JP2017226860A - 表面処理方法および表面処理装置 - Google Patents
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- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 title claims abstract description 93
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 57
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 85
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 111
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 claims description 40
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 14
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 86
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 36
- 238000005255 carburizing Methods 0.000 description 26
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 26
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 21
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 19
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 8
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 8
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 6
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001566 austenite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000005485 electric heating Methods 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910000734 martensite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001562 pearlite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 238000005204 segregation Methods 0.000 description 1
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 1
- 238000005987 sulfurization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002076 thermal analysis method Methods 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/324—Thermal treatment for modifying the properties of semiconductor bodies, e.g. annealing, sintering
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
- C23C8/08—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases only one element being applied
- C23C8/24—Nitriding
- C23C8/26—Nitriding of ferrous surfaces
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
- C21D1/06—Surface hardening
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
- C21D1/34—Methods of heating
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
- C21D1/74—Methods of treatment in inert gas, controlled atmosphere, vacuum or pulverulent material
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/0006—Details, accessories not peculiar to any of the following furnaces
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- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/32—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for gear wheels, worm wheels, or the like
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
- C23C8/08—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases only one element being applied
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- H01L21/02107—Forming insulating materials on a substrate
- H01L21/02296—Forming insulating materials on a substrate characterised by the treatment performed before or after the formation of the layer
- H01L21/02299—Forming insulating materials on a substrate characterised by the treatment performed before or after the formation of the layer pre-treatment
- H01L21/02312—Forming insulating materials on a substrate characterised by the treatment performed before or after the formation of the layer pre-treatment treatment by exposure to a gas or vapour
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- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02107—Forming insulating materials on a substrate
- H01L21/02296—Forming insulating materials on a substrate characterised by the treatment performed before or after the formation of the layer
- H01L21/02318—Forming insulating materials on a substrate characterised by the treatment performed before or after the formation of the layer post-treatment
- H01L21/02345—Forming insulating materials on a substrate characterised by the treatment performed before or after the formation of the layer post-treatment treatment by exposure to radiation, e.g. visible light
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
-
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67098—Apparatus for thermal treatment
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
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Abstract
Description
図1は、本発明の実施形態に係る表面処理装置1の模式図である。
本実施形態に係る表面処理装置1は、加熱された被処理物Pに処理ガスを接触させて、処理ガスG2により被処理物Pの表面処理を行う装置である。後述するように、被処理物Pは、鋼製の被処理物であり、本実施形態では、被処理物Pは、一例として、歯車である。
図1に示すように、昇温部20は、被処理物Pを配置する昇温室21と、昇温室21の室内211に不活性ガスG1を供給する不活性ガス供給部22と、室内211の雰囲気を加熱することにより、被処理物Pを昇温する第1加熱部23と、を備えている。
図1に示すように、処理部30は、被処理物Pを配置する処理室31と、処理室31の室内311に処理ガスG2を供給する処理ガス供給部32と、処理室31の室内311の被処理物Pを直接加熱する第2加熱部33と、を備えている。本実施形態では、その好ましい態様として、第2加熱部33は、被処理物Pに光線を照射することにより、被処理物Pを加熱する装置である。
搬送部40は、昇温部20から処理部30に被処理物Pを搬送する装置である。搬送部40は、昇温室21から処理室31まで、被処理物Pを搬送する通路41が形成されており、その通路41には、昇温室21から処理室31まで被処理物Pを搬送するコンベア(図示せず)が配置されている。なお、昇温室21から処理室31まで、迅速に被処理物Pを搬送することができるのであれば、搬送部40を省略してもよい。
本実施形態に係る表面方法を実施する被処理物Pは、鋼製の被処理物であり、被処理物Pは、フェライト組織およびパーライト組織からなる鋼であることが好ましい。このような鋼としては、たとえば、C:0.1〜0.3質量%、Si:0.15〜0.35質量%、Mn:0.55〜0.95質量%、P:0.03質量%以下、S:0.03質量%以下、残部が不可避不純物およびFeからなる鋼などを挙げることができる。
以下に、図1および図2の表面処理装置1とともに、図3を参照しながら、本実施形態に係る表面処理方法を説明する。図3は、本発明の実施形態に係る表面処理方法を説明するための被処理物Pの表面の温度プロフィールを示した図である。
まず、本実施形態では、まず、昇温室21の室内211に、複数の被処理物Pを配置する。この状態で、不活性ガス供給源221から昇温室21の室内211へ、調整弁222で流量を調整した不活性ガスG1を供給する。これにより、室内211を不活性ガスG1の雰囲気にする。
次に、昇温部20から処理部30まで、被処理物Pを搬送する。本実施形態では、昇温室21の室内211の不活性ガスG1を吸引ポンプ24で脱気し、室内211を減圧状態、好ましくは真空に近い減圧状態にするとともに、搬送部40の通路41内の空気も、吸引ポンプ43で脱気し、通路41内を減圧状態、好ましくは真空に近い減圧状態にする。同様に、処理室31の室内311の空気を吸引ポンプ35で脱気し、室内311を減圧状態、好ましくは真空に近い減圧状態にする。この状態で、搬送部40を介して、昇温部20から処理部30まで、被処理物Pを搬送する。被処理物Pは、減圧状態、好ましくは真空状態で搬送されるので、被処理物Pの表面の酸化を抑え、昇温部20で昇温された被処理物Pの温度低下を低減し、被処理物Pを処理部30に搬送することができる。なお、昇温工程と後述する表面処理工程とを1つの室内で行うことができるのであれば、被処理物Pを搬送する工程を省略してもよい。
処理部30内において、被処理物Pを載置網36に載置する。次に、第2加熱部33を用いて、昇温された状態の被処理物Pに光線(赤外線)を照射することにより、被処理物Pの表面を処理温度T3に加熱する。これに合わせて、供給源324から、調整弁322で流量が調整された浸炭処理ガスを供給する。これにより、被処理物Pの表面に処理ガスである浸炭処理ガスを接触させることにより、被処理物Pの浸炭処理を行う。
表面処理を行った被処理物を、処理部30の室内311から取り出し、搬送部(図示せず)により、冷却室(図示せず)に搬送する。冷却室では加熱された状態の被処理物Pを冷却する。被処理物Pの冷却は、空冷、水冷、油冷、または放冷のいずれかの冷却により行う。
<実施例1>
被処理物として、直径20mm、長さ50mmの円柱状の鋼材(JIS規格:SCr20)の試験片を準備した。次に、これを昇温室内に配置し、昇温室内の圧力を減圧し、1000L/hの流量で窒素ガスを流しながら、試験片の雰囲気を第1加熱部であるヒータで昇温温度1120℃に昇温し、この昇温温度で加熱時間を50分間として、被処理物を加熱した。
実施例1と同じようにして、試験片に浸窒処理を行った。実施例1と相違する点は、表1に示すように、昇温工程で、昇温温度を1050℃にした点である。さらに相違する点は、表面処理工程で、試験片を加熱せずに、昇温時の余熱を利用した点である。得られた試験片の表面に浸窒層が形成されているかを確認した。
実施例1と同じようにして、試験片に浸窒処理を行った。実施例1と相違する点は、表1に示すように、昇温工程で、昇温温度を1050℃にした点である。さらに相違する点は、表面処理工程で、試験片を加熱せずに、昇温時の余熱を利用して、処理室内の圧力を1400Paにしてアンモニアガスを10分間流した点である。得られた試験片の表面に浸窒層が形成されているかを確認した。
実施例1と同じようにして、試験片に浸窒処理を行った。実施例1と相違する点は、表1に示すように、昇温工程で、真空に近い減圧雰囲気下において昇温温度を1050℃にした点である。さらに相違する点は、表面処理工程で、試験片を加熱せずに、昇温時の余熱を利用して、処理室内の圧力を700Paにし、600L/hの流量でアンモニアガスを30分間流した点である。得られた試験片の表面に浸窒層が形成されているかを確認した。
実施例1と同じようにして、試験片に浸窒処理を行った。実施例1と相違する点は、表1に示すように、昇温工程で、真空に近い減圧雰囲気下において昇温温度を1050℃にした点である。さらに相違する点は、表面処理工程で、処理室内の雰囲気をヒータで700℃に加熱した状態で、処理室内の圧力を700Paにしてアンモニアガスを流した点である。得られた試験片の表面に浸窒層が形成されているかを確認した。
実施例1および比較例3の試験片を切断し、その断面における試験片の表層を観察した。図4Aは、実施例1に係る試験片の断面における表層の写真であり、図4Bは、比較例3に係る試験片の断面における表層の写真である。
実施例1の試験片の表面には、図4Aに示すように浸窒層が形成されていたが、比較例3の試験片の表面には、図4Bに示すように浸窒層が形成されておらず、比較例1、2、および4の試験片の表面も、比較例3と同様に、浸窒層が形成されていなかった。
比較例1では、表面処理工程において、試験片の温度は降下するため、アンモニアガスの窒素が、試験片に殆ど固溶しなかったと考えられる。また、比較例1に対して、比較例2の如くアンモニアガスの圧力を増加させても、比較例3の如く、アンモニアガスの圧力および流量を増加させても、試験片の温度は降下するため、アンモニアガスの窒素が、試験片に殆ど固溶しなかったと考えられる。一方、比較例4では、表面処理工程において、ヒータで室内の雰囲気を加熱したが、アンモニアガスが、試験片の表面に接触する前に室内で分解してしまったと考えられ、アンモニアガスの窒素が、試験片に殆ど固溶しなかったと考えられる。
熱解析ソフト(SFTC社 DEFORM HT)を用いて、モジュール2.55mm、歯数31個、歯幅15mmの平歯車からなる鋼材製の被処理物のモデルを作成し、これに対して熱解析を行った。具体的には、表2に示すように、昇温工程の条件として、昇温室内の圧力を減圧状態とし、被処理物の加熱方式をその雰囲気を加熱するヒータ加熱とし、昇温温度1100℃とし、加熱時間を20分間とした。
実施例2と同じモデルを作成し、これに対して熱解析を行った。実施例2と相違する点は、昇温工程の条件として、被処理物の加熱方式を、赤外線によるランプ加熱とした点である。
図5Aに示すように、実施例2では、昇温工程および浸窒工程における歯先Aおよび歯底Bの温度は、略同じであった。一方、図5Bに示すように、比較例5では、昇温工程および浸窒工程における歯先Aの温度は、歯底Bの温度よりも高くなっており、実施例2に比べて、歯先Aと歯底Bとの温度差は、大きかった。
実施例2の被処理物の歯先Aおよび歯底Bの温度が、略同じであったのは、昇温工程において、ヒータにより被処理物を予め均一に加熱したので、表面処理工程で、赤外線によるランプの加熱で被処理物の温度差が生じ難くなったからであると考えられる。
Claims (8)
- 加熱された鋼製の被処理物に処理ガスを接触させて、前記処理ガスの元素を固溶することにより前記被処理物の表面処理を行う表面処理方法であって、
前記被処理物が配置された雰囲気を加熱することにより、前記表面処理を行う処理温度近傍の昇温温度まで、前記被処理物を昇温する昇温工程と、
前記昇温された状態の被処理物を前記処理温度に直接加熱しつつ、前記被処理物の表面に前記処理ガスを接触させることにより、前記表面処理を行う表面処理工程と、を含むことを特徴とする表面処理方法。 - 前記処理ガスに、アンモニアガスを用い、前記表面処理として浸窒処理を行うことを特徴とする請求項1に記載の表面処理方法。
- 前記表面処理工程において、前記被処理物への直接加熱を、前記被処理物に光線を照射することにより行うことを特徴とする請求項1または2に記載の表面処理方法。
- 前記被処理物は、歯車であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の表面処理方法。
- 被処理物を昇温する昇温部と、前記昇温部で昇温された前記被処理物に処理ガスを接触させて、前記処理ガスの元素を固溶することにより表面処理する処理部と、を少なくとも備えた表面処理装置であって、
前記昇温部は、前記被処理物を配置する昇温室と、
前記昇温室の室内の前記被処理物が配置された雰囲気を加熱することにより、前記被処理物を昇温する第1加熱部と、を備えており、
前記処理部は、前記被処理物を配置する処理室と、
前記処理室の室内に処理ガスを供給するガス供給部と、
前記処理室の室内の前記被処理物を直接加熱する第2加熱部と、を備えることを特徴とする表面処理装置。 - 前記ガス供給部は、前記処理ガスとして、アンモニアガスを供給することを特徴とする請求項5に記載の表面処理装置。
- 前記処理室は、前記処理室の室内を形成する壁部の少なくとも一部に、光透過性を有した光透過性壁部を有しており、
前記第2加熱部は、前記処理室の室外に配置され、前記光透過性壁部を介して、前記室の室内の前記被処理物に光線を照射することにより、前記被処理物を加熱することを特徴とする請求項5または6に記載の表面処理装置。 - 前記光透過性壁部は、前記処理室の室外に面した第1壁部と、前記処理室の室内に面した第2壁部とを備えており、前記第1壁部と前記第2壁部との間には空間が形成されていることを特徴とする請求項7に記載の表面処理装置。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016121911A JP6477609B2 (ja) | 2016-06-20 | 2016-06-20 | 表面処理方法および表面処理装置 |
EP17175808.9A EP3260571B1 (en) | 2016-06-20 | 2017-06-13 | Surface treatment method and surface treatment device |
RU2017120794A RU2686162C2 (ru) | 2016-06-20 | 2017-06-14 | Способ обработки поверхности и устройство для обработки поверхности |
US15/622,589 US10570497B2 (en) | 2016-06-20 | 2017-06-14 | Surface treatment method and surface treatment device |
BR102017012691-9A BR102017012691A2 (pt) | 2016-06-20 | 2017-06-14 | Método de tratamento de superfície e dispositivo de tratamento de superfície |
KR1020170075854A KR101946711B1 (ko) | 2016-06-20 | 2017-06-15 | 표면 처리 방법 및 표면 처리 장치 |
CN201710456690.5A CN107523783B (zh) | 2016-06-20 | 2017-06-16 | 表面处理方法和表面处理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016121911A JP6477609B2 (ja) | 2016-06-20 | 2016-06-20 | 表面処理方法および表面処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017226860A true JP2017226860A (ja) | 2017-12-28 |
JP6477609B2 JP6477609B2 (ja) | 2019-03-06 |
Family
ID=59239777
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016121911A Active JP6477609B2 (ja) | 2016-06-20 | 2016-06-20 | 表面処理方法および表面処理装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10570497B2 (ja) |
EP (1) | EP3260571B1 (ja) |
JP (1) | JP6477609B2 (ja) |
KR (1) | KR101946711B1 (ja) |
CN (1) | CN107523783B (ja) |
BR (1) | BR102017012691A2 (ja) |
RU (1) | RU2686162C2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7430385B2 (ja) | 2020-03-25 | 2024-02-13 | 地方独立行政法人大阪産業技術研究所 | レーザ光を用いた表面硬化処理方法および装置 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110863171A (zh) * | 2019-11-07 | 2020-03-06 | 洪彬 | 一种模具加工用表面覆层装置 |
CN112746239B (zh) * | 2021-01-06 | 2023-01-13 | 西安德蓝高科材料股份有限公司 | 一种航天卫星制造用铝钛合金材料碳化处理设备 |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53117529U (ja) * | 1977-02-24 | 1978-09-19 | ||
JPS5773120A (en) * | 1980-10-23 | 1982-05-07 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | Heat treatment of metal |
JPS58220423A (ja) * | 1982-06-16 | 1983-12-22 | Kokusai Electric Co Ltd | 半導体基板の連続熱処理方法および装置 |
JPH04243122A (ja) * | 1991-01-18 | 1992-08-31 | Fujitsu Ltd | 化学気相成長装置 |
JPH1053809A (ja) * | 1996-06-06 | 1998-02-24 | Dowa Mining Co Ltd | 浸炭焼入焼戻方法及び装置 |
JP2003155552A (ja) * | 2001-11-16 | 2003-05-30 | Jh Corp | 連続真空浸炭方法およびその装置 |
JP2005133214A (ja) * | 2003-10-08 | 2005-05-26 | Ntn Corp | 熱処理システム |
JP2008266729A (ja) * | 2007-04-20 | 2008-11-06 | Honda Motor Co Ltd | 鋼製ワークの加熱方法 |
JP2009057606A (ja) * | 2007-08-31 | 2009-03-19 | Ntn Corp | 浸炭窒化方法、機械部品の製造方法、機械部品および熱処理炉 |
JP2009091638A (ja) * | 2007-10-11 | 2009-04-30 | Dowa Thermotech Kk | 熱処理方法及び熱処理装置 |
JP2015145528A (ja) * | 2014-02-04 | 2015-08-13 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板の竪型窒化処理設備および窒化処理方法 |
JP2016069671A (ja) * | 2014-09-29 | 2016-05-09 | アイシン高丘株式会社 | 鋳鉄製摩擦部材の製造装置及び製造方法 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU735316A1 (ru) | 1977-10-21 | 1980-05-25 | Специальное Конструкторско-Технологическое Бюро По Товарам Культурно-Бытового Назначения И Хозяйственного Обихода Из Пластических Масс | Устройство дл декорировани изделий |
JPS5794564A (en) * | 1980-12-03 | 1982-06-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacture of pipe with high specific elastic modulus |
US4763880A (en) | 1987-04-03 | 1988-08-16 | Holcroft/Loftus Inc. | Rotary hearth multi-chamber, multi-purpose furnace system |
JPH03260048A (ja) | 1990-03-12 | 1991-11-20 | Komatsu Ltd | 迅速ガス窒化処理方法 |
JP3023222B2 (ja) * | 1991-08-31 | 2000-03-21 | 大同ほくさん株式会社 | 硬質オーステナイト系ステンレスねじおよびその製法 |
RU2034091C1 (ru) * | 1992-12-24 | 1995-04-30 | Научно-производственное объединение "Энергомаш" им.акад.В.П.Глушко | Установка для нанесения покрытий |
JP3448789B2 (ja) | 1995-01-20 | 2003-09-22 | 同和鉱業株式会社 | ガス浸炭方法 |
US5650022A (en) * | 1995-05-25 | 1997-07-22 | Daido Hoxan Inc. | Method of nitriding steel |
JPH1097999A (ja) * | 1996-09-21 | 1998-04-14 | Tokyo Electron Ltd | 加熱装置、処理装置、加熱方法及び処理方法 |
DE10118494C2 (de) | 2001-04-04 | 2003-12-11 | Aichelin Gesmbh Moedling | Verfahren zur Niederdruck-Carbonitrierung von Stahlteilen |
JP4084667B2 (ja) | 2003-01-10 | 2008-04-30 | 新日本製鐵株式会社 | 金属材料の窒化方法 |
JP4158905B2 (ja) | 2003-06-09 | 2008-10-01 | 光洋サーモシステム株式会社 | ガス浸炭処理装置 |
US7759015B2 (en) * | 2004-06-21 | 2010-07-20 | Kabushiki Kaisha Riken | Separator for fuel cell with austenitic stainless steel substrate |
RU2367715C2 (ru) | 2007-11-23 | 2009-09-20 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Московский автомобильно-дорожный институт (Государственный технический университет) | Способ азотирования изделий из легированных сталей |
EP2278038A1 (en) | 2009-07-20 | 2011-01-26 | Danmarks Tekniske Universitet (DTU) | A method of activating an article of passive ferrous or non-ferrous metal prior to carburizing, nitriding and/or nitrocarburizing |
JP5550276B2 (ja) * | 2009-07-23 | 2014-07-16 | 光洋サーモシステム株式会社 | ガス浸炭処理装置およびガス浸炭方法 |
DE102009041041B4 (de) * | 2009-09-10 | 2011-07-14 | ALD Vacuum Technologies GmbH, 63450 | Verfahren und Vorrichtung zum Härten von Werkstücken, sowie nach dem Verfahren gehärtete Werkstücke |
JP2014118606A (ja) | 2012-12-17 | 2014-06-30 | Toyota Motor Corp | 熱処理装置および熱処理方法 |
-
2016
- 2016-06-20 JP JP2016121911A patent/JP6477609B2/ja active Active
-
2017
- 2017-06-13 EP EP17175808.9A patent/EP3260571B1/en active Active
- 2017-06-14 BR BR102017012691-9A patent/BR102017012691A2/pt active Search and Examination
- 2017-06-14 RU RU2017120794A patent/RU2686162C2/ru active
- 2017-06-14 US US15/622,589 patent/US10570497B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2017-06-15 KR KR1020170075854A patent/KR101946711B1/ko active IP Right Grant
- 2017-06-16 CN CN201710456690.5A patent/CN107523783B/zh active Active
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53117529U (ja) * | 1977-02-24 | 1978-09-19 | ||
JPS5773120A (en) * | 1980-10-23 | 1982-05-07 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | Heat treatment of metal |
JPS58220423A (ja) * | 1982-06-16 | 1983-12-22 | Kokusai Electric Co Ltd | 半導体基板の連続熱処理方法および装置 |
JPH04243122A (ja) * | 1991-01-18 | 1992-08-31 | Fujitsu Ltd | 化学気相成長装置 |
JPH1053809A (ja) * | 1996-06-06 | 1998-02-24 | Dowa Mining Co Ltd | 浸炭焼入焼戻方法及び装置 |
JP2003155552A (ja) * | 2001-11-16 | 2003-05-30 | Jh Corp | 連続真空浸炭方法およびその装置 |
JP2005133214A (ja) * | 2003-10-08 | 2005-05-26 | Ntn Corp | 熱処理システム |
JP2008266729A (ja) * | 2007-04-20 | 2008-11-06 | Honda Motor Co Ltd | 鋼製ワークの加熱方法 |
JP2009057606A (ja) * | 2007-08-31 | 2009-03-19 | Ntn Corp | 浸炭窒化方法、機械部品の製造方法、機械部品および熱処理炉 |
JP2009091638A (ja) * | 2007-10-11 | 2009-04-30 | Dowa Thermotech Kk | 熱処理方法及び熱処理装置 |
JP2015145528A (ja) * | 2014-02-04 | 2015-08-13 | Jfeスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板の竪型窒化処理設備および窒化処理方法 |
JP2016069671A (ja) * | 2014-09-29 | 2016-05-09 | アイシン高丘株式会社 | 鋳鉄製摩擦部材の製造装置及び製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7430385B2 (ja) | 2020-03-25 | 2024-02-13 | 地方独立行政法人大阪産業技術研究所 | レーザ光を用いた表面硬化処理方法および装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
RU2686162C2 (ru) | 2019-04-24 |
EP3260571A1 (en) | 2017-12-27 |
CN107523783A (zh) | 2017-12-29 |
CN107523783B (zh) | 2020-03-06 |
US20170362695A1 (en) | 2017-12-21 |
US10570497B2 (en) | 2020-02-25 |
EP3260571B1 (en) | 2023-07-12 |
RU2017120794A3 (ja) | 2018-12-14 |
KR20170142906A (ko) | 2017-12-28 |
KR101946711B1 (ko) | 2019-02-11 |
JP6477609B2 (ja) | 2019-03-06 |
BR102017012691A2 (pt) | 2018-02-27 |
RU2017120794A (ru) | 2018-12-14 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180521 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180529 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180723 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190108 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190121 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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