JP2018006715A - エッチング液組成物およびエッチング方法 - Google Patents
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Abstract
本発明の課題は、タングステン膜と窒化チタン膜とを一括でエッチング処理することが可能なエッチング液組成物および当該エッチング液組成物を用いたエッチング方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、硝酸と、水とを含む、タングステン膜と窒化チタン膜とを一括でエッチング処理するためのエッチング液組成物。
【選択図】なし
Description
特に、近年発表された3D NAND技術のように、三次元構造を採用することによってメモリの大容量化を進める場合には、所望の三次元構造を精緻に作成することが可能なエッチング液が求められる。
[1] 硝酸と、水とを含む、タングステン膜と窒化チタン膜とを一括でエッチング処理するためのエッチング液組成物。
[2] さらに、硫酸および脂肪族スルホン酸からなる群より選択される少なくとも1つを含む、[1]に記載のエッチング液組成物。
[3] 脂肪族スルホン酸がメタンスルホン酸である、[2]に記載のエッチング液組成物。
[4] さらに、りん酸を含む、[1]〜[3]のいずれか1つに記載のエッチング液組成物。
[5] [1]〜[4]のいずれか一つに記載のエッチング液組成物を用いて、タングステン膜と窒化チタン膜とを一括でエッチングする、エッチング方法。
[6] エッチングにおけるエッチング組成物の温度が50℃以上である、[5]に記載の方法。
[7] 三次元構造を有するパターンを作成するための、[5]または[6]に記載の方法。
本発明のエッチング液組成物は、タングステン膜と窒化チタン膜とを一括でエッチング処理するために用いられるエッチング液組成物である。
エッチング液組成物中における水の含有量は、特に限定されないが、好ましくは、2.0〜80.0重量%であり、より好ましくは、5.0〜70.0重量%である。
特に、昇温条件下でエッチング処理を行う場合には、水の蒸発によりエッチング液組成物の組成が変化することを抑制するために、水の含有量を8.0〜65.0重量%とすることが好ましい。エッチング液組成物の組成の変化を抑制することにより、昇温条件下でのエッチング処理に長い時間を要する場合であっても、組成の変化によって選択比がエッチング処理中に変化する恐れが少なくなり、好ましい。また、エッチング処理前後での選択比の変化が小さいため、エッチング液組成物を繰り返し使用することが可能となる。このことは、エッチング液の廃液処理に伴うコストおよび環境負荷の削減の観点から、好ましい。
エッチング液組成物が硝酸と水とからなる場合は、エッチング液組成物中の水の含有量を少なくすることは難しいが、硫酸および脂肪族スルホン酸からなる群より選択される少なくとも1つを添加することにより、水の含有量をさらに低くすることができる。
これにより、エッチング液組成物の組成をより広い範囲で調節することが可能となり、好ましい。また、水の揮発によるエッチング液組成物の組成の変化を抑制することが望まれる場合において、水の含有量を低くすることが可能となり、好ましい。
後述するように、本発明のエッチング液組成物を構成する成分の含有量は、目的とする選択比と、タングステン膜および窒化チタン膜の膜質とにより適宜調節されるため、特に制限がないが、硫酸および脂肪族スルホン酸からなる群より選択される少なくとも1つの含有量は、好ましくは5.0〜95.0重量%であり、より好ましくは8.0〜40.0重量%である。
後述するように、本発明のエッチング液組成物を構成する成分の含有量は、目的とする選択比と、タングステン膜および窒化チタン膜の膜質とにより適宜調節されるため、特に制限がないが、りん酸の含有量は、好ましくは0.1〜90.0重量%であり、より好ましくは0.5〜80.0重量%である。
また、昇温条件下でのエッチング液組成物の組成の変化を抑制することが要求される場合は、エッチング液に一般的に含まれる成分であっても、揮発性の高い成分を含まないことが好ましい。このような揮発性の高い成分の具体例としては、ギ酸および酢酸などのカルボン酸およびその塩、ならびに、クエン酸および酒石酸などの多価カルボン酸およびその塩が挙げられる。
このような基材の構成材料としては、シリコン、ガラス、石英、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルスルフォンなどが挙げられる。また、タングステン膜と窒化チタン膜とは、前記基材上に形成されたシリコン酸化膜(SiO2)上に形成されていてもよい。
Claims (7)
- 硝酸と、水とを含む、タングステン膜と窒化チタン膜とを一括でエッチング処理するためのエッチング液組成物。
- さらに、硫酸および脂肪族スルホン酸からなる群より選択される少なくとも1つを含む、請求項1に記載のエッチング液組成物。
- 脂肪族スルホン酸がメタンスルホン酸である、請求項2に記載のエッチング液組成物。
- さらに、りん酸を含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載のエッチング液組成物。
- 請求項1〜4のいずれか一項に記載のエッチング液組成物を用いて、タングステン膜と窒化チタン膜とを一括でエッチングする、エッチング方法。
- エッチングにおけるエッチング組成物の温度が50℃以上である、請求項5に記載の方法。
- 三次元構造を有するパターンを作成するための、請求項5または6に記載の方法。
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