JP2017122855A - 光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板及び画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明の課題は、搬送性が良好であってヘイズが低い光学フィルムを提供することである。【解決手段】本発明の光学フィルムは、シクロオレフィン樹脂と、微粒子と、表面調整剤と、を含有する光学フィルムであって、前記表面調整剤が、シリコーン材料、フッ素系材料、ビニル系材料及びアクリル系材料のうち少なくとも一種を含有し、フィルム両面のうち表面粗さＲａが高い面の表面粗さＲａが、３．０〜５０．０ｎｍの範囲内であることを特徴とする。【選択図】なし

Description

本発明は、光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板及び画像表示装置に関する。特に、本発明は、搬送性が良好であってヘイズが低い光学フィルム、そのような光学フィルムの製造方法、そのような光学フィルムを備えた偏光板及び画像表示装置に関する。

従来、テレビジョン、ノートパソコン及びスマートフォン等の画像表示装置には偏光板が搭載され、当該偏光板は偏光子及び保護フィルム等を備えて構成されている。

保護フィルムを構成する材料としては、例えば、セルロースエステル樹脂、ポリカーボネート及びシクロオレフィン樹脂等が知られている。これらの中でも、高い耐熱性と耐湿性とを有する観点から、シクロオレフィン樹脂が好ましく用いられる。

また、近年、画像表示装置に用いられる光学部材は薄膜化が進んでおり、シクロオレフィン樹脂フィルムも薄膜の状態で用いられている。薄膜のシクロオレフィン樹脂フィルムは、当該フィルムの製造時及び当該フィルムを用いた偏光板の製造時等において、フィルム品質を保持すべく、フィルム両面のうち一方の面にプロテクトフィルムが貼合された状態で搬送される場合がある。

しかしながら、プロテクトフィルムを用いると、当該プロテクトフィルムに欠陥が存在して場合に、その欠陥がシクロオレフィン樹脂フィルムに転写されてしまうという問題がある。更に、プロテクトフィルムとシクロオレフィン樹脂フィルムとの熱膨張係数差に起因して、偏光板の製造時に施される熱矯正によってシクロオレフィン樹脂フィルムが変形してしまうという問題もあった。

このため、シクロオレフィン樹脂フィルムにプロテクトフィルムを貼合しない状態で搬送して偏光板を作製すると、搬送時にシクロオレフィン樹脂フィルムにツレやシワ、破断等が発生し、偏光板の収率を大きく低下させてしまう。これは、シクロオレフィン樹脂フィルムが搬送ローラー上で滑らないことで、シクロオレフィン樹脂フィルムにかかる搬送張力が過剰となることに起因する。

シクロオレフィン樹脂フィルムを搬送ローラーに対して滑らせる方法としては、シクロオレフィン樹脂フィルムにシリカ微粒子を添加して、表面粗さＲａを調整する方法が知られている。しかしながら、シクロオレフィン樹脂の場合、フィルム表面を所定の表面粗さＲａとするためには多量のシリカ微粒子を添加する必要があり、これによりフィルムに入射した光が散乱する等によってヘイズが上昇する。ヘイズが上昇したシクロオレフィン樹脂フィルムを画像表示装置に使用すると、正面コントラストが低下するといった問題が発生し、品質の低下が起こってしまう。また、例えば、金属微粒子を含有するハードコート層をフィルム表面に設ける（例えば、特許文献１参照。）ことで、フィルムを搬送ローラーに対して滑らせることも考えられるが、フィルム表面にハードコート層が積層される分、フィルム全体の厚さが増大し、ヘイズが上昇してしまう。

特開２００７−２１９４８５号公報

本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、搬送性が良好であってヘイズが低い光学フィルム、そのような光学フィルムの製造方法、そのような光学フィルムを備えた偏光板及び画像表示装置を提供することである。

本発明に係る上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討した結果、シクロオレフィン樹脂を含有する光学フィルムに微粒子及び表面調整剤を含有させ、当該光学フィルム両面のうち表面粗さＲａが高い面の表面粗さＲａを所定数値範囲内とすることで、搬送性が良好であってヘイズが低い光学フィルムを提供できることを見いだした。
すなわち、本発明に係る課題は、以下の手段により解決される。

１．シクロオレフィン樹脂と、微粒子と、表面調整剤と、を含有する光学フィルムであって、
前記表面調整剤が、シリコーン材料、フッ素系材料、ビニル系材料及びアクリル系材料のうち少なくとも一種を含有し、
フィルム両面のうち表面粗さＲａが高い面の表面粗さＲａが、３．０〜５０．０ｎｍの範囲内であることを特徴とする光学フィルム。

２．フィルム両面のうち表面粗さＲａが低い面の表面粗さＲａが、２．０〜２０．０ｎｍの範囲内であり、
フィルム両面の表面粗さＲａの差が、１．０ｎｍ以上であることを特徴とする第１項に記載の光学フィルム。

３．前記微粒子が、ケイ素化合物を含有することを特徴とする第１項又は第２項に記載の光学フィルム。

４．第１項から第３項までのいずれか一項に記載の光学フィルムを製造する光学フィルムの製造方法であって、
二種以上の溶媒を用いた溶液流延法により製造することを特徴とする光学フィルムの製造方法。

５．偏光子と、
第１項から第３項までのいずれか一項に記載の光学フィルムと、を備えることを特徴とする偏光板。

６．前記偏光子が、前記光学フィルムの両面のうち表面粗さＲａが低い面に接着されていることを特徴とする第５項に記載の偏光板。

７．第１項から第３項でのいずれか一項に記載の光学フィルムを備えることを特徴とする画像表示装置。

本発明によれば、搬送性が良好であってヘイズが低い光学フィルム、そのような光学フィルムの製造方法、そのような光学フィルムを備えた偏光板及び画像表示装置を提供することができる。
本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
一般に、光学フィルムの組成物を含有するドープを支持体上に流延し、当該膜状物から溶媒を乾燥させてフィルムを得る溶液流延法により光学フィルムを製造する際、支持体から膜状物を剥離するときの剥離性の観点から、ドープに低沸点溶媒を良溶媒として含有させることが好ましい。
当該方法により光学フィルムを作製する場合において、上記した微粒子と表面調整剤とはドープや膜状物の中で会合体を形成しており、当該会合体は良溶媒との親和性が高いものと推察している。このため、支持体上に流延された膜状物が乾燥する過程で、膜状物から揮発する良溶媒とともに、上記会合体が膜状物の空気界面側の表面に移動し、この状態で固定化されて光学フィルムが製造される。これにより、微粒子を表面調整剤とともに光学フィルムの片面に偏在させることができ、光学フィルムの両面のうち一方の面（空気界面側の表面）が選択的に荒れる結果、顕著な滑り性を発現する。光学フィルムに滑り性が付与されることで搬送性が向上し、プロテクトフィルムやハードコート層を設けることなく、ツレやシワの発生を抑制し、偏光板を高収率で作製することができる。また、微粒子を表面調整剤とともに含有させることで、微粒子を光学フィルムの片面に偏在させて選択的に滑り性を付与することができるため、微粒子の含有量を低減でき、ヘイズの低い光学フィルムとすることができる。更には、光学フィルム製造時の巻き取り工程においても、光学フィルムの片面に滑り性が付与されることで、巻きずれ等の発生を抑制することができる。

本発明の光学フィルムは、シクロオレフィン樹脂と、微粒子と、表面調整剤と、を含有する光学フィルムであって、前記表面調整剤が、シリコーン材料、フッ素系材料、ビニル系材料及びアクリル系材料のうち少なくとも一種を含有し、フィルム両面のうち表面粗さＲａが高い面の表面粗さＲａが、３．０〜５０．０ｎｍの範囲内であることを特徴とする。この特徴は、各請求項に共通する又は対応する技術的特徴である。
本発明においては、フィルム両面のうち表面粗さＲａが低い面の表面粗さＲａが、２．０〜２０．０ｎｍの範囲内であり、フィルム両面の表面粗さＲａの差が、１．０ｎｍ以上であることが好ましい。これにより、上記表面粗さＲａが低い面に偏光子を貼り合わせて偏光板を作製したときに、もう一方の面よりも凹凸が少ない分、当該偏光子との接着界面に隙間が生じにくく光の散乱を抑制でき、画像表示装置に搭載したときに光漏れ等の不具合を効果的に抑制できる。また、上記表面粗さＲａが低い面の表面粗さＲａが上記範囲内であることで、当該面にも滑り性が発現し、搬送性を更に向上させることができる。また、フィルム両面の表面粗さＲａに差があることで、ヘイズ値を低く保ちつつ光学フィルムの搬送性を向上させることができる。
また、本発明においては、前記微粒子が、ケイ素化合物を含有することが好ましい。これにより、微粒子と表面調整剤との親和性が向上し、より確実に光学フィルム製膜時に微粒子をフィルム内で移動させることができ、良好な搬送性をより確実に得ることができる。

本発明の光学フィルムの製造方法は、上記光学フィルムを製造する光学フィルムの製造方法であって、二種以上の溶媒を用いた溶液流延法により製造することを特徴とする。これにより、搬送性が良好であってヘイズが低い光学フィルムを製造することができる。

本発明の偏光板は、偏光子と、上記光学フィルムと、を備えることを特徴とする。これにより、ヘイズの低い偏光板とすることができる。
本発明においては、前記偏光子が、前記光学フィルムの両面のうち表面粗さＲａが低い面に接着されていることが好ましい。これにより、偏光板作製時に光学フィルムの搬送性を確保することができ、偏光板を高収率で得ることができる。

本発明の画像表示装置は、上記光学フィルムを備えることを特徴とする。これにより、視認性を向上させることができる。

以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。

《１．光学フィルムの概要》
本発明の光学フィルムは、シクロオレフィン樹脂と、微粒子と、表面調整剤と、を含有する光学フィルムであって、表面調整剤が、シリコーン材料、フッ素系材料、ビニル系材料及びアクリル系材料のうち少なくとも一種を含有し、フィルム両面のうち表面粗さＲａが高い面の表面粗さＲａが、３．０〜５０．０ｎｍの範囲内であることを特徴とする。なお、本発明の光学フィルムは、後述する各種添加剤や、フィルム製膜時に用いられる溶媒を残留溶媒として更に含有するものであっても良い。

１−１．シクロオレフィン樹脂
本発明の光学フィルムに含有されるシクロオレフィン樹脂は、シクロオレフィン単量体の重合体、又はシクロオレフィン単量体とそれ以外の共重合性単量体との共重合体であることが好ましい。

シクロオレフィン単量体としては、ノルボルネン骨格を有するシクロオレフィン単量体であることが好ましく、下記一般式（Ａ−１）又は（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体であることがより好ましい。

一般式（Ａ−１）中、Ｒ^１〜Ｒ^４は、各々独立に、水素原子、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、又は極性基を表す。ｐは、０〜２の整数を表す。ただし、Ｒ^１〜Ｒ^４の全てが同時に水素原子を表すことはなく、Ｒ^１とＲ^２が同時に水素原子を表すことはなく、Ｒ^３とＲ^４が同時に水素原子を表すことはないものとする。

一般式（Ａ−１）においてＲ^１〜Ｒ^４で表される炭素原子数１〜３０の炭化水素基としては、例えば、炭素原子数１〜１０の炭化水素基であることが好ましく、炭素原子数１〜５の炭化水素基であることがより好ましい。炭素原子数１〜３０の炭化水素基は、例えば、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子又はケイ素原子を含む連結基を更に有していても良い。そのような連結基の例には、カルボニル基、イミノ基、エーテル結合、シリルエーテル結合、チオエーテル結合等の２価の極性基が含まれる。炭素原子数１〜３０の炭化水素基の例には、メチル基、エチル基、プロピル基及びブチル基等が含まれる。

一般式（Ａ−１）においてＲ^１〜Ｒ^４で表される極性基の例には、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アミド基及びシアノ基が含まれる。中でも、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基が好ましく、溶液製膜時の溶解性を確保する観点から、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基が好ましい。

一般式（Ａ−１）におけるｐは、光学フィルムの耐熱性を高める観点から、１又は２を表すことが好ましい。ｐが１又は２を表すと、得られる重合体が嵩高くなり、ガラス転移温度が向上しやすいためである。

一般式（Ａ−２）中、Ｒ^５は、水素原子、炭素数１〜５の炭化水素基、又は炭素数１〜５のアルキル基を有するアルキルシリル基を表す。Ｒ^６は、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アミド基、シアノ基、又はハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子若しくはヨウ素原子）を表す。ｐは、０〜２の整数を表す。

一般式（Ａ−１）におけるＲ^５は、炭素数１〜５の炭化水素基を表すことが好ましく、炭素数１〜３の炭化水素基を表すことがより好ましい。

一般式（Ａ−２）におけるＲ^６は、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基を表すことが好ましく、溶液製膜時の溶解性を確保する観点から、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基がより好ましい。

一般式（Ａ−２）におけるｐは、光学フィルムの耐熱性を高める観点から、１又は２を表すことが好ましい。ｐが１又は２を表すと、得られる重合体が嵩高くなり、ガラス転移温度が向上しやすいためである。

一般式（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体は、有機溶媒への溶解性を向上させる点から好ましい。一般的に有機化合物は対称性を崩すことによって結晶性が低下するため、有機溶媒への溶解性が向上する。一般式（Ａ−２）におけるＲ^５及びＲ^６は、分子の対称軸に対して片側の環構成炭素原子のみに置換されているので、分子の対称性が低く、これにより、一般式（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体は溶解性が高く、光学フィルムを溶液流延法によって製造する場合に適している。

シクロオレフィン単量体の重合体における一般式（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体の含有割合は、シクロオレフィン樹脂を構成する全シクロオレフィン単量体の合計に対して例えば７０モル％以上、好ましくは８０モル％以上、より好ましくは１００モル％とし得る。一般式（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体を一定以上含むと、樹脂の配向性が高まるため、位相差値が上昇しやすい。

以下、一般式（Ａ−１）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体の具体例を例示化合物１〜１４に示し、一般式（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体の具体例を例示化合物１５〜３４に示す。

シクロオレフィン単量体と共重合可能な共重合性単量体の例には、シクロオレフィン単量体と開環共重合可能な共重合性単量体、及びシクロオレフィン単量体と付加共重合可能な共重合性単量体等が含まれる。

開環共重合可能な共重合性単量体の例には、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテン及びジシクロペンタジエン等のシクロオレフィンが含まれる。

付加共重合可能な共重合性単量体の例には、不飽和二重結合含有化合物、ビニル系環状炭化水素単量体及び（メタ）アクリレート等が含まれる。不飽和二重結合含有化合物の例には、炭素原子数２〜１２（好ましくは２〜８）のオレフィン系化合物が含まれ、その例には、エチレン、プロピレン及びブテン等が含まれる。ビニル系環状炭化水素単量体の例には、４−ビニルシクロペンテン及び２−メチル−４−イソプロペニルシクロペンテン等のビニルシクロペンテン系単量体が含まれる。（メタ）アクリレートの例には、メチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート及びシクロヘキシル（メタ）アクリレート等の炭素原子数１〜２０のアルキル（メタ）アクリレートが含まれる。

シクロオレフィン単量体と共重合性単量体との共重合体におけるシクロオレフィン単量体の含有割合は、共重合体を構成する全単量体の合計に対して例えば２０〜８０モル％、好ましくは３０〜７０モル％とし得る。

シクロオレフィン樹脂は、前述のとおり、ノルボルネン骨格を有するシクロオレフィン単量体、好ましくは一般式（Ａ−１）又は（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体を重合又は共重合して得られる重合体であり、その例には、以下のものが含まれる。

（１）シクロオレフィン単量体の開環重合体
（２）シクロオレフィン単量体と、それと開環共重合可能な共重合性単量体との開環共重合体
（３）上記（１）又は（２）の開環（共）重合体の水素添加物
（４）上記（１）又は（２）の開環（共）重合体をフリーデルクラフツ反応により環化した後、水素添加した（共）重合体
（５）シクロオレフィン単量体と、不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体
（６）シクロオレフィン単量体のビニル系環状炭化水素単量体との付加共重合体及びその水素添加物
（７）シクロオレフィン単量体と、（メタ）アクリレートとの交互共重合体

上記（１）〜（７）の重合体は、いずれも公知の方法、例えば特開２００８−１０７５３４号公報や特開２００５−２２７６０６号公報に記載の方法で得ることができる。例えば、上記（２）の開環共重合に用いられる触媒や溶媒は、例えば特開２００８−１０７５３４号公報の段落００１９〜００２４に記載のものを使用できる。上記（３）及び（６）の水素添加に用いられる触媒は、例えば特開２００８−１０７５３４号公報の段落００２５〜００２８に記載のものを使用できる。上記（４）のフリーデルクラフツ反応に用いられる酸性化合物は、例えば特開２００８−１０７５３４号公報の段落００２９に記載のものを使用できる。上記（５）〜（７）の付加重合に用いられる触媒は、例えば特開２００５−２２７６０６号公報の段落００５８〜００６３に記載のものを使用できる。上記（７）の交互共重合反応は、例えば特開２００５−２２７６０６号公報の段落００７１及び００７２に記載の方法で行うことができる。

中でも、上記（１）〜（３）及び（５）の重合体が好ましく、上記（３）及び（５）の重合体がより好ましい。すなわち、シクロオレフィン樹脂は、得られるシクロオレフィン樹脂のガラス転移温度を高くし、かつ光透過率を高くすることができる点で、下記一般式（Ｂ−１）で表される構造単位及び下記一般式（Ｂ−２）で表される構造単位の少なくとも一方を含むことが好ましく、一般式（Ｂ−２）で表される構造単位のみを含むか、又は一般式（Ｂ−１）で表される構造単位と一般式（Ｂ−２）で表される構造単位の両方を含むことがより好ましい。一般式（Ｂ−１）で表される構造単位は、前述の一般式（Ａ−１）で表されるシクロオレフィン単量体由来の構造単位であり、一般式（Ｂ−２）で表される構造単位は、前述の一般式（Ａ−２）で表されるシクロオレフィン単量体由来の構造単位である。

一般式（Ｂ−１）中、Ｘは、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−ＣＨ_２ＣＨ_２−を表す。Ｒ^１〜Ｒ^４及びｐは、それぞれ一般式（Ａ−１）のＲ^１〜Ｒ^４及びｐと同義である。

一般式（Ｂ−２）中、Ｘは、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−ＣＨ_２ＣＨ_２−を表す。Ｒ^５、Ｒ^６及びｐは、それぞれ一般式（Ａ−２）のＲ^５、Ｒ^６及びｐと同義である。

本発明に係るシクロオレフィン樹脂は、市販品であっても良い。シクロオレフィン樹脂の市販品の例には、ＪＳＲ（株）製のアートン（Ａｒｔｏｎ）Ｇ（例えばＧ７８１０等）、アートンＦ、アートンＲ（例えばＲ４５００、Ｒ４９００及びＲ５０００等）、及びアートンＲＸが含まれる。

シクロオレフィン樹脂の固有粘度〔η〕ｉｎｈは、３０℃において、０．２〜５ｃｍ^３／ｇであることが好ましく、０．３〜３ｃｍ^３／ｇであることがより好ましく、０．４〜１．５ｃｍ^３／ｇであることが更に好ましい。

シクロオレフィン樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）は、８０００〜１０００００であることが好ましく、１００００〜８００００であることがより好ましく、１２０００〜５００００であることが更に好ましい。シクロオレフィン樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２００００〜３０００００であることが好ましく、３００００〜２５００００であることがより好ましく、４００００〜２０００００であることが更に好ましい。シクロオレフィン樹脂の数平均分子量や重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）にてポリスチレン換算にて測定することができる。

固有粘度〔η〕ｉｎｈ、数平均分子量及び重量平均分子量が上記範囲にあると、シクロオレフィン樹脂の耐熱性、耐水性、耐薬品性、機械的特性、及びフィルムとしての成形加工性が良好となる。

シクロオレフィン樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、通常、１１０℃以上であり、１１０〜３５０℃であることが好ましく、１２０〜２５０℃であることがより好ましく、１２０〜２２０℃であることが更に好ましい。Ｔｇが１１０℃以上であると、高温条件下での変形を抑制しやすい。一方、Ｔｇが３５０℃以下であると、成形加工が容易となり、成形加工時の熱による樹脂の劣化も抑制しやすい。

シクロオレフィン樹脂の含有量は、光学フィルムを構成する材料中の溶剤を除く全成分に対し、７０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましい。

１−２．微粒子
本発明に係る微粒子とは、透過型電子顕微鏡により測定した場合における数平均粒子径が４００ｎｍ以下である粒子を指す。この場合、各粒子の粒径は透過型電子顕微鏡における投影面を同面積の円に換算した場合の直径として定義される。不要な散乱を発生させないためには、微粒子の粒径は可視光の波長より十分に小さいことが好ましく、具体的には１〜２００ｎｍが好ましい範囲であり、より好ましくは１〜１００ｎｍの範囲であり、特に好ましくは５〜６０ｎｍの範囲である。粒子の形状は、球状に限定されず不定形の形状であっても良い。

本発明に係る微粒子としては、無機微粒子であっても良いし、有機微粒子であっても良い。また、有機化合物で表面修飾された無機微粒子であっても良い。
無機微粒子としては、例えば、ケイ素を含む化合物（ケイ素化合物）、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等であることが好ましく、更に好ましくは、ケイ素化合物や酸化アルミニウムであるが、二酸化ケイ素が特に好ましく用いられる。これらは、球状、平板状又は無定形状等の形状の粒子が挙げられる。

二酸化ケイ素の微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７２ＣＦ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、５０、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００、Ｒ７１１、ＲＹ３００、Ｒ１０６、Ｒ８１６、ＲＡ２００ＨＳ、ＭＯＸ１７０（以上、日本アエロジル（株）製）等の市販品が使用できる。

酸化アルミニウムの微粒子としては、例えば、アエロジルＡｌｕ Ｃ、Ａｌｕ１３０及びＡｌｕ Ｃ８０５（以上、日本アエロジル（株）製）等の市販品が使用できる。

また、有機微粒子としては、例えば、ポリスチレン樹脂、シリコーン樹脂、ポリエチレン樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、メラミン樹脂等、アクリル−スチレン樹脂、メラミン−シリカ等複合されたものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

また、これらの無機微粒子及び有機微粒子は、単独で用いても良いし、２種以上併用しても良い。また、有機微粒子を使用する場合には、単分散における屈折率と樹脂の屈折率の差が少ないものを使用することが好ましい。

微粒子の含有量は、光学フィルムを構成する材料中の溶剤を除く全成分に対し、０．０１〜５．０質量％の範囲内が好ましく、０．０５〜３．０質量％の範囲内がより好ましい。

１−３．表面調整剤
本発明において表面調整剤とは、シリコーン材料、フッ素系材料、ビニル系材料及びアクリル系材料のうち少なくとも一種を含有するものをいう。

シリコーン材料としては、例えば、シリコーン系界面活性剤等、フッ素系材料としては、例えば、フッ素系界面活性剤、フッ素−シロキサングラフト化合物又はフッ素系化合物等、ビニル系材料としては、例えば、ビニル共重合物、ビニル−シロキサングラフト化合物等、アクリル系材料としては、例えば、アクリル−シリコーングラフト化合物、アクリル共重合物等が用いられることが好ましい。

ここで、シリコーン材料とは、シロキサン骨格を繰り返し単位として有するオリゴマー又はポリマーである。このシロキサン繰り返し構造は、主鎖として有していても良いし、グラフトされた側鎖として有していても良い。
フッ素系材料とは、フッ素原子を少なくとも１つ繰り返し単位中に含有するオリゴマー又はポリマーである。この含フッ素繰り返し構造は、主鎖として有していても良いし、グラフトされた側鎖として有していても良い。
ビニル系材料とは、ビニル基、ビニリデン基、ビニレン基のうち少なくとも１種を繰り返し単位中に有するオリゴマー又はポリマーである。このビニル基含有繰り返し構造は、主鎖として有していても良いし、グラフトされた側鎖として有していても良い。
アクリル系材料とは、アクリロイル基を繰り返し単位中に有するオリゴマー又はポリマーである。このビニル基含有繰り返し構造は、主鎖として有していても良いし、グラフトされた側鎖として有していても良い。

シリコーン系界面活性剤としては、例えば、ポリエーテル変性シリコーンやアクリル変性シリコーン等を挙げることができ、上記共栄社化学社製のＧＬシリーズ（例えば、ＧＬ−０１、ＧＬ−０２Ｒ、ＧＬ−０３、ＧＬ−０４Ｒ等）や、日信化学工業社製のシルフェイスシリーズ（例えば、シルフェイスＳＡＧ００２、シルフェイスＳＡＧ００５、シルフェイスＳＡＧ００８、シルフェイスＳＡＧ５０３Ａ等）等を挙げることができる。

フッ素系界面活性剤としては、例えば、ＤＩＣ株式会社製のメガファックＲＳシリーズ、メガファックＦ−４４４、メガファックＦ−５５６等を挙げることができる。

フッ素−シロキサングラフト化合物とは、少なくともフッ素系樹脂に、シロキサン及び／又はオルガノシロキサン単体を含むポリシロキサン及び／又はオルガノポリシロキサンをグラフト化させて得られる共重合体の化合物をいう。また、市販品としては、富士化成工業株式会社製のＺＸ−０２２Ｈ、ＺＸ−００７Ｃ、ＺＸ−０４９、ＺＸ−０４７−Ｄ等を挙げることができる。

また、フッ素系化合物としては、ダイキン工業株式会社製のオプツールＤＳＸ、オプツールＤＡＣ等を挙げることができる。

アクリル共重合物としては、ビックケミー・ジャパン社製のＢＹＫ−３５０、ＢＹＫ−３５２等を挙げることができる。

本発明に係る表面調整剤として、上記したものの他に、次の市販品を用いることができる。例えば、花王株式会社製：エマルゲン１０２ＫＧ、エマルゲン１０４Ｐ、エマルゲン１０５、エマルゲン１０６、エマルゲン１０８、エマルゲン１０９Ｐ、エマルゲン１２０、エマルゲン１２３Ｐ、エマルゲン１４７、エマルゲン２１０Ｐ、エマルゲン２２０、エマルゲン３０６Ｐ、エマルゲン３２０Ｐ、エマルゲン４０４、エマルゲン４０８、エマルゲン４０９ＰＶ、エマルゲン４２０、エマルゲン４３０、エマルゲン７０５、エマルゲン７０７、エマルゲン７０９、エマルゲン１１０８、エマルゲン１１１８Ｓ−７０、エマルゲン１１３５Ｓ−７０、エマルゲン２０２０Ｇ−ＨＡ、エマルゲン２０２５Ｇ、エマルゲンＬＳ−１０６、エマルゲンＬＳ−１１０、エマルゲンＬＳ１１４、日信化学工業株式会社製：サーフィノール１０４Ｅ、サーフィノール１０４Ｈ、サーフィノール１０４Ａ、サーフィノール１０４ＢＣ、サーフィノール１０４ＤＰＭ、サーフィノール１０４ＰＡ、サーフィノール１０４ＰＧ−５０、サーフィノール１０４Ｓ、サーフィノール４２０、サーフィノール４４０、サーフィノール４６５、サーフィノール４８５、サーフィノールＳＥ、信越化学工業株式会社製：ＦＡ−６００、ＫＣ−８９Ｓ、ＫＲ−５００、ＫＲ−５１６、Ｘ−４０−９２９６、ＫＲ−５１３、Ｘ−２２−１６１Ａ、Ｘ−２２−１６２Ｃ、Ｘ−２２−１６３、Ｘ−２２−１６３Ａ、Ｘ−２２−１６４、Ｘ−２２−１６４Ａ、Ｘ−２２−１７３ＢＸ、Ｘ−２２−１７４ＡＳＸ、Ｘ−２２−１７６ＤＸ、Ｘ−２２−３４３、Ｘ−２２−２０４６、Ｘ−２２−２４４５、Ｘ−２２−３９３９Ａ、Ｘ−２２−４０３９、Ｘ−２２−４０１５、Ｘ−２２−４２７２、Ｘ−２２−４７４１、Ｘ−２２−４９５２、Ｘ−２２−６２６６、ＫＦ−５０−１００ｃｓ、ＫＦ−９６Ｌ−１ｃｓ、ＫＦ−１０１、ＫＦ−１０２、ＫＦ−１０５、ＫＦ−３５１、ＫＦ−３５２、ＫＦ−３５３、ＫＦ−３５４Ｌ、ＫＦ−３５５Ａ、ＫＦ−３９３、ＫＦ−６１５Ａ、ＫＦ−６１８、ＫＦ−８５７、ＫＦ−８５９、ＫＦ−８６０、ＫＦ−８６２、ＫＦ−８７７、ＫＦ−８８９、ＫＦ−９４５、ＫＦ−１００１、ＫＦ−１００２、ＫＦ−１００５、ＫＦ−２０１２、ＫＦ−２２０１、Ｘ−２２−２４０４、Ｘ−２２−２４２６、Ｘ−２２−３７１０、ＫＦ−６００４、ＫＦ−６０１１、ＫＦ−６０１５、ＫＦ−６１２３、ＫＦ−８００１、ＫＦ−８０１０、ＫＦ−８０１２、Ｘ−２２−９００２等が挙げられる。

表面調整剤の含有量は、光学フィルムを構成する材料中の溶剤を除く全成分に対し、０．０１〜５．０質量％の範囲内が好ましく、０．０５〜３．０質量％の範囲内がより好ましい。表面調整剤の含有量が、０．０１質量％以上であることで、本発明の効果を十分に発揮でき、５．０質量％以下であることで、フィルムのヘイズを低く抑えつつ滑り性をより確実に付与することができる。

１−４．その他の添加剤
上記したように、本発明の光学フィルムには、更に他の添加剤が含有されていても良い。そのような添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤や酸化防止剤等が挙げられる。

（紫外線吸収剤）
本発明の光学フィルムは、添加剤として紫外線吸収剤を含有していても良い。
紫外線吸収剤は、４００ｎｍ以下の紫外線を吸収するため、光学フィルムの耐久性を向上させることができる。紫外線吸収剤は、特に波長３７０ｎｍでの透過率が１０％以下であることが好ましく、より好ましくは５％以下、更に好ましくは２％以下である。
紫外線吸収剤の具体例としては特に限定されないが、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられ、特に好ましくはベンゾトリアゾール系化合物及びベンゾフェノン系化合物等である。

紫外線吸収剤としては、より具体的には、例えば、５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチル−２−ヒドロキシルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、（２−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２，４−ベンジルオキシベンゾフェノン等を用いることができる。これらは、市販品を用いても良く、例えば、ＢＡＳＦジャパン社製のチヌビン１０９（オクチル−３−［３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−［３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートの混合物）、チヌビン１７１、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２７、チヌビン３２８、チヌビン９２８（２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール）等のチヌビン類を好ましく使用できる。

この他、１，３，５−トリアジン環を有する化合物等の円盤状化合物も紫外線吸収剤として好ましく用いられる。また、紫外線吸収剤としては高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることができ、特にポリマータイプの紫外線吸収剤が好ましく用いられる。
トリアジン系紫外線吸収剤としては、市販品であるＢＡＳＦジャパン社製のチヌビン４００（２−（４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−ヒドロキシフェニルとオキシランとの反応生成物）、チヌビン４６０（２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル］−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３−５−トリアジン）、チヌビン４０５（２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジンと（２−エチルヘキシル）−グリシド酸エステルの反応生成物）等を用いることができる。

紫外線吸収剤の添加方法としては、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール、メチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン若しくはジオキソラン等の有機溶媒又はこれらの混合溶媒に紫外線吸収剤を溶解してから、光学フィルムの製造に用いられる樹脂溶液（ドープ）に添加するか、又は直接ドープに添加しても良い。無機粉体のように有機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤とセルロースアセテート中にディゾルバーやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。

紫外線吸収剤の含有量としては、例えば、光学フィルムに対して０．５〜１０質量％の範囲が好ましく、０．６〜４質量％の範囲が更に好ましい。

（酸化防止剤）
本発明の光学フィルムは、その他の添加剤として酸化防止剤（劣化防止剤）を含有していても良い。
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート等を挙げることができる。

酸化防止剤の含有量は、例えば、光学フィルムに対して１〜１００００質量ｐｐｍの範囲が好ましく、１０〜１０００質量ｐｐｍの範囲が更に好ましい。

１−５．光学フィルムの物性
（表面粗さＲａ）
本発明の光学フィルムの両面のうち表面粗さＲａが高い面の表面粗さＲａは、３．０〜５０．０ｎｍの範囲内であり、４．０〜４０．０ｎｍの範囲内であることが好ましい。表面粗さＲａが３．０ｎｍ以上であると、光学フィルムの滑り性が向上し、搬送中のツレやシワを抑制できる。表面粗さＲａが５０ｎｍ以下であると、光学フィルム表面の凹凸による光の散乱を抑制でき、ヘイズ値を低い値にすることができる。なお、本発明における表面粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１で規定される算術平均粗さ（Ｒａ）であるものとする。

また、本発明の光学フィルムの両面のうち表面粗さＲａが低い面の表面粗さＲａは、２．０〜３０．０ｎｍの範囲内であることが好ましく、２．０〜２０．０ｎｍの範囲内であることがより好ましい。表面粗さＲａ値が当該範囲内にあることで、光学フィルムの表面粗さＲａが低い面に偏光子を貼り合わせて偏光板を作製したときに、表面粗さＲａが高い面よりも凹凸が少ない分、当該偏光子との接着界面に隙間が生じにくく光の散乱を抑制することができるため、液晶表示装置に搭載したときに光漏れを効果的に抑制することができる。

ここで、上記したように、シクロオレフィン樹脂を含有するフィルムに微粒子を表面調整剤とともに含有させることで、微粒子及び表面調整剤をフィルムの一方の面（製膜時における空気界面側の表面）に多く存在させることができるが、当該微粒子及び表面調整剤はフィルムの他方の面（製膜時における支持体（例えば、後述する金属支持体）側の表面）にも一部存在する。
これは、光学フィルムの製造における膜状物の乾燥工程において、溶媒は良溶媒から優先して揮発するが、乾燥の最終段階まで揮発しない良溶媒成分も若干存在するため、その良溶媒に溶媒和された上記会合体はフィルムの他方の面にも存在すると考えられる。このため、フィルムの一方の面に比べれば微粒子及び表面調整剤の存在量は少ないが、微粒子と表面調整剤とが会合体を形成している分、粒径が大きく、上記したような範囲の表面粗さＲａを得ることができる。
上記他方の面の表面粗さＲａを上記範囲内に制御する方法としては、微粒子及び表面調整剤の含有量や、フィルム製造時の延伸条件を適宜調整する方法が挙げられる。

更に、光学フィルム両面の表面粗さＲａの差が、１．０ｎｍ以上であることが好ましい。フィルム両面の表面粗さＲａに差があることで、ヘイズ値を低く保ちつつ光学フィルムの搬送性を向上させることができる。

なお、表面粗さＲａは、光干渉式の表面粗さ測定器で測定することができ、例えば光学干渉式表面粗さ計ＲＳＴ／ＰＬＵＳ（ＷＹＫＯ社製）を用いて測定することができる。

（光学特性）
光学フィルムは、全光線透過率が９０％以上であることが好ましく、より好ましくは９２％以上である。また、現実的な上限としては９９％程度である。ヘイズ値は１０％以下であることが好ましく、より好ましくは２％以下である。全光線透過率及びヘイズ値は、それぞれＪＩＳ Ｋ７３６１及びＪＩＳ Ｋ７１３６に準じて測定することができる。

（リターデーション値）
本発明の光学フィルムの使用用途は特に限定されず、偏光板保護フィルムとして用いられても良いし、位相差フィルムとして用いられても良い。位相差フィルムとして用いられる場合は、その用途に応じて種々のリターデーション値をとり得る。

例えば、本発明の光学フィルムがＶＡ液晶用の位相差フィルムとして用いられる場合、測定波長５９０ｎｍ、２３℃・５５％ＲＨの環境下で測定される面内方向のリターデーション値Ｒｏは、１０ｎｍ≦Ｒｏ≦１００ｎｍを満たすことが好ましく、２０ｎｍ≦Ｒｏ≦８０ｎｍを満たすことがより好ましい。厚さ方向のリターデーション値Ｒｔは、７０ｎｍ≦Ｒｔ≦２００ｎｍを満たすことが好ましく、９０ｎｍ≦Ｒｔ≦１５０ｎｍを満たすことがより好ましい。

なお、リターデーション値Ｒｏ及びＲｔは下記式（ｉ）及び（ii）で定義される値である。
式（ｉ）：Ｒｏ＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）×ｄ
式（ii）：Ｒｔ＝｛（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２−ｎ_ｚ｝×ｄ
（式（ｉ）及び（ii）中、ｎ_ｘは光学フィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎ_ｙは光学フィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率、ｎ_ｚは光学フィルムの厚さ方向の屈折率、ｄは光学フィルムの厚さ（ｎｍ）をそれぞれ表す。）

本発明の光学フィルムがλ／４フィルムとして用いられる場合、測定波長５９０ｎｍ、２３℃・５５％ＲＨの環境下で測定される面内方向のリターデーション値Ｒｏは、５０ｎｍ≦Ｒｏ≦２５０ｎｍを満たすことが好ましく、７０ｎｍ≦Ｒｏ≦２００ｎｍを満たすことがより好ましい。厚さ方向のリターデーション値Ｒｔは、−２００ｎｍ≦Ｒｔ≦２００ｎｍを満たすことが好ましく、−１２０ｎｍ≦Ｒｔ≦１２０ｎｍを満たすことがより好ましい。

また、本発明の光学フィルムがゼロ位相差フィルムとして用いられる場合、測定波長５９０ｎｍ、２３℃・５５％ＲＨの環境下で測定される面内方向のリターデーション値Ｒｏは、０ｎｍ≦Ｒｏ≦５ｎｍを満たすことが好ましく、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔは、−５ｎｍ≦Ｒｔ≦５ｎｍを満たすことが好ましい。

上記リターデーション値は、例えば自動複屈折率計アクソスキャン（Ａｘｏ Ｓｃａｎ Ｍｕｅｌｌｅｒ Ｍａｔｒｉｘ Ｐｏｌａｒｉｍｅｔｅｒ：アクソメトリックス社製）を用いて、２３℃・５５％ＲＨの環境下で、波長５９０ｎｍにて求めることができる。上記リターデーション値に制御した光学フィルムを用いることで、タッチパネルや液晶表示装置等の画像表示装置に用いた際の視認性に優れる点から好ましい。リターデーション値は、微粒子、表面調整剤及びその他の添加剤の種類や添加量、光学フィルムの厚さや延伸条件等で調整できる。

（厚さ）
光学フィルムの厚さは、上記リターデーション値ＲｏとＲｔが上記範囲を満たし、かつ薄膜化の観点から、例えば３〜２００μｍであることが好ましく、５〜１００μｍであることがより好ましく、７〜４０μｍであることが更に好ましい。特に、本発明の光学フィルムは、滑り性が付与されているため搬送張力を緩和することができ、薄膜化しても良好な搬送性を有し得る。

２．光学フィルムの製造方法
本発明の光学フィルムは、二種以上の溶媒を用いた溶液流延法で製造される。すなわち、本発明の光学フィルムの製造方法は、少なくともシクロオレフィン樹脂と微粒子と表面調整剤とを二種類以上の溶媒に溶解させてドープ（樹脂溶液）を得る工程（ドープ調製工程）と、ドープを支持体上に流延した後、剥離して膜状物を得る工程（流延・剥離工程）と、膜状物を乾燥させる工程（乾燥工程）と、を有することが好ましい。また、本発明の光学フィルムの製造方法は、流延・剥離工程と乾燥工程との間に、膜状物を延伸する工程（延伸工程）を有することが好ましく、乾燥工程の後に、得られた光学フィルムを巻取る工程（巻き取り工程）を有することが好ましい。

２−１．ドープ調製工程
ドープ調製工程について説明する。ドープ中の樹脂濃度は、濃い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、樹脂の濃度が濃過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０〜４５質量％が好ましく、更に好ましくは、１５〜４０質量％である。

ドープに含有される溶媒は、２種以上が併用されるが、樹脂の良溶剤と貧溶剤とを混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤が多い方が樹脂の溶解性の点で好ましい。良溶剤と貧溶剤との混合比率の好ましい範囲は、良溶剤が７０〜９８質量％であり、貧溶剤が２〜３０質量％である。ここで、良溶剤及び貧溶剤とは、使用する樹脂を、単独で溶解するものを良溶剤、単独では膨潤するか又は溶解しないものを貧溶剤と定義している。

また、ドープの調製に有用な有機溶媒の組み合わせとしては、シクロオレフィン樹脂や、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば特に制限されない。例えば、塩素系有機溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、トルエン、ｐ−キシレン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等を挙げることができ、ジクロロメタン、トルエン、テトラヒドロフラン、エタノール、アセトンを好ましく使用し得る。

ドープは、シクロオレフィン樹脂、微粒子、表面調整剤及びその他の添加剤を、前記溶媒に計１５〜４５質量％溶解させたドープであることが好ましい。

上記ドープを調製するときの、溶媒への樹脂の溶解方法としては一般的な方法を用いることができる。特に、溶解装置への負担低減や、樹脂の着色を防ぐ観点から、常温、常圧での溶解が望ましい。

次に、この樹脂を溶解した溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生しやすいという問題がある。このため絶対濾過精度が０．００８ｍｍ以下の濾材が好ましく、０．００１〜０．００８ｍｍの濾材がより好ましく、０．００３〜０．００６ｍｍの濾材が更に好ましい。

濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過により、原料の樹脂に含まれていた不純物、特に輝点異物を除去、低減することが好ましい。

輝点異物とは、２枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、その間に光学フィルム等を置き、一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察した時に反対側からの光が漏れて見える点（異物）のことであり、径が０．０１ｍｍ以上である輝点の数が２００個／ｃｍ^２以下であることが好ましい。より好ましくは１００個／ｃｍ^２以下であり、更に好ましくは５０個／ｍ^２以下であり、特に好ましくは０〜１０個／ｃｍ^２の範囲内である。また、０．０１ｍｍ以下の輝点も少ない方が好ましい。

ドープの濾過は通常の方法で行うことができるが、溶媒の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶媒が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差（差圧という。）の発現が小さく、好ましい。好ましい温度は４５〜１２０℃であり、４５〜７０℃がより好ましく、４５〜５５℃であることが更に好ましい。
濾圧は小さい方が好ましい。具体的には、濾圧が１．６ＭＰａ以下であることが好ましく、１．２ＭＰａ以下であることがより好ましく、１．０ＭＰａ以下であることが更に好ましい。

２−２．流延・剥離工程
得られたドープを流延ダイから吐出させて金属支持体上に流延し、得られた流延膜を乾燥及び剥離して膜状物を得る。流延幅は、例えば１〜４ｍとすることができる。金属支持体としては、ステンレススティールベルト又は鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムを用いることができる。金属支持体の表面は、鏡面仕上げされていることが好ましい。なお、ドープが流延される支持体は金属製に限られるものではなく、樹脂製等、いずれの材質であっても良い。

金属支持体の表面温度は、−５０℃〜溶媒の沸点未満の温度で、高い方が膜状物の乾燥速度を高くすることができるので好ましいが、高過ぎると膜状物が発泡したり、平面性が劣化したりする。したがって、金属支持体の表面温度は、０〜４０℃であることが好ましく、５〜３０℃であることがより好ましい。

金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹き付ける方法や、金属支持体の裏側に温水を接触させる方法が挙げられる。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。
温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使用する場合がある。

良好な平面性を有する膜状物を得るためには、金属支持体から剥離する際の膜状物の残留溶媒量が、１０〜１５０質量％であることが好ましく、２０〜４０質量％又は６０〜１３０質量％であることがより好ましく、２０〜３０質量％又は７０〜１２０質量％であることが更に好ましい。
ここで、膜状物の残留溶媒量は、下記式で定義される。
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
（上記式中、Ｍは、膜状物の質量を示し、Ｎは、当該膜状物を１２０℃で１時間加熱した後の質量を示す。）

２−３．乾燥工程
乾燥工程は、金属支持体より剥離した膜状物を、残留溶媒量が１質量％以下になるまで乾燥することが好ましく、更に好ましくは０．１質量％以下、特に好ましくは０〜０．０１質量％の範囲内である。これにより、光学フィルムを得ることができる。

乾燥工程では、一般にローラー乾燥方式（上下に配置した多数のローラーに膜状物を交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式で膜状物を搬送させながら乾燥する方式が採られる。
特に、流延から剥離するまでの間で、上記金属支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。

本発明においては、ドープや膜状物中で微粒子と表面調整剤とが会合体を形成し、当該会合体が良溶媒と親和性が高いことで、乾燥工程において膜状物から揮発する良溶媒とともに、当該会合体がフィルムの空気界面側の表面に移動し、微粒子及び表面調整剤が片面側に偏在した光学フィルムが得られるものと考えている。
これにより、二種以上の溶媒を用いた溶液流延法で光学フィルムを製造することで、光学フィルムに滑り性を付与して搬送性を向上させることができ、プロテクトフィルムを用いることなく高収率で偏光板等を作製することができる。

２−４．延伸工程
延伸工程では、剥離して得られた膜状物を延伸して位相差の調整を行う。
延伸は、少なくとも一方向に行うことができる。延伸方向は、膜状物の長手方向（ＭＤ方向）、膜状物の長手方向と直交する幅手方向（ＴＤ方向）、及び膜状物の長手方向に対して斜め方向のいずれであっても良い。延伸は、逐次延伸でも良いし、同時延伸でも良い。

互いに直交する２軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的にはＭＤ方向に１．０〜２．０倍の範囲内、ＴＤ方向に１．０５〜２．０倍の範囲内とすることが好ましく、ＭＤ方向に１．０〜１．５倍の範囲内、ＴＤ方向に１．０５〜２．０倍の範囲内とすることがより好ましい。例えば、複数のローラーに周速差をつけ、その間でローラー周速差を利用してＭＤ方向に延伸する方法、膜状物の両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げてＭＤ方向に延伸する方法、同様に横方向に広げてＴＤ方向に延伸する方法、又はＭＤ方向及びＴＤ方向に同時に広げて両方向に延伸する方法等が挙げられる。

延伸工程におけるこれらの幅保持又は幅手方向の延伸は、テンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでも良い。

テンター等のフィルム搬送張力は温度にもよるが、１２０〜２００Ｎ／ｍの範囲内が好ましく、１４０〜２００Ｎ／ｍの範囲内が更に好ましく、１４０〜１６０Ｎ／ｍの範囲内が最も好ましい。

延伸する際の温度は、光学フィルムのガラス転移温度をＴｇとすると、（Ｔｇ−３０）〜（Ｔｇ＋１００）℃の範囲内が好ましく、（Ｔｇ−２０）〜（Ｔｇ＋８０）℃の範囲内がより好ましく、（Ｔｇ−５）〜（Ｔｇ＋２０）℃の範囲内が更に好ましい。

光学フィルムのＴｇは、光学フィルムを構成する材料種及び構成する材料の比率によって制御することができる。光学フィルムの乾燥時のＴｇは、１１０℃以上が好ましく、１２０℃以上が更に好ましく、１５０℃以上が特に好ましい。また、光学フィルムのＴｇは、１９０℃以下が好ましく、１７０℃以下がより好ましい。光学フィルムのＴｇは、ＪＩＳ Ｋ７１２１に記載の方法等に準拠して求めることができる。

延伸する際の光学フィルムの温度をＴｇ＋１０℃以上とし、延伸倍率を１．１０倍以上とすると、光学フィルムの表面に適度な粗さを付与できるため好ましい。光学フィルム表面に適度な粗さを付与することにより、滑り性が向上するとともに、表面加工性が向上するため好ましい。

２−５．巻き取り工程
巻き取り工程では、得られた光学フィルムを、巻き取り機で巻き取る。巻き取り方法は、一般に使用される方法を採用でき、例えば、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等を用いることができる。

本発明の光学フィルムは、長尺状であることが好ましく、具体的には、長さが１００〜７０００ｍ程度であることが好ましい。このような長尺状の光学フィルムは、通常、長さ方向に対して直交する方向を巻き取り軸として巻き取ったロール体で提供され得る。光学フィルムの幅は、１．３〜４ｍであることが好ましく、１．４〜２ｍであることがより好ましい。光学フィルムの長さ及び幅を当該範囲内とすることで、機能性層等の塗布における加工適性や光学フィルム自体のハンドリング性に優れる。

巻き取る前に、製品となる幅になるように、光学フィルムの端部をスリットして裁ち落とし、巻き取り中の貼り付きや擦り傷防止のために、ナール加工（エンボッシング加工）を両端に施しても良い。ナール加工の方法としては、凹凸のパターンを側面に有する金属リングを用いて、光学フィルムに対して加熱や加圧をすることにより加工する方法を挙げることができる。光学フィルム両端部のクリップによる把持部分は、通常、変形しており製品として使用できないため切除され、その切除片は原料として再利用される。

《３．偏光板》
本発明の偏光板は、偏光子と、上記光学フィルムと、を備えることを特徴とする。

本発明の偏光板は、一般的な方法で作製することができる。例えば、本発明の光学フィルムをコロナ処理し、処理した光学フィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の少なくとも一方の面に、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。また、偏光子は、本発明の光学フィルムの両面のうち表面粗さＲａが低い面に接着されていることが好ましい。

偏光子のもう一方の面には、上記光学フィルムや、市販品であるＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ６ＵＡ、ＫＣ４ＵＡ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ４ＣＺ、ＫＣ８ＵＣＲ、ＫＣ４ＦＲ（コニカミノルタ（株）製）、アートンフィルム（ＪＳＲ（株）製）、ゼオノアフィルム（日本ゼオン（株）製）等を貼り合わせることができる。

偏光子は、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムである。ポリビニルアルコール系偏光フィルムには、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものとがある。

ポリビニルアルコール系偏光フィルムは、ポリビニルアルコール系フィルムを一軸延伸した後、ヨウ素又は二色性染料で染色したフィルム（好ましくは更にホウ素化合物で耐久性処理を施したフィルム）であっても良いし、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素又は二色性染料で染色した後、一軸延伸したフィルム（好ましくは、更にホウ素化合物で耐久性処理を施したフィルム）であっても良い。偏光子の吸収軸は、通常、最大延伸方向と平行である。

偏光子としては、例えば、特開２００３−２４８１２３号公報又は特開２００３−３４２３２２号公報等に記載のエチレン単位の含有量１〜４モル％、重合度２０００〜４０００、ケン化度９９．０〜９９．９９モル％のエチレン変性ポリビニルアルコールが用いられる。中でも、熱水切断温度が６６〜７３℃であるエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムが好ましく用いられる。

偏光子の厚さは、５〜３０μｍの範囲内であることが好ましく、偏光板を薄型化する観点等から、５〜２０μｍの範囲内であることがより好ましい。

《４．画像表示装置》
本発明の画像表示装置は、上記光学フィルムを備えることを特徴とする。これにより、視認性やムラに優れる性能が発揮される点で好ましい。画像表示装置としては、反射型、透過型、半透過型液晶表示装置又は、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＶＡ型、ＩＰＳ型、ＥＣＢ型等の各種駆動方式の液晶表示装置、タッチパネル表示装置、有機ＥＬ表示装置やプラズマディスプレイ等が挙げられる。
また、本発明の光学フィルムは、例えば液晶表示装置（上面側偏光板／液晶セル／下面側偏光板構成）の上面側偏光板の下にタッチパネル部材を用いたインナータッチパネルや静電容量方式のタッチパネル等にも使用することができる。

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」又は「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」又は「質量％」を表す。

まず、本実施例において使用する各種材料について説明する。

（１）シクロオレフィン樹脂
アートンＧ７８１０：ＡＲＴＯＮ−Ｇ７８１０（ＪＳＲ社製）、シクロオレフィン樹脂（式（Ａ−２）で表される単量体と他の単量体との共重合体（前述の（５）の重合体）、重量平均分子量Ｍｗ＝１４００００）
アートンＲ５０００：ＡＲＴＯＮ−Ｒ５０００（ＪＳＲ社製）、シクロオレフィン樹脂（式（Ａ−１）で表される単量体と、式（Ａ−２）で表される単量体と、他の単量体との共重合体（前述の（５）の重合体）、重量平均分子量Ｍｗ＝５００００）
アートンＲＸ４５００：ＡＲＴＯＮ−ＲＸ４５００（ＪＳＲ社製）、シクロオレフィン樹脂（式（Ａ−１）で表される単量体と、式（Ａ−２）で表される単量体と、他の単量体との共重合体（前述の（５）の重合体）、重量平均分子量Ｍｗ＝６３０００）
アートンＲＨ４９００：ＡＲＴＯＮ−ＲＨ４９００（ＪＳＲ社製）、シクロオレフィン樹脂（式（Ａ−１）で表される単量体と、式（Ａ−２）で表される単量体と、他の単量体との共重合体（前述の（５）の重合体）、重量平均分子量Ｍｗ＝５７０００）

（２）微粒子
（２−１）ケイ素化合物を含有する微粒子
Ｒ８１２：トリメチルシリル基で表面修飾されたシリカ微粒子（日本アエロジル社製）、平均一次粒径７ｎｍ
Ｒ８１６：アクリル基で表面修飾されたシリカ微粒子（日本アエロジル社製）、平均一次粒径１２ｎｍ
Ｒ１０６：オクタメチルシクロテトラシリル基で表面修飾されたシリカ微粒子（日本アエロジル社製）、平均一次粒径７ｎｍ
Ｒ９７２Ｖ：ジメチルシリル基で表面修飾されたシリカ微粒子（日本アエロジル社製）、平均一次粒径１２ｎｍ
２００Ｖ：シリカ微粒子（日本アエロジル社製）、平均一次粒径１２ｎｍ
３００Ｖ：シリカ微粒子（日本アエロジル社製）、平均一次粒径７ｎｍ
ＲＹ３００：ジメチルシリコーンオイルで表面修飾されたシリカ微粒子（日本アエロジル社製）、平均一次粒径１２ｎｍ
ＲＡ２００ＨＳ：トリメチルシリル基とアミノ基で表面修飾されたシリカ微粒子（日本アエロジル社製）、平均一次粒径１２ｎｍ
Ｒ７１１：メタクリロキシシランで表面修飾されたシリカ微粒子（日本アエロジル社製）、平均一次粒径１２ｎｍ
ＭＯＸ１７０：シリカ／アルミナ微粒子（日本アエロジル社製）、平均一次粒径１３ｎｍ

（２−２）その他の微粒子
Ａｌｕ１３０：アルミナ微粒子（日本アエロジル社製）、平均一次粒径２０ｎｍ
ＴｉＯ_２Ｐ９０：チタニア微粒子（日本アエロジル社製）、平均一次粒径２０ｎｍ
クレイトンＲＰ６９３５：スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体（クレイトンポリマージャパン株式会社製）、平均一次粒径１８ｎｍ

（３）表面調整剤
（３−１）シリコーン材料
ＧＬ−０１：アクリル変性シリコーン（共栄社化学社製）、重量平均分子量Ｍｗ＝５２００
ＧＬ−０３：アクリル変性シリコーン（共栄社化学社製）、重量平均分子量Ｍｗ＝４１００
ＧＬ−０４Ｒ：アクリル変性シリコーン（共栄社化学社製）、重量平均分子量Ｍｗ＝４７００
ＳＡＧ００５：ポリエーテル変性シリコーン（日信化学工業社製、シルフェイスＳＡＧ００５）、重量平均分子量Ｍｗ＝２８００
ＳＡＧ００８：ポリエーテル変性シリコーン（日信化学工業社製、シルフェイスＳＡＧ００８）、重量平均分子量Ｍｗ＝７９００

（３−２）フッ素系材料
ルブロン：四フッ化エチレン樹脂（ダイキン社製）、重量平均分子量Ｍｗ＝２０００

（３−３）ビニル系材料
Ｐ−４１０ＥＦ：ビニル重合体（楠本化成社製）、重量平均分子量Ｍｗ＝４５００

（３−４）アクリル系材料
ＬＦ−１９８４：アクリル重合体（楠本化成社製）、重量平均分子量Ｍｗ＝３０００
２３０：アクリル重合体（楠本化成社製）、重量平均分子量Ｍｗ＝３５００

《光学フィルム１０１の作製》
（二酸化ケイ素分散希釈液の調製）
１０質量部のアエロジルＲ８１２と、８０質量部のエタノールとをディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行い、二酸化ケイ素分散液を調製した。調製した二酸化ケイ素分散液に、８０質量部のジクロロメタンを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、微粒子分散希釈液濾過器（アドバンテック東洋（株）：ポリプロピレンワインドカートリッジフィルターＴＣＷ−ＰＰＳ−１Ｎ）で濾過して二酸化ケイ素分散希釈液を調製した。

（ドープの調製）
シクロオレフィン樹脂：アートンＧ７８１０ １２０質量部
表面調整剤：ＧＬ−０１ ３．０質量部
紫外線吸収剤：ＴＩＮＵＶＩＮ ９２８（ＢＡＳＦジャパン（株）製）
３質量部
微粒子：二酸化ケイ素分散希釈液 １０質量部
ジクロロメタン ３５７質量部
エタノール １９質量部

以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、ドープを調製した。

次に、ベルト流延製膜装置を用い、ステンレスバンド支持体上に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が８０質量％になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。得られたウェブを３５℃に保持して更に溶媒を蒸発させ、１．１５ｍ幅にスリットし、１６０℃の乾燥温度で乾燥させた。その後、１３０℃の乾燥装置内を多数のローラーで搬送させながら１５分間乾燥させた後、１．０ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ５μｍのナーリング加工を施し、巻芯に巻き取り、光学フィルム１０１を得た。光学フィルム１０１の厚さは２０μｍ、巻長は５０００ｍであった。なお、ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるＭＤ方向の延伸倍率は１．０１倍であった。

《光学フィルム１０２〜１０９の作製》
上記光学フィルム１０１の作製において、表面調整剤を表１に記載のとおりに変更した以外は同様にして、光学フィルム１０２〜１０９を作製した。

《光学フィルム１１０〜１１６の作製》
上記光学フィルム１０２の作製において、最終的に得られるフィルムの微粒子及び表面調整剤の含有量が表１に記載のとおりになるように微粒子及び表面調整剤の添加量を変更した以外は同様にして、光学フィルム１１０〜１１６を作製した。

《光学フィルム１１７〜１２８の作製》
上記光学フィルム１０２の作製において、微粒子を表２に記載のとおりに変更した以外は同様にして、光学フィルム１１７〜１２８を作製した。

《光学フィルム１２９〜１３１の作製》
上記光学フィルム１０２の作製において、シクロオレフィン樹脂を表２に記載のとおりに変更した以外は同様にして、光学フィルム１２９〜１３１を作製した。

《光学フィルム１３２の作製（比較例）》
上記光学フィルム１０２の作製において、最終的に得られるフィルムの微粒子及び表面調整剤の含有量が表２に記載のとおりになるように微粒子及び表面調整剤の添加量を変更した以外は同様にして、光学フィルム１３２を作製した。

《光学フィルム１３３の作製（比較例）》
上記光学フィルム１０１の作製において、ドープ調製時に表面調整剤を添加しなかった以外は同様にして、光学フィルム１３３を作製した。

《光学フィルム１３４の作製（比較例）》
上記光学フィルム１０１の作製において、ドープ調製時に微粒子及び表面調整剤を添加しなかった以外は同様にして、光学フィルム１３４を作製した。

《光学フィルム１３５の作製（比較例）》
市販の日本ゼオン社製、ゼオノアフィルムＺＦ１４から、プロテクトフィルムを剥離・除去したものを光学フィルム１３５とした。

《光学フィルム１０１〜１３５の物性測定及び評価》
作製した光学フィルム１０１〜１３５に対して、以下の物性測定及び評価を行った。測定結果及び評価結果を表１及び表２に示す。

（表面粗さＲａの測定）
作製した各光学フィルムの両面の算術表面粗さＲａの値を、ＪＩＳ Ｂ０６０１に準じ、２３℃・５５％ＲＨの条件下、光学干渉式表面粗さ計ＲＳＴ／ＰＬＵＳ（ＷＹＫＯ社製）にて測定した。
このとき、各光学フィルムの両面のうち、光学フィルム作製時に空気界面と触れていた面をＡ面、光学フィルム作製時にステンレスバンド支持体に触れていた面をＢ面とした。

（ヘイズ値の評価）
作製した各光学フィルムを３．０ｃｍ×３．０ｃｍのサイズに切り出して試験片とした。この試験片を、ＪＩＳ Ｋ７１３６に準じ、２３℃・５５％ＲＨの条件下、ヘーズメーターＮＤＨ−２０００（日本電色工業株式会社製）にてヘイズ値を測定し、以下の基準に基づき評価した。
○：ヘイズ値が２．０未満
△：ヘイズ値が２．０以上５．０未満
×：ヘイズ値が５．０以上

《画像表示装置の作製２０１》
（偏光子の作製）
厚さ１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、フィルムの長手方向に一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍率５倍）した。これをヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇからなる６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥して、厚さ２０μｍの偏光子を得た。偏光子の吸収軸は、その長手方向に平行であった。

（第１の偏光板（視認側偏光板）の作製）
次いで、下記工程１〜４に従って、上記作製した偏光子の一方の面に上記作製した光学フィルム１０２を貼り合わせ、他方の面にコニカミノルタ社製ＫＣ４ＵＡ（偏光子保護フィルム）を貼り合わせて、偏光板を作製した。
工程１：作製した光学フィルム１０２のＢ面に対し、コロナ放電を行い、コロナ処理を施した。別途、コニカミノルタ社製ＫＣ４ＵＡ（偏光子保護フィルム）を６０℃の２モル／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に９０秒間浸漬した後、水洗及び乾燥させて、偏光子と貼合する側の面をケン化した。
工程２：偏光子を、固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒間浸漬した。次いで、偏光子に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除いた後、工程１でコロナ処理を施した光学フィルム１０２のＢ面上に配置した。
工程３：光学フィルム１０２及び偏光子と、工程１でケン化処理した偏光子保護フィルムとを、圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ^２、搬送スピードは約２ｍ／分で貼り合わせて、積層体を得た。
工程４：工程３で得られた積層体を、８０℃の乾燥機中で２分間乾燥させて、ＫＣ４ＵＡ（偏光子保護フィルム）／偏光子／光学フィルム１０２の積層構造を有する第１の偏光板を得た。

（第２の偏光板（バックライト側偏光板）の作製）
第１の偏光板の作製と同様にして、光学フィルム１０２／偏光子／ＫＣ４ＵＡ（偏光子保護フィルム）の積層構造を有する第２の偏光板を作製した。

（画像表示装置の作製）
携帯用液晶表示装置として、ＩＰＳ方式のＸｐｅｒｉａ Ｚ２ Ｄ６５０２（Ｓｏｎｙ株式会社製）を準備した。この装置から２枚の偏光板を剥がしとり、液晶セルの視認側の面に上記作製した第１の偏光板を、バックライト側の面に上記作製した第２の偏光板を、それぞれ粘着剤を介して貼り付けて画像表示装置１を作製した。
第１の偏光板の貼り付けは、ＫＣ４ＵＡが視認側となるように行った。また、第２の偏光板の貼り付けは、ＫＣ４ＵＡがバックライト側となるように行った。

《画像表示装置２０２〜２１６の作製》
上記液晶表示装置２０１の作製において、光学フィルム１０２を表３に記載のとおりに変更した以外は同様にして、画像表示装置２０２〜２１６を作製した。

《画像表示装置２１７の作製》
上記液晶表示装置２０１の作製において、光学フィルム１０２の代わりに、プロテクトフィルムが剥離・除去される前の状態の光学フィルム１３５（表３中、「１３５（ＰＦ有）」と示す。）を用いた以外は同様にして、画像表示装置２１７を作製した。

《画像表示装置２０１〜２１７の評価》
作製した画像表示装置２０１〜２１７に対して、以下の評価を行った。評価結果を表３に示す。

（搬送時のツレの評価）
上記第１の偏光板を作製する際に、偏光子との貼り合わせ直前における搬送中光学フィルムを目視にて確認し、以下の基準に従って評価した。
○：ツレが全く認識できない
△：シワがフィルム端にツレが確認される
×：ツレがフィルム全体に確認される

（搬送時のシワの評価）
上記第１の偏光板を作製する際に、偏光子との貼り合わせ直前における搬送中光学フィルムを目視にて確認し、以下の基準に従って評価した。
○：シワが全く認識できない
△：シワがフィルム端に確認される
×：シワがフィルム全体に確認される

（欠陥転写の評価）
プロテクトフィルム起因の欠陥転写について、次のようにして評価した。
すなわち、上記作製した第１の偏光板を１ｍ^２サイズに切り取って試験片とし、当該試験片を光源に向けた状態で、点状に輝く点の個数を目視にて測定し、以下の基準に従って評価した。測定された点状に輝く点を、プロテクトフィルムから転写された欠陥であるものとした。
○：欠陥の個数が１個／ｍ^２未満
×：欠陥の個数が１個／ｍ^２以上

（光漏れの評価）
２３℃５５％ＲＨの環境で、上記作製した画像表示装置２０１〜２１７のバックライトを１週間連続点灯した後、当該画像表示装置の表示画面の法線方向から６０°傾けた方向におけるコントラスト（６０°コントラスト）を測定した。具体的には、ＥＬＤＩＭ社製ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄを用いて、画像表示装置を白表示させたときの６０°方向の輝度と、黒表示させたときの６０°方向の輝度をそれぞれ測定し、それらの比（６０°コントラスト＝６０°方向における白表示時の輝度／６０°方向における黒表示時の輝度）を求めた。正面からのコントラストを１００としたとき、６０°コントラストを以下の基準に基づき評価した。
○：６０°コントラストが９０以上１００未満
△：６０°コントラストが８０以上９０未満
×：６０°コントラストが８０未満

画像表示装置２０１〜２０８、２１２、２１３においては、用いられる光学フィルムのＡ面及びＢ面の表面粗さＲａが適切な範囲であり、良好な滑り性を有するため、ツレ及びシワが発生していない。また、第１及び第２の偏光板作製時にプロテクトフィルムを用いていないため、欠陥転写も生じていない。
また、光学フィルムのＢ面のＲａ値がＡ面に比べて十分に小さく、光学フィルムと偏光子とが十分に接着しているため、光漏れが生じていない。

画像表示装置２０９においては、用いられる光学フィルムのＡ面及びＢ面の表面粗さＲａが十分に高いため滑り性が良好であり、ツレ及びシワは発生していないが、Ｂ面の表面粗さＲａが好ましい範囲ではないため、光学フィルムと偏光子との接着界面に隙間が生じ、僅かな光漏れが発生している。

画像表示装置２１０、２１１においては、用いられる光学フィルムのＢ面の表面粗さＲａが十分でないため、光学フィルム搬送中に僅かながらツレ及びシワが発生しているが、実害となるレベルには達していない。また、光漏れは確認されなかった。

画像表示装置２１４においては、用いられる光学フィルムのＡ面及びＢ面が十分な表面粗さＲａであるため滑り性は高く、ツレ及びシワは発生していないが、光学フィルムと偏光子との接着界面に隙間が生じ、明らかな光漏れが生じている。

画像表示装置２１５、２１６においては、用いられる光学フィルムのＡ面及びＢ面の表面粗さＲａが十分でないため、光学フィルム搬送中に明らかなツレ及びシワが生じている。そのため、画像表示装置２１５、２１６の光漏れの評価を行うことができなかった。

また、画像表示装置２１７においては、プロテクトフィルムの貼合された光学フィルムを用いており、明らかな転写欠陥が確認された。そのため、その欠陥からの光漏れが観測された。

Claims (7)

1. シクロオレフィン樹脂と、微粒子と、表面調整剤と、を含有する光学フィルムであって、
   前記表面調整剤が、シリコーン材料、フッ素系材料、ビニル系材料及びアクリル系材料のうち少なくとも一種を含有し、
   フィルム両面のうち表面粗さＲａが高い面の表面粗さＲａが、３．０〜５０．０ｎｍの範囲内であることを特徴とする光学フィルム。
2. フィルム両面のうち表面粗さＲａが低い面の表面粗さＲａが、２．０〜２０．０ｎｍの範囲内であり、
   フィルム両面の表面粗さＲａの差が、１．０ｎｍ以上であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
3. 前記微粒子が、ケイ素化合物を含有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学フィルム。
4. 請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の光学フィルムを製造する光学フィルムの製造方法であって、
   二種以上の溶媒を用いた溶液流延法により製造することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
5. 偏光子と、
   請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の光学フィルムと、を備えることを特徴とする偏光板。
6. 前記偏光子が、前記光学フィルムの両面のうち表面粗さＲａが低い面に接着されていることを特徴とする請求項５に記載の偏光板。
7. 請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の光学フィルムを備えることを特徴とする画像表示装置。