアリール基または１価の複素環基と結合している基が挙げられる。

「低分子化合物」とは、分子量分布を有さず、分子量が１×１０^４以下の化合物を意味する。

以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。

［有機ＥＬ素子用組成物］
本発明の有機ＥＬ素子用組成物（以下、単に「組成物」とも称する。）は、固形分（以下、「固形分（Ａ）」とも称する。）と溶媒（以下、「溶媒（Ｂ）」とも称する。）とを含む。
本明細書において、「主溶媒」（以下、「主溶媒（ｂ）」とも称する。）とは、溶媒（Ｂ）の全量に対して５質量％以上含まれる溶媒を意味する。
本明細書において、「主高分子化合物」（以下、「主高分子化合物（ａ）」とも称する。）とは、固形分（Ａ）の全量に対して５質量％以上含まれる高分子化合物を意味する。
本明細書において、「主低分子化合物」とは、固形分（Ａ）の全量に対して３０質量％以上含まれる低分子化合物を意味する。
本明細書において、「第１溶媒」とは、主溶媒（ｂ）の中で大気圧での沸点が最も高い溶媒を意味する。
本明細書において、「第１高分子化合物」とは、主高分子化合物（ａ）の中で重量平均分子量が最も大きい高分子化合物を意味する。第１高分子化合物は、重量平均分子量が１．４×１０^５未満である。第１高分子化合物は、重量平均分子量が７．０×１０^４以上であることが好ましい。

本発明の組成物は、第１溶媒と第１高分子化合物とを、第１溶媒と第１高分子化合物とのみからなる溶液（以下、「基準溶液」とも称する。）の温度２３℃における粘度が１．３０×１０ｃＰ以上１．７７×１０^３ｃＰ以下となるような含有比率で含む。第１溶媒と第１高分子化合物とのみからなる溶液の粘度が上記数値範囲であることにより、平坦性に優れる膜を製造することができる。

本発明者らは、第１溶媒と第１高分子化合物とのみからなる溶液（基準溶液）を最初に調製し、その後、その他の成分を添加する方法で組成物を調製したところ、基準溶液の粘度と製造される膜の平坦性とに相関があること、基準溶液の粘度と製造される膜の平坦性との相関は膜の乾燥条件によって異なること、を見出し、上記数値範囲内であれば、通常採用し得る製造条件内で平坦性に優れる膜を製造することができることを見出し、本発明に至ったものである。

＜溶媒（Ｂ）＞
本発明の組成物に含有される溶媒（Ｂ）は、主溶媒（ｂ）を少なくとも２種含む。主溶媒（ｂ）としては、式（１）で表される化合物である溶媒（ｂ１）、式（１）で表される化合物を除く芳香族炭化水素である溶媒（ｂ２）、芳香族エーテルである溶媒（ｂ３）、が好適である。ここでいう「少なくとも２種」の「種」は、化合物としての種類を意味し、溶媒（ｂ１）、溶媒（ｂ２）、溶媒（ｂ３）のそれぞれをカテゴリーとした場合のカテゴリーの種類を意味するものではない。したがって、例えば、溶媒（Ｂ）中に、主溶媒（ｂ）として溶媒（ｂ１）に属する異なる２種の化合物のみを含む場合も、主溶媒（ｂ）を少なくとも２種含むことになる。なお、溶媒（ｂ１）、溶媒（ｂ２）、溶媒（ｂ３）は、溶媒（Ｂ）中に、主溶媒（ｂ）として含まれていてもよく、主溶媒（ｂ）以外として、すなわち５質量％未満含まれる溶媒として含まれていてもよい。

≪溶媒（ｂ１）≫
溶媒（ｂ１）は、式（１）で表される。

［式（１）中、Ｒ^１は、炭素原子数が１０～１２のアルキル基を表す。］

Ｒ^１で表される炭素原子数が１０～１２のアルキル基は、直鎖のアルキル基であっても分岐のアルキル基であってもよいが、直鎖のアルキル基であることが好ましい。

Ｒ^１は、炭素原子数が１０のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数が１０の直鎖のアルキル基であることが好ましい。

Ｒ^１で表される炭素原子数が１０～１２のアルキル基としては、例えば、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等の直鎖のアルキル基；メチルノニル基、メチルデシル基、メチルウンデシル基、ジメチルオクチル基、ジメチルノニル基、ジメチルデシル基、トリメチルヘプチル基、トリメチルオクチル基、トリメチルノニル基、テトラメチルヘキシル基、テトラメチルヘプチル基、テトラメチルオクチル基、ペンタメチルヘキシル基、ペンタメチルヘプチル基、ヘキサメチルヘキシル基等の分岐のアルキル基が挙げられ、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、テトラメチルオクチル基、ペンタメチルヘプチル基またはヘキサメチルヘキシル基が好ましく、デシル基、ウンデシル基またはドデシル基がより好ましく、１－デシル基、２－デシル基、３－デシル基、４－デシル基、５－デシル基、１－ウンデシル基、２－ウンデシル基、３－ウンデシル基、１－ドデシル基、２－ドデシル基または３－ドデシル基が更に好ましく、１－デシル基、２－デシル基または３－デシル基が特に好ましい。

溶媒（ｂ１）としては、例えば、デシルベンゼン（沸点：２９３℃）、ドデシルベンゼン（沸点：３３１℃）が挙げられる。

本発明の組成物には、溶媒（ｂ１）が１種単独で含有されていてもよく、２種以上含有されていてもよい。

≪溶媒（ｂ２）≫
溶媒（ｂ２）は、式（１）で表される化合物を除く芳香族炭化水素である。
溶媒（ｂ２）は、全炭素原子数が６～１５であることが好ましく、７～１５であることがより好ましい。
溶媒（ｂ２）は、ベンゼン環を１個含むものであることが好ましく、全炭素原子数７～１５の、アルキル基またはシクロアルキル基で置換されているベンゼンであることがより好ましい。
溶媒（ｂ２）としては、例えば、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、エチルメチルベンゼン、プロピルベンゼン、ブチルベンゼン、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、ジプロピルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、テトラリンが挙げられ、本発明の組成物を用いて形成される膜の平坦性がより優れるので、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、シクロヘキシルベンゼンまたはテトラリンが好ましく、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、シクロヘキシルベンゼンまたはテトラリンがより好ましく、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼンまたはシクロヘキシルベンゼンが更に好ましく、１－へプチルベンゼン、１－オクチルベンゼン、１－ノニルベンゼン、シクロヘキシルベンゼンが特に好ましい。

本発明の組成物には、溶媒（ｂ２）が１種単独で含有されていてもよく、２種以上含有されていてもよい。

≪溶媒（ｂ３）≫
溶媒（ｂ３）は、芳香族エーテルである。
溶媒（ｂ３）は、全炭素原子数が７～１５であることが好ましい。
溶媒（ｂ３）としては、全炭素原子数が７～１５の、アリール部位がアルキル基で置換されていてもよいアルキルアリールエーテル、全炭素原子数が１２～１５の、アルキル基で置換されていてもよいジアリールエーテルが挙げられ、全炭素原子数が７～１５の、フェニル部位がアルキル基で置換されていてもよいアルキルフェニルエーテル、全炭素原子数が１２～１５の、アルキル基で置換されていてもよいジフェニルエーテルが好ましい。
溶媒（ｂ３）としては、例えば、アニソール、エチルフェニルエーテル、メチルアニソール、ジメチルアニソール、エチルアニソール、ブチルフェニルエーテル、ブチルアニソール、ペンチルアニソール、ヘキシルアニソール、ヘプチルアニソール、オクチルアニソール、１－メトキシナフタレン、ジフェニルエーテル、フェノキシトルエンが挙げられ、この中でも、メチルアニソール、ジメチルアニソール、エチルアニソール、ブチルフェニルエーテル、ブチルアニソール、ペンチルアニソール、ヘキシルアニソール、ヘプチルアニソール、オクチルアニソールまたはフェノキシトルエンが好ましく、２－メチルアニソール、３－メチルアニソール、４－メチルアニソール、２，５―ジメチルアニソール、２－エチルアニソール、４－エチルアニソールまたは３－フェノキシトルエンがより好ましく、２－メチルアニソール、３－メチルアニソール、４－メチルアニソールまたは３－フェノキシトルエンが更に好ましい。

本発明の組成物には、溶媒（ｂ３）が１種単独で含有されていてもよく、２種以上含有されていてもよい。

≪その他の溶媒≫
本発明の組成物には、溶媒（ｂ１）、溶媒（ｂ２）、溶媒（ｂ３）以外の溶媒（以下、「溶媒（ｂ４）」とも称する。）が含まれていてもよい。溶媒（ｂ４）は、溶媒（Ｂ）の全量に対して５質量％以上含まれる主溶媒（ｂ）として含まれていてもよいし、溶媒（Ｂ）の全量に対して５質量％未満含まれる主溶媒以外の溶媒として含まれていてもよい。

溶媒（ｂ４）としては、例えば、脂肪族炭化水素溶媒、単価アルコール溶媒、多価アルコール溶媒、エステル溶媒、ケトン溶媒、脂肪族エーテル溶媒、窒素原子を含む溶媒、硫黄原子を含む溶媒が挙げられる。

本発明の組成物には、溶媒（ｂ４）が１種単独で含有されていてもよく、２種以上含有されていてもよい。

≪第１溶媒≫
主溶媒（ｂ）の中で沸点が最も高い第１溶媒は、大気圧での沸点が２００℃以上であることが好ましい。また、第１溶媒は、大気圧での沸点が３５０℃以下であることが好ましい。第１溶媒は、上記した溶媒（ｂ１）であることが好ましい。第１溶媒の大気圧での沸点は、主溶媒（ｂ）の中で大気圧での沸点が２番目に高い溶媒の大気圧での沸点との差が、１０℃以上であることが好ましく、２０℃以上であることがより好ましく、３０℃以上であることがさらに好ましい。第１溶媒の濃度は、主溶媒（ｂ）の全量に対して５質量％以上６０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上５０質量％以下であることがより好ましい。

≪溶媒の組成比≫
溶媒（Ｂ）の一例において、主溶媒（ｂ）は、溶媒（ｂ１）、溶媒（ｂ２）、及び溶媒（ｂ３）を含み、溶媒（ｂ１）の含有量：ｍ１（質量）と、溶媒（ｂ２）の含有量：ｍ２（質量）と、溶媒（ｂ３）の含有量：ｍ３（質量）について、本発明の組成物を用いて形成される膜の平坦性がより優れるので、以下の関係式（１）及び（２）を満たすことが好ましい。
０．０５≦ｍ１／（ｍ１＋ｍ２＋ｍ３）≦０．６０ （１）
０．１０≦ｍ２／（ｍ２＋ｍ３）≦０．９０ （２）
ｍ１は、溶媒（ｂ１）が２種以上含有されている場合、溶媒（ｂ１）の合計含有量を示す。ｍ２は、溶媒（ｂ２）が２種以上含有されている場合、溶媒（ｂ２）の合計含有量を示す。ｍ３は、溶媒（ｂ３）が２種以上含有されている場合、溶媒（ｂ３）の合計含有量を示す。

溶媒（Ｂ）は、溶媒（Ｂ）の全量に対して５質量％未満の含有量であれば、第１溶媒より沸点が高い溶媒を含んでいてもよい。なお、第１溶媒より沸点が高い溶媒は、溶媒（Ｂ）の全量に対して、単独で１質量％未満であることが好ましく、合計で５質量％未満であることが好ましい。

＜固形分（Ａ）＞
本発明の組成物に含有される固形分（Ａ）は、高分子化合物及び低分子化合物を含む。高分子化合物は、固形分（Ａ）の全量に対して５質量％以上含まれる主高分子化合物（ａ）を少なくとも１種含む。主高分子化合物（ａ）は、それぞれの含有量が固形分（Ａ）の全量に対して５質量％以上７０質量％未満であり、２種以上含まれる場合には全種類を合計した含有量が固形分（Ａ）の全量に対して７０質量％未満である。主高分子化合物（ａ）は、重量平均分子量が３．０×１０^４以上であることが好ましい。

低分子化合物は、固形分（Ａ）の全量に対して３０質量％以上含まれる主低分子化合物を少なくとも１種含む。主低分子化合物は、それぞれの含有量が固形分（Ａ）の全量に対して６０質量％以下であることが好ましく、２種以上含まれる場合には全種類を合計した含有量が固形分（Ａ）の全量に対して９５質量％未満である。主低分子化合物は、分子量が１×１０^４以下であり、１×１０^２以上であることが好ましい。

高分子化合物及び低分子化合物は、例えば、発光材料、ホスト材料、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料、酸化防止剤等である。

固形分（Ａ）に含まれる低分子化合物は、低分子化合物は発光材料であってもよい。低分子化合物が発光材料である場合は、優れた発光特性を有する観点から、イリジウム錯体であることが好ましい。なお、イリジウム錯体は、低分子化合物としてではなく、イリジウム錯体の構造を有する構成単位（すなわち、イリジウム錯体を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合する１個以上の水素原子を除いてなる基を有する構成単位。以下、「イリジウム錯体構成単位」ともいう）を含む高分子化合物として含まれていてもよい。

≪共通する用語の説明≫
以下で共通して用いられる用語は、特記しない限り、次の意味である。

Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、Ｂｕはブチル基、ｉ－Ｐｒはイソプロピル基、ｔ－Ｂｕはｔｅｒｔ－ブチル基を表す。

水素原子は、重水素原子であっても、軽水素原子であってもよい。

金属錯体を表す式中、中心金属との結合を表す実線は、共有結合または配位結合を意味する。

「構成単位」とは、高分子化合物中に１個以上存在する単位を意味する。

「アルキル基」は、直鎖および分岐のいずれでもよい。直鎖のアルキル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常１～５０であり、好ましくは３～３０であり、より好ましくは４～２０である。分岐のアルキル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３～５０であり、好ましくは３～３０であり、より好ましくは４～２０である。

アルキル基は、置換基を有していてもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、イソアミル基、２－エチルブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２－ブチル基、２－エチルヘキシル基、３－プロピルヘプチル基、デシル基、３，７－ジメチルオクチル基、２－エチルオクチル基、２－ヘキシルデシル基、ドデシル基、および、これらの基における水素原子が、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基が挙げられ、例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、３－フェニルプロピル基、３－（４－メチルフェニル）プロピル基、３－（３，５－ジ-ヘキシルフェニル)プロピル基、６－エチルオキシヘキシル基が挙げられる。

「シクロアルキル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３～５０であり、好ましくは３～３０であり、より好ましくは４～２０である。

シクロアルキル基は、置換基を有していてもよく、例えば、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基が挙げられる。

「アリール基」は、芳香族炭化水素から環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子１個を除いた残りの原子団を意味する。アリール基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常６～６０であり、好ましくは６～２０であり、より好ましくは６～１０である。

アリール基は、置換基を有していてもよく、例えば、フェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、１－アントラセニル基、２－アントラセニル基、９－アントラセニル基、１－ピレニル基、２－ピレニル基、４－ピレニル基、２－フルオレニル基、３－フルオレニル基、４－フルオレニル基、２－フェニルフェニル基、３－フェニルフェニル基、４－フェニルフェニル基、および、これらの基における水素原子が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基が挙げられる。

「アルコキシ基」は、直鎖および分岐のいずれでもよい。直鎖のアルコキシ基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常１～４０であり、好ましくは４～１０である。分岐のアルコキシ基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３～４０であり、好ましくは４～１０である。

アルコキシ基は、置換基を有していてもよく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、tert-ブ
チルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、２－エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、３，７－ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基、および、これらの基における水素原子が、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、フッ素原子等で置換された基が挙げられる。

「シクロアルコキシ基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３～４０であり、好ましくは４～１０である。シクロアルコキシ基は、置換基を有していてもよく、例えば、シクロヘキシルオキシ基が挙げられる。

「アリールオキシ基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常６～６０であり、好ましくは６～４８である。アリールオキシ基は、置換基を有していてもよく、例えば、フェノキシ基、１－ナフチルオキシ基、２－ナフチルオキシ基、１－アントラセニルオキシ基、９－アントラセニルオキシ基、１－ピレニルオキシ基、および、これらの基における水素原子が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、フッ素原子等で置換された基が挙げられる。

「ｐ価の複素環基」（ｐは、１以上の整数を表す。）とは、複素環式化合物から、環を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合している水素原子のうちｐ個の水素原子を除いた残りの原子団を意味する。ｐ価の複素環基の中でも、芳香族複素環式化合物から、環を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合している水素原子のうちｐ個の水素原子を除いた残りの原子団である「ｐ価の芳香族複素環基」が好ましい。

「芳香族複素環式化合物」は、オキサジアゾール、チアジアゾール、チアゾール、オキサゾール、チオフェン、ピロール、ホスホール、フラン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、トリアジン、ピリダジン、キノリン、イソキノリン、カルバゾール、ジベンゾホスホール等の複素環自体が芳香族性を示す化合物、および、フェノキサジン、フェノチアジン、ジベンゾボロール、ジベンゾシロール、ベンゾピラン等の複素環自体は芳香族性を示さなくとも、複素環に芳香環が縮環されている化合物を意味する。

１価の複素環基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常、２～６０であり、好ましくは４～２０である。
１価の複素環基は、置換基を有していてもよく、例えば、チエニル基、ピロリル基、フリル基、ピリジル基、ピペリジニル基、キノリニル基、イソキノリニル基、ピリミジニル基、トリアジニル基、および、これらの基における水素原子が、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基等で置換された基が挙げられる。

「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を示す。

「アミノ基」は、置換基を有していてもよく、置換アミノ基が好ましい。アミノ基が有する置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または１価の複素環基が好ましい。置換アミノ基としては、例えば、ジアルキルアミノ基、ジシクロアルキルアミノ基およびジアリールアミノ基が挙げられる。アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビス(４－メチルフェニル)アミノ基、ビス(４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル)アミノ基、ビス(３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフ
ェニル)アミノ基が挙げられる。

「アルケニル基」は、直鎖および分岐のいずれでもよい。直鎖のアルケニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常２～３０であり、好ましくは３～２０である。分岐のアルケニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３～３０であり、好ましくは４～２０である。「シクロアルケニル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常３～３０であり、好ましくは４～２０である。

アルケニル基およびシクロアルケニル基は、置換基を有していてもよく、例えば、ビニル基、１－プロペニル基、２－プロペニル基、２－ブテニル基、３－ブテニル基、３－ペンテニル基、４－ペンテニル基、１－ヘキセニル基、５－ヘキセニル基、７－オクテニル基、および、これらの基が置換基を有する基が挙げられる。

「アルキニル基」は、直鎖および分岐のいずれでもよい。アルキニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子を含めないで、通常２～２０であり、好ましくは３～２０である。分岐のアルキニル基の炭素原子数は、置換基の炭素原子を含めないで、通常４～３０であり、好ましくは４～２０である。

「シクロアルキニル基」の炭素原子数は、置換基の炭素原子を含めないで、通常４～３０であり、好ましくは４～２０である。

アルキニル基およびシクロアルキニル基は、置換基を有していてもよく、例えば、エチニル基、１－プロピニル基、２－プロピニル基、２－ブチニル基、３－ブチニル基、３－ペンチニル基、４－ペンチニル基、１－ヘキシニル基、５－ヘキシニル基、および、これらの基が置換基を有する基が挙げられる。

「アリーレン基」は、芳香族炭化水素から環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子２個を除いた残りの原子団を意味する。アリーレン基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常、６～６０であり、好ましくは６～３０であり、より好ましくは６～１８である。

アリーレン基は、置換基を有していてもよく、例えば、フェニレン基、ナフタレンジイル基、アントラセンジイル基、フェナントレンジイル基、ジヒドロフェナントレンジイル基、ナフタセンジイル基、フルオレンジイル基、ピレンジイル基、ペリレンジイル基、クリセンジイル基、および、これらの基が置換基を有する基が挙げられ、好ましくは、式（Ａ－１）～式（Ａ－２０）で表される基である。アリーレン基は、これらの基が複数結合した基を含む。

［式中、ＲおよびＲ^ａは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または１価の複素環基を表す。複数存在するＲおよびＲ^ａは、各々、同一でも異なっていてもよく、Ｒ^ａ同士は互いに結合して、それぞれが結合する原子と共に環を形成していてもよい。］

２価の複素環基の炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含めないで、通常、２～６０であり、好ましくは、３～２０であり、より好ましくは、４～１５である。
２価の複素環基は、置換基を有していてもよく、例えば、ピリジン、ジアザベンゼン、トリアジン、アザナフタレン、ジアザナフタレン、カルバゾール、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、ジベンゾシロール、フェノキサジン、フェノチアジン、アクリジン、ジヒドロアクリジン、フラン、チオフェン、アゾール、ジアゾール、トリアゾールから、環を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合している水素原子のうち２個の水素原子を除いた２価の基が挙げられ、好ましくは、式（ＡＡ－１）～式（ＡＡ－３４）で表される基である。２価の複素環基は、これらの基が複数結合した基を含む。

［式中、ＲおよびＲ^ａは、前記と同じ意味を表す。］

「架橋基」とは、加熱処理、紫外線照射処理、近紫外線照射処理、可視光照射処理、赤外線照射処理、ラジカル反応等に供することにより、新たな結合を生成することが可能な基であり、好ましくは、式（Ｂ－１）－（Ｂ－１７）のいずれかで表される基である。これらの基は、置換基を有していてもよい。

「置換基」とは、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、１価の複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、置換アミノ基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基またはシクロアルキニル基を表す。置換基は架橋基であってもよい。

≪高分子化合物≫
固形分（Ａ）に含まれる高分子化合物は、発光材料であってもよく、発光材料である場合は、優れた発光特性を有する観点から、式（Ｘ）で表される構成単位および式（Ｙ）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の構成単位を含む高分子化合物であることが好ましい。

本発明の組成物には、式（Ｘ）で表される構成単位および式（Ｙ）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の構成単位を含む高分子化合物が、１種単独で含有されていてもよく、２種以上含有されていてもよい。

（式（Ｘ）で表される構成単位）

［式中、
ａ^Ｘ１およびａ^Ｘ２は、それぞれ独立に、０以上の整数を表す。
Ａｒ^Ｘ１およびＡｒ^Ｘ３は、それぞれ独立に、アリーレン基または２価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
Ａｒ^Ｘ２およびＡｒ^Ｘ４は、それぞれ独立に、アリーレン基、２価の複素環基、または、少なくとも１種のアリーレン基と少なくとも１種の２価の複素環基とが直接結合した２価の基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ａｒ^Ｘ２およびＡｒ^Ｘ４が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
Ｒ^Ｘ１、Ｒ^Ｘ２およびＲ^Ｘ３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ^Ｘ２およびＲ^Ｘ３が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。］

ａ^Ｘ１は、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する発光素子の発光効率が優れるので、好ましくは２以下の整数であり、より好ましくは１である。

ａ^Ｘ２は、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する発光素子の発光効率が優れるので、好ましくは２以下の整数であり、より好ましくは０である。

Ｒ^Ｘ１、Ｒ^Ｘ２およびＲ^Ｘ３は、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基または１価の複素環基であり、より好ましくはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。

Ａｒ^Ｘ１およびＡｒ^Ｘ３で表されるアリーレン基は、より好ましくは式（Ａ－１）または式（Ａ－９）で表される基であり、更に好ましくは式（Ａ－１）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。

Ａｒ^Ｘ１およびＡｒ^Ｘ３で表される２価の複素環基は、より好ましくは式（ＡＡ－１）、式（ＡＡ－２）または式（ＡＡ－７）－（ＡＡ－２６）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。

Ａｒ^Ｘ１およびＡｒ^Ｘ３は、好ましくは置換基を有していてもよいアリーレン基である。

Ａｒ^Ｘ２およびＡｒ^Ｘ４で表されるアリーレン基としては、より好ましくは式（Ａ－１）、式（Ａ－６）、式（Ａ－７）、式（Ａ－９）－（Ａ－１１）または式（Ａ－１９）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。

Ａｒ^Ｘ２およびＡｒ^Ｘ４で表される２価の複素環基のより好ましい範囲は、Ａｒ^Ｘ１およびＡｒ^Ｘ３で表される２価の複素環基のより好ましい範囲と同じである。

Ａｒ^Ｘ２およびＡｒ^Ｘ４で表される少なくとも１種のアリーレン基と少なくとも１種の２価の複素環基とが直接結合した２価の基における、アリーレン基および２価の複素環基のより好ましい範囲、更に好ましい範囲は、それぞれ、Ａｒ^Ｘ１およびＡｒ^Ｘ３で表されるアリーレン基および２価の複素環基のより好ましい範囲、更に好ましい範囲と同様である。

Ａｒ^Ｘ２およびＡｒ^Ｘ４で表される少なくとも１種のアリーレン基と少なくとも１種の２価の複素環基とが直接結合した２価の基としては、例えば、下記式で表される基が挙げられ、これらは置換基を有していてもよい。

［式中、Ｒ^ＸＸは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。］

Ｒ^ＸＸは、好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。

Ａｒ^Ｘ２およびＡｒ^Ｘ４は、好ましくは置換基を有していてもよいアリーレン基である。

Ａｒ^Ｘ１～Ａｒ^Ｘ４およびＲ^Ｘ１～Ｒ^Ｘ３で表される基が有してもよい置換基としては、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、これらの基は更に置換基を有していてもよい。

式(Ｘ)で表される構成単位は、好ましくは式（Ｘ－１）－（Ｘ－７）で表される構成単位であり、より好ましくは式（Ｘ－１）－（Ｘ－６）で表される構成単位であり、更に好ましくは式（Ｘ－３）－（Ｘ－６）で表される構成単位である。

［式中、Ｒ^ｘ４およびＲ^ｘ５は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、１価の複素環基またはシアノ基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＲ^ｘ４は、同一でも異なっていてもよい。複数存在するＲ^ｘ５は、同一でも異なっていてもよく、隣接するＲ^ｘ５同士は互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよい。］

式(Ｘ)で表される構成単位は、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する有機ＥＬ素子の正孔輸送性が優れる観点から、高分子化合物中に含まれる構成単位の合計量に対して、好ましくは０．１～５０モル％であり、より好ましくは１～４０モル％であり、更に好ましくは５～３０モル％である。

式（Ｘ）で表される構成単位としては、例えば、式（Ｘ１－１）－（Ｘ１－１１）で表される構成単位が挙げられ、好ましくは式（Ｘ１－３）－（Ｘ１－１０）で表される構成単位である。

式(Ｘ)で表される構成単位は、高分子化合物中に、１種のみ含まれていてもよく、２種以上含まれていてもよい。

（式（Ｙ）で表される構成単位）

［式中、Ａｒ^Ｙ１は、アリーレン基、２価の複素環基、または、少なくとも１種のアリーレン基と少なくとも１種の２価の複素環基とが直接結合した２価の基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。］

Ａｒ^Ｙ１で表されるアリーレン基は、より好ましくは、式（Ａ－１）、式（Ａ－２）、式（Ａ－６）－（Ａ－１０）、式（Ａ－１９）または式（Ａ－２０）で表される基であり、更に好ましくは、式（Ａ－１）、式（Ａ－２）、式（Ａ－７）、式（Ａ－９）または式（Ａ－１９）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。

Ａｒ^Ｙ１で表される２価の複素環基は、より好ましくは、式（ＡＡ－１）－（ＡＡ－４）、式（ＡＡ－１０）－（ＡＡ－１５）、式（ＡＡ－１８）－（ＡＡ－２１）、式（ＡＡ－３３）または式（ＡＡ－３４）で表される基であり、更に好ましくは、式（ＡＡ－４）、式（ＡＡ－１０）、式（ＡＡ－１２）、式（ＡＡ－１４）または式（ＡＡ－３３）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。

Ａｒ^Ｙ１で表される少なくとも１種のアリーレン基と少なくとも１種の２価の複素環基とが直接結合した２価の基における、アリーレン基および２価の複素環基のより好ましい範囲、更に好ましい範囲は、それぞれ、前述のＡｒ^Ｙ１で表されるアリーレン基および２価の複素環基のより好ましい範囲、更に好ましい範囲と同様である。

Ａｒ^Ｙ１で表される少なくとも１種のアリーレン基と少なくとも１種の２価の複素環基とが直接結合した２価の基としては、式(Ｘ)のＡｒ^Ｘ２およびＡｒ^Ｘ４で表される少なくとも１種のアリーレン基と少なくとも１種の２価の複素環基とが直接結合した２価の基と同様のものが挙げられる。

Ａｒ^Ｙ１で表される基が有してもよい置換基は、好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、これらの基は更に置換基を有していてもよい。

式(Ｙ)で表される構成単位としては、例えば、式（Ｙ－１）－（Ｙ－１０）で表される構成単位が挙げられ、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する発光素子の輝度寿命の観点からは、好ましくは式（Ｙ－１）－（Ｙ－３）で表される構成単位であり、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する発光素子の電子輸送性の観点からは、好ましくは式（Ｙ－４）－（Ｙ－７）で表される構成単位であり、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する発光素子の発光効率又は正孔輸送性の観点からは、好ましくは式（Ｙ－８）－（Ｙ－１０）で表される構成単位である。

［式中、Ｒ^Ｙ１は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＲ^Ｙ１は、同一でも異なっていてもよく、隣接するＲ^Ｙ１同士は互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよい。］

Ｒ^Ｙ１は、好ましくは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。

式（Ｙ－１）で表される構成単位は、好ましくは、式（Ｙ－１’）で表される構成単位である。

［式中、Ｒ^Ｙ１１は、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
複数存在するＲ^Ｙ１１は、同一でも異なっていてもよい。］

Ｒ^Ｙ１１は、好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、より好ましくは、アルキル基またはシクロアルキル基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。

［式中、
Ｒ^Ｙ１は、前記と同じ意味を表す。
Ｘ^Ｙ１は、－Ｃ(Ｒ^Ｙ２)_２－、－Ｃ(Ｒ^Ｙ２)＝Ｃ(Ｒ^Ｙ２)－または－Ｃ(Ｒ^Ｙ２)_２－Ｃ(Ｒ^Ｙ２)_２－で表される基を表す。Ｒ^Ｙ２は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＲ^Ｙ２は、同一でも異なっていてもよく、Ｒ^Ｙ２同士は互いに結合して、それぞれが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよい。］

Ｒ^Ｙ２は、好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または１価の複素環基であり、より好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。

Ｘ^Ｙ１において、－Ｃ(Ｒ^Ｙ２)_２－で表される基中の２個のＲ^Ｙ２の組み合わせは、好ましくは両方がアルキル基もしくはシクロアルキル基、両方がアリール基、両方が１価の複素環基、または、一方がアルキル基もしくはシクロアルキル基で他方がアリール基若しくは１価の複素環基であり、より好ましくは一方がアルキル基もしくはシクロアルキル基で他方がアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。２個存在するＲ^Ｙ２は互いに結合して、それぞれが結合する原子と共に環を形成していてもよく、Ｒ^Ｙ２が環を形成する場合、－Ｃ(Ｒ^Ｙ２)_２－で表される基としては、好ましくは式（Ｙ－Ａ１）－（Ｙ－Ａ５）で表される基であり、より好ましくは式（Ｙ－Ａ４）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。

Ｘ^Ｙ１において、－Ｃ(Ｒ^Ｙ２)＝Ｃ(Ｒ^Ｙ２)－で表される基中の２個のＲ^Ｙ２の組み合わせは、好ましくは両方がアルキル基もしくはシクロアルキル基、または、一方がアルキル基もしくはシクロアルキル基で他方がアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。

Ｘ^Ｙ１において、－Ｃ(Ｒ^Ｙ２)_２－Ｃ(Ｒ^Ｙ２)_２－で表される基中の４個のＲ^Ｙ２は、好ましくは置換基を有していてもよいアルキル基またはシクロアルキル基である。複数あるＲ^Ｙ２は互いに結合して、それぞれが結合する原子と共に環を形成していてもよく、Ｒ^Ｙ２が環を形成する場合、－Ｃ(Ｒ^Ｙ２)_２－Ｃ(Ｒ^Ｙ２)_２－で表される基は、好ましくは式（Ｙ－Ｂ１）－（Ｙ－Ｂ５）で表される基であり、より好ましくは式（Ｙ－Ｂ３）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。

［式中、Ｒ^Ｙ２は前記と同じ意味を表す。］

式（Ｙ－２）で表される構成単位は、式（Ｙ－２’）で表される構成単位であることが好ましい。

［式中、Ｒ^Ｙ１およびＸ^Ｙ１は、前記と同じ意味を表す。］

［式中、Ｒ^Ｙ１およびＸ^Ｙ１は、前記と同じ意味を表す。］

式（Ｙ－３）で表される構成単位は、式（Ｙ－３’）で表される構成単位であることが好ましい。

［式中、Ｒ^Ｙ１１およびＸ^Ｙ１は、前記と同じ意味を表す。］

［式中、
Ｒ^Ｙ１は、前記と同じ意味を表す。
Ｒ^Ｙ３は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。］

Ｒ^Ｙ３は、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または１価の複素環基であり、より好ましくはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。

式（Ｙ－４）で表される構成単位は、式（Ｙ－４’）で表される構成単位であることが好ましく、式（Ｙ－６）で表される構成単位は、式（Ｙ－６’）で表される構成単位であることが好ましい。

［式中、Ｒ^Ｙ１およびＲ^Ｙ３は、前記と同じ意味を表す。］

［式中、
Ｒ^Ｙ１は、前記を同じ意味を表す。
Ｒ^Ｙ４は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。］

Ｒ^Ｙ４は、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または１価の複素環基であり、より好ましくはアリール基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。

式(Ｙ)で表される構成単位としては、例えば、式（Ｙ－１０１）－（Ｙ－１２１）で表されるアリーレン基からなる構成単位、式（Ｙ－２０１）－（Ｙ－２０６）で表される２価の複素環基からなる構成単位、式（Ｙ－３０１）－（Ｙ－３０４）で表される少なくとも１種のアリーレン基と少なくとも１種の２価の複素環基とが直接結合した２価の基からなる構成単位が挙げられる。

式(Ｙ)で表される構成単位であって、Ａｒ^Ｙ１がアリーレン基である構成単位は、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する有機ＥＬ素子の輝度寿命が優れるので、高分子化合物に含まれる構成単位の合計量に対して、好ましくは０．５～９０モル％であり、より好ましくは３０～８０モル％である。

式(Ｙ)で表される構成単位であって、Ａｒ^Ｙ１が２価の複素環基、または、少なくとも１種のアリーレン基と少なくとも１種の２価の複素環基とが直接結合した２価の基である構成単位は、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する有機ＥＬ素子の発光効率、正孔輸送性または電子輸送性が優れるので、高分子化合物に含まれる構成単位の合計量に対して、好ましくは０．５～５０モル％であり、より好ましくは３～３０モル％である。

式(Ｙ)で表される構成単位は、高分子化合物中に、１種のみ含まれていてもよく、２種以上含まれていてもよい。

高分子化合物としては、例えば、表１の高分子化合物（Ｐ－１０１）～（Ｐ－１０７）が挙げられる。

［表中、ｐ、ｑ、ｒ、ｓおよびｔは、各構成単位のモル比率を示す。ｐ＋ｑ＋ｒ＋ｓ＋ｔ＝１００であり、かつ、１００≧ｐ＋ｑ＋ｒ＋ｓ≧７０である。その他の構成単位とは、
式(Ｙ)で表される構成単位、式(Ｘ)で表される構成単位以外の構成単位を意味する。］

式（Ｘ）で表される構成単位および式（Ｙ）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の構成単位を含む高分子化合物のみを発光材料として用いる場合（すなわち、後述するイリジウム錯体等、他の発光材料を併用しない場合）、
高分子化合物としては、
式（Ｙ－８）で表される構成単位、式（Ｙ－９）で表される構成単位および式（Ｙ－１０）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の構成単位を含む高分子化合物であることが好ましく、
式（Ｙ－８）で表される構成単位および式（Ｙ－９）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の構成単位を含む高分子化合物であることがより好ましく、
式（Ｙ－８）で表される構成単位を含む高分子化合物であることが更に好ましい。

また、高分子化合物としては、式（Ｙ－８）で表される構成単位、式（Ｙ－９）で表される構成単位および式（Ｙ－１０）で表される構成単位以外の構成単位として、
式（Ｙ－１）で表される構成単位、式（Ｙ－２）で表される構成単位、式（Ｙ－３）で表される構成単位および式（Ｘ）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の構成単位を含む高分子化合物であることが好ましく、
式（Ｙ－１）で表される構成単位、式（Ｙ－２）で表される構成単位および式（Ｘ）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の構成単位を含む高分子化合物であることがより好ましく、
式（Ｙ－２）で表される構成単位および式（Ｘ）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の構成単位を含む高分子化合物であることが更に好ましく、
式（Ｙ－２）で表される構成単位および式（Ｘ）で表される構成単位を含む高分子化合物であることが特に好ましい。

≪高分子化合物の製造方法≫
式（Ｘ）で表される構成単位および式（Ｙ）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の構成単位を含む高分子化合物は、ケミカルレビュー(Chem. Rev.)，第109巻，897-1091頁(2009年)等に記載の公知の重合方法を用いて製造することができ、Suzuki反応、Yamamoto反応、Buchwald反応、Stille反応、Negishi反応およびKumada反応等の遷移金属触媒を用いるカップリング反応により重合させる方法が例示される。

前記重合方法において、単量体を仕込む方法としては、単量体全量を反応系に一括して仕込む方法、単量体の一部を仕込んで反応させた後、残りの単量体を一括、連続または分割して仕込む方法、単量体を連続または分割して仕込む方法等が挙げられる。

遷移金属触媒としては、パラジウム触媒、ニッケル触媒等が挙げられる。

重合反応の後処理は、公知の方法、例えば、分液により水溶性不純物を除去する方法、メタノール等の低級アルコールに重合反応後の反応液を加えて、析出させた沈殿をろ過した後、乾燥させる方法等を単独または組み合わせて行う。高分子化合物の純度が低い場合、例えば、再結晶、再沈殿、ソックスレー抽出器による連続抽出、カラムクロマトグラフィー等の通常の方法にて精製することができる。

≪イリジウム錯体≫
イリジウム錯体は、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する有機ＥＬ素子の発光効率がより優れるので、式（Ｉｒ－１）で表されるイリジウム錯体、式（Ｉｒ－２）で表されるイリジウム錯体、式（Ｉｒ－３）で表されるイリジウム錯体、式（Ｉｒ－４）で表されるイリジウム錯体または式（Ｉｒ－５）で表されるイリジウム錯体であることが好ましく、式（Ｉｒ－１）で表されるイリジウム錯体、式（Ｉｒ－２）で表されるイリジウム錯体または式（Ｉｒ－３）で表されるイリジウム錯体であることがより好ましい。

［式中、
ｎ^Ｄ１は、１、２または３を表す。ｎ^Ｄ２は、１または２を表す。
Ｒ^Ｄ１、Ｒ^Ｄ２、Ｒ^Ｄ３、Ｒ^Ｄ４、Ｒ^Ｄ５、Ｒ^Ｄ６、Ｒ^Ｄ７、Ｒ^Ｄ８、Ｒ^Ｄ１１、Ｒ^Ｄ１２、Ｒ^Ｄ１３、Ｒ^Ｄ１４、Ｒ^Ｄ１５、Ｒ^Ｄ１６、Ｒ^Ｄ１７、Ｒ^Ｄ１８、Ｒ^Ｄ１９、Ｒ^Ｄ２０、Ｒ^Ｄ２１、Ｒ^Ｄ２２、Ｒ^Ｄ２３、Ｒ^Ｄ２４、Ｒ^Ｄ２５、Ｒ^Ｄ２６、Ｒ^Ｄ３１、Ｒ^Ｄ３２、Ｒ^Ｄ３３、Ｒ^Ｄ３４、Ｒ^Ｄ３５、Ｒ^Ｄ３６およびＲ^Ｄ３７は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、１価の複素環基またはハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ^Ｄ１、Ｒ^Ｄ２、Ｒ^Ｄ３、Ｒ^Ｄ４、Ｒ^Ｄ５、Ｒ^Ｄ６、Ｒ^Ｄ７、Ｒ^Ｄ８、Ｒ^Ｄ１１、Ｒ^Ｄ１２、Ｒ^Ｄ１３、Ｒ^Ｄ１４、Ｒ^Ｄ１５、Ｒ^Ｄ１６、Ｒ^Ｄ１７、Ｒ^Ｄ１８、Ｒ^Ｄ１９、Ｒ^Ｄ２０、Ｒ^Ｄ２１、Ｒ^Ｄ２２、Ｒ^Ｄ２３、Ｒ^Ｄ２４、Ｒ^Ｄ２５、Ｒ^Ｄ２６、Ｒ^Ｄ３１、Ｒ^Ｄ３２、Ｒ^Ｄ３３、Ｒ^Ｄ３４、Ｒ^Ｄ３５、Ｒ^Ｄ３６およびＲ^Ｄ３７が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
－Ａ^Ｄ１---Ａ^Ｄ２－は、アニオン性の２座配位子を表す。Ａ^Ｄ１およびＡ^Ｄ２は、そ
れぞれ独立に、イリジウム原子と結合する炭素原子、酸素原子または窒素原子を表し、これらの原子は環を構成する原子であってもよい。－Ａ^Ｄ１---Ａ^Ｄ２－が複数存在する場
合、それらは同一でも異なっていてもよい。］

式（Ｉｒ－１）で表されるイリジウム錯体において、Ｒ^Ｄ１～Ｒ^Ｄ８の少なくとも１つは、好ましくは、式（Ｄ－Ａ）で表される基である。

式（Ｉｒ－２）で表されるイリジウム錯体において、好ましくはＲ^Ｄ１１～Ｒ^Ｄ２０の少なくとも１つは式（Ｄ－Ａ）で表される基である。

式（Ｉｒ－３）で表されるイリジウム錯体において、好ましくはＲ^Ｄ１～Ｒ^Ｄ８およびＲ^Ｄ１１～Ｒ^Ｄ２０の少なくとも１つは式（Ｄ－Ａ）で表される基である。

式（Ｉｒ－４）で表されるイリジウム錯体において、好ましくはＲ^Ｄ２１～Ｒ^Ｄ２６の少なくとも１つは式（Ｄ－Ａ）で表される基である。

式（Ｉｒ－５）で表されるイリジウム錯体において、好ましくはＲ^Ｄ３１～Ｒ^Ｄ３７の少なくとも１つは式（Ｄ－Ａ）で表される基である。

［式中、
ｍ^ＤＡ１、ｍ^ＤＡ２およびｍ^ＤＡ３は、それぞれ独立に、０以上の整数を表す。
Ｇ^ＤＡは、窒素原子、芳香族炭化水素基または複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
Ａｒ^ＤＡ１、Ａｒ^ＤＡ２およびＡｒ^ＤＡ３は、それぞれ独立に、アリーレン基または２価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ａｒ^ＤＡ１、Ａｒ^ＤＡ２およびＡｒ^ＤＡ３が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
Ｔ^ＤＡは、アリール基または１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＴ^ＤＡは、同一でも異なっていてもよい。］

ｍ^ＤＡ１、ｍ^ＤＡ２およびｍ^ＤＡ３は、通常１０以下の整数であり、好ましくは５以下の整数であり、より好ましくは０または１である。ｍ^ＤＡ１、ｍ^ＤＡ２およびｍ^ＤＡ３は、同一の整数であることが好ましい。

Ｇ^ＤＡは、好ましくは式（ＧＤＡ－１１）～（ＧＤＡ－１５）で表される基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。

［式中、
＊、＊＊および＊＊＊は、各々、Ａｒ^ＤＡ１、Ａｒ^ＤＡ２、Ａｒ^ＤＡ３との結合を表す。
Ｒ^ＤＡは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基または１価の複素環基を表し、これらの基は更に置換基を有していてもよい。Ｒ^ＤＡが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。］

Ｒ^ＤＡは、好ましくは水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基またはシクロアルコキシ基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基またはシクロアルキル基であり、これらの基は置換基を有していてもよい。

Ａｒ^ＤＡ１、Ａｒ^ＤＡ２およびＡｒ^ＤＡ３は、好ましくは式（ＡｒＤＡ－１）～（ＡｒＤＡ－３）で表される基である。

［式中、
Ｒ^ＤＡは、前記と同じ意味を表す。
Ｒ^ＤＢは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ^ＤＢが複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。］

Ｔ^ＤＡは、好ましくは式（ＴＤＡ－１）～（ＴＤＡ－３）で表される基である。

［式中、Ｒ^ＤＡおよびＲ^ＤＢは、前記と同じ意味を表す。］

式（Ｄ－Ａ）で表される基は、好ましくは式（Ｄ－Ａ１）～（Ｄ－Ａ３）で表される基である。

［式中、
ｎｐ１は、０～５の整数を表し、ｎｐ２は０～３の整数を表し、ｎｐ３は０または１を表す。複数存在するｎｐ１は、同一でも異なっていてもよい。
Ｒ^ｐ１、Ｒ^ｐ２およびＲ^ｐ３は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基またはハロゲン原子を表す。Ｒ^ｐ１およびＲ^ｐ２が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。］

ｎｐ１は、好ましくは０または１であり、より好ましくは１である。ｎｐ２は、好ましくは０または１であり、より好ましくは０である。ｎｐ３は好ましくは０である。

Ｒ^ｐ１、Ｒ^ｐ２およびＲ^ｐ３は、好ましくはアルキル基またはシクロアルキル基である。

－Ａ^Ｄ１---Ａ^Ｄ２－で表されるアニオン性の２座配位子としては、例えば、下記式で
表される配位子が挙げられる。

［式中、＊は、イリジウム原子と結合する部位を表す。］

式（Ｉｒ－１）で表されるイリジウム錯体としては、好ましくは式（Ｉｒ－１１）～式（Ｉｒ－１３）で表されるイリジウム錯体である。式（Ｉｒ－２）で表されるイリジウム錯体としては、好ましくは式（Ｉｒ－２１）で表されるイリジウム錯体である。式（Ｉｒ－３）で表されるイリジウム錯体としては、好ましくは式（Ｉｒ－３１）～式（Ｉｒ－３３）で表されるイリジウム錯体である。式（Ｉｒ－４）で表されるイリジウム錯体としては、好ましくは式（Ｉｒ－４１）～式（Ｉｒ－４３）で表されるイリジウム錯体である。
式（Ｉｒ－５）で表されるイリジウム錯体としては、好ましくは式（Ｉｒ－５１）～式（Ｉｒ－５３）で表されるイリジウム錯体である。

［式中、
ｎ^Ｄ２は、１または２を表す。
Ｄは、式（Ｄ－Ａ）で表される基を表す。複数存在するＤは、同一でも異なっていてもよい。
Ｒ^ＤＣは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＲ^ＤＣは、同一でも異なっていてもよい。
Ｒ^ＤＤは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基または１価の複素環基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。複数存在するＲ^ＤＤは、同一でも異なっていてもよい。］

イリジウム錯体としては、例えば、下記式で表されるイリジウム錯体が挙げられる。

イリジウム錯体は、例えば、特表２００４－５３０２５４号公報、特開２００８－１７９６１７号公報、特開２０１１－１０５７０１号公報、特表２００７－５０４２７２号公報、特開２０１３－１４７４４９号公報、特開２０１３－１４７４５０号公報に記載されている方法に従って合成することができる。

固形分（Ａ）は、イリジウム錯体構成単位を含む高分子化合物を含んでいてもよい。イリジウム錯体構成単位は、式（Ｉｒ－１）、式（Ｉｒ－２）、式（Ｉｒ－３）、式（Ｉｒ－４）または式（Ｉｒ－５）で表されるイリジウム錯体の構造を有する構成単位である。式（Ｉｒ－１）、式（Ｉｒ－２）、式（Ｉｒ－３）、式（Ｉｒ－４）または式（Ｉｒ－５）で表されるイリジウム錯体の構造を有する構成単位としては、好ましくは、式（Ｉｒ－１）、式（Ｉｒ－２）、式（Ｉｒ－３）、式（Ｉｒ－４）または式（Ｉｒ－５）で表されるイリジウム錯体から、該錯体を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合する１個以上３個以下の水素原子を取り除いてなる基を有する構成単位であり、より好ましくは、式（Ｉｒ－１）、式（Ｉｒ－２）、式（Ｉｒ－３）、式（Ｉｒ－４）または式（Ｉｒ－５）で表されるイリジウム錯体から、該錯体を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接結合する２個の水素原子を取り除いてなる基を有する構成単位である。

イリジウム錯体構成単位を含む高分子化合物としては、更に、前述した式（Ｘ）で表される構成単位および式（Ｙ）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の構成単位を含む高分子化合物が好ましい。

これらの中でも、イリジウム錯体構成単位を含む高分子化合物としては、
式（Ｙ－４）で表される構成単位、式（Ｙ－５）で表される構成単位、式（Ｙ－６）で表される構成単位および式（Ｙ－７）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の構成単位を含む高分子化合物であることが好ましく、
式（Ｙ－４）で表される構成単位および式（Ｙ－６）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の構成単位を含む高分子化合物であることがより好ましく、
式（Ｙ－４）で表される構成単位を含む高分子化合物であることが更に好ましい。

また、イリジウム錯体構成単位を含む高分子化合物としては、式（Ｙ－４）で表される構成単位、式（Ｙ－５）で表される構成単位、式（Ｙ－６）で表される構成単位および式（Ｙ－７）で表される構成単位以外の構成単位として、
式（Ｙ－１）で表される構成単位、式（Ｙ－２）で表される構成単位、式（Ｙ－３）で表される構成単位および式（Ｘ）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の構成単位を含む高分子化合物であることが好ましく、
式（Ｙ－１）で表される構成単位、式（Ｙ－２）で表される構成単位および式（Ｘ）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の構成単位を含む高分子化合物であることがより好ましい。

イリジウム錯体構成単位は、高分子化合物中に、１種のみ含まれていても、２種以上含まれていてもよい。

≪第１高分子化合物≫
主高分子化合物（ａ）の中で重量平均分子量が最も大きい第１高分子化合物は、重量平均分子量が１．４×１０^５未満である。第１高分子化合物は、重量平均分子量が１．４×１０^５未満であれば、種類は限定されない。本発明者らは、固形分（Ａ）として、重量平均分子量が１．４×１０^５未満の第１高分子化合物と主低分子化合物とを含む場合に、平坦性に優れる膜を製造することができる基準溶液の粘度の好適範囲を見出し、基準溶液の粘度の好適範囲を決定した。第１高分子化合物としては、例えば、式（Ｘ）で表される構成単位および式（Ｙ）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の構成単位を含む高分子化合物が挙げられる。第１高分子化合物としては、発光性化合物が例示される。発光性化合物は、それ自体が発光する化合物（発光材料）であってもよく、発光材料へ電荷を輸送することにより発光材料を発光させる化合物（ホスト材料）であってもよい。第１高分子化合物は、ホスト材料であることが好ましく、例えば緑色発光材料のホスト材料であってもよいし、赤色発光材料のホスト材料であってもよい。また、第１高分子化合物は、緑色発光材料であってもよいし、赤色発光材料であってもよい。

≪ホスト材料≫
固形分（Ａ）が、発光材料を含む場合、特に発光材料としてイリジウム錯体を含む場合、正孔輸送性、正孔注入性、電子輸送性および電子注入性からなる群より選ばれる少なくとも１つの機能を有するホスト材料と併用することで、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する有機ＥＬ素子の発光効率がより優れたものとなる。すなわち、本発明の組成物は、発光性材料としてイリジウム錯体を含む場合、さらにホスト材料を含むことが好ましい。本発明の組成物にホスト材料が含有される場合、ホスト材料は、１種単独で含有されていてもよく、２種以上含有されていてもよい。

本発明の組成物が、イリジウム錯体とホスト材料とを含有する場合、イリジウム錯体の含有量は、イリジウム錯体とホスト材料との合計含有量を１００質量部とした場合、通常、０．０５～８０質量部であり、好ましくは０．１～６０質量部であり、より好ましくは０．５～５０質量部である。

ホスト材料の有する最低励起三重項状態（Ｔ１）は、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する有機ＥＬ素子の発光効率が優れるので、イリジウム錯体の有するＴ１と同等のエネルギー準位、または、より高いエネルギー準位であることが好ましい。

ホスト材料は、低分子化合物（以下、「低分子ホスト」とも称する。）と高分子化合物（以下、「高分子ホスト」とも称する。）に分類され、低分子ホストおよび高分子ホストのいずれであってもよいが、高分子ホストであることが好ましい。

低分子ホストとしては、例えば、カルバゾール構造を有する化合物、トリアリールアミン構造を有する化合物、フェナントロリン構造を有する化合物、トリアリールトリアジン構造を有する化合物、アゾール構造を有する化合物、ベンゾチオフェン構造を有する化合物、ベンゾフラン構造を有する化合物、フルオレン構造を有する化合物、スピロフルオレン構造を有する化合物等が挙げられる。

低分子ホストの具体例としては、下記式で表される化合物が挙げられる。

高分子ホストとしては、前述した式（Ｘ）で表される構成単位および式（Ｙ）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の構成単位を含む高分子化合物が好ましい。

これらの中でも、高分子ホストとしては、
式（Ｙ－４）で表される構成単位、式（Ｙ－５）で表される構成単位、式（Ｙ－６）で表される構成単位および式（Ｙ－７）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の構成単位を含む高分子化合物であることが好ましく、
式（Ｙ－４）で表される構成単位および式（Ｙ－６）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の構成単位を含む高分子化合物であることがより好ましく、
式（Ｙ－４）で表される構成単位を含む高分子化合物であることが更に好ましい。

また、高分子ホストとしては、式（Ｙ－４）で表される構成単位、式（Ｙ－５）で表される構成単位、式（Ｙ－６）で表される構成単位および式（Ｙ－７）で表される構成単位以外の構成単位として、
式（Ｙ－１）で表される構成単位、式（Ｙ－２）で表される構成単位、式（Ｙ－３）で表される構成単位および式（Ｘ）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の構成単位を含む高分子化合物であることが好ましく、
式（Ｙ－１）で表される構成単位、式（Ｙ－２）で表される構成単位および式（Ｘ）で表される構成単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の構成単位を含む高分子化合物であることがより好ましい。

≪低分子化合物≫
固形分（Ａ）に含有される低分子化合物としては、特に限定されることはなく、上記のイリジウム錯体等の発光材料、上記のホスト材料、下記の正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料、酸化防止剤等が例示される。

≪その他の固形分≫
本発明の組成物に含有される固形分（Ａ）は、下記の正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料および発光材料を含んでいてもよい。

（正孔輸送材料）
正孔輸送材料は、低分子化合物と高分子化合物とに分類され、好ましくは高分子化合物であり、より好ましくは架橋基を有する高分子化合物である。

高分子化合物としては、例えば、ポリビニルカルバゾールおよびその誘導体；側鎖または主鎖に芳香族アミン構造を有するポリアリーレンおよびその誘導体が挙げられる。高分子化合物は、電子受容性部位が結合された化合物でもよい。電子受容性部位としては、例えば、フラーレン、テトラフルオロテトラシアノキノジメタン、テトラシアノエチレン、トリニトロフルオレノン等が挙げられ、好ましくはフラーレンである。

本発明の組成物には、正孔輸送材料が、１種単独で含有されていてもよく、２種以上含有されていてもよい。

（電子輸送材料）
電子輸送材料は、低分子化合物と高分子化合物とに分類される。電子輸送材料は、架橋基を有していてもよい。

低分子化合物としては、例えば、8-ヒドロキシキノリンを配位子とする金属錯体、オキサジアゾール、アントラキノジメタン、ベンゾキノン、ナフトキノン、アントラキノン、テトラシアノアントラキノジメタン、フルオレノン、ジフェニルジシアノエチレンおよびジフェノキノン、並びに、これらの誘導体が挙げられる。

高分子化合物としては、例えば、ポリフェニレン、ポリフルオレン、および、これらの誘導体が挙げられる。高分子化合物は、金属でドープされていてもよい。

本発明の組成物には、電子輸送材料が、１種単独で含有されていてもよく、２種以上含有されていてもよい。

（正孔注入材料および電子注入材料）
正孔注入材料および電子注入材料は、各々、低分子化合物と高分子化合物とに分類される。正孔注入材料および電子注入材料は、架橋基を有していてもよい。

低分子化合物としては、例えば、銅フタロシアニン等の金属フタロシアニン；カーボン；モリブデン、タングステン等の金属酸化物；フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化セシウム、フッ化カリウム等の金属フッ化物が挙げられる。

高分子化合物としては、例えば、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンビニレン、ポリチエニレンビニレン、ポリキノリンおよびポリキノキサリン、並びに、これらの誘導体；芳香族アミン構造を主鎖または側鎖に含む重合体等の導電性高分子が挙げられる。
本発明の組成物には、正孔注入材料および電子注入材料が、各々、１種単独で含有されていてもよく、２種以上含有されていてもよい。

正孔注入材料または電子注入材料が導電性高分子を含む場合、導電性高分子の電気伝導度は、好ましくは、１×１０^－５Ｓ／ｃｍ～１×１０^３Ｓ／ｃｍである。導電性高分子の電気伝導度をかかる範囲とするために、導電性高分子に適量のイオンをドープすることができる。

ドープするイオンの種類は、正孔注入材料であればアニオン、電子注入材料であればカチオンである。アニオンとしては、例えば、ポリスチレンスルホン酸イオン、アルキルベンゼンスルホン酸イオン、ショウノウスルホン酸イオンが挙げられる。カチオンとしては、例えば、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオンが挙げられる。

ドープするイオンは、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。

（発光材料）
固形分（Ａ）は、発光材料として例示した、上記の高分子化合物又は低分子化合物以外の発光材料（以下、「その他の発光材料」とも称する。）を含んでいてもよい。その他の発光材料としては、例えば、ナフタレンおよびその誘導体、アントラセンおよびその誘導体、並びに、ペリレンおよびその誘導体が挙げられる。

本発明の組成物には、その他の発光材料が、１種単独で含有されていてもよく、２種以上含有されていてもよい。

（酸化防止剤）
本発明の組成物は、溶媒（Ｂ）に可溶であり、発光および電荷輸送を阻害しない酸化防止剤を含有していてもよい。酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤が挙げられる。

本発明の組成物には、酸化防止剤が、１種単独で含有されていてもよく、２種以上含有されていてもよい。

＜組成比＞
本発明の組成物は、固形分（Ａ）と溶媒（Ｂ）とを含む。本発明の組成物において、固形分（Ａ）の含有量は、溶媒（Ｂ）の含有量を１００質量部とした場合、通常、０．１～１０．０質量部であり、インクジェット印刷法での吐出性が優れるので、好ましくは０．２～７．０質量部であり、より好ましくは０．３～５．０質量部である。

＜粘度＞
本発明の組成物は、塗布性の観点から、温度２３℃における粘度が１ｃＰ以上１０ｃＰ以下であることが好ましく、２ｃＰ以上８ｃＰ以下であることがより好ましい。

［有機ＥＬ素子用組成物の製造方法］
本発明の有機ＥＬ素子用組成物は、例えば、固形分（Ａ）、溶剤（Ｂ）及びその他の成分を混合することにより調製できる。各成分の混合順は限定されることはなく、固形分（Ａ）の一部又は全部は、予め溶剤（Ｂ）の一部と混合した後に、残りの成分を、所定の濃度となるように混合することにより、目的の有機ＥＬ素子用組成物を調製してもよい。例えば、第１溶媒と第１高分子化合物とのみを予め混合して基準溶液を調製し、基準溶液の粘度が所望の粘度となるように調製した後に、残りの成分を混合して目的の有機ＥＬ素子用組成物を調製してもよい。基準溶液の粘度は、このように製造工程で測定した値であってもよいし、第１溶媒と第１高分子との組成比に基づいて、予め測定した値から決定される値であってもよい。

［膜］
膜は、本発明の組成物を用いて形成された膜である。膜には、本発明の組成物に含まれる固形分がそのまま含有されていてもよいし、固形分が、分子内又は分子間、もしくは、分子内及び分子間で架橋した状態（架橋体）で含有されていてもよい。固形分の架橋体を含有する膜は、固形分を含有する膜を、加熱、光照射等の外部刺激により架橋させて得られる膜である。固形分の架橋体を含有する膜は、溶媒に対して実質的に不溶化されているため、有機ＥＬ素子の積層化に好適に使用することができる。

膜を架橋させるための加熱の温度は、通常、２５～３００℃であり、好ましくは５０～２５０℃であり、より好ましくは１５０～２００℃である。

膜を架橋させるための光照射に用いられる光の種類は、例えば、紫外線、近紫外線、可視光、赤外線である。

膜は、発光素子における発光層、正孔輸送層または正孔注入層として好適である。膜の厚さは、通常、１ｎｍ～１μｍである。膜の平坦度は０％であることが最も好ましい。膜が凹状である場合、膜の平坦度は、－４５％以上であることが好ましく、－３０％以上であることがより好ましく、－２０％以上であることがさらに好ましい。膜が凸状である場合、膜の平坦度は、１５％以下であることが好ましく、１２％以下であることがより好ましく、１０％以下であることがさらに好ましい。本明細書における膜の平坦度は、後述の算出方法により算出された値とする。

［膜の製造方法］
膜は、本発明の組成物を塗布する工程と、組成物中の溶媒を蒸発させる乾燥工程とを有する方法により製造することができる。

塗布工程は、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェット印刷法、キャピラリ－コート法、ノズルコート法等の塗布方法を用いることができ、膜の平坦性をより向上させることができる観点から、吐出型の塗布法であるインクジェット印刷法が好ましく用いられる。

乾燥工程は、乾燥工程の時間を短縮する観点から、好ましくは、減圧下で乾燥を行う。乾燥工程での圧力調整は、通常、真空チャンバー内に乾燥対象を載置した後に、真空チャンバー内の圧力を大気圧から徐々に又は段階的に低下させることによる。乾燥工程の到達圧力は、膜が固定化されていれば特に限定されるものではないが、１００Ｐａ以下が好ましく、１０Ｐａ以下がさらに好ましい。大気圧から１０００Ｐａまでの減圧速度は、例えば、１０００Ｐａ／秒～３００００Ｐａ／秒である。真空チャンバー内（より具体的には、乾燥対象を載置するステージ上）の温度は、例えば、２０℃～１００℃の範囲、好ましくは２０℃～５０℃の範囲に維持する制御を行う。乾燥時間の短縮化を図ることができる観点からは、真空チャンバー内の温度は高温である程好ましく、一方、耐熱性が低い乾燥対象は真空チャンバー内の温度が室温に近い程好ましい。
※山下コメント：限定は致しませんが、到達圧力の規定も入れておきたいと考えます。

乾燥工程における乾燥雰囲気の温度が３０℃以上５０℃以下である場合には、優れた平坦化を得られる観点から、基準溶液の温度２３℃における粘度が２．２０×１０ｃＰ以上１．７７×１０^３ｃＰ以下となるように本発明の組成物を調製することが好ましい。

乾燥工程における乾燥雰囲気の温度が２０℃以上３０℃未満である場合には、優れた平坦化を得られる観点から、基準溶液の温度２３℃における粘度が１．３０×１０ｃＰ以上８．７０×１０^２ｃＰ以下となるように本発明の組成物を調製することが好ましい。

本発明者らは、乾燥工程の乾燥条件（減圧速度、真空チャンバー内の温度）を適宜選択した複数の乾燥条件のもとで膜を製造し、乾燥条件を適宜選択することにより優れた平坦性を有する膜を製造することができる基準溶液の温度２３℃での粘度の好適範囲を決定し、本発明に至った。

［有機ＥＬ素子］
本発明の有機ＥＬ素子は、本発明の組成物を用いて形成される膜を有する有機ＥＬ素子である。膜は、前述のとおり、本発明の組成物に含まれる固形分がそのまま含有されていてもよいし、固形分が、分子内又は分子間、もしくは、分子内及び分子間で架橋した状態（架橋体）で含有されていてもよい。本発明の有機ＥＬ素子の構成としては、例えば、陽極および陰極からなる電極と、該電極間に設けられた本発明の組成物を用いて形成された膜とを有する。

＜層構成＞
本発明の組成物を用いて得られる膜は、通常、発光層、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層の１種以上の層であり、好ましくは、発光層である。これらの層は、各々、発光材料、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料を含む。

有機ＥＬ素子は、陽極と陰極の間に発光層を有する。本発明の有機ＥＬ素子は、正孔注入性および正孔輸送性の観点からは、陽極と発光層との間に、正孔注入層および正孔輸送層の少なくとも１層を有することが好ましく、電子注入性および電子輸送性の観点からは、陰極と発光層の間に、電子注入層および電子輸送層の少なくとも１層を有することが好ましい。

正孔輸送層の材料、電子輸送層の材料および発光層の材料は、有機ＥＬ素子の作製において、各々、正孔輸送層、電子輸送層および発光層に隣接する層の形成時に使用される溶媒に溶解する場合、該溶媒に該材料が溶解することを回避するために、該材料が架橋基を有することが好ましい。架橋基を有する材料を用いて各層を形成した後、該架橋基を架橋させることにより、該層を溶媒に対して実質的に不溶化させることができる。

本発明の有機ＥＬ素子において、発光層、正孔輸送層、電子輸送層、正孔注入層、電子注入層等の各層の形成方法としては、低分子化合物を用いる場合、例えば、粉末からの真空蒸着法、溶液または溶融状態からの成膜による方法が挙げられ、高分子化合物を用いる場合、例えば、溶液または溶融状態からの成膜による方法が挙げられる。

積層する層の順番、数および厚さは、発光効率および輝度寿命を勘案して調整する。

＜基板/電極＞
有機ＥＬ素子における基板は、電極を形成することができ、かつ、有機層を形成する際に化学的に変化しない基板であればよく、例えば、ガラス、プラスチック、シリコン等の材料からなる基板である。不透明な基板の場合には、基板から最も遠くにある電極が透明または半透明であることが好ましい。

陽極の材料としては、例えば、導電性の金属酸化物、半透明の金属が挙げられ、好ましくは、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ；インジウム・スズ・オキサイド(ITO)、イ
ンジウム・亜鉛・オキサイド等の導電性化合物；銀とパラジウムと銅との複合体(APC)；NESA、金、白金、銀、銅である。

陰極の材料としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、アルミニウム、亜鉛、インジウム等の金属；それらのうち２種以上の合金；それらのうち１種以上と、銀、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、錫のうち１種以上との合金；並びに、グラファイトおよびグラファイト層間化合物が挙げられる。合金としては、例えば、マグネシウム－銀合金、マグネシウム－インジウム合金、マグネシウム－アルミニウム合金、インジウム－銀合金、リチウム－アルミニウム合金、リチウム－マグネシウム合金、リチウム－インジウム合金、カルシウム－アルミニウム合金が挙げられる。
陽極および陰極は、各々、２層以上の積層構造としてもよい。

＜用途＞
有機ＥＬ素子を用いて面状の発光を得るためには、面状の陽極と陰極が重なり合うように配置すればよい。パターン状の発光を得るためには、面状の発光素子の表面にパターン状の窓を設けたマスクを設置する方法、非発光部にしたい層を極端に厚く形成し実質的に非発光とする方法、陽極もしくは陰極、または、両方の電極をパターン状に形成する方法がある。これらのいずれかの方法でパターンを形成し、いくつかの電極を独立にON/OFFできるように配置することにより、数字、文字等を表示できるセグメントタイプの表示装置が得られる。ドットマトリックス表示装置とするためには、陽極と陰極を共にストライプ状に形成して直交するように配置すればよい。複数の種類の発光色の異なる高分子化合物を塗り分ける方法、カラーフィルターまたは蛍光変換フィルターを用いる方法により、部分カラー表示、マルチカラー表示が可能となる。ドットマトリックス表示装置は、パッシブ駆動も可能であるし、ＴＦＴ等と組み合わせてアクティブ駆動も可能である。これらの表示装置は、コンピュータ、テレビ、携帯端末等のディスプレイに用いることができる。面状の発光素子は、液晶表示装置のバックライト用の面状光源、または、面状の照明用光源として好適に用いることができる。フレキシブルな基板を用いれば、曲面状の光源および表示装置としても使用できる。

以下、試験例によって本発明を更に詳細に説明する。

＜組成物１～４の調製＞
固形分として、ポリマー１（重量平均分子量：１．２５×１０^５、第１高分子化合物）と低分子化合物１（分子量：１．６８×１０^３、主低分子化合物）を表２に示す比率で用い、溶媒として、デシルベンゼン（東京化成社製、大気圧での沸点：２９３℃、第１溶媒、表２において「Ｄ」と称する。）と、シクロヘキシルベンゼン（東京化成社製、大気圧での沸点：２３８℃、表２において「ＣＨＢ」と称する。）と、４－メチルアニソール（東京化成社製、大気圧での沸点：１７５℃、表２において「ＭＴ」と称する。）とを表２に示す比率で用い、固形分を表２に示す固形分濃度となるようにして溶媒中に溶解させて、緑色発光材料インクである組成物１～４を調製した。

＜組成物１～４中の基準溶液の粘度測定＞
デシルベンゼンとポリマー１とを、組成物１～４における比率と同じ比率で混合して、デジルベンゼンとポリマー１とのみを含む基準溶液を調製し、基準溶液の温度２３℃での粘度を、自動携帯型ディスポーザブル粘度計（ＰＤＶａ－１００、Ｓｔｏｎｙ Ｂｒｏｏｋ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製）を使用して測定した。表２に測定結果を示す。

＜固形分として用いられるポリマーの重量平均分子量の測定＞
ポリマーのポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）の測定は、ＧＰＣ法により以下の条件で行った。
装置 ；ＨＬＣ－８１２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）
カラム ；ＴＳＫ－ＧＥＬＧ２０００ＨＸＬカラム温度 ；４０℃
溶媒 ；ＴＨＦ
流速 ；１．０ｍＬ／ｍｉｎ
被検液固形分濃度；０．００１～０．０１質量％
注入量 ；５０μＬ
検出器 ；ＲＩ
校正用標準物質 ；ＴＳＫ ＳＴＡＮＤＡＲＤ ＰＯＬＹＳＴＹＲＥＮＥ
Ｆ－４０、Ｆ－４、Ｆ－２８８、Ａ－２５００、Ａ－５００
（東ソー（株）製）

＜乾燥条件＞
組成物１～４を緑色発光材料インクとして用いて発光層を形成する際の乾燥条件として、乾燥対象を真空乾燥装置内のステージ上に、ステージ上の温度を２５℃、３５℃、５５℃、７０℃のいずれかの温度に保ち、また真空乾燥装置内の圧力を、大気圧（１０１３２５Ｐａ）から１Ｐａまで図１に示す減圧条件Ａ、Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｃのいずれかの減圧条件にて減圧を行い、溶媒が蒸発するまで１Ｐａを維持して乾燥を行った。なお、図１に示す減圧条件Ａ、Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｃについて、大気圧から１０００Ｐａに到達するまでに要する時間Ｔ（秒）、及び大気圧から１０００Ｐａに到達するまでの減圧速度Ｖ（Ｐａ／秒）は、表３に示す通りであった。

［試験例１～１０：膜形状測定素子の作製と評価］
（透明電極基板の準備）
３７０ｍｍ×４７０ｍｍ×０．５ｍｍのサイズのガラス基板（コーニング社製イーグルＸＧ）に、ジオマテック株式会社製の透明導電膜ＦＬＡＴ－ＩＴＯを所定のパターンで５０ｎｍ形成した。

（撥液性隔壁付基板の作製）
上記にて作製した透明導電膜付基板に対して、ＵＶ－Ｏ_３洗浄装置（日立ハイテクノロジ―社製；ＰＬ３－２００－１５）を用い、積算光量４００ｍＪ/ｃｍ^２下で親水化処理
を実施し、純水にて洗浄、エアーにて乾燥を実施した。この基板に対して、調製済みの感光性樹脂組成物を３０ｇ滴下し、スピンコータにて９００ｒｐｍにて７秒回転させ、感光性樹脂組成物からなる薄膜を塗布形成した。その後、真空乾燥装置（東京応化工業株式会社製；ＴＲ２８３４０ＣＰＤ－ＣＬＴ）にて６６Ｐａまで減圧乾燥を行い、ホットプレートにて１１０℃、１１０秒コンタクトしプリベークを実施した。次に、露光装置（日立ハイテクノロジ―社製；ＬＥ４０００Ａ）を用いて、露光を実施した。露光量は２００ｍＪ／ｃｍ^２、Ｇａｐは１００μｍとした。フォトマスクには、パターン（遮光部の形状が、長軸方向２００μｍ、短軸方向５０μｍの長方形から、その四隅を円弧状にカットした形
（長丸））が同一平面上に形成されたものを用いた。その後、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（トクヤマ（株）製、トクソーＳＤ２５）を濃度が２．３８％となるように純水で希釈して調製した現像液を使用し、前記塗膜をシャワー現像機（セファテクノロジー株式会社製）にて、２３℃で８０秒間現像し、水洗およびエアー乾燥後、オーブン（エスペック社製：ＨＳＣ－４）中、２３０℃で２０分間ポストベークを行い、パターンを得た。

（塗布用基板の作製）
上記で得られた透明電極上に撥液性隔壁がパターニングされた基板を、ＬＣＤ Ｇｌａｓｓ分断装置（ＭＳ５００、三星ダイヤモンド工業株式会社製）を用いて、３７０ｍｍ×４７０ｍｍ×０．５ｍｍのサイズから５０ｍｍ×５０ｍｍ×０．５ｍｍのサイズへと分断した。

（正孔注入層の形成）
正孔注入材料（ＮＤ－３２０２、日産化学工業株式会社製）を、インクジェット印刷装置（１４２Ｐ、Ｌｉｔｒｅｘ社製）に導入した。次に塗布前の前処理として、５０ｍｍ角のサイズに分断した基板を、２３０℃、１５分間ベークした。その後、ガラス基板上に形成され、撥液性の隔壁で囲まれたＩＴＯ膜上（ＩＴＯ膜厚：５０ｎｍ）に、インクジェット印刷法により、正孔注入材料を塗布し、ステージ温度１３℃、減圧速度２５７９０Ｐａ／秒の条件下で、溶媒が蒸発するまで減圧乾燥させ、６５ｎｍの平均厚さの正孔注入層を成膜した。得られた膜を、大気雰囲気下において、ホットプレート上で２３０℃、１５分間加熱することにより、正孔注入層を形成した。

（正孔輸送層の形成）
混合溶媒（デシルベンゼン／シクロヘキシルベンゼン／４－メチルアニソール＝１８．４質量％／４０．２質量％／４１．４質量％）に、正孔輸送材料（高分子化合物）を、固形分濃度として０．５質量％溶解させた正孔輸送材料組成物を調製した。得られた正孔輸送材料組成物を、インクジェット印刷装置（Ｌｉｔｒｅｘ社製、１４２Ｐ）に導入した。次に、正孔注入層上に、正孔輸送材料組成物をインクジェット印刷法により塗布し、ステージ温度２３℃、減圧速度３７０００Ｐａ／秒の条件下で、溶媒が蒸発するまで減圧乾燥させ、膜を２０ｎｍの平均厚さで成膜した。得られた膜を、窒素ガス雰囲気下において、ホットプレート上で２００℃、３０分間加熱することにより、正孔輸送層を形成した。

（発光層の形成）
上記で調製した組成物１～４のいずれかを緑色発光材料インクとして用い、これをインクジェット印刷装置（Ｌｉｔｒｅｘ社製、１４２Ｐ）に導入した。次に、正孔輸送層上に、緑色発光材料インクをインクジェット印刷法により塗布し、次に、表４に示す乾燥条件（ステージ温度及び減圧条件）で、溶媒が蒸発するまで減圧乾燥させ、狙い膜厚８０ｎｍの厚さで成膜した。得られた膜を、窒素ガス雰囲気下において、ホットプレート上で１８０℃、１０分間加熱することにより、発光層を形成した。

（測定用反射膜の形成）
「正孔注入層／正孔輸送層」の２層、もしくは「正孔注入層／正孔輸送層／発光層」の３層を形成したガラス基板を蒸着機内において、１．０×１０^－４Ｐａ以下にまで減圧した後、正孔輸送層又は発光層の上にアルミニウムを約２０ｎｍ蒸着することで測定用反射膜を形成し、膜形状測定素子を作製した。

（膜形状の評価）
「正孔注入層／正孔輸送層／測定用反射膜」の層構成の基板Ｘ１と、「正孔注入層／正孔輸送層／発光層／測定用反射膜」の層構成の基板Ｘ２の２種類の基板の膜厚を、非接触３次元表面形状測定装置（Ｚｙｇｏ社製）により測定した。基板Ｘ１の３次元膜厚をＤ１、基板Ｘ２の３次元膜厚をＤ２とし、評価対象となる発光層単層の膜厚Ｄ３を下記式から得た。
Ｄ３＝Ｄ２－Ｄ１

膜厚Ｄ３に関して、撥液性隔壁で囲まれた１つの画素内において、最も薄い膜厚をｄ、膜厚がｄ＋５ｎｍ以下の範囲になる面積をａ、平均膜厚をｂとし、平坦度ｙ（％）の絶対値｜ｙ｜を下記式から得た。
｜ｙ｜＝（１－（ａ／画素面積）／（ｂ／狙い膜厚））×１００

さらに膜厚Ｄ３に関して、短軸の中心部で、画素長軸側の断面が得られるように輪切りした場合の撥液性隔壁端部から１０μｍの位置の２点の膜厚と画素中心の膜厚を比較し、撥液性隔壁端部から１０μｍの位置の２点の膜厚の内、どちらか一方でも画素中心より厚かった場合、膜形状を凹とみなし、ｙの値を負、画素中心の方が膜厚が厚かった場合は、膜形状を凸とみなし、平坦度ｙの値を正とし、平坦度ｙ（％）を決定した。表４に測定結果に基づいて得られた平坦度ｙ（％）を示す。

（基準溶液の粘度ｘと平坦度ｙとの関係）
図２～図１１は、試験例１～１０について、基準溶液の粘度ｘと測定結果に基づいて得られた平坦度ｙとをプロットしたグラフである。図２～図１１において、基準溶液の粘度ｘと平坦度ｙとの関係について、近似直線で示した関係があることがわかった。図２～図１１の近似直線が示す関係式を導出関係式として、表４に示す。

（所望の平坦度が得られる粘度範囲の算出）
各試験例において、上記における導出関係式に基づいて、所望の平坦度である－４５％～１５％の平坦度が得られる基準溶液の粘度を粘度の好適範囲としその下限及び上限値を計算した。その結果を表４に示す。基準溶液の粘度の好適範囲の下限値は、平坦度が－４５％になると算出される基準溶液の粘度であり、基準溶液の粘度の好適範囲の上限値は、平坦度が１５％になると算出される基準溶液の粘度である。

（考察）
試験例１～１０では、発光層形成時の乾燥条件（温度、減圧速度）について、当業者が適宜採用し得る範囲内の乾燥条件を採用した。したがって、基準溶液の粘度ｘが、試験例１～１０のいずれかで－４５％～１５％の平坦度が得られる粘度ｘ（４．４０×１０ｃＰ以上５．０１×１０^３ｃＰ以下）を有する組成物であれば、当業者が適宜乾燥条件を調整することにより、－４５％～１５％の平坦度を実現し得ることがわかる。

また、試験例２，４，６，８，１０からは、乾燥温度が３５℃の場合、基準溶液の温度２３℃での粘度ｘが２．２０×１０ｃＰ以上１．７７×１０^３ｃＰ以下を有する組成物であれば高い平坦度を実現し得ることがわかる。試験例１，３，５，７，９からは、乾燥温度が２５℃の場合、基準溶液の温度２３℃での粘度ｘが１．３０×１０ｃＰ以上８．７０×１０^２ｃＰ以下を有する組成物であれば高い平坦度を実現し得ることがわかる。

Claims (16)

1. 有機ＥＬ素子用組成物を準備する準備工程と、
   前記有機ＥＬ素子用組成物を塗布して塗膜を形成する塗布工程と、
   前記塗膜を乾燥する乾燥工程と、を有する、膜の製造方法であって、
   前記有機ＥＬ素子用組成物は、
   固形分と溶媒とを含み、
   前記固形分は、前記固形分の全量に対して５質量％以上含まれる主高分子化合物を少なくとも１種と、前記固形分の全量に対して３０質量％以上含まれる主低分子化合物を少なくとも１種と、を含み、
   前記主高分子化合物の中で重量平均分子量が最も大きい第１高分子化合物の重量平均分子量は１．４×１０^５未満であり、
   前記溶媒は、前記溶媒の全量に対して５質量％以上含まれる主溶媒を少なくとも２種含み、
   前記準備工程は、
   前記有機ＥＬ素子用組成物中における、前記主溶媒の中で大気圧での沸点が最も高い第１溶媒と、前記第１高分子化合物とのみからなる基準溶液の温度２３℃における粘度を特定する特定工程と、
   前記粘度が１．３０×１０ｃＰ以上１．７７×１０^３ｃＰ以下となるように前記有機ＥＬ素子用組成物を調製する調製工程と、を含み、
   前記乾燥工程は、前記基準溶液の前記粘度に応じて乾燥条件を決定する工程を含む、膜の製造方法。
2. 前記第１溶媒の大気圧での沸点が２５０℃以上である、請求項１に記載の膜の製造方法。
3. 前記第１溶媒は式（１）で表される化合物である、請求項１又は２に記載の膜の製造方法。
   

   

   
   ［式（１）中、Ｒ^１は、炭素原子数が１０～１２のアルキル基を表す。］
4. 前記有機ＥＬ素子用組成物において、前記第１溶媒の濃度は、前記主溶媒の全量に対して５質量％以上６０質量％以下である、請求項１～３のいずれか１項に記載の膜の製造方法。
5. 前記主溶媒は、第２溶媒をさらに含み、
   前記第２溶媒は、式（１）で表される化合物を除く芳香族炭化水素である、請求項１～４のいずれか１項に記載の膜の製造方法。
6. 前記第２溶媒は、ペンチルベンゼン、ヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、及びテトラリンからなる群より選択される、請求項５に記載の膜の製造方法。
7. 前記主溶媒は、第３溶媒をさらに含み、
   前記第３溶媒は、芳香族エーテルである、請求項１～６のいずれか１項に記載の膜の製造方法。
8. 前記第３溶媒は、メチルアニソール、ジメチルアニソール、エチルアニソール、ブチルフェニルエーテル、ブチルアニソール、ペンチルアニソール、ヘキシルアニソール、ヘプチルアニソール、オクチルアニソール、及びフェノキシトルエンからなる群より選択される、請求項７に記載の膜の製造方法。
9. 前記主高分子化合物は、いずれも重量平均分子量が３．０×１０^４以上である、請求項１～８のいずれか１項に記載の膜の製造方法。
10. 前記第１高分子化合物は、発光性化合物である、請求項１～９のいずれか１項に記載の膜の製造方法。
11. 前記有機ＥＬ素子用組成物は、温度２３℃における粘度が１ｃＰ以上１０ｃＰ以下である、請求項１～１０のいずれか１項に記載の膜の製造方法。
12. 前記乾燥工程は、前記塗膜を減圧雰囲気で乾燥する工程である、請求項１～１１のいずれか１項に記載の膜の製造方法。
13. 前記調製工程は、前記基準溶液の温度２３℃における前記粘度が２．２０×１０ｃＰ以上１．７７×１０^３ｃＰ以下となるように前記有機ＥＬ素子用組成物を調製する工程であり、
    前記乾燥工程において、前記塗膜を温度が３０℃以上５０℃以下の減圧雰囲気で乾燥する、請求項１２に記載の膜の製造方法。
14. 前記調製工程は、前記基準溶液の温度２３℃における前記粘度が１．３０×１０ｃＰ以上８．７０×１０^２ｃＰ以下となるように前記有機ＥＬ素子用組成物を調製する工程であり、
    前記乾燥工程において、前記塗膜を温度が２０℃以上３０℃未満の減圧雰囲気で乾燥する、請求項１２に記載の膜の製造方法。
15. 前記乾燥工程は、雰囲気を、大気圧から、１０００Ｐａ／秒以上３００００Ｐａ／秒以下の減圧速度で１０００Ｐａの圧力まで減圧する工程を含む、請求項１２～１４のいずれか１項に記載の膜の製造方法。
16. 請求項１～１５のいずれか１項に記載の膜の製造方法により形成される膜を備える有機ＥＬ素子の製造方法。

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