JP2017228783A5 - - Google Patents
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Description
さらに、本明細書または特許請求の範囲に開示された多数の行為または機能の開示は特定の順序であると解釈されなくてもよいということを理解すべきである。したがって、多数の行為または機能の開示は、このような行為または機能が技術的理由のために互に交換可能でない限り、これらを特定の順序に制限することはない。さらに、いくつかの実施形態では、単一行為は多数の副工程を含み得るまたは多数の副行為に分解され得る。このような副行為は、明示的に除外されない限り、この単一行為の開示に含まれ得、この単一工程の開示の一部であり得る。
また、本願は以下に記載する態様を含む。
(態様1)
半導体基板中に規定ドーズ量の陽子を注入する工程(110)と規定温度プロフィルに基づき前記半導体基板を焼き戻しする工程(120)とを含む半導体装置を形成する方法(100)であって、
前記規定ドーズ量の陽子と前記規定温度プロフィルのうちの少なくとも1つは、前記半導体基板の少なくとも一部分内の炭素濃度に関する情報を示す炭素関連パラメータに依存して選択される、方法。
(態様2)
前記半導体基板の少なくとも一部分内の前記炭素濃度は1×10 15 cm −3 より高い、態様1に記載の方法。
(態様3)
前記規定ドーズ量の陽子を注入する(110)前に前記半導体基板の少なくとも一部分中に炭素を取り込む工程をさらに含む態様1または2に記載の方法。
(態様4)
前記炭素を取り込む工程は前記半導体基板の少なくとも一部分中に炭素を注入または拡散する工程を含む、態様3に記載の方法。
(態様5)
前記炭素を取り込む工程は前記半導体基板の少なくとも一部分中に炭素を拡散する工程を含み、前記半導体基板中の室温における炭素の溶解度より多くの炭素が前記拡散処理中に供給される、態様3に記載の方法。
(態様6)
規定拡散温度プロフィルに従って前記半導体基板を焼き戻しすることにより前記半導体基板から炭素を拡散する工程をさらに含む態様1〜5のいずれか一項に記載の方法。
(態様7)
結晶成長中またはエピタキシャル層の堆積中に規定炭素分布で前記半導体基板の前記少なくとも一部分内に前記炭素を取り込む工程をさらに含む態様1または2に記載の方法。
(態様8)
前記規定ドーズ量の陽子は1×10 14 cm −2 より高い、態様1〜7のいずれか一項に記載の方法。
(態様9)
前記規定温度プロフィルは500℃未満の最大温度を含む、態様1〜8のいずれか一項に記載の方法。
(態様10)
前記半導体装置の後続の製造工程は前記規定ドーズ量の陽子の注入(110)後に500℃未満の温度で行われる、態様1〜9のいずれか一項に記載の方法。
(態様11)
前記半導体基板の少なくとも一部分の炭素濃度または前記形成される半導体装置の前記半導体基板と共に製造される別の半導体基板の少なくとも一部分の炭素濃度を測定する工程をさらに含む態様1〜10のいずれか一項に記載の方法。
(態様12)
規定深さ分布を有する格子間半導体原子を生成するために規定エネルギー分布で前記半導体基板内に、電子、アルファ粒子、ヘリウムまたはさらなる陽子を注入する工程をさらに含む態様1〜11のいずれか一項に記載の方法。
(態様13)
前記規定ドーズ量の陽子は、前記半導体基板の前記少なくとも一部分内に規定濃度の格子間炭素を生成するように半導体基板内に注入される(110)、態様1〜12のいずれか一項に記載の方法。
(態様14)
前記半導体基板中に前記規定ドーズ量の陽子を注入する工程(110)は前記形成される半導体装置のドリフト層領域中に規定ドーズ量の陽子を注入する工程を含む、態様1〜13のいずれか一項に記載の方法。
(態様15)
前記形成される半導体装置のフィールドストップ層領域内に炭素を注入または拡散する工程であって、前記ドリフト層領域内の平均炭素濃度が前記フィールドストップ層領域内の平均炭素濃度より低くなるように注入または拡散する工程をさらに含む態様1〜14のいずれか一項に記載の方法。
(態様16)
前記炭素関連パラメータは深準位過渡分光法により測定されたCiOi濃度または赤外線計測により測定された吸収係数である、態様1〜15のいずれか一項に記載の方法。
(態様17)
エミッタまたはソース端子(210)とコレクタまたはドレイン端子(220)とを含む少なくとも1つのトランジスタ構造を含む半導体装置(200)であって、
前記エミッタまたはソース端子(210)と前記コレクタまたはドレイン端子(220)間に位置する半導体基板領域(240)内の炭素濃度(230)が前記エミッタまたはソース端子(210)と前記コレクタまたはドレイン端子(220)間で変化する、半導体装置。
(態様18)
前記トランジスタ構造は前記エミッタまたはソース端子(210)と前記コレクタまたはドレイン端子(220)間に位置するドリフト層(370、470)を含み、
前記トランジスタ構造は前記ドリフト層(370、470)と前記コレクタまたはドレイン端子(220)間に位置するフィールドストップ層を含み、
前記フィールドストップ層は前記ドリフト層(370、470)の平均炭素濃度の少なくとも2倍の平均炭素濃度を含む、態様17に記載の半導体装置。
(態様19)
前記トランジスタ構造は、コレクタ層(360、460)、ドリフト層(370、470)、複数のボディ領域(380、480)、複数のソース領域(385、485)および複数のゲート(390、490)を含む半導体構造を含む絶縁ゲートバイポーラトランジスタ配置であり、
前記複数のソース領域(385、485)および前記ドリフト層(370、470)は少なくとも第1の導電型を主に含み、
前記複数のボディ領域(380、480)および前記コレクタ層(360、460)は少なくとも第2の導電型を主に含み、
前記複数のゲート(390、490)は、前記ゲートが前記ボディ領域(380、480)を介し前記ソース領域(385、485)と前記ドリフト層(370、470)との間に導電チャネルを引き起こすことができるように配置される、態様17または18に記載の半導体装置。
(態様20)
前記半導体装置の半導体基板は200μm未満の厚さを含む、態様17〜19のいずれか一項に記載の半導体装置。
(態様21)
半導体装置を形成する方法(600)であって、
第1の半導体ウェハ中に第1の規定ドーズ量の陽子を注入する工程(610)と、
第1の規定温度プロフィルに従って前記第1の半導体ウェハを焼き戻しする工程(620)であって、前記第1の規定ドーズ量の陽子と前記第1の規定温度プロフィルのうちの少なくとも1つは、前記第1の半導体ウェハの少なくとも一部分内の第1の炭素濃度に関する情報を示す炭素関連パラメータに依存して選択される、工程(620)と、
第2の半導体ウェハ中に第2の規定ドーズ量の陽子を注入する工程(630)と、
第2の規定温度プロフィルに従って前記第2の半導体ウェハを焼き戻しする工程(630)であって、前記第2の規定ドーズ量の陽子と前記第2の規定温度プロフィルのうちの少なくとも1つは、前記第2の半導体ウェハの少なくとも一部分内の第2の炭素濃度に関する情報を示す炭素関連パラメータに依存して選択され、前記第1の炭素濃度は前記第2の炭素濃度と異なる、工程(630)とを含む方法。
また、本願は以下に記載する態様を含む。
(態様1)
半導体基板中に規定ドーズ量の陽子を注入する工程(110)と規定温度プロフィルに基づき前記半導体基板を焼き戻しする工程(120)とを含む半導体装置を形成する方法(100)であって、
前記規定ドーズ量の陽子と前記規定温度プロフィルのうちの少なくとも1つは、前記半導体基板の少なくとも一部分内の炭素濃度に関する情報を示す炭素関連パラメータに依存して選択される、方法。
(態様2)
前記半導体基板の少なくとも一部分内の前記炭素濃度は1×10 15 cm −3 より高い、態様1に記載の方法。
(態様3)
前記規定ドーズ量の陽子を注入する(110)前に前記半導体基板の少なくとも一部分中に炭素を取り込む工程をさらに含む態様1または2に記載の方法。
(態様4)
前記炭素を取り込む工程は前記半導体基板の少なくとも一部分中に炭素を注入または拡散する工程を含む、態様3に記載の方法。
(態様5)
前記炭素を取り込む工程は前記半導体基板の少なくとも一部分中に炭素を拡散する工程を含み、前記半導体基板中の室温における炭素の溶解度より多くの炭素が前記拡散処理中に供給される、態様3に記載の方法。
(態様6)
規定拡散温度プロフィルに従って前記半導体基板を焼き戻しすることにより前記半導体基板から炭素を拡散する工程をさらに含む態様1〜5のいずれか一項に記載の方法。
(態様7)
結晶成長中またはエピタキシャル層の堆積中に規定炭素分布で前記半導体基板の前記少なくとも一部分内に前記炭素を取り込む工程をさらに含む態様1または2に記載の方法。
(態様8)
前記規定ドーズ量の陽子は1×10 14 cm −2 より高い、態様1〜7のいずれか一項に記載の方法。
(態様9)
前記規定温度プロフィルは500℃未満の最大温度を含む、態様1〜8のいずれか一項に記載の方法。
(態様10)
前記半導体装置の後続の製造工程は前記規定ドーズ量の陽子の注入(110)後に500℃未満の温度で行われる、態様1〜9のいずれか一項に記載の方法。
(態様11)
前記半導体基板の少なくとも一部分の炭素濃度または前記形成される半導体装置の前記半導体基板と共に製造される別の半導体基板の少なくとも一部分の炭素濃度を測定する工程をさらに含む態様1〜10のいずれか一項に記載の方法。
(態様12)
規定深さ分布を有する格子間半導体原子を生成するために規定エネルギー分布で前記半導体基板内に、電子、アルファ粒子、ヘリウムまたはさらなる陽子を注入する工程をさらに含む態様1〜11のいずれか一項に記載の方法。
(態様13)
前記規定ドーズ量の陽子は、前記半導体基板の前記少なくとも一部分内に規定濃度の格子間炭素を生成するように半導体基板内に注入される(110)、態様1〜12のいずれか一項に記載の方法。
(態様14)
前記半導体基板中に前記規定ドーズ量の陽子を注入する工程(110)は前記形成される半導体装置のドリフト層領域中に規定ドーズ量の陽子を注入する工程を含む、態様1〜13のいずれか一項に記載の方法。
(態様15)
前記形成される半導体装置のフィールドストップ層領域内に炭素を注入または拡散する工程であって、前記ドリフト層領域内の平均炭素濃度が前記フィールドストップ層領域内の平均炭素濃度より低くなるように注入または拡散する工程をさらに含む態様1〜14のいずれか一項に記載の方法。
(態様16)
前記炭素関連パラメータは深準位過渡分光法により測定されたCiOi濃度または赤外線計測により測定された吸収係数である、態様1〜15のいずれか一項に記載の方法。
(態様17)
エミッタまたはソース端子(210)とコレクタまたはドレイン端子(220)とを含む少なくとも1つのトランジスタ構造を含む半導体装置(200)であって、
前記エミッタまたはソース端子(210)と前記コレクタまたはドレイン端子(220)間に位置する半導体基板領域(240)内の炭素濃度(230)が前記エミッタまたはソース端子(210)と前記コレクタまたはドレイン端子(220)間で変化する、半導体装置。
(態様18)
前記トランジスタ構造は前記エミッタまたはソース端子(210)と前記コレクタまたはドレイン端子(220)間に位置するドリフト層(370、470)を含み、
前記トランジスタ構造は前記ドリフト層(370、470)と前記コレクタまたはドレイン端子(220)間に位置するフィールドストップ層を含み、
前記フィールドストップ層は前記ドリフト層(370、470)の平均炭素濃度の少なくとも2倍の平均炭素濃度を含む、態様17に記載の半導体装置。
(態様19)
前記トランジスタ構造は、コレクタ層(360、460)、ドリフト層(370、470)、複数のボディ領域(380、480)、複数のソース領域(385、485)および複数のゲート(390、490)を含む半導体構造を含む絶縁ゲートバイポーラトランジスタ配置であり、
前記複数のソース領域(385、485)および前記ドリフト層(370、470)は少なくとも第1の導電型を主に含み、
前記複数のボディ領域(380、480)および前記コレクタ層(360、460)は少なくとも第2の導電型を主に含み、
前記複数のゲート(390、490)は、前記ゲートが前記ボディ領域(380、480)を介し前記ソース領域(385、485)と前記ドリフト層(370、470)との間に導電チャネルを引き起こすことができるように配置される、態様17または18に記載の半導体装置。
(態様20)
前記半導体装置の半導体基板は200μm未満の厚さを含む、態様17〜19のいずれか一項に記載の半導体装置。
(態様21)
半導体装置を形成する方法(600)であって、
第1の半導体ウェハ中に第1の規定ドーズ量の陽子を注入する工程(610)と、
第1の規定温度プロフィルに従って前記第1の半導体ウェハを焼き戻しする工程(620)であって、前記第1の規定ドーズ量の陽子と前記第1の規定温度プロフィルのうちの少なくとも1つは、前記第1の半導体ウェハの少なくとも一部分内の第1の炭素濃度に関する情報を示す炭素関連パラメータに依存して選択される、工程(620)と、
第2の半導体ウェハ中に第2の規定ドーズ量の陽子を注入する工程(630)と、
第2の規定温度プロフィルに従って前記第2の半導体ウェハを焼き戻しする工程(630)であって、前記第2の規定ドーズ量の陽子と前記第2の規定温度プロフィルのうちの少なくとも1つは、前記第2の半導体ウェハの少なくとも一部分内の第2の炭素濃度に関する情報を示す炭素関連パラメータに依存して選択され、前記第1の炭素濃度は前記第2の炭素濃度と異なる、工程(630)とを含む方法。
Claims (19)
- 少なくとも1つのトランジスタ構造を含む半導体装置であって、
エミッタまたはソース端子、および
コレクタまたはドレイン端子を備え、
前記エミッタまたはソース端子と前記コレクタまたはドレイン端子との間に位置した半導体基板領域内の格子間炭素濃度が、前記エミッタまたはソース端子と前記コレクタまたはドレイン端子との間で変化する、半導体装置。 - 前記少なくとも1つのトランジスタ構造が、
前記エミッタまたはソース端子と前記コレクタまたはドレイン端子との間にドリフト層と、
前記ドリフト層と前記コレクタまたはドレイン端子との間にフィールドストップ層とをさらに備え、
前記フィールドストップ層は前記ドリフト層の平均炭素濃度の少なくとも2倍の平均炭素濃度を有する、請求項1に記載の半導体装置。 - 前記少なくとも1つのトランジスタ構造は、コレクタ層、ドリフト層、複数のボディ領域、複数のソース領域および複数のゲートを含む半導体構造を備えた絶縁ゲートバイポーラトランジスタ配置であり、
前記複数のソース領域および前記ドリフト層は第1の導電型のドーパントを含み、
前記複数のボディ領域および前記コレクタ層は第2の導電型のドーパントを含み、
前記複数のゲートは、前記複数のゲートが前記ボディ領域を介し前記複数のソース領域と前記ドリフト層との間に導電チャネルを引き起こすように構成されるよう配置される、請求項1に記載の半導体装置。 - 前記半導体装置の半導体基板は、前記半導体基板領域を含み、200μm未満の厚さを有する、請求項1に記載の半導体装置。
- 前記半導体基板領域の少なくとも一部内で、前記炭素濃度が1*1014 cm−3より高い、請求項1に記載の半導体装置。
- 前記半導体基板領域の少なくとも一部内で、前記炭素濃度が5*1015 cm−3より高い、請求項1に記載の半導体装置。
- 前記半導体基板領域の少なくとも一部内で、前記炭素濃度が1*1016 cm−3より高い、請求項1に記載の半導体装置。
- 前記半導体基板領域内の前記炭素濃度が平均炭素濃度または最大炭素濃度である、請求項1に記載の半導体装置。
- 前記半導体基板領域の少なくとも一部内で、前記炭素濃度が1*1014 cm−3より低い、請求項1に記載の半導体装置。
- 前記半導体基板領域の少なくとも一部内で、前記炭素濃度が5*1015 cm−3より低い、請求項1に記載の半導体装置。
- 前記半導体基板領域が、シリコン、炭化ケイ素、砒化ガリウム、または窒化ガリウムを含む、請求項1に記載の半導体装置。
- 前記半導体基板領域内の前記炭素濃度が、2*1016 cm−3より低い最大炭素濃度と1*1014 cm−3より高い最小炭素濃度とを有する、請求項1に記載の半導体装置。
- 前記半導体基板領域内の前記炭素濃度が、最小炭素濃度と、前記最小炭素濃度の2倍を超える最大炭素濃度とを有する、請求項1に記載の半導体装置。
- 前記少なくとも1つのトランジスタ構造が、前記エミッタまたはソース端子と前記コレクタまたはドレイン端子との間にドリフト層をさらに備え、前記半導体基板領域が前記ドリフト層内に、前記半導体基板領域の他の領域と比較してより高い炭素濃度を有する、請求項1に記載の半導体装置。
- 前記少なくとも1つのトランジスタ構造が、
前記エミッタまたはソース端子と前記コレクタまたはドレイン端子との間にドリフト層と、
前記ドリフト層と前記コレクタまたはドレイン端子との間にフィールドストップ層とを含み、
前記ドリフト層の領域内の平均炭素濃度が前記フィールドストップ層の領域内の平均炭素濃度より低い、請求項1に記載の半導体装置。 - 前記半導体基板領域内の前記炭素濃度が前記半導体基板領域内の異なる深さによって異なる、請求項1に記載の半導体装置。
- 前記半導体基板領域内の前記炭素濃度が、前記半導体基板領域内の異なる深さによって1*1014 cm−3 から2*1016 cm−3 の間で異なる、請求項16に記載の半導体装置。
- 前記半導体基板領域内の前記炭素濃度が、前記半導体基板領域内の異なる深さによって1*1014 cm−3 から1*1017 cm−3の間で異なる、請求項16に記載の半導体装置。
- 前記半導体基板領域内の前記炭素濃度が、前記半導体基板領域内の異なる深さによって1*1015 cm−3 から5*1015 cm−3の間で異なる、請求項16に記載の半導体装置。
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JP7052322B2 (ja) | 2017-11-28 | 2022-04-12 | 富士電機株式会社 | 炭化珪素半導体装置および炭化珪素半導体装置の製造方法 |
DE112019000094T5 (de) | 2018-03-19 | 2020-09-24 | Fuji Electric Co., Ltd. | Halbleitervorrichtung und verfahren zum herstellen einerhalbleitervorrichtung |
JP6645546B1 (ja) * | 2018-09-03 | 2020-02-14 | 株式会社Sumco | シリコン試料の炭素濃度評価方法、シリコンウェーハ製造工程の評価方法、シリコンウェーハの製造方法およびシリコン単結晶インゴットの製造方法 |
DE112019001123B4 (de) | 2018-10-18 | 2024-03-28 | Fuji Electric Co., Ltd. | Halbleitervorrichtung und herstellungsverfahren davon |
JP7099541B2 (ja) * | 2018-11-16 | 2022-07-12 | 富士電機株式会社 | 半導体装置および製造方法 |
DE112019001738T5 (de) | 2018-11-16 | 2020-12-17 | Fuji Electric Co., Ltd. | Halbleitervorrichtung und herstellungsverfahren |
DE102018132236B4 (de) * | 2018-12-14 | 2023-04-27 | Infineon Technologies Ag | Leistungshalbleiterbauelement und Verfahren zu dessen Herstellung |
WO2020138218A1 (ja) | 2018-12-28 | 2020-07-02 | 富士電機株式会社 | 半導体装置および製造方法 |
JP7173312B2 (ja) | 2019-05-16 | 2022-11-16 | 富士電機株式会社 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
JP7222435B2 (ja) | 2019-10-11 | 2023-02-15 | 富士電機株式会社 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
JP7363336B2 (ja) * | 2019-10-11 | 2023-10-18 | 富士電機株式会社 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
CN113875016A (zh) | 2019-12-17 | 2021-12-31 | 富士电机株式会社 | 半导体装置 |
JP7361634B2 (ja) * | 2020-03-02 | 2023-10-16 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
WO2021186944A1 (ja) * | 2020-03-17 | 2021-09-23 | 信越半導体株式会社 | シリコン単結晶基板中のドナー濃度の制御方法 |
JP7264100B2 (ja) * | 2020-04-02 | 2023-04-25 | 信越半導体株式会社 | シリコン単結晶基板中のドナー濃度の制御方法 |
JP7424512B2 (ja) | 2020-11-17 | 2024-01-30 | 富士電機株式会社 | 半導体装置 |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS526074B1 (ja) | 1971-06-04 | 1977-02-18 | ||
JPS4888882A (ja) * | 1972-02-22 | 1973-11-21 | ||
JPS486675Y1 (ja) | 1972-04-13 | 1973-02-20 | ||
GB0130018D0 (en) * | 2001-12-15 | 2002-02-06 | Koninkl Philips Electronics Nv | Semiconductor devices and their manufacture |
DE102004004045B4 (de) * | 2004-01-27 | 2009-04-02 | Infineon Technologies Ag | Halbleiterbauelement mit temporärem Feldstoppbereich und Verfahren zu dessen Herstellung |
JP4595450B2 (ja) * | 2004-09-02 | 2010-12-08 | 信越半導体株式会社 | 炭素ドープシリコン単結晶の製造方法 |
JP4919700B2 (ja) | 2005-05-20 | 2012-04-18 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
CN101258387A (zh) * | 2005-07-05 | 2008-09-03 | 马特森技术公司 | 确定半导体晶片的光学属性的方法与系统 |
JP4802019B2 (ja) | 2006-03-14 | 2011-10-26 | パナソニック株式会社 | 基板処理装置の温度制御方法、基板処理装置および基板処理システム |
US8946811B2 (en) | 2006-07-10 | 2015-02-03 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Body-tied, strained-channel multi-gate device and methods of manufacturing same |
JP5155536B2 (ja) * | 2006-07-28 | 2013-03-06 | 一般財団法人電力中央研究所 | SiC結晶の質を向上させる方法およびSiC半導体素子の製造方法 |
JP5127235B2 (ja) * | 2007-01-10 | 2013-01-23 | 株式会社豊田中央研究所 | 半導体装置の製造方法 |
JP2008177296A (ja) * | 2007-01-17 | 2008-07-31 | Toyota Central R&D Labs Inc | 半導体装置、pnダイオード、igbt、及びそれらの製造方法 |
JP5320679B2 (ja) | 2007-02-28 | 2013-10-23 | 富士電機株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2009141304A (ja) * | 2007-11-13 | 2009-06-25 | Toyota Motor Corp | 半導体装置とその製造方法 |
JP5374883B2 (ja) | 2008-02-08 | 2013-12-25 | 富士電機株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
EP2269864A4 (en) * | 2008-03-26 | 2015-04-22 | Ts Tech Co Ltd | STAINABLE VEHICLE SEAT |
JP2010034330A (ja) | 2008-07-29 | 2010-02-12 | Sumco Corp | エピタキシャルウェーハおよびその製造方法 |
JP5440693B2 (ja) | 2010-04-08 | 2014-03-12 | 信越半導体株式会社 | シリコンエピタキシャルウエーハ、シリコンエピタキシャルウエーハの製造方法、及び半導体素子又は集積回路の製造方法 |
DE102011003439B4 (de) * | 2011-02-01 | 2014-03-06 | Globalfoundries Dresden Module One Llc & Co. Kg | Verfahren zur Durchlassstromerhöhung in Feldeffekttransistoren durch asymmetrische Konzentrationsprofile von Legierungssubstanzen einer Kanalhalbleiterlegierung und Halbleiterbauelement |
GB201114365D0 (en) | 2011-08-22 | 2011-10-05 | Univ Surrey | Method of manufacture of an optoelectronic device and an optoelectronic device manufactured using the method |
CN106887385B (zh) * | 2012-03-19 | 2020-06-12 | 富士电机株式会社 | 半导体装置的制造方法 |
US9029243B2 (en) | 2012-10-08 | 2015-05-12 | Infineon Technologies Ag | Method for producing a semiconductor device and field-effect semiconductor device |
JP6020342B2 (ja) | 2013-05-10 | 2016-11-02 | 信越半導体株式会社 | シリコンエピタキシャルウェーハ及びシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法 |
JP6271309B2 (ja) * | 2014-03-19 | 2018-01-31 | 株式会社東芝 | 半導体基板の製造方法、半導体基板および半導体装置 |
JP6415946B2 (ja) * | 2014-11-26 | 2018-10-31 | 株式会社東芝 | 半導体装置の製造方法及び半導体装置 |
DE102016112139B3 (de) * | 2016-07-01 | 2018-01-04 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zum Reduzieren einer Verunreinigungskonzentration in einem Halbleiterkörper |
-
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