JP6627517B2 - 光学フィルム、偏光板、画像表示装置及び光学フィルムの製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、光学フィルム、偏光板、画像表示装置及び光学フィルムの製造方法に関し、より詳しくは、接着剤との親和性及び耐折り曲げ性に優れた光学フィルム、これを備えた偏光板及び画像表示装置、並びに光学フィルムの製造方法に関する。
近年、液晶表示装置等の画像表示装置用途の光学フィルムを構成する材料として、耐水性及び耐久性の観点から、シクロオレフィン樹脂（シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）ともいう。）が用いられている。
画像表示装置には、偏光子、偏光板保護フィルム等を有する偏光板が搭載されており、この偏光板保護フィルムとして、種々の光学特性を備えた光学フィルム（例えば、位相差フィルム等）を適用することができる。
画像表示装置には、偏光子、偏光板保護フィルム等を有する偏光板が搭載されており、この偏光板保護フィルムとして、種々の光学特性を備えた光学フィルム（例えば、位相差フィルム等）を適用することができる。
上記のような偏光板を作製するにあたっては、偏光子と光学フィルムとを接着させる工程が必須となる。
未処理のシクロオレフィン樹脂は、接着剤との親和性（密着性）が低いため、一般に、光学フィルムに対して、表面改質処理、特にコロナ放電処理等が行われているが、コロナ放電処理では接着剤との親和性において未だ十分とは言えない。
未処理のシクロオレフィン樹脂は、接着剤との親和性（密着性）が低いため、一般に、光学フィルムに対して、表面改質処理、特にコロナ放電処理等が行われているが、コロナ放電処理では接着剤との親和性において未だ十分とは言えない。
これに対し、特許文献１では、コロナ放電処理に代えてプラズマ放電処理を施すことにより、シクロオレフィン樹脂と接着剤との親和性の改善を図っている。
しかし、プラズマ放電処理では、光学フィルムにほこりなど異物がつきやすく、フィルム欠陥、コントラスト低下の原因となってしまう。
しかし、プラズマ放電処理では、光学フィルムにほこりなど異物がつきやすく、フィルム欠陥、コントラスト低下の原因となってしまう。
他の方法として、特許文献２には、光学フィルムに下塗り層を設けて接着性を改善する方法が開示されている。
しかし、下塗り層を設ける場合、（１）工程数の増加、（２）必要な材料量の増加、（３）下塗り層が剥がれることによる偏光板の収率低下（歩留り低下）等のデメリットがある。
しかし、下塗り層を設ける場合、（１）工程数の増加、（２）必要な材料量の増加、（３）下塗り層が剥がれることによる偏光板の収率低下（歩留り低下）等のデメリットがある。
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、接着剤との親和性及び耐折り曲げ性に優れた光学フィルム、これを備えた偏光板及び画像表示装置、並びに光学フィルムの製造方法を提供することである。
本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、光学フィルム中のケイ素原子の含有量を１００ａｔ％としたとき、光学フィルム表面から光学フィルムの厚さ方向１０％の深さまでの領域におけるケイ素原子の含有量を特定の数値以上とすることにより、接着剤との親和性及び耐折り曲げ性に優れた光学フィルム、これを備えた偏光板及び画像表示装置、並びに光学フィルムの製造方法を提供できることを見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
１．少なくともシクロオレフィン樹脂と、表面調整剤とが含有された光学フィルムであって、
前記表面調整剤が、表面張力４０ｍＮ／ｍ以下の有機ケイ素化合物であり、
前記光学フィルム中のケイ素原子の含有量を１００ａｔ％としたとき、前記光学フィルム表面から前記光学フィルムの厚さ方向１０％の深さまでの領域におけるケイ素原子の含有量が、２０ａｔ％以上であることを特徴とする光学フィルム。
前記表面調整剤が、表面張力４０ｍＮ／ｍ以下の有機ケイ素化合物であり、
前記光学フィルム中のケイ素原子の含有量を１００ａｔ％としたとき、前記光学フィルム表面から前記光学フィルムの厚さ方向１０％の深さまでの領域におけるケイ素原子の含有量が、２０ａｔ％以上であることを特徴とする光学フィルム。
２．前記光学フィルム中のケイ素原子の含有量を１００ａｔ％としたとき、前記光学フィルム表面から前記光学フィルムの厚さ方向１０％の深さまでの領域におけるケイ素原子の含有量が、２０〜９０ａｔ％の範囲内であることを特徴とする第１項に記載の光学フィルム。
３．前記光学フィルム中のケイ素原子の含有量を１００ａｔ％としたとき、前記光学フィルム表面から前記光学フィルムの厚さ方向１０％の深さまでの領域におけるケイ素原子の含有量が、４０〜８０ａｔ％の範囲内であることを特徴とする第２項に記載の光学フィルム。
４．前記有機ケイ素化合物が、ポリシロキサン誘導体であることを特徴とする第１項から第３項までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
５．前記光学フィルムの厚さが、５．０〜４０．０μｍの範囲内であることを特徴とする第１項から第４項までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
６．マット剤として、平均１次粒子径が５〜１００ｎｍの範囲内である無機微粒子が含有されていることを特徴とする第１項から第５項までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
７．前記光学フィルム中の残留溶媒量が、３０〜７００質量ｐｐｍの範囲内であることを特徴とする第１項から第６項までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
８．偏光子と、前記偏光子の少なくとも一方の面に貼合された偏光板保護フィルムとを有する偏光板であって、
前記偏光板保護フィルムが、第１項から第７項までのいずれか一項に記載の光学フィルムであることを特徴とする偏光板。
前記偏光板保護フィルムが、第１項から第７項までのいずれか一項に記載の光学フィルムであることを特徴とする偏光板。
９．第８項に記載の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置。
１０．第１項から第７項までのいずれか一項に記載の光学フィルムを製造する光学フィルムの製造方法であって、
溶液流延法により製造することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
溶液流延法により製造することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
本発明の上記手段により、接着剤との親和性及び耐折り曲げ性に優れた光学フィルム、これを備えた偏光板及び画像表示装置、並びに光学フィルムの製造方法を提供することができる。
本発明の効果の発現機構・作用機構については明確になっていないが、以下のように推察している。
本発明は、上記のとおり、表面調整剤として表面張力４０ｍＮ／ｍ以下の有機ケイ素化合物を採用し、光学フィルム中のケイ素原子の含有量を１００ａｔ％としたとき、光学フィルム表面から光学フィルムの厚さ方向１０％の深さまでの領域におけるケイ素原子の含有量を２０ａｔ％以上とすることにより、接着剤との親和性及び耐折り曲げ性を向上させるものである。
すなわち、表面調整剤である有機ケイ素化合物は表面張力が低いため、バルク中における分子間力による安定化と、空気界面との接触による不安定化に程度の差がなく、空気界面で安定に存在できるため、フィルムに含有させるとキャスト成膜時などで表面に偏在化できる。この光学フィルムに高エネルギーのコロナ放電処理を行うことにより、有機ケイ素化合物が活性化する。コロナ放電処理により、同時に空気中で生成した酸素ラジカルやオゾン等と、この有機ケイ素化合物とは容易に反応することができ、その結果、光学フィルム表面にヒドロキシ基やカルボキシ基、カルボニル基が発生することとなる。これらの官能基により、接着剤との親和性が向上し、光学フィルムと接着剤との親和性を向上させることができるものと考えられる。
すなわち、表面調整剤である有機ケイ素化合物は表面張力が低いため、バルク中における分子間力による安定化と、空気界面との接触による不安定化に程度の差がなく、空気界面で安定に存在できるため、フィルムに含有させるとキャスト成膜時などで表面に偏在化できる。この光学フィルムに高エネルギーのコロナ放電処理を行うことにより、有機ケイ素化合物が活性化する。コロナ放電処理により、同時に空気中で生成した酸素ラジカルやオゾン等と、この有機ケイ素化合物とは容易に反応することができ、その結果、光学フィルム表面にヒドロキシ基やカルボキシ基、カルボニル基が発生することとなる。これらの官能基により、接着剤との親和性が向上し、光学フィルムと接着剤との親和性を向上させることができるものと考えられる。
一方で、従来のシクロオレフィン樹脂のみからなる光学フィルムにおいては、コロナ放電処理を行ってもシクロオレフィン樹脂の活性が不十分であり、このシクロオレフィン樹脂と空気中で生成した酸素ラジカル等との反応が起きにくい。すなわち、上記した本発明のような表面改質がされにくいため、接着剤となじむことなく、親和性の改善には至らないものと考えられる。
また、本発明の光学フィルムは単一膜として構成されているため、耐折り曲げ性を向上させることができるものと考えられる。
本発明の光学フィルムは、少なくともシクロオレフィン樹脂と、表面調整剤とが含有され、表面調整剤が有機ケイ素化合物であり、光学フィルム中のケイ素原子の含有量を１００ａｔ％としたとき、光学フィルム表面から光学フィルムの厚さ方向１０％の深さまでの領域におけるケイ素原子の含有量が２０ａｔ％以上であることを特徴とする。この特徴は、各請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
本発明の実施態様としては、光学フィルム中のケイ素原子の含有量を１００ａｔ％としたとき、光学フィルム表面から光学フィルムの厚さ方向１０％の深さまでの領域におけるケイ素原子の含有量が、２０〜９０ａｔ％の範囲内であることが好ましく、４０〜８０ａｔ％の範囲内であることがより好ましい。
また、空気界面との親和性及び生産性の観点から、有機ケイ素化合物がポリシロキサン誘導体であることが好ましい。
また、薄膜化の観点から、光学フィルムの厚さが５．０〜４０．０μｍの範囲内であることが好ましい。
また、搬送性及びヘイズ値低減の観点から、マット剤として、平均１次粒子径が５〜１００ｎｍの範囲内である無機微粒子が含有されていることが好ましい。
また、光学フィルム中の残留溶媒量が、３０〜７００質量ｐｐｍの範囲内であることが好ましい。これにより、溶液流延法を用いて本発明の光学フィルムを製造した場合に、金属支持体から剥離する際に良好な平面性を有する膜状物を得ることができる。
また、本発明は、偏光子と、偏光子の少なくとも一方の面に貼合された偏光板保護フィルムとを有し、偏光板保護フィルムが、上記本発明の光学フィルムである偏光板を提供することができる。これにより、ヘイズ値の小さい偏光板とすることができる。
また、上記偏光板を備える画像表示装置を提供することができる。これにより、視認性を向上させることができる。
また、本発明の光学フィルムを製造する光学フィルムの製造方法であって、溶液流延法により製造することを特徴とする光学フィルムの製造方法を提供することができる。これにより、搬送性が良好であり、ヘイズ値の小さい光学フィルムを製造することができる。
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、数値範囲を表す「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用している。
《１．光学フィルムの概要》
本発明の光学フィルムは、少なくともシクロオレフィン樹脂と、表面調整剤とが含有され、表面調整剤が表面張力４０ｍＮ／ｍ以下の有機ケイ素化合物であり、光学フィルム中のケイ素原子の含有量を１００ａｔ％としたとき、光学フィルム表面から光学フィルムの厚さ方向１０％の深さまでの領域におけるケイ素原子の含有量が２０ａｔ％以上であることを特徴とする。
ここで、「光学フィルム表面から光学フィルムの厚さ方向１０％の深さまでの領域におけるケイ素原子」とは、光学フィルムの一方の面（空気界面）側に偏在化する表面調整剤としての有機ケイ素化合物由来のものに限られず、その他のケイ素原子を含む化合物由来のケイ素原子を含む。
以上のように、本発明の光学フィルムは、単一膜でありながらも、特定の表面調整剤（有機ケイ素化合物）のみが含有されていることで、接着剤との親和性、すなわち、偏光子等との接着性、及び耐折り曲げ性を向上させるものである。
本発明の光学フィルムは、少なくともシクロオレフィン樹脂と、表面調整剤とが含有され、表面調整剤が表面張力４０ｍＮ／ｍ以下の有機ケイ素化合物であり、光学フィルム中のケイ素原子の含有量を１００ａｔ％としたとき、光学フィルム表面から光学フィルムの厚さ方向１０％の深さまでの領域におけるケイ素原子の含有量が２０ａｔ％以上であることを特徴とする。
ここで、「光学フィルム表面から光学フィルムの厚さ方向１０％の深さまでの領域におけるケイ素原子」とは、光学フィルムの一方の面（空気界面）側に偏在化する表面調整剤としての有機ケイ素化合物由来のものに限られず、その他のケイ素原子を含む化合物由来のケイ素原子を含む。
以上のように、本発明の光学フィルムは、単一膜でありながらも、特定の表面調整剤（有機ケイ素化合物）のみが含有されていることで、接着剤との親和性、すなわち、偏光子等との接着性、及び耐折り曲げ性を向上させるものである。
光学フィルム表面から光学フィルムの厚さ方向１０％の深さまでの領域におけるケイ素原子の含有量は、２０〜９０ａｔ％の範囲内であることが好ましく、４０〜８０ａｔ％の範囲内であることがより好ましい。
上記のとおり、光学フィルム表面から光学フィルムの厚さ方向１０％の深さまでの領域におけるケイ素原子の含有量の上限は好ましくは９０ａｔ％以下、より好ましくは８０ａｔ％以下であるが、これによりバルクとの硬度差が小さく、良好な耐折り曲げ性を得ることができる。
上記のとおり、光学フィルム表面から光学フィルムの厚さ方向１０％の深さまでの領域におけるケイ素原子の含有量の上限は好ましくは９０ａｔ％以下、より好ましくは８０ａｔ％以下であるが、これによりバルクとの硬度差が小さく、良好な耐折り曲げ性を得ることができる。
（ケイ素原子の分析：ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）
光学フィルム中におけるケイ素原子の局在状態の確認は、各面を飛行時間型２次イオン質量分析計（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）やＸ線光電子分析装置（ＥＳＣＡ）によって分析することで確認することができる。
ここで、飛行時間型２次イオン質量分析法とは、固体試料上の原子や分子の化学情報を１分子層以下の感度で測定でき、特定の原子や分子の分布を１００ｎｍ以下の空間分解能で観察可能な質量分析法である。飛行時間型２次イオン質量分析法は、２次イオン質量分析法（ＳＩＭＳ）の１種であり、１次イオンビームを固体試料に照射し、その際に試料の最表面から放出されるイオン（２次イオン）を検出することによって、分析が行われる。質量分析計として飛行時間型質量分析計（ＴＯＦ−ＭＳ）が用いられることから、ＴＯＦ−ＳＩＭＳと称される。
光学フィルム中におけるケイ素原子の局在状態の確認は、各面を飛行時間型２次イオン質量分析計（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）やＸ線光電子分析装置（ＥＳＣＡ）によって分析することで確認することができる。
ここで、飛行時間型２次イオン質量分析法とは、固体試料上の原子や分子の化学情報を１分子層以下の感度で測定でき、特定の原子や分子の分布を１００ｎｍ以下の空間分解能で観察可能な質量分析法である。飛行時間型２次イオン質量分析法は、２次イオン質量分析法（ＳＩＭＳ）の１種であり、１次イオンビームを固体試料に照射し、その際に試料の最表面から放出されるイオン（２次イオン）を検出することによって、分析が行われる。質量分析計として飛行時間型質量分析計（ＴＯＦ−ＭＳ）が用いられることから、ＴＯＦ−ＳＩＭＳと称される。
具体的には、光学フィルムの空気界面側について、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析装置を用いて分析する。なお、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析は、下記測定条件によって行った。
測定装置：２１００ＴＲＩＦＴ２（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ社製）
測定モード：冷却測定（温度範囲−１０５〜−９５℃）
１次イオン：Ｇａ（１５ｋＶ）
測定領域：６０μｍ角
積算時間：２分
測定モード：冷却測定（温度範囲−１０５〜−９５℃）
１次イオン：Ｇａ（１５ｋＶ）
測定領域：６０μｍ角
積算時間：２分
なお、測定及び解析は、Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ社製ＷＩＮ−Ｃａｄｅｎｃｅ Ｖｅｒ４．０．０．１４にて行う。
光学フィルム断面に対して上記分析を行い、得られたピークの積分値からケイ素原子の局在率（ａｔ％）を算出することができる。
光学フィルム断面に対して上記分析を行い、得られたピークの積分値からケイ素原子の局在率（ａｔ％）を算出することができる。
１−１．シクロオレフィン樹脂
本発明の光学フィルムに含有されるシクロオレフィン樹脂は、シクロオレフィン単量体の重合体、又はシクロオレフィン単量体とそれ以外の共重合性単量体との共重合体であることが好ましい。
本発明の光学フィルムに含有されるシクロオレフィン樹脂は、シクロオレフィン単量体の重合体、又はシクロオレフィン単量体とそれ以外の共重合性単量体との共重合体であることが好ましい。
シクロオレフィン単量体としては、ノルボルネン骨格を有するシクロオレフィン単量体であることが好ましく、下記一般式（Ａ−１）又は（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体であることがより好ましい。
一般式（Ａ−１）中、Ｒ１〜Ｒ４は、各々独立に、水素原子、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、又は極性基を表す。ｐは、０〜２の整数を表す。ただし、Ｒ１〜Ｒ４の全てが同時に水素原子を表すことはなく、Ｒ１とＲ２とが同時に水素原子を表すことはなく、Ｒ３とＲ４とが同時に水素原子を表すことはないものとする。
一般式（Ａ−１）におけるＲ１〜Ｒ４で表される炭素原子数１〜３０の炭化水素基としては、例えば、炭素原子数１〜１０の炭化水素基であることが好ましく、炭素原子数１〜５の炭化水素基であることがより好ましい。
炭素原子数１〜３０の炭化水素基の例には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が含まれる。
炭素原子数１〜３０の炭化水素基は、例えば、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子又はケイ素原子を含む連結基を更に有していてもよい。そのような連結基の例には、カルボニル基、イミノ基、エーテル結合、シリルエーテル結合、チオエーテル結合等の２価の極性基が含まれる。
炭素原子数１〜３０の炭化水素基の例には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が含まれる。
炭素原子数１〜３０の炭化水素基は、例えば、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子又はケイ素原子を含む連結基を更に有していてもよい。そのような連結基の例には、カルボニル基、イミノ基、エーテル結合、シリルエーテル結合、チオエーテル結合等の２価の極性基が含まれる。
一般式（Ａ−１）におけるＲ１〜Ｒ４で表される極性基の例には、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アミド基及びシアノ基が含まれる。中でも、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基が好ましく、溶液成膜時の溶解性を確保する観点から、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基が好ましい。
一般式（Ａ−１）におけるｐは、光学フィルムの耐熱性を高める観点から、１又は２を表すことが好ましい。ｐが１又は２を表すと、得られる重合体が嵩高くなり、ガラス転移温度が向上しやすいためである。
一般式（Ａ−２）中、Ｒ５は、水素原子、炭素数１〜５の炭化水素基、又は炭素数１〜５のアルキル基を有するアルキルシリル基を表す。Ｒ６は、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アミド基、シアノ基、又はハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子若しくはヨウ素原子）を表す。ｐは、０〜２の整数を表す。
一般式（Ａ−１）におけるＲ５は、炭素数１〜５の炭化水素基を表すことが好ましく、炭素数１〜３の炭化水素基を表すことがより好ましい。
一般式（Ａ−２）におけるＲ６は、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基を表すことが好ましく、溶液成膜時の溶解性を確保する観点から、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基がより好ましい。
一般式（Ａ−２）におけるｐは、光学フィルムの耐熱性を高める観点から、１又は２を表すことが好ましい。ｐが１又は２を表すと、得られる重合体が嵩高くなり、ガラス転移温度が向上しやすいためである。
一般式（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体は、有機溶剤への溶解性を向上させる点から好ましい。一般的に有機化合物は対称性を崩すことによって結晶性が低下するため、有機溶媒への溶解性が向上する。一般式（Ａ−２）におけるＲ５及びＲ６は、分子の対称軸に対して片側の環構成炭素原子のみに置換されているので、分子の対称性が低く、すなわち、一般式（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体は溶解性が高いため、光学フィルムを溶液流延法によって製造する場合に適している。
シクロオレフィン単量体の重合体における一般式（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体の含有割合は、シクロオレフィン樹脂を構成する全シクロオレフィン単量体の合計に対して、例えば、７０モル％以上、好ましくは８０モル％以上、より好ましくは１００モル％とし得る。一般式（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体を一定以上含むと、樹脂の配向性が高まるため、位相差値が上昇しやすい。
以下、一般式（Ａ−１）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体の具体例を例示化合物１〜１４に示し、一般式（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体の具体例を例示化合物１５〜３４に示す。
シクロオレフィン単量体と共重合可能な共重合性単量体の例には、シクロオレフィン単量体と開環共重合可能な共重合性単量体、及びシクロオレフィン単量体と付加共重合可能な共重合性単量体等が含まれる。
開環共重合可能な共重合性単量体の例には、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテン、ジシクロペンタジエン等のシクロオレフィンが含まれる。
付加共重合可能な共重合性単量体の例には、不飽和二重結合含有化合物、ビニル系環状炭化水素単量体、（メタ）アクリレート等が含まれる。
不飽和二重結合含有化合物の例には、炭素原子数２〜１２（好ましくは２〜８）のオレフィン系化合物が含まれ、その例には、エチレン、プロピレン、ブテン等が含まれる。
ビニル系環状炭化水素単量体の例には、４−ビニルシクロペンテン、２−メチル−４−イソプロペニルシクロペンテン等のビニルシクロペンテン系単量体が含まれる。
（メタ）アクリレートの例には、メチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の炭素原子数１〜２０のアルキル（メタ）アクリレートが含まれる。
不飽和二重結合含有化合物の例には、炭素原子数２〜１２（好ましくは２〜８）のオレフィン系化合物が含まれ、その例には、エチレン、プロピレン、ブテン等が含まれる。
ビニル系環状炭化水素単量体の例には、４−ビニルシクロペンテン、２−メチル−４−イソプロペニルシクロペンテン等のビニルシクロペンテン系単量体が含まれる。
（メタ）アクリレートの例には、メチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等の炭素原子数１〜２０のアルキル（メタ）アクリレートが含まれる。
シクロオレフィン単量体と共重合性単量体との共重合体におけるシクロオレフィン単量体の含有割合は、共重合体を構成する全単量体の合計に対して、例えば、２０〜８０モル％の範囲内、好ましくは３０〜７０モル％の範囲内とし得る。
シクロオレフィン樹脂は、前述の通り、ノルボルネン骨格を有するシクロオレフィン単量体、好ましくは一般式（Ａ−１）又は（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体を重合又は共重合して得られる重合体であり、その例には、以下のものが含まれる。
（１）シクロオレフィン単量体の開環重合体
（２）シクロオレフィン単量体と、それと開環共重合可能な共重合性単量体との開環共重合体
（３）上記（１）又は（２）の開環（共）重合体の水素添加物
（４）上記（１）又は（２）の開環（共）重合体をフリーデル・クラフツ反応により環化した後、水素添加した（共）重合体
（５）シクロオレフィン単量体と、不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体
（６）シクロオレフィン単量体のビニル系環状炭化水素単量体との付加共重合体及びその水素添加物
（７）シクロオレフィン単量体と、（メタ）アクリレートとの交互共重合体
（２）シクロオレフィン単量体と、それと開環共重合可能な共重合性単量体との開環共重合体
（３）上記（１）又は（２）の開環（共）重合体の水素添加物
（４）上記（１）又は（２）の開環（共）重合体をフリーデル・クラフツ反応により環化した後、水素添加した（共）重合体
（５）シクロオレフィン単量体と、不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体
（６）シクロオレフィン単量体のビニル系環状炭化水素単量体との付加共重合体及びその水素添加物
（７）シクロオレフィン単量体と、（メタ）アクリレートとの交互共重合体
上記（１）〜（７）の重合体は、いずれも公知の方法、例えば、特開２００８−１０７５３４号公報や特開２００５−２２７６０６号公報に記載の方法で得ることができる。例えば、上記（２）の開環共重合に用いられる触媒や溶媒は、例えば特開２００８−１０７５３４号公報の段落００１９〜００２４に記載のものを使用できる。上記（３）及び（６）の水素添加に用いられる触媒は、例えば特開２００８−１０７５３４号公報の段落００２５〜００２８に記載のものを使用できる。上記（４）のフリーデル・クラフツ反応に用いられる酸性化合物は、例えば特開２００８−１０７５３４号公報の段落００２９に記載のものを使用できる。上記（５）〜（７）の付加重合に用いられる触媒は、例えば特開２００５−２２７６０６号公報の段落００５８〜００６３に記載のものを使用できる。上記（７）の交互共重合反応は、例えば特開２００５−２２７６０６号公報の段落００７１及び００７２に記載の方法で行うことができる。
中でも、上記（１）〜（３）及び（５）の重合体が好ましく、上記（３）及び（５）の重合体がより好ましい。すなわち、シクロオレフィン樹脂は、得られるシクロオレフィン樹脂のガラス転移温度を高くし、かつ光透過率を高くすることができる点で、下記一般式（Ｂ−１）で表される構造単位及び下記一般式（Ｂ−２）で表される構造単位の少なくとも一方を含むことが好ましく、一般式（Ｂ−２）で表される構造単位のみを含むか、又は一般式（Ｂ−１）で表される構造単位と一般式（Ｂ−２）で表される構造単位の両方を含むことがより好ましい。一般式（Ｂ−１）で表される構造単位は、前述の一般式（Ａ−１）で表されるシクロオレフィン単量体由来の構造単位であり、一般式（Ｂ−２）で表される構造単位は、前述の一般式（Ａ−２）で表されるシクロオレフィン単量体由来の構造単位である。
一般式（Ｂ−１）中、Ｘは、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−ＣＨ２ＣＨ２−を表す。Ｒ１〜Ｒ４及びｐは、それぞれ一般式（Ａ−１）のＲ１〜Ｒ４及びｐと同義である。
一般式（Ｂ−２）中、Ｘは、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−ＣＨ２ＣＨ２−を表す。Ｒ５、Ｒ６及びｐは、それぞれ一般式（Ａ−２）のＲ５、Ｒ６及びｐと同義である。
本発明に係るシクロオレフィン樹脂は、市販品であってもよい。シクロオレフィン樹脂の市販品の例には、ＪＳＲ（株）製のアートン（Ａｒｔｏｎ）Ｇ（例えば、Ｇ７８１０等）、アートンＦ、アートンＲ（例えば、Ｒ４５００、Ｒ４９００、Ｒ５０００等）、及びアートンＲＸが含まれる。
シクロオレフィン樹脂の固有粘度〔η〕ｉｎｈは、３０℃において、０．２〜５ｃｍ３／ｇの範囲内であることが好ましく、０．３〜３ｃｍ３／ｇの範囲内であることがより好ましく、０．４〜１．５ｃｍ３／ｇの範囲内であることが更に好ましい。
シクロオレフィン樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）は、８０００〜１０００００の範囲内であることが好ましく、１００００〜８００００の範囲内であることがより好ましく、１２０００〜５００００の範囲内であることが更に好ましい。
シクロオレフィン樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２００００〜３０００００の範囲内であることが好ましく、３００００〜２５００００の範囲内であることがより好ましく、４００００〜２０００００の範囲内であることが更に好ましい。
シクロオレフィン樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）や重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）にてポリスチレン換算にて測定することができる。
シクロオレフィン樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２００００〜３０００００の範囲内であることが好ましく、３００００〜２５００００の範囲内であることがより好ましく、４００００〜２０００００の範囲内であることが更に好ましい。
シクロオレフィン樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）や重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）にてポリスチレン換算にて測定することができる。
固有粘度〔η〕ｉｎｈ、数平均分子量及び重量平均分子量が上記範囲にあると、シクロオレフィン樹脂の耐熱性、耐水性、耐薬品性、機械的特性、及びフィルムとしての成形加工性が良好となる。
シクロオレフィン樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、通常、１１０℃以上であり、１１０〜３５０℃の範囲内であることが好ましく、１２０〜２５０℃の範囲内であることがより好ましく、１２０〜２２０℃の範囲内であることが更に好ましい。ガラス転移温度（Ｔｇ）が１１０℃以上であると、高温条件下での変形を抑制しやすい。一方、Ｔｇが３５０℃以下であると、成形加工が容易となり、成形加工時の熱による樹脂の劣化も抑制しやすい。
シクロオレフィン樹脂の含有量は、光学フィルムに対して７０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましい。
１−２．表面調整剤
本発明に係る表面調整剤は、表面張力が４０ｍＮ／ｍ以下であることを特徴とする。このような表面調整剤を添加することで、表面調整剤をフィルム表面近傍に存在させ、接着剤との親和性を向上させることができる。これに加えて、すべり性の向上ひいては搬送性の向上を達成することができるというものである。
本発明に係る表面調整剤は、表面張力が４０ｍＮ／ｍ以下であることを特徴とする。このような表面調整剤を添加することで、表面調整剤をフィルム表面近傍に存在させ、接着剤との親和性を向上させることができる。これに加えて、すべり性の向上ひいては搬送性の向上を達成することができるというものである。
表面調製剤の表面張力は、ｗｉｌｈｅｌｍｙ法（プレート法）により測定する。より詳しくは、ｗｉｌｈｅｌｍｙ板と液体試料とを接触させて歪みを与え、ｗｉｌｈｅｌｍｙ板を液中に引っ張ろうとする力を測定することにより算出する。測定装置としては、株式会社ユービーエム製の動的表面張力測定装置であるレオサーフを用いる。
なお、表面張力の測定は、溶剤の液温と室温とを一定にした後行う。具体的には、室温（２５℃）の環境下に溶剤を放置し、溶剤の液温が２５℃になった時点で、溶剤の表面張力を測定する。
なお、表面張力の測定は、溶剤の液温と室温とを一定にした後行う。具体的には、室温（２５℃）の環境下に溶剤を放置し、溶剤の液温が２５℃になった時点で、溶剤の表面張力を測定する。
本発明に係る表面調整剤としての有機ケイ素化合物としては、光学フィルム表面から光学フィルムの厚さ方向１０％の深さまでの領域におけるケイ素原子の含有量を２０ａｔ％以上とするものであれば特に限定されず、低分子体であってもよいし、高分子体でもよい。特に好ましくはオリゴマーやポリマーであり、具体的には、ポリシロキサン系化合物、ポリジメチルシロキサン系化合物、ポリジメチルシロキサン系共重合体等のポリシロキサン誘導体が挙げられる。また、これら化合物を組む合わせたものであってもよい。
ポリシロキサン骨格を有する化合物は、下記一般式（Ｉ）で表される構造を有しており、一般式（Ｉ）中の繰り返し数ｎ（１以上の数）や有機変性部の種類を変化させることで、表面張力を任意にコントロールすることができる。
上記一般式（Ｉ）中のｎや有機変性部の種類を変化させる一例として、例えば、下記一般式（II）で表される構造（ｘ及びｙは繰り返し数を表す１以上の数、ｍは１以上の整数）が挙げられ、側鎖を付与することによりシリコーン骨格を変性させることができる。なお、一般式（II）におけるＲ１としては、例えば、メチル基、エチル基、デキル基等が挙げられる。Ｒ２としては、例えば、ポリエーテル基、ポリエステル基、アラルキル基等が挙げられる。
さらに、下記一般式（III）で表される構造（ｍは１以上の整数）を有する化合物も用いることが可能であり、シリコーン鎖は数個のＳｉ−Ｏ結合からなり、Ｒ３に相当する平均１個のポリエーテル鎖等を有する。
このように、一般式（II）で表される構造を有する化合物及び一般式（III）で表される構造を有する化合物いずれにおいても、表面自由エネルギーのコントロールや相溶性の調整を任意に行うことができる。
さらに、下記一般式（III）で表される構造（ｍは１以上の整数）を有する化合物も用いることが可能であり、シリコーン鎖は数個のＳｉ−Ｏ結合からなり、Ｒ３に相当する平均１個のポリエーテル鎖等を有する。
このように、一般式（II）で表される構造を有する化合物及び一般式（III）で表される構造を有する化合物いずれにおいても、表面自由エネルギーのコントロールや相溶性の調整を任意に行うことができる。
（ポリシロキサン系化合物）
ポリシロキサン系化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトキエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の加水分解性シリル基を有するシラン化合物の部分加水分解物や、有機溶媒中に無水ケイ酸の微粒子を安定に分散させたオルガノシリカゾル、又は該オルガノシリカゾルにラジカル重合性を有する上記シラン化合物を付加させたもの等が挙げられる。
ポリシロキサン系化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトキエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の加水分解性シリル基を有するシラン化合物の部分加水分解物や、有機溶媒中に無水ケイ酸の微粒子を安定に分散させたオルガノシリカゾル、又は該オルガノシリカゾルにラジカル重合性を有する上記シラン化合物を付加させたもの等が挙げられる。
（ポリジメチルシロキサン系化合物）
ポリジメチルシロキサン系化合物としては、ポリジメチルシロキサン、アルキル変性ポリジメチルシロキサン、カルボキシ変性ポリジメチルシロキサン、アミノ変性ポリジメチルシロキサン、エポキシ変性ポリジメチルシロキサン、フッ素変性ポリジメチルシロキサン、（メタ）アクリレート変性ポリジメチルシロキサン（例えば、東亞合成（株）製ＧＵＶ−２３５）などが挙げられる。
ポリジメチルシロキサン系化合物としては、ポリジメチルシロキサン、アルキル変性ポリジメチルシロキサン、カルボキシ変性ポリジメチルシロキサン、アミノ変性ポリジメチルシロキサン、エポキシ変性ポリジメチルシロキサン、フッ素変性ポリジメチルシロキサン、（メタ）アクリレート変性ポリジメチルシロキサン（例えば、東亞合成（株）製ＧＵＶ−２３５）などが挙げられる。
（ポリジメチルシロキサン系共重合体）
ポリジメチルシロキサン系共重合体は、ブロック共重合体、グラフト共重合体、ランダム共重合体のいずれであってもよいが、ブロック共重合体、グラフト共重合体が好ましい。
ポリジメチルシロキサン系共重合体は、ブロック共重合体、グラフト共重合体、ランダム共重合体のいずれであってもよいが、ブロック共重合体、グラフト共重合体が好ましい。
（市販材料）
また、市販されている材料としてはケイ素原子を有していれば特に限定されないが、例えば以下に記したものを用いることができる。
また、市販されている材料としてはケイ素原子を有していれば特に限定されないが、例えば以下に記したものを用いることができる。
共栄社化学株式会社製：ＧＬ-０１、ＧＬ-０２Ｒ、ＧＬ-０３、ＧＬ-０４Ｒ
日信化学工業株式会社製：シルフェイスＳＡＧ００２、シルフェイスＳＡＧ００５、シルフェイスＳＡＧ００８、シルフェイスＳＡＧ５０３Ａ、サーフィノール１０４Ｅ、サーフィノール１０４Ｈ、サーフィノール１０４Ａ、サーフィノール１０４ＢＣ、サーフィノール１０４ＤＰＭ、サーフィノール１０４ＰＡ、サーフィノール１０４ＰＧ−５０、サーフィノール１０４Ｓ、サーフィノール４２０、サーフィノール４４０、サーフィノール４６５、サーフィノール４８５、サーフィノールＳＥ
信越化学工業株式会社製：ＦＡ−６００、ＫＣ−８９Ｓ、ＫＲ−５００、ＫＲ−５１６、Ｘ−４０−９２９６、ＫＲ−５１３、Ｘ−２２−１６１Ａ、Ｘ−２２−１６２Ｃ、Ｘ−２２−１６３、Ｘ−２２−１６３Ａ、Ｘ−２２−１６４、Ｘ−２２−１６４Ａ、Ｘ−２２−１７３ＢＸ、Ｘ−２２−１７４ＡＳＸ、Ｘ−２２−１７６ＤＸ、Ｘ−２２−３４３、Ｘ−２２−２０４６、Ｘ−２２−２４４５、Ｘ−２２−３９３９Ａ、Ｘ−２２−４０３９、Ｘ−２２−４０１５、Ｘ−２２−４２７２、Ｘ−２２−４７４１、Ｘ−２２−４９５２、Ｘ−２２−６２６６、ＫＦ−５０−１００ｃｓ、ＫＦ−９６Ｌ−１ｃｓ、ＫＦ−１０１、ＫＦ−１０２、ＫＦ−１０５、ＫＦ−３５１、ＫＦ−３５２、ＫＦ−３５３、ＫＦ−３５４Ｌ、ＫＦ−３５５Ａ、ＫＦ−３９３、ＫＦ−６１５Ａ、ＫＦ−６１８、ＫＦ−８５７、ＫＦ−８５９、ＫＦ−８６０、ＫＦ−８６２、ＫＦ−８７７、ＫＦ−８８９、ＫＦ−９４５、ＫＦ−１００１、ＫＦ−１００２、ＫＦ−１００５、ＫＦ−２０１２、ＫＦ−２２０１、Ｘ−２２−２４０４、Ｘ−２２−２４２６、Ｘ−２２−３７１０、ＫＦ−６００４、ＫＦ−６０１１、ＫＦ−６０１５、ＫＦ−６１２３、ＫＦ−８００１、ＫＦ−８０１０、ＫＦ−８０１２、Ｘ−２２−９００２
東レダウコーニング株式会社製：ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ １００Ｆ ＡＤＤＩＴＩＶＥ、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ １１ ＡＤＤＩＴＩＶＥ、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ ３０３７ ＩＮＴＥＲＭＥＤＩＡＴＥ、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ ５６ ＡＤＤＩＴＩＶＥ、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ ＴＯＲＡＹ Ｚ−６０９４、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ ＴＯＲＡＹ ＦＺ−２１０４、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ ＴＯＲＡＹ ＡＹ４２−１１９、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ ＴＯＲＡＹ ＦＺ−２２２２
花王株式会社製：エマルゲン１０２ＫＧ、エマルゲン１０４Ｐ、エマルゲン１０５、エマルゲン１０６、エマルゲン１０８、エマルゲン１０９Ｐ、エマルゲン１２０、エマルゲン１２３Ｐ、エマルゲン１４７、エマルゲン２１０Ｐ、エマルゲン２２０、エマルゲン３０６Ｐ、エマルゲン３２０Ｐ、エマルゲン４０４、エマルゲン４０８、エマルゲン４０９ＰＶ、エマルゲン４２０、エマルゲン４３０、エマルゲン７０５、エマルゲン７０７、エマルゲン７０９、エマルゲン１１０８、エマルゲン１１１８Ｓ−７０、エマルゲン１１３５Ｓ−７０、エマルゲン２０２０Ｇ−ＨＡ、エマルゲン２０２５Ｇ、エマルゲンＬＳ−１０６、エマルゲンＬＳ−１１０、エマルゲンＬＳ１１４
日信化学工業株式会社製：シルフェイスＳＡＧ００２、シルフェイスＳＡＧ００５、シルフェイスＳＡＧ００８、シルフェイスＳＡＧ５０３Ａ、サーフィノール１０４Ｅ、サーフィノール１０４Ｈ、サーフィノール１０４Ａ、サーフィノール１０４ＢＣ、サーフィノール１０４ＤＰＭ、サーフィノール１０４ＰＡ、サーフィノール１０４ＰＧ−５０、サーフィノール１０４Ｓ、サーフィノール４２０、サーフィノール４４０、サーフィノール４６５、サーフィノール４８５、サーフィノールＳＥ
信越化学工業株式会社製：ＦＡ−６００、ＫＣ−８９Ｓ、ＫＲ−５００、ＫＲ−５１６、Ｘ−４０−９２９６、ＫＲ−５１３、Ｘ−２２−１６１Ａ、Ｘ−２２−１６２Ｃ、Ｘ−２２−１６３、Ｘ−２２−１６３Ａ、Ｘ−２２−１６４、Ｘ−２２−１６４Ａ、Ｘ−２２−１７３ＢＸ、Ｘ−２２−１７４ＡＳＸ、Ｘ−２２−１７６ＤＸ、Ｘ−２２−３４３、Ｘ−２２−２０４６、Ｘ−２２−２４４５、Ｘ−２２−３９３９Ａ、Ｘ−２２−４０３９、Ｘ−２２−４０１５、Ｘ−２２−４２７２、Ｘ−２２−４７４１、Ｘ−２２−４９５２、Ｘ−２２−６２６６、ＫＦ−５０−１００ｃｓ、ＫＦ−９６Ｌ−１ｃｓ、ＫＦ−１０１、ＫＦ−１０２、ＫＦ−１０５、ＫＦ−３５１、ＫＦ−３５２、ＫＦ−３５３、ＫＦ−３５４Ｌ、ＫＦ−３５５Ａ、ＫＦ−３９３、ＫＦ−６１５Ａ、ＫＦ−６１８、ＫＦ−８５７、ＫＦ−８５９、ＫＦ−８６０、ＫＦ−８６２、ＫＦ−８７７、ＫＦ−８８９、ＫＦ−９４５、ＫＦ−１００１、ＫＦ−１００２、ＫＦ−１００５、ＫＦ−２０１２、ＫＦ−２２０１、Ｘ−２２−２４０４、Ｘ−２２−２４２６、Ｘ−２２−３７１０、ＫＦ−６００４、ＫＦ−６０１１、ＫＦ−６０１５、ＫＦ−６１２３、ＫＦ−８００１、ＫＦ−８０１０、ＫＦ−８０１２、Ｘ−２２−９００２
東レダウコーニング株式会社製：ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ １００Ｆ ＡＤＤＩＴＩＶＥ、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ １１ ＡＤＤＩＴＩＶＥ、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ ３０３７ ＩＮＴＥＲＭＥＤＩＡＴＥ、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ ５６ ＡＤＤＩＴＩＶＥ、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ ＴＯＲＡＹ Ｚ−６０９４、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ ＴＯＲＡＹ ＦＺ−２１０４、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ ＴＯＲＡＹ ＡＹ４２−１１９、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ ＴＯＲＡＹ ＦＺ−２２２２
花王株式会社製：エマルゲン１０２ＫＧ、エマルゲン１０４Ｐ、エマルゲン１０５、エマルゲン１０６、エマルゲン１０８、エマルゲン１０９Ｐ、エマルゲン１２０、エマルゲン１２３Ｐ、エマルゲン１４７、エマルゲン２１０Ｐ、エマルゲン２２０、エマルゲン３０６Ｐ、エマルゲン３２０Ｐ、エマルゲン４０４、エマルゲン４０８、エマルゲン４０９ＰＶ、エマルゲン４２０、エマルゲン４３０、エマルゲン７０５、エマルゲン７０７、エマルゲン７０９、エマルゲン１１０８、エマルゲン１１１８Ｓ−７０、エマルゲン１１３５Ｓ−７０、エマルゲン２０２０Ｇ−ＨＡ、エマルゲン２０２５Ｇ、エマルゲンＬＳ−１０６、エマルゲンＬＳ−１１０、エマルゲンＬＳ１１４
表面調整剤は、光学フィルムを構成する材料中の溶剤を除く全成分に対し、０．００５〜５質量％の範囲内で含有されていることが好ましい。
１−３．その他の添加剤
本発明の光学フィルムには、更に他の添加剤が含有されていてもよい。そのような添加剤としては、例えば、マット剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤等が挙げられる。
本発明の光学フィルムには、更に他の添加剤が含有されていてもよい。そのような添加剤としては、例えば、マット剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤等が挙げられる。
（マット剤）
マット剤としての微粒子とは、透過型電子顕微鏡により測定した場合における数平均粒子径が４００ｎｍ以下である粒子を指す。この場合、各粒子の粒径は透過型電子顕微鏡における投影面を同面積の円に換算した場合の直径として定義される。不要な散乱を発生させないためには、微粒子の粒径は可視光の波長より十分に小さいことが好ましく、具体的には、平均１次粒子径が５〜１００ｎｍの範囲内であることが好ましい。平均１次粒子経が５ｎｍ以上であると、フィルム表面に適度な大きさの凹凸を作るため、搬送ローラーとの接触やフィルム同士の接触時の摩擦低減につながり、搬送性が向上するため好ましい。平均１次粒子経が１００ｎｍ以下であると、前述した搬送性の向上をフィルムのヘイズ値を低く保ったまま達成できるため好ましい。
微粒子の平均１次粒子径の測定は、透過型電子顕微鏡（倍率５０万〜２００万倍）で粒子の観察を行い、粒子１００個の粒子径を測定し、その平均値をもって、平均１次粒子径とする。粒子の形状は球状に限定されず、不定形の形状であってもよい。
マット剤としての微粒子とは、透過型電子顕微鏡により測定した場合における数平均粒子径が４００ｎｍ以下である粒子を指す。この場合、各粒子の粒径は透過型電子顕微鏡における投影面を同面積の円に換算した場合の直径として定義される。不要な散乱を発生させないためには、微粒子の粒径は可視光の波長より十分に小さいことが好ましく、具体的には、平均１次粒子径が５〜１００ｎｍの範囲内であることが好ましい。平均１次粒子経が５ｎｍ以上であると、フィルム表面に適度な大きさの凹凸を作るため、搬送ローラーとの接触やフィルム同士の接触時の摩擦低減につながり、搬送性が向上するため好ましい。平均１次粒子経が１００ｎｍ以下であると、前述した搬送性の向上をフィルムのヘイズ値を低く保ったまま達成できるため好ましい。
微粒子の平均１次粒子径の測定は、透過型電子顕微鏡（倍率５０万〜２００万倍）で粒子の観察を行い、粒子１００個の粒子径を測定し、その平均値をもって、平均１次粒子径とする。粒子の形状は球状に限定されず、不定形の形状であってもよい。
微粒子としては、無機微粒子であってもよいし、有機微粒子であってもよいが、無機微粒子であることが好ましい。また、有機化合物で表面修飾された無機微粒子であってもよい。
無機微粒子としては、例えば、ケイ素を含む化合物（ケイ素化合物）、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等であることが好ましく、更に好ましくは、ケイ素化合物や酸化アルミニウムであるが、二酸化ケイ素が特に好ましく用いられる。無機微粒子として、二酸化ケイ素を用いることで、搬送性を向上させることができる。
これらは、球状、平板状又は無定形状等の形状の粒子が挙げられる。
無機微粒子としては、例えば、ケイ素を含む化合物（ケイ素化合物）、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等であることが好ましく、更に好ましくは、ケイ素化合物や酸化アルミニウムであるが、二酸化ケイ素が特に好ましく用いられる。無機微粒子として、二酸化ケイ素を用いることで、搬送性を向上させることができる。
これらは、球状、平板状又は無定形状等の形状の粒子が挙げられる。
二酸化ケイ素の微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７２ＣＦ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、５０、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００、Ｒ７１１、ＲＹ３００、Ｒ１０６、Ｒ８１６、ＲＡ２００ＨＳ、ＭＯＸ１７０（以上、日本アエロジル（株）製）等の市販品が使用できる。
酸化アルミニウムの微粒子としては、例えば、アエロジルＡｌｕ Ｃ、Ａｌｕ１３０及びＡｌｕ Ｃ８０５（以上、日本アエロジル（株）製）等の市販品が使用できる。
また、有機微粒子としては、例えば、ポリスチレン樹脂、シリコーン樹脂、ポリエチレン樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、メラミン樹脂等、アクリル−スチレン樹脂、メラミン−シリカ等複合されたものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
また、これらの無機微粒子及び有機微粒子は、単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。また、有機微粒子を使用する場合には、単分散における屈折率とシクロオレフィン樹脂との屈折率の差が少ないものを使用することが好ましい。
（紫外線吸収剤）
本発明の光学フィルムは、添加剤として紫外線吸収剤を含有していてもよい。
紫外線吸収剤は、４００ｎｍ以下の紫外線を吸収するため、光学フィルムの耐久性を向上させることができる。紫外線吸収剤は、特に波長３７０ｎｍでの光透過率が１０％以下であることが好ましく、より好ましくは５％以下、更に好ましくは２％以下である。
紫外線吸収剤の具体例としては特に限定されないが、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられ、特に好ましくはベンゾトリアゾール系化合物及びベンゾフェノン系化合物である。
本発明の光学フィルムは、添加剤として紫外線吸収剤を含有していてもよい。
紫外線吸収剤は、４００ｎｍ以下の紫外線を吸収するため、光学フィルムの耐久性を向上させることができる。紫外線吸収剤は、特に波長３７０ｎｍでの光透過率が１０％以下であることが好ましく、より好ましくは５％以下、更に好ましくは２％以下である。
紫外線吸収剤の具体例としては特に限定されないが、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられ、特に好ましくはベンゾトリアゾール系化合物及びベンゾフェノン系化合物である。
紫外線吸収剤としては、より具体的には、例えば、５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチル−２−ヒドロキシルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、（２−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２，４−ベンジルオキシベンゾフェノン等を用いることができる。これらは、市販品を用いてもよく、例えば、ＢＡＳＦジャパン社製のチヌビン１０９（オクチル−３−［３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ―２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−［３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ―２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートの混合物）、チヌビン１７１、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２７、チヌビン３２８、チヌビン９２８（２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール）等のチヌビン類を好ましく使用できる。
その他、１，３，５−トリアジン環を有する化合物等の円盤状化合物も紫外線吸収剤として好ましく用いられる。また、紫外線吸収剤としては高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることができ、特にポリマータイプの紫外線吸収剤が好ましく用いられる。
トリアジン系紫外線吸収剤としては、市販品であるＢＡＳＦジャパン社製のチヌビン４００（２−（４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−ヒドロキシフェニルとオキシランとの反応生成物）、チヌビン４６０（２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル］−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３−５−トリアジン）、チヌビン４０５（２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス―（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジンと（２−エチルヘキシル）−グリシド酸エステルの反応生成物）等を用いることができる。
トリアジン系紫外線吸収剤としては、市販品であるＢＡＳＦジャパン社製のチヌビン４００（２−（４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−ヒドロキシフェニルとオキシランとの反応生成物）、チヌビン４６０（２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル］−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３−５−トリアジン）、チヌビン４０５（２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス―（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジンと（２−エチルヘキシル）−グリシド酸エステルの反応生成物）等を用いることができる。
紫外線吸収剤の添加方法としては、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール、メチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の有機溶媒又はこれらの混合溶媒に紫外線吸収剤を溶解してから、光学フィルムの製造に用いられる樹脂溶液（ドープ）に添加するか、又は直接ドープに添加してもよい。無機粉体のように有機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤とセルロースアセテート中にディゾルバーやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。
紫外線吸収剤の含有量としては、例えば、光学フィルムに対して０．５〜１０質量％の範囲内が好ましく、０．６〜４質量％の範囲内が更に好ましい。
（酸化防止剤）
本発明の光学フィルムは、その他の添加剤として酸化防止剤（劣化防止剤）を含有していてもよい。
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート等を挙げることができる。
本発明の光学フィルムは、その他の添加剤として酸化防止剤（劣化防止剤）を含有していてもよい。
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート等を挙げることができる。
酸化防止剤の含有量は、例えば、光学フィルムに対して０．０００１〜１質量％の範囲内が好ましく、０．００１〜０．１質量％の範囲内が更に好ましい。
１−４．光学フィルムの物性
（残留溶媒量）
本発明の光学フィルムにおける１種類以上の残留溶媒の合計含有量は、３０〜７００質量ｐｐｍの範囲内であることが好ましい。１種類以上の残留溶媒の合計含有量が３０質量ｐｐｍ以上であると、光学フィルムの曲げ強度が損なわれないので、耐折り曲げ性が損なわれにくく、それによる光学フィルムや偏光板の製造工程における割れを抑制できる。１種類以上の残留溶媒の合計含有量が７００質量ｐｐｍ以下であると、光学フィルムの引張り強度が適度に高いため、光学フィルムや偏光板の製造工程における光学フィルムの破断を抑制できる。光学フィルムにおける１種類以上の残留溶媒の合計含有量は、５０〜５００質量ｐｐｍであることがより好ましい。
（残留溶媒量）
本発明の光学フィルムにおける１種類以上の残留溶媒の合計含有量は、３０〜７００質量ｐｐｍの範囲内であることが好ましい。１種類以上の残留溶媒の合計含有量が３０質量ｐｐｍ以上であると、光学フィルムの曲げ強度が損なわれないので、耐折り曲げ性が損なわれにくく、それによる光学フィルムや偏光板の製造工程における割れを抑制できる。１種類以上の残留溶媒の合計含有量が７００質量ｐｐｍ以下であると、光学フィルムの引張り強度が適度に高いため、光学フィルムや偏光板の製造工程における光学フィルムの破断を抑制できる。光学フィルムにおける１種類以上の残留溶媒の合計含有量は、５０〜５００質量ｐｐｍであることがより好ましい。
光学フィルムに含まれる残留溶媒の定性及び定量は、ヘッドスペースガスクロマトグラフィーにより行うことができる。すなわち、ヘッドスペースガスクロマトグラフィーでは、試料を容器に封入して加熱し、容器中に揮発成分が充満した状態で速やかに容器中のガスをガスクロマトグラフに注入し、質量分析を行って化合物の同定を行いながら揮発成分の定量を行うものである。揮発成分の定量は、濃度が既知の試料を用いて、検量線をあらかじめ作成しておき、測定で得られた揮発成分のピーク面積と検量線とを照合して行うことができる。以下に、測定条件を示す。
〔測定条件〕
ヘッドスペース装置：ＨＰ７６９４ Ｈｅａｄ Ｓｐａｃｅ Ｓａｍｐｌｅｒ（ヒューレットパッカード社製）
温度条件：トランスファーライン２００℃、ループ温度２００℃
サンプル量：０．８ｇ／２０ｍｌバイアル
ＧＣ：ＨＰ５８９０（ヒューレットパッカード社製）
ＭＳ：ＨＰ５９７１（ヒューレットパッカード社製）
カラム：ＨＰ−６２４（３０ｍ×内径０．２５ｍｍ）
オーブン温度：初期温度４０℃（保持時間３分）、昇温速度１０℃／分、到達温度２００℃（保持時間５分）
測定モード：ＳＩＭ（セレクトイオンモニター）モード
ヘッドスペース装置：ＨＰ７６９４ Ｈｅａｄ Ｓｐａｃｅ Ｓａｍｐｌｅｒ（ヒューレットパッカード社製）
温度条件：トランスファーライン２００℃、ループ温度２００℃
サンプル量：０．８ｇ／２０ｍｌバイアル
ＧＣ：ＨＰ５８９０（ヒューレットパッカード社製）
ＭＳ：ＨＰ５９７１（ヒューレットパッカード社製）
カラム：ＨＰ−６２４（３０ｍ×内径０．２５ｍｍ）
オーブン温度：初期温度４０℃（保持時間３分）、昇温速度１０℃／分、到達温度２００℃（保持時間５分）
測定モード：ＳＩＭ（セレクトイオンモニター）モード
光学フィルムに含まれる残留溶媒の組成及び量は、光学フィルムの製造工程における、ドープの溶媒組成及び膜状物の乾燥工程における乾燥条件によって調整され得る。
光学フィルムの製造工程における膜状物の残留溶媒量は、下記式で定義される。
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
（上記式中、Ｍは、膜状物の質量を表す。Ｎは、当該膜状物を１２０℃で１時間加熱した後の質量を表す。）
（上記式中、Ｍは、膜状物の質量を表す。Ｎは、当該膜状物を１２０℃で１時間加熱した後の質量を表す。）
剥離して得られた膜状物は、必要に応じて、更に乾燥させてもよい。
（光学特性）
光学フィルムは、全光線透過率が９０％以上であることが好ましく、より好ましくは９２％以上である。また、現実的な上限としては９９％程度である。ヘイズ値は１０％以下であることが好ましく、より好ましくは２％以下である。全光線透過率及びヘイズ値は、それぞれＪＩＳ Ｋ ７３６１及びＪＩＳ Ｋ ７１３６に準じて測定することができる。
光学フィルムは、全光線透過率が９０％以上であることが好ましく、より好ましくは９２％以上である。また、現実的な上限としては９９％程度である。ヘイズ値は１０％以下であることが好ましく、より好ましくは２％以下である。全光線透過率及びヘイズ値は、それぞれＪＩＳ Ｋ ７３６１及びＪＩＳ Ｋ ７１３６に準じて測定することができる。
（リターデーション値）
本発明の光学フィルムの使用用途は特に限定されず、偏光板保護フィルムとして用いられてもよいし、位相差フィルムとして用いられてもよい。位相差フィルムとして用いられる場合は、その用途に応じて種々のリターデーション値をとり得る。
本発明の光学フィルムの使用用途は特に限定されず、偏光板保護フィルムとして用いられてもよいし、位相差フィルムとして用いられてもよい。位相差フィルムとして用いられる場合は、その用途に応じて種々のリターデーション値をとり得る。
例えば、本発明の光学フィルムがＶＡ（Ｖｉｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）液晶用の位相差フィルムとして用いられる場合、測定波長５９０ｎｍ、２３℃・５５％ＲＨの環境下で測定される面内方向のリターデーション値Ｒｏ（ｎｍ）は、１０ｎｍ≦Ｒｏ≦１００ｎｍを満たすことが好ましく、２０ｎｍ≦Ｒｏ≦８０ｎｍを満たすことがより好ましい。厚さ方向のリターデーション値Ｒｔ（ｎｍ）は、７０ｎｍ≦Ｒｔ≦２００ｎｍを満たすことが好ましく、９０ｎｍ≦Ｒｔ≦１５０ｎｍを満たすことがよりに好ましい。
リターデーション値Ｒｏ及びＲｔは、下記式（ｉ）及び（ii）で定義される値である。
式（ｉ）：Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ｎｍ）
式（ii）：Ｒｔ＝［｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２｝−ｎｚ］×ｄ（ｎｍ）
（式（ｉ）及び（ii）中、ｎｘは、光学フィルム面内の遅相軸方向の屈折率を表す。ｎｙは、光学フィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率を表す。ｎｚは、光学フィルムの厚さ方向の屈折率を表す。ｄは、光学フィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。）
式（ii）：Ｒｔ＝［｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２｝−ｎｚ］×ｄ（ｎｍ）
（式（ｉ）及び（ii）中、ｎｘは、光学フィルム面内の遅相軸方向の屈折率を表す。ｎｙは、光学フィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率を表す。ｎｚは、光学フィルムの厚さ方向の屈折率を表す。ｄは、光学フィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。）
本発明の光学フィルムがλ／４フィルムとして用いられる場合、測定波長５９０ｎｍ、２３℃・５５％ＲＨの環境下で測定される面内方向のリターデーション値Ｒｏ（ｎｍ）は、５０ｎｍ≦Ｒｏ≦２５０ｎｍを満たすことが好ましく、７０ｎｍ≦Ｒｏ≦２００ｎｍを満たすことがより好ましい。厚さ方向のリターデーション値Ｒｔ（ｎｍ）は、−２００ｎｍ≦Ｒｔ≦２００ｎｍを満たすことが好ましく、−１２０ｎｍ≦Ｒｔ≦１２０ｎｍを満たすことがより好ましい。
また、本発明の光学フィルムがゼロ位相差フィルムとして用いられる場合、測定波長５９０ｎｍ、２３℃・５５％ＲＨの環境下で測定される面内方向のリターデーション値Ｒｏ（ｎｍ）は、０ｎｍ≦Ｒｏ≦５ｎｍを満たすことが好ましく、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔ（ｎｍ）は、−５ｎｍ≦Ｒｔ≦５ｎｍを満たすことが好ましい。
上記リターデーション値は、例えば、自動複屈折率計アクソスキャン（Ａｘｏ Ｓｃａｎ Ｍｕｅｌｌｅｒ Ｍａｔｒｉｘ Ｐｏｌａｒｉｍｅｔｅｒ：アクソメトリックス社製）を用いて、２３℃・５５％ＲＨの環境下で、波長５９０ｎｍにて求めることができる。上記リターデーション値に制御した光学フィルムを用いることが、タッチパネルや液晶表示装置等の画像表示装置に用いた際の視認性に優れる点から好ましい。リターデーション値は、表面調整剤やその他の添加剤の種類、添加量、光学フィルムの厚さや延伸条件等で調整できる。
（厚さ）
光学フィルムの厚さは、上記リターデーション値ＲｏとＲｔが上記範囲を満たし、かつ薄膜化の観点から、５．０〜４０．０μｍの範囲内であることが好ましい。厚さが５．０μｍ以上であれば、良好な搬送性が得られ、４０．０μｍ以下であれば、耐折り曲げ性を向上させることができる。
光学フィルムの厚さは、上記リターデーション値ＲｏとＲｔが上記範囲を満たし、かつ薄膜化の観点から、５．０〜４０．０μｍの範囲内であることが好ましい。厚さが５．０μｍ以上であれば、良好な搬送性が得られ、４０．０μｍ以下であれば、耐折り曲げ性を向上させることができる。
《２．光学フィルムの製造方法》
本発明の光学フィルムは、溶液流延法で製造される。すなわち、本発明の光学フィルムの製造方法は、少なくともシクロオレフィン樹脂と表面調整剤とを１種類以上の溶媒に溶解させてドープ（樹脂溶液）を得る工程（ドープ調製工程）と、ドープを支持体上に流延した後、剥離して膜状物を得る工程（流延・剥離工程）と、膜状物を乾燥させる工程（乾燥工程）と、を有することが好ましい。また、本発明の光学フィルムの製造方法は、流延・剥離工程と乾燥工程との間に、膜状物を延伸する工程（延伸工程）を有することが好ましく、乾燥工程の後に、得られた光学フィルムを巻き取る工程（巻取り工程）を有することが好ましい。
本発明の光学フィルムは、溶液流延法で製造される。すなわち、本発明の光学フィルムの製造方法は、少なくともシクロオレフィン樹脂と表面調整剤とを１種類以上の溶媒に溶解させてドープ（樹脂溶液）を得る工程（ドープ調製工程）と、ドープを支持体上に流延した後、剥離して膜状物を得る工程（流延・剥離工程）と、膜状物を乾燥させる工程（乾燥工程）と、を有することが好ましい。また、本発明の光学フィルムの製造方法は、流延・剥離工程と乾燥工程との間に、膜状物を延伸する工程（延伸工程）を有することが好ましく、乾燥工程の後に、得られた光学フィルムを巻き取る工程（巻取り工程）を有することが好ましい。
２−１．ドープ調製工程
ドープ調製工程について説明する。ドープ中の樹脂濃度は、高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷を低減できて好ましいが、樹脂の濃度が高すぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０〜４５質量％の範囲内が好ましく、更に好ましくは１５〜４０質量％の範囲内である。
ドープ調製工程について説明する。ドープ中の樹脂濃度は、高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷を低減できて好ましいが、樹脂の濃度が高すぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０〜４５質量％の範囲内が好ましく、更に好ましくは１５〜４０質量％の範囲内である。
ドープに含有される溶剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよいが、樹脂の良溶剤と貧溶剤とを混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤が多い方が樹脂の溶解性の点で好ましい。良溶剤と貧溶剤との混合比率の好ましい範囲は、良溶剤が７０〜９８質量％の範囲内であり、貧溶剤が２〜３０質量％の範囲内である。ここで、良溶剤及び貧溶剤とは、使用する樹脂を、単独で溶解するものを良溶剤、単独では膨潤するか又は溶解しないものを貧溶剤と定義している。
また、ドープの調製に有用な有機溶媒の組み合わせとしては、シクロオレフィン樹脂や、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば特に制限されない。例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、トルエン、ｐ−キシレン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等を挙げることができ、塩化メチレン、トルエン、テトラヒドロフラン、エタノール、アセトンを好ましく使用し得る。
ドープは、シクロオレフィン樹脂、表面調整剤及びその他の添加剤を、上記溶媒に計１５〜４５質量％溶解させたドープであることが好ましい。
上記ドープを調製するときの、溶媒への樹脂の溶解方法としては、一般的な方法を用いることができる。特に、溶解装置への負担低減や、樹脂の着色を防ぐ観点から、常温、常圧での溶解が望ましい。
次に、この樹脂を溶解した溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さすぎると濾過材の目詰まりが発生しやすいという問題がある。このため、絶対濾過精度が０．００８ｍｍ以下の濾材が好ましく、０．００１〜０．００８ｍｍの範囲内の濾材がより好ましく、０．００３〜０．００６ｍｍの範囲内の濾材が更に好ましい。
濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過により、原料の樹脂に含まれていた不純物、特に輝点異物を除去、低減することが好ましい。
輝点異物とは、２枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、その間に光学フィルム等を置き、一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察した時に反対側からの光が漏れて見える点（異物）のことであり、径が０．０１ｍｍ以上である輝点の数が２００個／ｃｍ２以下であることが好ましい。より好ましくは１００個／ｃｍ２以下であり、更に好ましくは５０個／ｍ２以下であり、特に好ましくは０〜１０個／ｃｍ２の範囲内である。また、０．０１ｍｍ以下の輝点も少ない方が好ましい。
ドープの濾過は通常の方法で行うことができるが、溶媒の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶媒が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差（差圧という。）の発現が小さく、好ましい。好ましい温度は４５〜１２０℃の範囲内であり、４５〜７０℃の範囲内がより好ましく、４５〜５５℃の範囲内であることが更に好ましい。
濾圧は小さい方が好ましい。具体的には、濾圧が１．６ＭＰａ以下であることが好ましく、１．２ＭＰａ以下であることがより好ましく、１．０ＭＰａ以下であることが更に好ましい。
濾圧は小さい方が好ましい。具体的には、濾圧が１．６ＭＰａ以下であることが好ましく、１．２ＭＰａ以下であることがより好ましく、１．０ＭＰａ以下であることが更に好ましい。
２−２．流延・剥離工程
流延・剥離工程では、得られたドープを流延ダイから吐出させて金属支持体上に流延し、得られた流延膜を乾燥及び剥離して膜状物を得る。流延幅は、例えば１〜４ｍの範囲内とすることができる。金属支持体としては、ステンレススティールベルト又は鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムを用いることができる。金属支持体の表面は、鏡面仕上げされていることが好ましい。なお、ドープが流延される支持体は金属製に限られるものではなく、樹脂製等、いずれの材質であってもよい。
流延・剥離工程では、得られたドープを流延ダイから吐出させて金属支持体上に流延し、得られた流延膜を乾燥及び剥離して膜状物を得る。流延幅は、例えば１〜４ｍの範囲内とすることができる。金属支持体としては、ステンレススティールベルト又は鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムを用いることができる。金属支持体の表面は、鏡面仕上げされていることが好ましい。なお、ドープが流延される支持体は金属製に限られるものではなく、樹脂製等、いずれの材質であってもよい。
金属支持体の表面温度は、−５０℃〜溶媒の沸点未満の温度で、高い方が膜状物の乾燥速度を高くすることができるので好ましいが、高すぎると膜状物が発泡したり、平面性が劣化したりする。したがって、金属支持体の表面温度は、０〜４０℃の範囲内であることが好ましく、５〜３０℃の範囲内であることがより好ましい。
金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹き付ける方法や、金属支持体の裏側に温水を接触させる方法が挙げられる。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。
温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使用する場合がある。
温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使用する場合がある。
良好な平面性を有する膜状物を得るためには、金属支持体から剥離する際の膜状物の残留溶媒量が、１０〜１５０質量％の範囲内であることが好ましく、２０〜４０質量％又は６０〜１３０質量％の範囲内であることがより好ましく、２０〜３０質量％又は７０〜１２０質量％の範囲内であることが更に好ましい。
ここで、膜状物の残留溶媒量は、下記式で定義される。
ここで、膜状物の残留溶媒量は、下記式で定義される。
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
（上記式中、Ｍは、膜状物の質量を表す。Ｎは、当該膜状物を１２０℃で１時間加熱した後の質量を表す。）
（上記式中、Ｍは、膜状物の質量を表す。Ｎは、当該膜状物を１２０℃で１時間加熱した後の質量を表す。）
本発明においては、金属支持体上にドープを流延したときに、金属支持体界面側と空気界面側との間に極性の差が生まれるため、ドープ中の成分の空気界面における安定化の程度差によって、溶媒の揮発とともに表面調整剤が流延膜中で移動し、表面調整剤が空気界面側に局在した光学フィルムが得られる。さらに、流延されたドープ中にマット剤としての微粒子が含有されている場合には、この微粒子が表面調整剤の局在化に伴って空気界面側に移動するため、得られる光学フィルムにおいて微粒子も空気界面側に局在する。
これにより、溶液流延法を用いて光学フィルムを製造することで、光学フィルムに滑り性を付与して搬送性を向上させることができ、プロテクトフィルムを用いることなく高収率で偏光板等を作製することができる。
これにより、溶液流延法を用いて光学フィルムを製造することで、光学フィルムに滑り性を付与して搬送性を向上させることができ、プロテクトフィルムを用いることなく高収率で偏光板等を作製することができる。
２−３．乾燥工程
乾燥工程は、金属支持体より剥離した膜状物を、残留溶媒量が１０００質量ｐｐｍ以下になるまで乾燥することが好ましく、更に好ましくは８００質量ｐｐｍ以下、特に好ましくは３０〜７００質量ｐｐｍの範囲内である。これにより、光学フィルムを得ることができる。
乾燥工程は、金属支持体より剥離した膜状物を、残留溶媒量が１０００質量ｐｐｍ以下になるまで乾燥することが好ましく、更に好ましくは８００質量ｐｐｍ以下、特に好ましくは３０〜７００質量ｐｐｍの範囲内である。これにより、光学フィルムを得ることができる。
乾燥工程では、一般にローラー乾燥方式（上下に配置した多数のローラーに膜状物を交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式で膜状物を搬送させながら乾燥する方式が採られる。
特に、流延から剥離するまでの間で、上記金属支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。
特に、流延から剥離するまでの間で、上記金属支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。
２−４．延伸工程
延伸工程では、剥離して得られた膜状物を延伸して位相差の調整を行う。
延伸は、少なくとも一方向に行うことができる。延伸方向は、膜状物の長手方向（ＭＤ方向）、膜状物の長手方向と直交する幅手方向（ＴＤ方向）、及び膜状物の長手方向に対して斜め方向のいずれであってもよい。延伸は、逐次延伸でもよいし、同時延伸でもよい。
延伸工程では、剥離して得られた膜状物を延伸して位相差の調整を行う。
延伸は、少なくとも一方向に行うことができる。延伸方向は、膜状物の長手方向（ＭＤ方向）、膜状物の長手方向と直交する幅手方向（ＴＤ方向）、及び膜状物の長手方向に対して斜め方向のいずれであってもよい。延伸は、逐次延伸でもよいし、同時延伸でもよい。
互いに直交する２軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的にはＭＤ方向に１．０〜２．０倍の範囲内、ＴＤ方向に１．０５〜２．０倍の範囲内とすることが好ましく、ＭＤ方向に１．０〜１．５倍の範囲内、ＴＤ方向に１．０５〜２．０倍の範囲内とすることがより好ましい。例えば、複数のローラーに周速差をつけ、その間でローラー周速差を利用してＭＤ方向に延伸する方法、膜状物の両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げてＭＤ方向に延伸する方法、同様に横方向に広げてＴＤ方向に延伸する方法、又はＭＤ方向及びＴＤ方向に同時に広げて両方向に延伸する方法等が挙げられる。
延伸工程におけるこれらの幅保持又は幅手方向の延伸は、テンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよい。
テンター等のフィルム搬送張力は温度にもよるが、１２０〜２００Ｎ／ｍの範囲内が好ましく、１４０〜２００Ｎ／ｍの範囲内が更に好ましく、１４０〜１６０Ｎ／ｍの範囲内が最も好ましい。
延伸する際の温度は、光学フィルムのガラス転移温度をＴｇとすると、（Ｔｇ−３０）〜（Ｔｇ＋１００）℃の範囲内が好ましく、（Ｔｇ−２０）〜（Ｔｇ＋８０）℃の範囲内がより好ましく、（Ｔｇ−５）〜（Ｔｇ＋２０）℃の範囲内が更に好ましい。
光学フィルムのガラス転移温度は、光学フィルムを構成する材料種及び構成する材料の比率によって制御することができる。光学フィルムの乾燥時のガラス転移温度は、１１０℃以上が好ましく、１２０℃以上が更に好ましく、１５０℃以上が特に好ましい。また、光学フィルムのガラス転移温度は、１９０℃以下が好ましく、１７０℃以下がより好ましい。光学フィルムのガラス転移温度は、ＪＩＳ Ｋ ７１２１に記載の方法等に準拠して求めることができる。
延伸する際の光学フィルムの温度を（Ｔｇ＋１０）℃以上とし、延伸倍率を１．１０倍以上とすると、光学フィルムの表面に適度な粗さを付与できるため好ましい。光学フィルム表面に適度な粗さを付与することにより、滑り性が向上するとともに、表面加工性が向上するため好ましい。
２−５．巻取り工程
巻取り工程では、得られた光学フィルムを、巻取り機で巻き取る。巻取り方法は、一般に使用される方法を採用でき、例えば、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等を用いることができる。
巻取り工程では、得られた光学フィルムを、巻取り機で巻き取る。巻取り方法は、一般に使用される方法を採用でき、例えば、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等を用いることができる。
本発明の光学フィルムは、長尺状であることが好ましく、具体的には、長さが１００〜７０００ｍ程度であることが好ましい。このような長尺状の光学フィルムは、通常、長さ方向に対して直交する方向を巻取り軸として巻き取ったロール体で提供され得る。光学フィルムの幅は、１．３〜４ｍの範囲内であることが好ましく、１．４〜２ｍの範囲内であることがより好ましい。光学フィルムの長さ及び幅を当該範囲内とすることで、機能性層等の塗布における加工適性や光学フィルム自体のハンドリング性に優れる。
巻き取る前に、製品となる幅になるように、光学フィルムの端部をスリットして裁ち落とし、巻取り中の貼付きや擦り傷防止のために、ナール加工（エンボッシング加工）を両端に施してもよい。ナール加工の方法としては、凹凸のパターンを側面に有する金属リングを用いて、光学フィルムに対して加熱や加圧をすることにより加工する方法を挙げることができる。光学フィルム両端部のクリップによる把持部分は、通常、変形しており、製品として使用できないため切除され、その切除片は原料として再利用される。
《３．偏光板》
本発明の偏光板は、偏光子と、偏光板保護フィルムとしての上記光学フィルムと、を備えることを特徴とする。
本発明の偏光板は、偏光子と、偏光板保護フィルムとしての上記光学フィルムと、を備えることを特徴とする。
本発明の偏光板は、一般的な方法で作製することができる。例えば、本発明の光学フィルムをコロナ放電処理（詳細は後述する。）し、処理した光学フィルムをヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の少なくとも一方の面に、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。偏光子は、本発明の光学フィルムのケイ素原子が局在した表面側に貼合される。
偏光子のもう一方の面には、上記光学フィルムや、市販品であるＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ６ＵＡ、ＫＣ４ＵＡ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ４ＣＺ、ＫＣ８ＵＣＲ、ＫＣ４ＦＲ（コニカミノルタ（株）製）、アートンフィルム（ＪＳＲ（株）製）、ゼオノアフィルム（日本ゼオン（株）製）等を貼り合わせることができる。
偏光子は、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムである。ポリビニルアルコール系偏光フィルムには、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものとがある。
ポリビニルアルコール系偏光フィルムは、ポリビニルアルコール系フィルムを一軸延伸した後、ヨウ素又は二色性染料で染色したフィルム（好ましくは更にホウ素化合物で耐久性処理を施したフィルム）であってもよいし、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素又は二色性染料で染色した後、一軸延伸したフィルム（好ましくは、更にホウ素化合物で耐久性処理を施したフィルム）であってもよい。偏光子の吸収軸は、通常、最大延伸方向と平行である。
偏光子としては、例えば、特開２００３−２４８１２３号公報、特開２００３−３４２３２２号公報等に記載のエチレン単位の含有量１〜４モル％の範囲内、重合度２０００〜４０００の範囲内、ケン化度９９．０〜９９．９９モル％の範囲内のエチレン変性ポリビニルアルコールが用いられる。中でも、熱水切断温度が６６〜７３℃の範囲内であるエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムが好ましく用いられる。
偏光子の厚さは、５〜３０μｍの範囲内であることが好ましく、偏光板を薄型化する観点等から、５〜２０μｍの範囲内であることがより好ましい。
（表面改質処理）
本発明の光学フィルムを接着剤を用いて偏光子と接着させる際には、表面改質処理を施して、フィルム表面を活性化させることが好ましい。具体的な処理としては、コロナ放電処理、プラズマ放電処理、フレーム処理、オゾン処理、プライマー処理、グロー放電処理、ケン化処理、カップリング剤による処理などが挙げられるが、生産性の観点から、特にプラズマ放電処理又はコロナ放電処理が好ましい。
本発明の光学フィルムを接着剤を用いて偏光子と接着させる際には、表面改質処理を施して、フィルム表面を活性化させることが好ましい。具体的な処理としては、コロナ放電処理、プラズマ放電処理、フレーム処理、オゾン処理、プライマー処理、グロー放電処理、ケン化処理、カップリング剤による処理などが挙げられるが、生産性の観点から、特にプラズマ放電処理又はコロナ放電処理が好ましい。
コロナ放電処理とは、誘電体と絶縁された電極間に高周波・高電圧をかけてコロナを発生させ、誘電体と電極との間に基材フィルムを通過させることで、基材フィルムの表面を処理する方法である。これにより、基材フィルムの表面の接着性が高められる。電極の材質の例には、セラミックス及びアルミが含まれる。電極と誘電体との距離は、１〜５ｍｍの範囲内であることが好ましく、１〜３ｍｍの範囲内であることがより好ましい。ライン速度（移動速度）は、３〜７０ｍ／分程度が好ましく、３〜５０ｍ／分程度がより好ましい。
コロナ出力強度は、０．２〜３ｋＷの範囲内であることが好ましく、０．５〜１．５ｋＷの範囲内であることがより好ましい。コロナ出力強度が０．２ｋＷ以上であれば、コロナ放電が安定になり、基材フィルムの表面に安定した接着力を付与することができ、コロナ出力強度が３．０ｋＷ以下であれば、基材フィルムが傷付きにくい。コロナ放電処理における電子照射量は、１００〜１０００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２とし得る。
プラズマ放電処理は、減圧下又は大気圧下で発生させた不活性ガスや酸素ガス等のガス雰囲気下で、プラズマ放電をすることにより、基材フィルムの表面を活性化させる処理である。ローラーを用いた搬送下で効率よく生産するためには、大気圧下でのプラズマ放電処理が好ましい。
プラズマ放電処理は、ガスの種類を種々変更することにより基材層の表面を種々に改質することができる。そのため、基材層の表面を活性化するにあたり、適宜任意にガスの種類を選択することができる。ガスの種類の例には、窒素、酸素、アルゴン、ヘリウム、アクリル酸、ヒドロキシアルキルや、ＣＦ４、ＣＨＦ３、Ｃ２Ｆ６等のフッ素系化合物が含まれる。
プラズマ出力は、０．２〜３ｋＷの範囲内であることが好ましい。ライン速度（移動速度）は、３〜７０ｍ／分の範囲内であることが好ましく、３〜５０ｍ／分の範囲内であることがより好ましい。周波数は、３〜３０ｋＨｚの範囲内であることが好ましく、５〜２０ｋＨｚの範囲内であることがより好ましい。
《４．画像表示装置》
本発明の画像表示装置は、上記光学フィルムを有する偏光板を備えることを特徴とする。これにより、視認性やムラに優れる性能が発揮される点で好ましい。画像表示装置としては、反射型、透過型、半透過型液晶表示装置、又は、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＶＡ型、ＩＰＳ型、ＥＣＢ型等の各種駆動方式の液晶表示装置、タッチパネル表示装置、有機ＥＬ表示装置やプラズマディスプレイ等が挙げられる。
また、本発明の光学フィルムは、例えば、液晶表示装置（上面側偏光板／液晶セル／下面側偏光板構成）の上面側偏光板の下にタッチパネル部材を用いたインナータッチパネルや静電容量方式のタッチパネル等にも使用することができる。
本発明の画像表示装置は、上記光学フィルムを有する偏光板を備えることを特徴とする。これにより、視認性やムラに優れる性能が発揮される点で好ましい。画像表示装置としては、反射型、透過型、半透過型液晶表示装置、又は、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＶＡ型、ＩＰＳ型、ＥＣＢ型等の各種駆動方式の液晶表示装置、タッチパネル表示装置、有機ＥＬ表示装置やプラズマディスプレイ等が挙げられる。
また、本発明の光学フィルムは、例えば、液晶表示装置（上面側偏光板／液晶セル／下面側偏光板構成）の上面側偏光板の下にタッチパネル部材を用いたインナータッチパネルや静電容量方式のタッチパネル等にも使用することができる。
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
まず、本実施例において使用する各種材料について説明する。
（１）シクロオレフィン系樹脂
Ｇ７８１０：ＡＲＴＯＮ−Ｇ７８１０（ＪＳＲ社製）、重量平均分子量（Ｍｗ）＝１４００００（式（Ａ−２）で表される単量体と他の単量体との共重合体（前述の（５）の重合体））
Ｒ５０００：ＡＲＴＯＮ−Ｒ５０００（ＪＳＲ社製）、重量平均分子量（Ｍｗ）＝５００００（式（Ａ−１）で表される単量体と、式（Ａ−２）で表される単量体と、他の単量体との共重合体（前述の（５）の重合体））
ＲＸ４５００：ＡＲＴＯＮ−ＲＸ４５００（ＪＳＲ社製）、重量平均分子量（Ｍｗ）＝６３０００（式（Ａ−１）で表される単量体と、式（Ａ−２）で表される単量体と、他の単量体との共重合体（前述の（５）の重合体））
Ｇ７８１０：ＡＲＴＯＮ−Ｇ７８１０（ＪＳＲ社製）、重量平均分子量（Ｍｗ）＝１４００００（式（Ａ−２）で表される単量体と他の単量体との共重合体（前述の（５）の重合体））
Ｒ５０００：ＡＲＴＯＮ−Ｒ５０００（ＪＳＲ社製）、重量平均分子量（Ｍｗ）＝５００００（式（Ａ−１）で表される単量体と、式（Ａ−２）で表される単量体と、他の単量体との共重合体（前述の（５）の重合体））
ＲＸ４５００：ＡＲＴＯＮ−ＲＸ４５００（ＪＳＲ社製）、重量平均分子量（Ｍｗ）＝６３０００（式（Ａ−１）で表される単量体と、式（Ａ−２）で表される単量体と、他の単量体との共重合体（前述の（５）の重合体））
（２）表面調整剤（有機ケイ素化合物）
ＧＬ−０１：アクリル変性シリコーン（共栄社化学社製、固形分濃度２０質量％）、重量平均分子量（Ｍｗ）＝５２００、表面張力＝３０ｍＮ／ｍ
ＧＬ−０３：アクリル変性シリコーン（共栄社化学社製、固形分濃度２０質量％）、重量平均分子量（Ｍｗ）＝４１００、表面張力＝２６ｍＮ／ｍ
ＧＬ−０４Ｒ：アクリル変性シリコーン（共栄社化学社製、固形分濃度２０質量％）、重量平均分子量（Ｍｗ）＝４７００、表面張力＝２８ｍＮ／ｍ
ＴＭＳＯＨ：トリメチルシラノール（信越化学社製）、重量平均分子量（Ｍｗ）＝９０、表面張力＝５０ｍＮ／ｍ
ＧＬ−０１：アクリル変性シリコーン（共栄社化学社製、固形分濃度２０質量％）、重量平均分子量（Ｍｗ）＝５２００、表面張力＝３０ｍＮ／ｍ
ＧＬ−０３：アクリル変性シリコーン（共栄社化学社製、固形分濃度２０質量％）、重量平均分子量（Ｍｗ）＝４１００、表面張力＝２６ｍＮ／ｍ
ＧＬ−０４Ｒ：アクリル変性シリコーン（共栄社化学社製、固形分濃度２０質量％）、重量平均分子量（Ｍｗ）＝４７００、表面張力＝２８ｍＮ／ｍ
ＴＭＳＯＨ：トリメチルシラノール（信越化学社製）、重量平均分子量（Ｍｗ）＝９０、表面張力＝５０ｍＮ／ｍ
（３）マット剤
Ｒ８１２：シリカ微粒子（日本アエロジル社製）、平均一次粒子径７ｎｍ
Ｒ８１６：シリカ微粒子（日本アエロジル社製）、平均一次粒子径１２ｎｍ
Ｒ１０６：シリカ微粒子（日本アエロジル社製）、平均一次粒子径７ｎｍ
Ｒ９７２Ｖ：シリカ微粒子（日本アエロジル社製）、平均一次粒子径１２ｎｍ
２００Ｖ：シリカ微粒子（日本アエロジル社製）、平均一次粒子径１２ｎｍ
３００Ｖ：シリカ微粒子（日本アエロジル社製）、平均一次粒子径７ｎｍ
ＳｉＯ２：シリカ微粒子（ＣＩＫナノテック社製）、平均一次粒子径１１０ｎｍ
Ｒ８１２：シリカ微粒子（日本アエロジル社製）、平均一次粒子径７ｎｍ
Ｒ８１６：シリカ微粒子（日本アエロジル社製）、平均一次粒子径１２ｎｍ
Ｒ１０６：シリカ微粒子（日本アエロジル社製）、平均一次粒子径７ｎｍ
Ｒ９７２Ｖ：シリカ微粒子（日本アエロジル社製）、平均一次粒子径１２ｎｍ
２００Ｖ：シリカ微粒子（日本アエロジル社製）、平均一次粒子径１２ｎｍ
３００Ｖ：シリカ微粒子（日本アエロジル社製）、平均一次粒子径７ｎｍ
ＳｉＯ２：シリカ微粒子（ＣＩＫナノテック社製）、平均一次粒子径１１０ｎｍ
《光学フィルムの作製》
〈光学フィルム１０１の作製〉
（ドープの調製）
下記組成のドープを調製し、これを密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、ドープを調製した。
〈光学フィルム１０１の作製〉
（ドープの調製）
下記組成のドープを調製し、これを密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、ドープを調製した。
シクロオレフィン樹脂：Ｇ７８１０ １２０質量部
紫外線吸収剤：ＴＩＮＵＶＩＮ ９２８（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ３質量部
メチレンクロライド ３５７質量部
エタノール １９質量部
紫外線吸収剤：ＴＩＮＵＶＩＮ ９２８（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ３質量部
メチレンクロライド ３５７質量部
エタノール １９質量部
次に、ベルト流延製膜装置を用い、ステンレスバンド支持体上に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が８０質量％になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。得られたウェブを３５℃に保持して更に溶媒を蒸発させ、１．１５ｍ幅にスリットし、１６０℃の乾燥温度で乾燥させた。その後、１３０℃の乾燥装置内を多数のローラーで搬送させながら１５分間乾燥させた後、１．０ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ２μｍのナーリング加工を施し、巻芯に巻き取り、光学フィルム１０１を作製した。光学フィルム１０１の厚さは１０．０μｍ、巻長は５０００ｍであった。なお、ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるＭＤ方向の延伸倍率は１．０１倍であった。
〈光学フィルム１０２の作製〉
（二酸化ケイ素分散希釈液の調製）
マット剤としての１０質量部のＲ８１２と、８０質量部のエタノールとをディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行い、二酸化ケイ素分散液を調製した。調製した二酸化ケイ素分散液に、８０質量部のメチレンクロライドを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、微粒子分散希釈液濾過器（アドバンテック東洋（株）：ポリプロピレンワインドカートリッジフィルターＴＣＷ−ＰＰＳ−１Ｎ）で濾過して二酸化ケイ素分散希釈液を調製した。
（二酸化ケイ素分散希釈液の調製）
マット剤としての１０質量部のＲ８１２と、８０質量部のエタノールとをディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行い、二酸化ケイ素分散液を調製した。調製した二酸化ケイ素分散液に、８０質量部のメチレンクロライドを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、微粒子分散希釈液濾過器（アドバンテック東洋（株）：ポリプロピレンワインドカートリッジフィルターＴＣＷ−ＰＰＳ−１Ｎ）で濾過して二酸化ケイ素分散希釈液を調製した。
（ドープの調製）
下記組成のドープを調製し、これを密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、ドープを調製した。
下記組成のドープを調製し、これを密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、ドープを調製した。
シクロオレフィン樹脂：Ｇ７８１０ １２０質量部
マット剤：二酸化ケイ素分散希釈液 ２０質量部
紫外線吸収剤：ＴＩＮＵＶＩＮ ９２８（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ３質量部
メチレンクロライド ３５６質量部
エタノール １４質量部
マット剤：二酸化ケイ素分散希釈液 ２０質量部
紫外線吸収剤：ＴＩＮＵＶＩＮ ９２８（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ３質量部
メチレンクロライド ３５６質量部
エタノール １４質量部
（シクロオレフィン樹脂層の形成）
次に、ベルト流延製膜装置を用い、ステンレスバンド支持体上に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が８０質量％になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。得られたウェブを３５℃に保持して更に溶媒を蒸発させ、１．１５ｍ幅にスリットし、１６０℃の乾燥温度で乾燥させた。その後、１３０℃の乾燥装置内を多数のローラーで搬送させながら１５分間乾燥させた後、１．０ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ２μｍのナーリング加工を施し、巻芯に巻き取り、シクロオレフィン樹脂層を形成した。シクロオレフィン樹脂層の厚さは１０．０μｍ、巻長は５０００ｍであった。なお、ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるＭＤ方向の延伸倍率は１．０１倍であった。
次に、ベルト流延製膜装置を用い、ステンレスバンド支持体上に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が８０質量％になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。得られたウェブを３５℃に保持して更に溶媒を蒸発させ、１．１５ｍ幅にスリットし、１６０℃の乾燥温度で乾燥させた。その後、１３０℃の乾燥装置内を多数のローラーで搬送させながら１５分間乾燥させた後、１．０ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ２μｍのナーリング加工を施し、巻芯に巻き取り、シクロオレフィン樹脂層を形成した。シクロオレフィン樹脂層の厚さは１０．０μｍ、巻長は５０００ｍであった。なお、ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるＭＤ方向の延伸倍率は１．０１倍であった。
（下塗り層の形成）
特開２０１５−１６０４３４号公報の実施例１を参照して、シクロオレフィン樹脂層上に下塗り層を形成した。
具体的には、下記組成の下塗り層形成用塗布液を調製した。
特開２０１５−１６０４３４号公報の実施例１を参照して、シクロオレフィン樹脂層上に下塗り層を形成した。
具体的には、下記組成の下塗り層形成用塗布液を調製した。
ウレタン系バインダー（タケラックＷＳ５１００、三井武田ケミカル（株）製、濃度３０質量％） ３．９０質量部
オキサゾリン基含有水分散性ポリマー（エポクロスＫ−２０１０Ｅ、Ｔｇ＝−５０℃、日本触媒（株）製、固形分濃度：４０質量％） ０．３２質量部
コロイダルシリカ（スノーテックスＵＰ、日産化学（株）製、固形分濃度：１０質量％水希釈） ０．２７質量部
滑り剤：カルナバワックス（セロゾール５２４、中京油脂（株）製、固形分濃度：３質量％水希釈） １．６７質量部
・界面活性剤Ａ：界面活性剤（ナロアクティーＣＬ９５、三洋化成工業（株）製、固形分濃度：１質量％水溶液） １．６７質量部
界面活性剤Ｂ：界面活性剤（ラピゾールＡ−９０、日油（株）製、固形分濃度：１質量％水溶液） ２．６７質量部
蒸留水 ８９．５０質量部
オキサゾリン基含有水分散性ポリマー（エポクロスＫ−２０１０Ｅ、Ｔｇ＝−５０℃、日本触媒（株）製、固形分濃度：４０質量％） ０．３２質量部
コロイダルシリカ（スノーテックスＵＰ、日産化学（株）製、固形分濃度：１０質量％水希釈） ０．２７質量部
滑り剤：カルナバワックス（セロゾール５２４、中京油脂（株）製、固形分濃度：３質量％水希釈） １．６７質量部
・界面活性剤Ａ：界面活性剤（ナロアクティーＣＬ９５、三洋化成工業（株）製、固形分濃度：１質量％水溶液） １．６７質量部
界面活性剤Ｂ：界面活性剤（ラピゾールＡ−９０、日油（株）製、固形分濃度：１質量％水溶液） ２．６７質量部
蒸留水 ８９．５０質量部
次いで、シクロオレフィン樹脂層上の一方の表面上に、８ｋＪ／ｍ２の条件でコロナ放電処理を行い、このコロナ放電処理を行った表面に下塗り層形成用塗布液を、乾燥後の膜厚が９０ｎｍになるように塗布し、膜面温度９０℃で１分間乾燥させて、下塗り層を形成し、厚さ１０．１μｍの光学フィルム１０２を作製した。
〈光学フィルム１０３の作製〉
（ドープの調製）
下記組成のドープを調製し、これを密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、ドープを調製した。
（ドープの調製）
下記組成のドープを調製し、これを密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、ドープを調製した。
（ドープの調製）
シクロオレフィン樹脂：Ｇ７８１０ １２０質量部
表面調整剤：ＧＬ−０３ ０．６質量部
紫外線吸収剤：ＴＩＮＵＶＩＮ ９２８（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ３質量部
メチレンクロライド ３６５質量部
エタノール ２３質量部
シクロオレフィン樹脂：Ｇ７８１０ １２０質量部
表面調整剤：ＧＬ−０３ ０．６質量部
紫外線吸収剤：ＴＩＮＵＶＩＮ ９２８（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ３質量部
メチレンクロライド ３６５質量部
エタノール ２３質量部
次に、ベルト流延製膜装置を用い、ステンレスバンド支持体上に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が８０質量％になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。得られたウェブを３５℃に保持して更に溶媒を蒸発させ、１．１５ｍ幅にスリットし、１６０℃の乾燥温度で乾燥させた。その後、１３０℃の乾燥装置内を多数のローラーで搬送させながら１５分間乾燥させた後、１．０ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ２μｍのナーリング加工を施し、巻芯に巻き取り、光学フィルム１０３を作製した。光学フィルム１０３の厚さは１０．０μｍ、巻長は５０００ｍであった。なお、ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるＭＤ方向の延伸倍率は１．０１倍であった。
〈光学フィルム１０４〜１１１の作製〉
光学フィルム１０３の作製において、シクロオレフィン樹脂の材料種、並びに表面調製剤の材料種及びその光学フィルム中の含有量が表１に記載のとおりとなるように変更した以外は同様にして、光学フィルム１０４〜１１１を作製した。
光学フィルム１０３の作製において、シクロオレフィン樹脂の材料種、並びに表面調製剤の材料種及びその光学フィルム中の含有量が表１に記載のとおりとなるように変更した以外は同様にして、光学フィルム１０４〜１１１を作製した。
〈光学フィルム１１２の作製〉
（二酸化ケイ素分散希釈液の調製）
マット剤としての１０質量部のＲ８１２と、８０質量部のエタノールとをディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行い、二酸化ケイ素分散液を調製した。調製した二酸化ケイ素分散液に、８０質量部のメチレンクロライドを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、微粒子分散希釈液濾過器（アドバンテック東洋（株）：ポリプロピレンワインドカートリッジフィルターＴＣＷ−ＰＰＳ−１Ｎ）で濾過して二酸化ケイ素分散希釈液を調製した。
（二酸化ケイ素分散希釈液の調製）
マット剤としての１０質量部のＲ８１２と、８０質量部のエタノールとをディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行い、二酸化ケイ素分散液を調製した。調製した二酸化ケイ素分散液に、８０質量部のメチレンクロライドを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、微粒子分散希釈液濾過器（アドバンテック東洋（株）：ポリプロピレンワインドカートリッジフィルターＴＣＷ−ＰＰＳ−１Ｎ）で濾過して二酸化ケイ素分散希釈液を調製した。
（ドープの調製）
下記組成のドープを調製し、これを密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、ドープを調製した。
下記組成のドープを調製し、これを密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、ドープを調製した。
シクロオレフィン樹脂：Ｇ７８１０ １２０質量部
マット剤：二酸化ケイ素分散希釈液 ４質量部
紫外線吸収剤：ＴＩＮＵＶＩＮ ９２８（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ３質量部
メチレンクロライド ３６１質量部
エタノール ２１質量部
マット剤：二酸化ケイ素分散希釈液 ４質量部
紫外線吸収剤：ＴＩＮＵＶＩＮ ９２８（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ３質量部
メチレンクロライド ３６１質量部
エタノール ２１質量部
次に、ベルト流延製膜装置を用い、ステンレスバンド支持体上に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が８０質量％になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。得られたウェブを３５℃に保持して更に溶媒を蒸発させ、１．１５ｍ幅にスリットし、１６０℃の乾燥温度で乾燥させた。その後、１３０℃の乾燥装置内を多数のローラーで搬送させながら１５分間乾燥させた後、１．０ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ２μｍのナーリング加工を施し、巻芯に巻き取り、光学フィルム１１２を作製した。光学フィルム１１２の厚さは１０．０μｍ、巻長は５０００ｍであった。なお、ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるＭＤ方向の延伸倍率は１．０１倍であった。
〈光学フィルム１１３の作製〉
光学フィルム１１２の作製において、マット剤としての微粒子の光学フィルム中の含有量が表１に記載のとおりとなるように変更した以外は同様にして、光学フィルム１１３を作製した。
光学フィルム１１２の作製において、マット剤としての微粒子の光学フィルム中の含有量が表１に記載のとおりとなるように変更した以外は同様にして、光学フィルム１１３を作製した。
〈光学フィルム１１４の作製〉
（二酸化ケイ素分散希釈液の調製）
マット剤としての１０質量部のＲ８１２と、８０質量部のエタノールとをディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行い、二酸化ケイ素分散液を調製した。調製した二酸化ケイ素分散液に、８０質量部のメチレンクロライドを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、微粒子分散希釈液濾過器（アドバンテック東洋（株）：ポリプロピレンワインドカートリッジフィルターＴＣＷ−ＰＰＳ−１Ｎ）で濾過して二酸化ケイ素分散希釈液を調製した。
（二酸化ケイ素分散希釈液の調製）
マット剤としての１０質量部のＲ８１２と、８０質量部のエタノールとをディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行い、二酸化ケイ素分散液を調製した。調製した二酸化ケイ素分散液に、８０質量部のメチレンクロライドを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、微粒子分散希釈液濾過器（アドバンテック東洋（株）：ポリプロピレンワインドカートリッジフィルターＴＣＷ−ＰＰＳ−１Ｎ）で濾過して二酸化ケイ素分散希釈液を調製した。
（ドープの調製）
下記組成のドープを調製し、これを密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、ドープを調製した。
下記組成のドープを調製し、これを密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、ドープを調製した。
（ドープの調製）
シクロオレフィン樹脂：Ｇ７８１０ １２０質量部
表面調整剤：ＧＬ−０３ １．９質量部
マット剤：二酸化ケイ素分散希釈液 ６質量部
紫外線吸収剤：ＴＩＮＵＶＩＮ ９２８（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ３質量部
メチレンクロライド ３６０質量部
エタノール ２０質量部
シクロオレフィン樹脂：Ｇ７８１０ １２０質量部
表面調整剤：ＧＬ−０３ １．９質量部
マット剤：二酸化ケイ素分散希釈液 ６質量部
紫外線吸収剤：ＴＩＮＵＶＩＮ ９２８（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ３質量部
メチレンクロライド ３６０質量部
エタノール ２０質量部
次に、ベルト流延製膜装置を用い、ステンレスバンド支持体上に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が８０質量％になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。得られたウェブを３５℃に保持して更に溶媒を蒸発させ、１．１５ｍ幅にスリットし、１６０℃の乾燥温度で乾燥させた。その後、１３０℃の乾燥装置内を多数のローラーで搬送させながら１５分間乾燥させた後、１．０ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ２μｍのナーリング加工を施し、巻芯に巻き取り、光学フィルム１１４を作製した。光学フィルム１１４の厚さは１０．０μｍ、巻長は５０００ｍであった。なお、ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるＭＤ方向の延伸倍率は１．０１倍であった。
〈光学フィルム１１５〜１２８の作製〉
光学フィルム１１４の作製において、表面調整剤及びマット剤の材料種及びその光学フィルム中の含有量、並びに光学フィルムの厚さを表１に記載のとおりに変更した以外は同様にして、光学フィルム１１５〜１２８を作製した。
光学フィルム１１４の作製において、表面調整剤及びマット剤の材料種及びその光学フィルム中の含有量、並びに光学フィルムの厚さを表１に記載のとおりに変更した以外は同様にして、光学フィルム１１５〜１２８を作製した。
《評価》
作製した光学フィルム１０１〜１２８について、以下の各評価を行った。評価結果を表１に示す。
作製した光学フィルム１０１〜１２８について、以下の各評価を行った。評価結果を表１に示す。
〈ケイ素原子の含有量の測定〉
各光学フィルムの作製時に空気界面と触れていた面をＡ面、ステンレスバンド支持体に触れていた面をＢ面とし、これら各面についてＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析装置を用いて、下記測定条件でケイ素原子の含有量を分析した。
各光学フィルムの作製時に空気界面と触れていた面をＡ面、ステンレスバンド支持体に触れていた面をＢ面とし、これら各面についてＴＯＦ−ＳＩＭＳ分析装置を用いて、下記測定条件でケイ素原子の含有量を分析した。
（測定条件）
測定装置：２１００ＴＲＩＦＴ２（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ社製）
測定モード：冷却測定（温度範囲−１０５〜−９５℃）
１次イオン：Ｇａ（１５ｋＶ）
測定領域：６０μｍ角
積算時間：２分
測定装置：２１００ＴＲＩＦＴ２（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ社製）
測定モード：冷却測定（温度範囲−１０５〜−９５℃）
１次イオン：Ｇａ（１５ｋＶ）
測定領域：６０μｍ角
積算時間：２分
なお、測定及び解析は、Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ社製ＷＩＮ−Ｃａｄｅｎｃｅ Ｖｅｒ４．０．０．１４にて行った。
各光学フィルム断面に対して上記分析を行い、得られたピークの積分値から、光学フィルム表面（Ａ面）から光学フィルムの厚さ方向１０％の深さまでの領域におけるケイ素原子の含有量（ａｔ％）を算出した。
各光学フィルム断面に対して上記分析を行い、得られたピークの積分値から、光学フィルム表面（Ａ面）から光学フィルムの厚さ方向１０％の深さまでの領域におけるケイ素原子の含有量（ａｔ％）を算出した。
〈搬送性の評価〉
偏光板を作製する際の搬送途中に発生したツレ、シワについて、以下の評価基準に従って評価した。
偏光板を作製する際の搬送途中に発生したツレ、シワについて、以下の評価基準に従って評価した。
○：目視で全く認識できない
△：フィルム端に認識される
×：フィルム全体に確認される
△：フィルム端に認識される
×：フィルム全体に確認される
〈偏光子との接着性の評価〉
（偏光子の作製）
厚さ２５μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３５℃の水で膨潤させた。得られたフィルムを、ヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ及び水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、更にヨウ化カリウム３ｇ、ホウ酸７．５ｇ及び水１００ｇからなる４５℃の水溶液に浸漬した。得られたフィルムを、延伸温度５５℃、延伸倍率５倍の条件で一軸延伸した。この一軸延伸フィルムを、水洗した後、乾燥させて、厚さ７μｍの偏光子を得た。
（偏光子の作製）
厚さ２５μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３５℃の水で膨潤させた。得られたフィルムを、ヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ及び水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、更にヨウ化カリウム３ｇ、ホウ酸７．５ｇ及び水１００ｇからなる４５℃の水溶液に浸漬した。得られたフィルムを、延伸温度５５℃、延伸倍率５倍の条件で一軸延伸した。この一軸延伸フィルムを、水洗した後、乾燥させて、厚さ７μｍの偏光子を得た。
（評価用サンプルの作製）
得られた各光学フィルムに対し、コロナ放電処理を施した。コロナ放電における誘電体との距離は２ｍｍ、電子照射量は５００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２とした。
得られた各光学フィルムに対し、コロナ放電処理を施した。コロナ放電における誘電体との距離は２ｍｍ、電子照射量は５００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２とした。
次いで、コロナ放電処理した各光学フィルム上に、水系接着剤であるポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３質量％水溶液を塗布した後、上記作製した偏光子を貼り合わせた。貼り合わせは、光学フィルムの遅相軸と偏光子の吸収軸とが直交するように行った。得られた積層物を６０℃で５分間乾燥させて、評価用サンプルを得た。
得られた評価用サンプルを、２３℃・５５％ＲＨの環境下で２４時間放置した。その後、評価用サンプルの偏光子と光学フィルムとの接着面を手で引き剥がしたとき、光学フィルムに材料破壊の発生の有無、及び剥離の程度を目視観察して、以下の評価基準に従って接着性を評価した。〇以上であれば実用上問題ないレベルと判断した。
◎：剥がれない
○：光学フィルムと偏光子との間の接着力に問題はなく、光学フィルムを剥がそうとすると、光学フィルムと偏光子の少なくとも一方の端部の一部に材料（基材）破壊が生じる
△：光学フィルムと偏光子との界面の一部が剥がれる
×：光学フィルムと偏光子との界面の全部が剥がれる
○：光学フィルムと偏光子との間の接着力に問題はなく、光学フィルムを剥がそうとすると、光学フィルムと偏光子の少なくとも一方の端部の一部に材料（基材）破壊が生じる
△：光学フィルムと偏光子との界面の一部が剥がれる
×：光学フィルムと偏光子との界面の全部が剥がれる
〈耐折り曲げ性の評価〉
各光学フィルムを、１．５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出して試料片とした。この試料片を、２５℃・６０％ＲＨの環境下、ＭＩＴ耐折疲労試験機（東洋精機製）にセットし、折り曲げ速度１７０ｒｐｍ、折り曲げ角度１３５°、チャック先端半径（折り曲げクランプの先端半径）０．３５ｍｍ、及び荷重４．９Ｎの条件で折り曲げたときの割れの有無を、以下の評価基準に従って評価した。
各光学フィルムを、１．５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出して試料片とした。この試料片を、２５℃・６０％ＲＨの環境下、ＭＩＴ耐折疲労試験機（東洋精機製）にセットし、折り曲げ速度１７０ｒｐｍ、折り曲げ角度１３５°、チャック先端半径（折り曲げクランプの先端半径）０．３５ｍｍ、及び荷重４．９Ｎの条件で折り曲げたときの割れの有無を、以下の評価基準に従って評価した。
◎：２５００回折り曲げて割れを生じない
〇：２０００回折り曲げて割れを生じない
△：１５００回折り曲げて割れを生じない
×：１５００回未満で割れを生じた
〇：２０００回折り曲げて割れを生じない
△：１５００回折り曲げて割れを生じない
×：１５００回未満で割れを生じた
〈残留溶媒量の測定〉
作製した各光学フィルムについて、以下の測定条件にて残留溶媒量を測定した。
作製した各光学フィルムについて、以下の測定条件にて残留溶媒量を測定した。
（測定条件）
ヘッドスペース装置：ＨＰ７６９４ Ｈｅａｄ Ｓｐａｃｅ Ｓａｍｐｌｅｒ（ヒューレットパッカード社製）
温度条件：トランスファーライン２００℃、ループ温度２００℃
サンプル量：０．８ｇ／２０ｍｌバイアル
ＧＣ：ＨＰ５８９０（ヒューレットパッカード社製）
ＭＳ：ＨＰ５９７１（ヒューレットパッカード社製）
カラム：ＨＰ−６２４（３０ｍ×内径０．２５ｍｍ）
オーブン温度：初期温度４０℃（保持時間３分）、昇温速度１０℃／分、到達温度２００℃（保持時間５分）
測定モード：ＳＩＭ（セレクトイオンモニター）モード
ヘッドスペース装置：ＨＰ７６９４ Ｈｅａｄ Ｓｐａｃｅ Ｓａｍｐｌｅｒ（ヒューレットパッカード社製）
温度条件：トランスファーライン２００℃、ループ温度２００℃
サンプル量：０．８ｇ／２０ｍｌバイアル
ＧＣ：ＨＰ５８９０（ヒューレットパッカード社製）
ＭＳ：ＨＰ５９７１（ヒューレットパッカード社製）
カラム：ＨＰ−６２４（３０ｍ×内径０．２５ｍｍ）
オーブン温度：初期温度４０℃（保持時間３分）、昇温速度１０℃／分、到達温度２００℃（保持時間５分）
測定モード：ＳＩＭ（セレクトイオンモニター）モード
〈まとめ〉
表１から明らかなように、本発明の光学フィルムは、比較例の光学フィルムと比べて、搬送性、偏光子との接着性（接着剤との親和性）、耐折り曲げ性及び残留溶媒量において、優れていることが確認された。
表１から明らかなように、本発明の光学フィルムは、比較例の光学フィルムと比べて、搬送性、偏光子との接着性（接着剤との親和性）、耐折り曲げ性及び残留溶媒量において、優れていることが確認された。
光学フィルム１０１では、表面調整剤（有機ケイ素化合物）及びマット剤（シリカ微粒子）が含有されていないため、偏光子と接着しなかった。また、マット剤（シリカ微粒子）のみを添加した光学フィルム１１２及び１１３についても同様であった。
光学フィルム１０２においては、下塗り層を設けたことにより、偏光子との接着性は向上したものの、その反面、下塗り層に起因して耐折り曲げ性の劣化が見られた。
光学フィルム１２８では、表面調整剤であるＴＭＳＯＨの表面張力が大きく、フィルム表面に偏在化できないため、偏光子との接着性の向上には至らなかった。
光学フィルム１０２においては、下塗り層を設けたことにより、偏光子との接着性は向上したものの、その反面、下塗り層に起因して耐折り曲げ性の劣化が見られた。
光学フィルム１２８では、表面調整剤であるＴＭＳＯＨの表面張力が大きく、フィルム表面に偏在化できないため、偏光子との接着性の向上には至らなかった。
以上から、表面調整剤が有機ケイ素化合物であり、光学フィルム中のケイ素原子の含有量を１００ａｔ％としたとき、光学フィルム表面から光学フィルムの厚さ方向１０％の深さまでの領域におけるケイ素原子の含有量が２０ａｔ％以上であることが、偏光子との接着性（接着剤との親和性）に有用であることがわかる。
Claims (10)
- 少なくともシクロオレフィン樹脂と、表面調整剤とが含有された光学フィルムであって、
前記表面調整剤が、表面張力４０ｍＮ／ｍ以下の有機ケイ素化合物であり、
前記光学フィルム中のケイ素原子の含有量を１００ａｔ％としたとき、前記光学フィルム表面から前記光学フィルムの厚さ方向１０％の深さまでの領域におけるケイ素原子の含有量が、２０ａｔ％以上であることを特徴とする光学フィルム。 - 前記光学フィルム中のケイ素原子の含有量を１００ａｔ％としたとき、前記光学フィルム表面から前記光学フィルムの厚さ方向１０％の深さまでの領域におけるケイ素原子の含有量が、２０〜９０ａｔ％の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
- 前記光学フィルム中のケイ素原子の含有量を１００ａｔ％としたとき、前記光学フィルム表面から前記光学フィルムの厚さ方向１０％の深さまでの領域におけるケイ素原子の含有量が、４０〜８０ａｔ％の範囲内であることを特徴とする請求項２に記載の光学フィルム。
- 前記有機ケイ素化合物が、ポリシロキサン誘導体であることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
- 前記光学フィルムの厚さが、５．０〜４０．０μｍの範囲内であることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
- マット剤として、平均１次粒子径が５〜１００ｎｍの範囲内である無機微粒子が含有されていることを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
- 前記光学フィルム中の残留溶媒量が、３０〜７００質量ｐｐｍの範囲内であることを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載の光学フィルム。
- 偏光子と、前記偏光子の少なくとも一方の面に貼合された偏光板保護フィルムとを有する偏光板であって、
前記偏光板保護フィルムが、請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載の光学フィルムであることを特徴とする偏光板。 - 請求項８に記載の偏光板を備えることを特徴とする画像表示装置。
- 請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載の光学フィルムを製造する光学フィルムの製造方法であって、
溶液流延法により製造することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
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|---|---|
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| Country | Link |
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Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2022153785A1 (ja) * | 2021-01-15 | 2022-07-21 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3603428B2 (ja) * | 1995-07-17 | 2004-12-22 | 大日本インキ化学工業株式会社 | 成分濃度傾斜構造を有する有機高分子と金属酸化物との複合体の製造方法 |
| JP3801018B2 (ja) * | 2001-09-13 | 2006-07-26 | Ｊｓｒ株式会社 | 環状オレフィン系付加共重合体、その架橋用組成物、その架橋体、光学透明材料、および環状オレフィン系付加共重合体の製造方法 |
| JPWO2006019086A1 (ja) * | 2004-08-17 | 2008-05-08 | 日本ゼオン株式会社 | Ｎ３２０４ｐｃｔ |
| JP2007187971A (ja) * | 2006-01-16 | 2007-07-26 | Konica Minolta Opto Inc | 防眩性反射防止フィルム及びその製造方法、並びに偏光板及び表示装置 |
| JP2007261052A (ja) * | 2006-03-28 | 2007-10-11 | Fujifilm Corp | 多層構造環状オレフィン系樹脂フィルム、偏光板、及び液晶表示装置 |
-
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- 2016-01-08 JP JP2016002159A patent/JP6627517B2/ja active Active
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