JP6724370B2 - 光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板及び画像表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板及び画像表示装置に関する。特に、本発明は、接着剤との親和性すなわち接着性が良好であってヘイズが低い光学フィルム等に関する。

従来、テレビ、ノートパソコン及びスマートフォン等の画像表示装置には偏光板が搭載され、当該偏光板は偏光子及び、保護フィルム、位相差フィルム等の光学フィルムを備えて構成されている。
当該偏光板の保護フィルムを構成する材料としては、例えば、セルロースエステル樹脂、ポリカーボネート及びシクロオレフィン系樹脂等が知られている。これらの中でも、高い耐熱性と耐湿性とを有する観点から、シクロオレフィン系樹脂（シクロオレフィンポリマー：「ＣＯＰ」ともいう。）が好ましく用いられる。
そして、偏光板に用いる光学フィルムは、偏光板を作製するにあたり、偏光子と接着させる工程が必須である。

しかし、前記光学フィルムとして、シクロオレフィン系樹脂フィルムを用いた場合、特別な表面改質処理を施さないと、接着剤との親和性が低い、すなわち、接着性が低いという問題がある。
従来、このような問題に対して、一般的な光学フィルムでは、表面自由エネルギーを上げるための表面改質処理、例えば、コロナ放電表面処理などが行われる。

シクロオレフィン系樹脂フィルムに対してコロナ放電表面処理を行う場合、接着剤との親和性が十分には改善されないため、代替策として、プラズマ表面処理が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。しかし、このプラズマ表面処理では、フィルムへのダメージが大きく、損傷を受け、フィルム欠陥が生じやすいという問題がある。

また、他の方法として、光学フィルムに下塗り層を設けることで接着性を改善する方法も提案されている（例えば、特許文献２参照。）。しかしながら、この下塗り層を設ける場合は、製造工程が増える、必要な材料の量が増える、下塗り層が剥がれることによる偏光板収率が低下する、折り曲げ耐性が劣化する、ヘイズが増加する等のデメリットがあり、好ましくない。

特開２００３−１２１６４８号公報 特開２０１５−１６０４３４号公報

本発明は、上記問題・状況に鑑みなされたものであり、その解決課題は、接着剤との親和性すなわち接着性が良好であって、ヘイズが低くかつ折り曲げ耐性に優れた光学フィルム、その製造方法、当該光学フィルムを具備した偏光板及び画像表示装置を提供することである。

本発明に係る上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討した結果、シクロオレフィン系樹脂フィルムに対して、単に従来の一般的な表面処理を施すのではなく、特定の有機添加剤を含有させた上で、当該表面処理をすると本発明の上記課題を解決することができることを見いだし、本発明に至った。
すなわち、本発明に係る課題は、以下の手段により解決される。

１．シクロオレフィン系樹脂と表面自由エネルギーを変化させる有機添加剤とを含有する光学フィルムであって、
前記有機添加剤として、ポリシロキサン系化合物を含有し、当該ポリシロキサン系化合物が、アクリル変性シリコーンであり、
前記有機添加剤の含有による表面自由エネルギーＥの変化量の絶対値｜ΔＥ｜が、１０〜３１ｍＪ／ｍ^２の範囲内であり、
表面自由エネルギー増加のための、コロナ放電処理、プラズマ処理、紫外線照射処理、及びケン化処理のいずれかの表面改質処理が施されていることを特徴とする光学フィルム。

２．フィルム膜厚が、５〜４０μｍの範囲内であることを特徴とする第１項に記載の光学フィルム。

３．第１項又は第２項に記載の光学フィルムを製造する光学フィルムの製造方法であって、
少なくとも、シクロオレフィン系樹脂と表面自由エネルギーを変化させる有機添加剤を含有するドープを溶液流延法により製膜する工程と、
コロナ放電処理、プラズマ処理、紫外線照射処理、及びケン化処理のいずれかの表面改質処理方法により表面自由エネルギーを増加させる工程と、
を有することを特徴とする光学フィルムの製造方法。

４．フィルム中の残留溶媒量が、３０〜７００質量ｐｐｍの範囲内であることを特徴とする第３項に記載の光学フィルムの製造方法。

５．第１項又は第２項に記載の光学フィルムと偏光子とを具備していることを特徴とする偏光板。

６．第１項又は第２項に記載の光学フィルムを具備していることを特徴とする画像表示装置。

本発明の手段によれば、接着剤との親和性すなわち接着性が良好であって、ヘイズが低くかつ折り曲げ耐性に優れた光学フィルム、その製造方法、当該光学フィルムを具備した偏光板及び画像表示装置を提供することができる。

本発明の効果の発現機構又は作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
本発明に係るシクロオレフィン系樹脂フィルムに表面自由エネルギーを変化させる有機添加剤を含有させて光学フィルムを製造する際、当該有機添加剤は、それ自身が凝集しにくく、かつ空気界面での安定性が高い、つまりは当該光学フィルムの表面方向に偏在しやすい等の特性を有するため、ドープの製膜工程中に空気界面近傍に偏在しやすい。そのため、当該有機添加剤に物理的又は化学的表面処理に活性な官能基又は化学構造を持たせておくことで、表面状態を効率的に改質することができた。すなわち、当該有機添加剤を含有させることにより当初低下したシクロオレフィン系樹脂フィルムの表面自由エネルギーが表面処理によって高めることができ、その結果、接着性が改善されたと推察される。

本発明の光学フィルムは、シクロオレフィン系樹脂と表面自由エネルギーを変化させる有機添加剤とを含有する光学フィルムであって、前記有機添加剤として、ポリシロキサン系化合物を含有し、当該ポリシロキサン系化合物が、アクリル変性シリコーンであり、
前記有機添加剤の含有による表面自由エネルギーＥの変化量の絶対値｜ΔＥ｜が、１０〜３１ｍＪ／ｍ^２の範囲内であり、表面自由エネルギー増加のための、コロナ放電処理、プラズマ処理、紫外線照射処理、及びケン化処理のいずれかの表面改質処理が施されていることを特徴とする。この特徴は、各請求項に係る発明に共通する又は対応する技術的特徴である。

本発明の実施形態としては、本発明の効果発現の観点から、コロナ放電処理、プラズマ処理、紫外線照射処理、及びケン化処理に対して活性であることが好ましい。また、前記有機添加剤として、ポリシロキサン系化合物を含有すること、及び、フィルム膜厚が、５〜４０μｍの範囲内であることが、上記と同様の観点から好ましい。

本発明の光学フィルムは、最終的には、表面自由エネルギー増加のための表面改質処理が施されていることが、課題解決の観点から好ましい。

本発明の光学フィルムの製造方法としては、少なくとも、シクロオレフィン系樹脂と表面自由エネルギーを変化させる有機添加剤を含有するドープを溶液流延法により製膜する工程と、コロナ放電処理、プラズマ処理、紫外線照射処理、及びケン化処理のいずれかの表面改質処理方法により表面自由エネルギーを増加させる工程と、を有する態様の製造方法であることが好ましい。当該製造方法においては、フィルム中の残留溶媒量が、３０〜７００質量ｐｐｍの範囲内であるようにすることが、本発明の効果発現の観点から、好ましい。

本発明の光学フィルムは、偏光板及び当該偏光板を具備する画像表示装置に好適である。

以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。

《１．光学フィルムの概要》
本発明の光学フィルムは、シクロオレフィン系樹脂と表面自由エネルギーを変化させる有機添加剤とを含有する光学フィルムであって、前記有機添加剤の含有による表面自由エネルギーＥの変化量の絶対値｜ΔＥ｜が、５〜５０ｍＪ／ｍ^２の範囲内であることを特徴とする。
なお、本発明の光学フィルムは、単層であって、フィルム製膜時に用いられる溶媒を残留溶媒として更に含有するものであっても良い。

１−１．シクロオレフィン系樹脂
本発明の光学フィルムに含有されるシクロオレフィン系樹脂は、シクロオレフィン単量体の重合体、又はシクロオレフィン単量体とそれ以外の共重合性単量体との共重合体であることが好ましい。
シクロオレフィン単量体としては、ノルボルネン骨格を有するシクロオレフィン単量体であることが好ましく、下記一般式（Ａ−１）又は（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体であることがより好ましい。

一般式（Ａ−１）中、Ｒ^１〜Ｒ^４は、各々独立して、水素原子、炭素原子数１〜３０の炭化水素基、又は極性基を表す。ｐは、０〜２の整数を表す。ただし、Ｒ^１〜Ｒ^４の全てが同時に水素原子を表すことはなく、Ｒ^１とＲ^２が同時に水素原子を表すことはなく、Ｒ^３とＲ^４が同時に水素原子を表すことはないものとする。

一般式（Ａ−１）においてＲ^１〜Ｒ^４で表される炭素原子数１〜３０の炭化水素基としては、例えば、炭素原子数１〜１０の炭化水素基であることが好ましく、炭素原子数１〜５の炭化水素基であることがより好ましい。炭素原子数１〜３０の炭化水素基は、例えば、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子又はケイ素原子を含む連結基を更に有していても良い。そのような連結基の例には、カルボニル基、イミノ基、エーテル結合、シリルエーテル結合、チオエーテル結合等の２価の極性基が含まれる。炭素原子数１〜３０の炭化水素基の例には、メチル基、エチル基、プロピル基及びブチル基等が含まれる。

一般式（Ａ−１）においてＲ^１〜Ｒ^４で表される極性基の例には、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アミド基及びシアノ基が含まれる。中でも、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基が好ましく、溶液製膜時の溶解性を確保する観点から、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基が好ましい。
一般式（Ａ−１）におけるｐは、光学フィルムの耐熱性を高める観点から、１又は２であることが好ましい。ｐが１又は２であると、得られる重合体がかさ高くなり、ガラス転移温度が向上しやすいためである。

一般式（Ａ−２）中、Ｒ^５は、水素原子、炭素数１〜５の炭化水素基、又は炭素数１〜５のアルキル基を有するアルキルシリル基を表す。Ｒ^６は、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アミド基、シアノ基、又はハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子若しくはヨウ素原子）を表す。ｐは、０〜２の整数を表す。

一般式（Ａ−１）におけるＲ^５は、炭素数１〜５の炭化水素基を表すことが好ましく、炭素数１〜３の炭化水素基を表すことがより好ましい。
一般式（Ａ−２）におけるＲ^６は、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基を表すことが好ましく、溶液製膜時の溶解性を確保する観点から、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基がより好ましい。

一般式（Ａ−２）におけるｐは、光学フィルムの耐熱性を高める観点から、１又は２を表すことが好ましい。ｐが１又は２を表すと、得られる重合体がかさ高くなり、ガラス転移温度が向上しやすいためである。

一般式（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体は、有機溶媒への溶解性を向上させる点から好ましい。一般的に有機化合物は対称性を崩すことによって結晶性が低下するため、有機溶媒への溶解性が向上する。一般式（Ａ−２）におけるＲ^５及びＲ^６は、分子の対称軸に対して片側の環構成炭素原子のみに置換されているので、分子の対称性が低く、すなわち、一般式（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体は溶解性が高いため、光学フィルムを溶液流延法によって製造する場合に適している。

シクロオレフィン単量体の重合体における一般式（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体の含有割合は、シクロオレフィン系樹脂を構成する全シクロオレフィン単量体の合計に対して例えば、７０モル％以上、好ましくは８０モル％以上、より好ましくは１００モル％とし得る。一般式（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体を一定以上含むと、樹脂の配向性が高まるため、位相差（リターデーション）値が上昇しやすい。

以下、一般式（Ａ−１）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体の具体例を例示化合物１〜１４に示し、一般式（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体の具体例を例示化合物１５〜３４に示す。

シクロオレフィン単量体と共重合可能な共重合性単量体の例には、シクロオレフィン単量体と開環共重合可能な共重合性単量体、及びシクロオレフィン単量体と付加共重合可能な共重合性単量体等が含まれる。
開環共重合可能な共重合性単量体の例には、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテン及びジシクロペンタジエン等のシクロオレフィンが含まれる。

付加共重合可能な共重合性単量体の例には、不飽和二重結合含有化合物、ビニル系環状炭化水素単量体及び（メタ）アクリレート等が含まれる。不飽和二重結合含有化合物の例には、炭素原子数２〜１２（好ましくは２〜８）のオレフィン系化合物が含まれ、その例には、エチレン、プロピレン及びブテン等が含まれる。ビニル系環状炭化水素単量体の例には、４−ビニルシクロペンテン及び２−メチル−４−イソプロペニルシクロペンテン等のビニルシクロペンテン系単量体が含まれる。（メタ）アクリレートの例には、メチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート及びシクロヘキシル（メタ）アクリレート等の炭素原子数１〜２０のアルキル（メタ）アクリレートが含まれる。
シクロオレフィン単量体と共重合性単量体との共重合体におけるシクロオレフィン単量体の含有割合は、共重合体を構成する全単量体の合計に対して例えば、２０〜８０モル％、好ましくは３０〜７０モル％とし得る。

シクロオレフィン系樹脂は、前述のとおり、ノルボルネン骨格を有するシクロオレフィン単量体、好ましくは一般式（Ａ−１）又は（Ａ−２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体を重合又は共重合して得られる重合体であり、その例には、以下のものが含まれる。
（１）シクロオレフィン単量体の開環重合体
（２）シクロオレフィン単量体と、それと開環共重合可能な共重合性単量体との開環共重合体
（３）上記（１）又は（２）の開環（共）重合体の水素添加物
（４）上記（１）又は（２）の開環（共）重合体をフリーデルクラフツ反応により環化した後、水素添加した（共）重合体
（５）シクロオレフィン単量体と、不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体
（６）シクロオレフィン単量体のビニル系環状炭化水素単量体との付加共重合体及びその水素添加物
（７）シクロオレフィン単量体と、（メタ）アクリレートとの交互共重合体

上記（１）〜（７）の重合体は、いずれも公知の方法、例えば、特開２００８−１０７５３４号公報や特開２００５−２２７６０６号公報に記載の方法で得ることができる。例えば、上記（２）の開環共重合に用いられる触媒や溶媒は、例えば、特開２００８−１０７５３４号公報の段落００１９〜００２４に記載のものを使用できる。上記（３）及び（６）の水素添加に用いられる触媒は、例えば、特開２００８−１０７５３４号公報の段落００２５〜００２８に記載のものを使用できる。上記（４）のフリーデルクラフツ反応に用いられる酸性化合物は、例えば、特開２００８−１０７５３４号公報の段落００２９に記載のものを使用できる。上記（５）〜（７）の付加重合に用いられる触媒は、例えば、特開２００５−２２７６０６号公報の段落００５８〜００６３に記載のものを使用できる。上記（７）の交互共重合反応は、例えば、特開２００５−２２７６０６号公報の段落００７１及び００７２に記載の方法で行うことができる。

中でも、上記（１）〜（３）及び（５）の重合体が好ましく、上記（３）及び（５）の重合体がより好ましい。すなわち、シクロオレフィン系樹脂は、得られるシクロオレフィン系樹脂のガラス転移温度を高くし、かつ光透過率を高くすることができる点で、下記一般式（Ｂ−１）で表される構造単位と下記一般式（Ｂ−２）で表される構造単位の少なくとも一方を含むことが好ましく、一般式（Ｂ−２）で表される構造単位のみを含むか、又は一般式（Ｂ−１）で表される構造単位と一般式（Ｂ−２）で表される構造単位の両方を含むことがより好ましい。一般式（Ｂ−１）で表される構造単位は、前述の一般式（Ａ−１）で表されるシクロオレフィン単量体由来の構造単位であり、一般式（Ｂ−２）で表される構造単位は、前述の一般式（Ａ−２）で表されるシクロオレフィン単量体由来の構造単位である。

一般式（Ｂ−１）中、Ｘは、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−ＣＨ_２ＣＨ_２−を表す。Ｒ^１〜Ｒ^４及びｐは、それぞれ一般式（Ａ−１）のＲ^１〜Ｒ^４及びｐと同義である。

一般式（Ｂ−２）中、Ｘは、−ＣＨ＝ＣＨ−又は−ＣＨ_２ＣＨ_２−を表す。Ｒ^５〜Ｒ^６及びｐは、それぞれ一般式（Ａ−２）のＲ^５〜Ｒ^６及びｐと同義である。
本発明に係るシクロオレフィン系樹脂は、市販品であっても良い。シクロオレフィン系樹脂の市販品の例には、ＪＳＲ（株）製のアートン（Ａｒｔｏｎ）Ｇ（例えば、Ｇ７８１０等）、アートンＦ、アートンＲ（例えば、Ｒ４５００、Ｒ４９００及びＲ５０００等）、及びアートンＲＸが含まれる。
シクロオレフィン系樹脂の固有粘度〔η〕ｉｎｈは、３０℃の測定において、０．２〜５ｃｍ^３／ｇであることが好ましく、０．３〜３ｃｍ^３／ｇであることがより好ましく、０．４〜１．５ｃｍ^３／ｇであることが更に好ましい。

シクロオレフィン系樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）は、８０００〜１０００００であることが好ましく、１００００〜８００００であることがより好ましく、１２０００〜５００００であることが更に好ましい。シクロオレフィン系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２００００〜３０００００であることが好ましく、３００００〜２５００００であることがより好ましく、４００００〜２０００００であることが更に好ましい。シクロオレフィン系樹脂の数平均分子量や重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）にてポリスチレン換算にて測定することができる。
固有粘度〔η〕ｉｎｈ、数平均分子量及び重量平均分子量が上記範囲にあると、シクロオレフィン系樹脂の耐熱性、耐水性、耐薬品性、機械的特性、及びフィルムとしての成形加工性が良好となる。

シクロオレフィン系樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、通常、１１０℃以上であり、１１０〜３５０℃であることが好ましく、１２０〜２５０℃であることがより好ましく、１２０〜２２０℃であることが更に好ましい。Ｔｇが１１０℃以上であると、高温条件下での変形を抑制しやすい。一方、Ｔｇが３５０℃以下であると、成形加工が容易となり、成形加工時の熱による樹脂の劣化も抑制しやすい。
シクロオレフィン系樹脂の含有量は、光学フィルムに対して７０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましい。

１−２．表面自由エネルギーを変化させる有機添加剤
本発明の光学フィルムは、シクロオレフィン系樹脂と表面自由エネルギーを変化させる有機添加剤とを含有する光学フィルムであって、前記有機添加剤の含有による表面自由エネルギーＥの変化量の絶対値｜ΔＥ｜が、５〜５０ｍＪ／ｍ^２の範囲内であることを特徴とする。なお、当該表面自由エネルギーの測定方法については、〔実施例〕の欄において詳述するが、有機添加剤を添加して作製した光学フィルムと有機添加剤を添加せずに作製した光学フィルムの表面自由エネルギーをそれぞれ算出し、その差の絶対値を有機添加剤の含有による表面自由エネルギーＥの変化量の絶対値｜ΔＥ｜としている。

本発明に用いられる有機添加剤は、シクロオレフィン系樹脂を含有するフィルムの表面自由エネルギーを変化させるものであれば特に限定されないが、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、アニオン界面活性剤、及びフッ素−シロキサングラフト化合物、フッ素系化合物、アクリル共重合物などであることが好ましい。その中でも生産性の観点から、特にシリコーン系界面活性剤又はフッ素系界面活性剤を用いることが好ましい。
シリコーン骨格を有する化合物としては、シリコーン骨格と有機変性部とを分子内に含むシリコーン系化合物を好適に用いることができる。シリコーン骨格を有する化合物は、一般式（Ｉ）で表される構造を有しており、一般式（Ｉ）中の繰り返し数ｎ（１以上の数）や有機変性部の種類を変化させることで、表面張力を任意にコントロールすることができる。

前記一般式（Ｉ）中のｎや有機変性部の種類を変化させる一例として、例えば、一般式（II）で表される構造（ｘ、ｙは繰り返し数を表す１以上の数、ｍは１以上の整数）が挙げられ、側鎖を付与することによりシリコーン骨格を変性させることができる。なお、一般式（II）中のＲ^１としては、例えば、ＣＨ_３、ＣＨ_２−ＣＨ_３、（ＣＨ_２）_９ＣＨ_３等が挙げられる。また、Ｒ^２としては、例えば、ポリエーテル基、ポリエステル基、アラルキル基等が挙げられる。さらに、一般式（III）で表される構造（ｍは１以上の整数）を有する化合物も用いることが可能であり、シリコーン鎖は数個のＳｉ−Ｏ結合からなり、Ｒ^３に相当する平均１個のポリエーテル鎖等を有する。このように、一般式（II）で表される化合物及び一般式（III）で表される化合物いずれにおいても、表面自由エネルギーのコントロールや相溶性の調整を任意に行うことができる。

上記の一例以外にもシリコーン種としては、以下のような化合物を用いることができる。

［ポリシロキサン系化合物］
ポリシロキサン系化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトキエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の加水分解性シリル基を有するシラン化合物の部分加水分解物や、有機溶媒中に無水ケイ酸の微粒子を安定に分散させたオルガノシリカゾル、又は該オルガノシリカゾルにラジカル重合性を有する上記シラン化合物を付加させたもの等を使用することができる。

［ポリジメチルシロキサン系化合物］
ポリジメチルシロキサン系化合物としては、ポリジメチルシロキサン、アルキル変性ポリジメチルシロキサン、カルボキシル変性ポリジメチルシロキサン、アミノ変性ポリジメチルシロキサン、エポキシ変性ポリジメチルシロキサン、フッ素変性ポリジメチルシロキサン、（メタ）アクリレート変性ポリジメチルシロキサン（例えば、東亞合成（株）製ＧＵＶ−２３５）などが挙げられる。

［ポリジメチルシロキサン系共重合体］
ポリジメチルシロキサン系共重合体は、ブロック共重合体、グラフト共重合体、ランダム共重合体のいずれであってもよいが、ブロック共重合体、グラフト共重合体が好ましい。
また、市販されている材料としては、例えば、以下に記したものを用いることができる。
共栄社化学株式会社製：ＧＬ−０１、ＧＬ−０２Ｒ、ＧＬ−０３、ＧＬ−０４Ｒ、
日信化学工業株式会社製：シルフェイスＳＡＧ００２、シルフェイスＳＡＧ００５、シルフェイスＳＡＧ００８、シルフェイスＳＡＧ５０３Ａ、サーフィノール１０４Ｅ、サーフィノール１０４Ｈ、サーフィノール１０４Ａ、サーフィノール１０４ＢＣ、サーフィノール１０４ＤＰＭ、サーフィノール１０４ＰＡ、サーフィノール１０４ＰＧ−５０、サーフィノール１０４Ｓ、サーフィノール４２０、サーフィノール４４０、サーフィノール４６５、サーフィノール４８５、サーフィノールＳＥ
信越化学工業株式会社製：ＦＡ−６００、ＫＣ−８９Ｓ、ＫＲ−５００、ＫＲ−５１６、Ｘ−４０−９２９６、ＫＲ−５１３、Ｘ−２２−１６１Ａ、Ｘ−２２−１６２Ｃ、Ｘ−２２−１６３、Ｘ−２２−１６３Ａ、Ｘ−２２−１６４、Ｘ−２２−１６４Ａ、Ｘ−２２−１７３ＢＸ、Ｘ−２２−１７４ＡＳＸ、Ｘ−２２−１７６ＤＸ、Ｘ−２２−３４３、Ｘ−２２−２０４６、Ｘ−２２−２４４５、Ｘ−２２−３９３９Ａ、Ｘ−２２−４０３９、Ｘ−２２−４０１５、Ｘ−２２−４２７２、ＸＸ−２２−４７４１、Ｘ−２２−４９５２、Ｘ−２２−６２６６、ＫＦ−５０−１００ｃｓ、ＫＦ−９６Ｌ−１ｃｓ、ＫＦ−１０１、ＫＦ−１０２、ＫＦ−１０５、ＫＦ−３５１、ＫＦ−３５２、ＫＦ−３５３、ＫＦ−３５４Ｌ、ＫＦ−３５５Ａ、ＫＦ−３９３、ＫＦ−６１５Ａ、ＫＦ−６１８、ＫＦ−８５７、ＫＦ−８５９、ＫＦ−８６０、ＫＦ−８６２、ＫＦ−８７７、ＫＦ−８８９、ＫＦ−９４５、ＫＦ−１００１、ＫＦ−１００２、ＫＦ−１００５、ＫＦ−２０１２、ＫＦ−２２０１、Ｘ−２２−２４０４、Ｘ−２２−２４２６、Ｘ−２２−３７１０、ＫＦ−６００４、ＫＦ−６０１１、ＫＦ−６０１５、ＫＦ−６１２３、ＫＦ−８００１、ＫＦ−８０１０、ＫＦ−８０１２、Ｘ−２２−９００２
東レ・ダウコーニング株式会社製：ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ １００Ｆ ＡＤＤＩＴＩＶＥ、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ １１ ＡＤＤＩＴＩＶＥ、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ ３０３７ ＩＮＴＥＲＭＥＤＩＡＴＥ、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ ５６ ＡＤＤＩＴＩＶＥ、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ ＴＯＲＡＹ Ｚ−６０９４、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ ＴＯＲＡＹ ＦＺ−２１０４、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ ＴＯＲＡＹ ＡＹ４２−１１９、ＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ ＴＯＲＡＹ ＦＺ−２２２２
花王株式会社製：エマルゲン１０２ＫＧ、エマルゲン、エマルゲン１０４Ｐ、エマルゲン１０５、エマルゲン１０６、エマルゲン１０８、エマルゲン１０９Ｐ、エマルゲン１２０、エマルゲン１２３Ｐ、エマルゲン１４７、エマルゲン２１０Ｐ、エマルゲン２２０、エマルゲン３０６Ｐ、エマルゲン３２０Ｐ、エマルゲン４０４、エマルゲン４０８、エマルゲン４０９ＰＶ、エマルゲン４２０、エマルゲン４３０、エマルゲン７０５、エマルゲン７０７、エマルゲン７０９、エマルゲン１１０８、エマルゲン１１１８Ｓ−７０、エマルゲン１１３５Ｓ−７０、エマルゲン２０２０Ｇ−ＨＡ、エマルゲン２０２５Ｇ、エマルゲンＬＳ−１０６、エマルゲンＬＳ−１１０、エマルゲンＬＳ１１４
フッ素含有化合物としては、例えば、パーフルオロアルキル基又はパーフルオロアルキレンエーテル基を有する化合物等が挙げられる。

前記パーフルオロアルキル基又はパーフルオロアルキレンエーテル基を有する化合物において、パーフルオロアルキル基は、式：−Ｃ_ｎＦ_２ｎ＋１（ｎは１以上の整数）で表される構造であり、パーフルオロアルキレンエーテル基は、式：−Ｃ_ｎＦ_２ｎＯ−（ｎは１以上の整数）で表される構造であり、疎水・疎油基として機能する。剛直で曲がりにくく、表面に整然と配列する特徴を有するので、少量で表面を覆う有機添加剤として機能することができる。このとき、親油基と組み合わせることで、さらに有機添加剤としての効果を向上させることが可能となる。
具体的な含フッ素化合物製品としては、メガファックＲＳ−７５（ＤＩＣ株式会社）、メガファックＲＳ−７６−Ｅ（ＤＩＣ株式会社）、メガファックＲＳ−７２−Ｋ（ＤＩＣ株式会社）、メガファックＲＳ−７６−ＮＳ（ＤＩＣ株式会社）、メガファックＲＳ−９０（ＤＩＣ株式会社）、オプツールＤＡＣ−ＨＰ（ダイキン工業株式会社）、ＺＸ−０５８−Ａ（株式会社Ｔ＆Ｋ ＴＯＫＡ）、ＺＸ−２０１（株式会社Ｔ＆Ｋ ＴＯＫＡ）、ＺＸ−２０２（株式会社Ｔ＆Ｋ ＴＯＫＡ）、ＺＸ−２１２（株式会社Ｔ＆Ｋ ＴＯＫＡ）、ＺＸ−２１４−Ａ（株式会社Ｔ＆Ｋ ＴＯＫＡ）を挙げることができる。

シリコーン系界面活性剤としては、例えば、ポリエーテル変性シリコーンやアクリル変性シリコーン等を挙げることができ、上記共栄社化学社製のＧＬシリーズ（共栄社化学株式会社製：ＧＬ−０１、ＧＬ−０２Ｒ、ＧＬ−０３、ＧＬ−０４Ｒ）や、日信化学工業社製のシルフェイスシリーズ（日信化学工業株式会社製：シルフェイスＳＡＧ００２、シルフェイスＳＡＧ００５、シルフェイスＳＡＧ００８、シルフェイスＳＡＧ５０３Ａ）等を挙げることができる。

フッ素系界面活性剤としては、例えば、ＤＩＣ株式会社製のメガファック ＲＳシリーズ、メガファックＦ−４４４、メガファックＦ−５５６等を挙げることができる。
フッ素−シロキサングラフト化合物とは、少なくともフッ素系樹脂に、シロキサン及び／又はオルガノシロキサン単体を含むポリシロキサン及び／又はオルガノポリシロキサンをグラフト化させて得られる共重合体の化合物をいう。このようなフッ素−シロキサングラフト化合物は、後述の実施例に記載されているような方法で調製することができる。また、市販品としては、富士化成工業株式会社製のＺＸ−０２２Ｈ、ＺＸ−００７Ｃ、ＺＸ−０４９、ＺＸ−０４７−Ｄ等を挙げることができる。
また、フッ素系化合物としては、ダイキン工業株式会社製のオプツールＤＳＸ、オプツールＤＡＣ等を挙げることができる。
アクリル共重合物としては、ビックケミー・ジャパン社製のＢＹＫ−３５０、ＢＹＫ−３５２等を挙げることができる。

本発明に係る有機添加剤として、上記したものの他に、次の市販品を用いることができる。例えば、花王株式会社製：エマルゲン１０２ＫＧ、エマルゲン、エマルゲン１０４Ｐ、エマルゲン１０５、エマルゲン１０６、エマルゲン１０８、エマルゲン１０９Ｐ、エマルゲン１２０、エマルゲン１２３Ｐ、エマルゲン１４７、エマルゲン２１０Ｐ、エマルゲン２２０、エマルゲン３０６Ｐ、エマルゲン３２０Ｐ、エマルゲン４０４、エマルゲン４０８、エマルゲン４０９ＰＶ、エマルゲン４２０、エマルゲン４３０、エマルゲン７０５、エマルゲン７０７、エマルゲン７０９、エマルゲン１１０８、エマルゲン１１１８Ｓ−７０、エマルゲン１１３５Ｓ−７０、エマルゲン２０２０Ｇ−ＨＡ、エマルゲン２０２５Ｇ、エマルゲンＬＳ−１０６、エマルゲンＬＳ−１１０、エマルゲンＬＳ１１４、日信化学工業株式会社製：サーフィノール１０４Ｅ、サーフィノール１０４Ｈ、サーフィノール１０４Ａ、サーフィノール１０４ＢＣ、サーフィノール１０４ＤＰＭ、サーフィノール１０４ＰＡ、サーフィノール１０４ＰＧ−５０、サーフィノール１０４Ｓ、サーフィノール４２０、サーフィノール４４０、サーフィノール４６５、サーフィノール４８５、サーフィノールＳＥ、信越化学工業株式会社製：Ｘ−２２−４２７２、Ｘ−２２−６２６６、ＫＦ−３５１、ＫＦ−３５２、ＫＦ−３５３、ＫＦ−３５４Ｌ、ＫＦ−３５５Ａ、ＫＦ−６１５Ａ、ＫＦ−６１８、ＫＦ−９４５、ＫＦ−６００４、ＫＦ−６０１１、ＫＦ−６０１５等が挙げられる。
本発明に係る有機添加剤は、光学フィルムを構成する材料中の溶媒を除く全成分に対し、０．００５〜５質量部の範囲で含有されていることが好ましい。

１−３．その他の添加剤
上記したように、本発明の光学フィルムには、更に他の添加剤が含有されていても良い。そのような添加剤としては、例えば、マット剤、紫外線吸収剤や酸化防止剤等が挙げられる。

（マット剤）
本発明に係るマット剤とは、表面粗さ等のフィルム表面の物理的形状・性状等を調整することができる粒子状物質をいう。
透過型電子顕微鏡により測定した場合における数平均粒子径が４００ｎｍ以下である粒子であることが好ましい。この場合、各粒子の粒径は透過型電子顕微鏡における投影面を同面積の円に換算した場合の直径として定義される。不要な散乱を発生させないためには、マット剤（微粒子）の粒径は可視光の波長より十分に小さいことが好ましく、具体的には１〜２００ｎｍが好ましい範囲であり、より好ましくは１〜１００ｎｍの範囲であり、特に好ましくは５〜６０ｎｍの範囲である。粒子の形状は、球状に限定されず不定形の形状であっても良い。
本発明に係るマット剤としては、無機微粒子であっても良いし、有機微粒子であっても良い。

無機微粒子としては、例えば、ケイ素を含む化合物、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等であることが好ましく、更に好ましくは、ケイ素を含む無機化合物や酸化アルミニウムであるが、二酸化ケイ素が特に好ましく用いられる。これらは、球状、平板状又は無定形状等の形状の粒子が挙げられる。

二酸化ケイ素の微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７２ＣＦ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、５０、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００、Ｒ７１１、ＲＹ３００、Ｒ１０６、Ｒ８１６、ＲＡ２００ＨＳ、ＭＯＸ１７０（以上日本アエロジル（株）製）等の市販品が使用できる。

酸化アルミニウムの微粒子としては、例えば、アエロジルＡｌｕ Ｃ、Ａｌｕ １３０及びＡｌｕ Ｃ８０５（以上日本アエロジル（株）製）等の市販品が使用できる。
また、有機微粒子としては、例えば、ポリスチレン樹脂、シリコーン樹脂、ポリエチレン樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、メラミン樹脂等、アクリル−スチレン樹脂、メラミン−シリカ等複合されたものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

また、これらの無機微粒子及び有機微粒子は、単独で用いても良いし、２種以上併用しても良い。また、有機微粒子を使用する場合には、単分散における屈折率と樹脂の屈折率の差が少ないものを使用することが好ましい。
なお、マット剤（微粒子）の１次平均粒子径の測定は、透過型電子顕微鏡（倍率５０万〜２００万倍）で粒子の観察を行い、粒子１００個の粒子径を測定し、その平均値をもって、１次平均粒子径とした。

（紫外線吸収剤）
本発明の光学フィルムは、添加剤として紫外線吸収剤を含有していても良い。
紫外線吸収剤は、４００ｎｍ以下の紫外線を吸収するため、光学フィルムの耐久性を向上させることができる。紫外線吸収剤は、特に波長３７０ｎｍでの透過率が１０％以下であることが好ましく、より好ましくは５％以下、更に好ましくは２％以下である。

紫外線吸収剤の具体例としては特に限定されないが、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられ、特に好ましくはベンゾトリアゾール系化合物及びベンゾフェノン系化合物等である。

紫外線吸収剤としては、より具体的には、例えば、５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチル−２−ヒドロキシルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、（２−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２，４−ベンジルオキシベンゾフェノン等を用いることができる。これらは、市販品を用いても良く、例えば、ＢＡＳＦジャパン社製のチヌビン１０９（オクチル−３−［３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−［３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル］プロピオネートの混合物）、チヌビン１７１、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２７、チヌビン３２８、チヌビン９２８（２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール）等のチヌビン類を好ましく使用できる。
この他、１，３，５−トリアジン環を有する化合物等の円盤状化合物も紫外線吸収剤として好ましく用いられる。また、紫外線吸収剤としては高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることができ、特にポリマータイプの紫外線吸収剤が好ましく用いられる。

トリアジン系紫外線吸収剤としては、市販品であるＢＡＳＦジャパン社製のＴＩＮＵＶＩＮ ４００（２−（４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−ヒドロキシフェニルとオキシランとの反応生成物）、ＴＩＮＵＶＩＮ ４６０（２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル］−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３−５−トリアジン）、ＴＩＮＵＶＩＮ ４０５（２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジンと（２−エチルヘキシル）−グリシド酸エステルの反応生成物）等を用いることができる。

紫外線吸収剤の添加方法としては、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール、ジクロロメタン、酢酸メチル、アセトン若しくはジオキソラン等の有機溶媒又はこれらの混合溶媒に紫外線吸収剤を溶解してから、光学フィルムの製造に用いられる樹脂溶液（ドープ）に添加するか、又は直接ドープに添加しても良い。無機粉体のように有機溶媒に溶解しないものは、有機溶媒とセルロースアセテート中にディゾルバーやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。
紫外線吸収剤の含有量としては、例えば、光学フィルムに対して０．５〜１０質量％の範囲が好ましく、０．６〜４質量％の範囲が更に好ましい。

（酸化防止剤）
本発明の光学フィルムは、添加剤として酸化防止剤（劣化防止剤）を含有していても良い。
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート等を挙げることができる。
酸化防止剤の含有量は、例えば、光学フィルムに対して１〜１００００質量ｐｐｍの範囲が好ましく、１０〜１０００質量ｐｐｍの範囲が更に好ましい。

１−４．光学フィルムの物性
（表面粗さＲａ）
本発明の光学フィルムの表面粗さＲａは、３．０〜５０．０ｎｍの範囲内であることが好ましい。表面粗さＲａが３．０ｎｍ以上であると、光学フィルムのすべり性が向上し、搬送中のツレやシワを抑制できる。表面粗さＲａが５０ｎｍ以下であると、光学フィルム表面の凹凸による光の散乱を抑制でき、ヘイズ値を低い値にすることができる。なお、本発明における表面粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２００１で規定される算術平均粗さ（Ｒａ）であるものとする。
なお、表面粗さＲａは、光干渉式の表面粗さ測定器で測定することができ、例えば、光学干渉式表面粗さ計ＲＳＴ／ＰＬＵＳ（ＷＹＫＯ社製）を用いて測定することができる。

（光学特性）
光学フィルムは、全光線透過率が９０％以上であることが好ましく、より好ましくは９２％以上である。また、現実的な上限としては９９％程度である。ヘイズ値は１０％以下であることが好ましく、より好ましくは２％以下である。全光線透過率及びヘイズ値は、それぞれＪＩＳ Ｋ７３６１及びＪＩＳ Ｋ７１３６に準じて測定することができる。

（位相差値）
本発明の光学フィルムの使用用途は特に限定されず、偏光板保護フィルムとして用いられても良いし、位相差フィルムとして用いられても良い。位相差フィルムとして用いられる場合は、その用途に応じて種々の位相差（リターデーション）値をとり得る。
例えば、本発明の光学フィルムがＶＡ液晶用の位相差フィルムとして用いられる場合、測定波長５９０ｎｍ、２３℃・５５％ＲＨの環境下で測定される面内方向のリターデーション値Ｒｏは、１０ｎｍ≦Ｒｏ≦１００ｎｍを満たすことが好ましく、２０ｎｍ≦Ｒｏ≦８０ｎｍを満たすことがより好ましい。厚さ方向のリターデーション値Ｒｔは、７０ｎｍ≦Ｒｔ≦２００ｎｍを満たすことが好ましく、９０ｎｍ≦Ｒｔ≦１５０ｎｍを満たすことがより好ましい。

なお、リターデーション値Ｒｏ及びＲｔは下記式（ｉ）及び（ii）で定義される値である。
式（ｉ）：Ｒｏ＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）×ｄ
式（ii）：Ｒｔ＝｛（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２−ｎ_ｚ｝×ｄ
式（ｉ）及び（ii）中、ｎ_ｘは、光学フィルム面内の遅相軸方向の屈折率を表す。ｎ_ｙは、光学フィルム面内で遅相軸に直交する方向の屈折率を表す。ｎ_ｚは、光学フィルムの厚さ方向の屈折率を表す。ｄは、光学フィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。

本発明の光学フィルムがλ／４フィルムとして用いられる場合、測定波長５９０ｎｍ、２３℃・５５％ＲＨの環境下で測定される面内方向のリターデーション値Ｒｏは、５０ｎｍ≦Ｒｏ≦２５０ｎｍを満たすことが好ましく、７０ｎｍ≦Ｒｏ≦２００ｎｍを満たすことがより好ましい。厚さ方向のリターデーション値Ｒｔは、−２００ｎｍ≦Ｒｔ≦２００ｎｍを満たすことが好ましく、−１２０ｎｍ≦Ｒｔ≦１２０ｎｍを満たすことがより好ましい。

また、本発明の光学フィルムがゼロ位相差フィルムとして用いられる場合、測定波長５９０ｎｍ、２３℃・５５％ＲＨの環境下で測定される面内方向のリターデーション値Ｒｏは、０ｎｍ≦Ｒｏ≦５ｎｍを満たすことが好ましく、厚さ方向のリターデーション値Ｒｔは、−５ｎｍ≦Ｒｔ≦５ｎｍを満たすことが好ましい。

上記リターデーション値は、例えば、自動複屈折率計アクソスキャン（Ａｘｏ Ｓｃａｎ Ｍｕｅｌｌｅｒ Ｍａｔｒｉｘ Ｐｏｌａｒｉｍｅｔｅｒ：アクソメトリックス社製）を用いて、２３℃・５５％ＲＨの環境下で、波長５９０ｎｍにて求めることができる。上記リターデーション値に制御した光学フィルムを用いることで、タッチパネルや液晶表示装置等の画像表示装置に用いた際の視認性に優れる点から好ましい。リターデーション値は、マット剤、有機添加剤及びその他の添加剤の種類や添加量、光学フィルムの厚さや延伸条件等で調整できる。

（厚さ）
光学フィルムの厚さは、上記リターデーション値ＲｏとＲｔが上記範囲を満たし、かつ薄型化する観点から、例えば、３〜２００μｍであることが好ましく、５〜１００μｍであることがより好ましく、５〜４０μｍであることが更に好ましい。特に、本発明の光学フィルムは、すべり性が付与されているため搬送張力を緩和することができ、薄型化しても良好な搬送性を有し得る。

《２．光学フィルムの製造方法》
本発明の光学フィルムは、溶液流延法で製造される。すなわち、本発明の光学フィルムの製造方法は、少なくともシクロオレフィン系樹脂と微粒子と有機添加剤とを１種類以上の溶媒に溶解させてドープ（樹脂溶液）を得る工程（ドープ調製工程）と、ドープを支持体上に流延した後、剥離して膜状物を得る工程（流延・剥離工程）と、膜状物を乾燥させる工程（乾燥工程）と、を有することが好ましい。また、本発明の光学フィルムの製造方法は、流延・剥離工程と乾燥工程との間に、膜状物を延伸する工程（延伸工程）を有することが好ましく、乾燥工程の後に、得られた光学フィルムを巻取る工程（巻き取り工程）を有することが好ましい。

２−１．ドープ調製工程
ドープ調製工程について説明する。ドープ中の樹脂濃度は、濃い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、樹脂の濃度が濃過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０〜４５質量％が好ましく、更に好ましくは、１５〜４０質量％である。
ドープに含有される溶媒は、単独で用いても２種以上を併用しても良いが、樹脂の良溶媒と貧溶媒とを混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶媒が多い方が樹脂の溶解性の点で好ましい。良溶媒と貧溶媒との混合比率の好ましい範囲は、良溶媒が７０〜９８質量％であり、貧溶媒が２〜３０質量％である。ここで、良溶媒及び貧溶媒とは、使用する樹脂を、単独で溶解するものを良溶媒、単独では膨潤するか又は溶解しないものを貧溶媒と定義している。

また、ドープの調製に有用な有機溶媒の組み合わせとしては、シクロオレフィン系樹脂や、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば特に制限されない。例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、トルエン、ｐ−キシレン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等を挙げることができ、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用し得る。
ドープは、シクロオレフィン系樹脂、微粒子、有機添加剤及びその他添加剤を、前記溶媒に計１５〜４５質量％溶解させたドープであることが好ましい。
上記ドープを調製するときの、溶媒への樹脂の溶解方法としては一般的な方法を用いることができる。特に、溶解装置への負担低減や、樹脂の着色を防ぐ観点から、常温、常圧での溶解が望ましい。

次に、この樹脂を溶解した溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生しやすいという問題がある。このため絶対濾過精度が０．００８ｍｍ以下の濾材が好ましく、０．００１〜０．００８ｍｍの濾材がより好ましく、０．００３〜０．００６ｍｍの濾材が更に好ましい。
濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過により、原料の樹脂に含まれていた不純物、特に輝点異物を除去、低減することが好ましい。

輝点異物とは、２枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、その間に光学フィルム等を置き、一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察した時に反対側からの光が漏れて見える点（異物）のことであり、径が０．０１ｍｍ以上である輝点の数が２００個／ｃｍ^２以下であることが好ましい。より好ましくは１００個／ｃｍ^２以下であり、更に好ましくは５０個／ｍ^２以下であり、特に好ましくは０〜１０個／ｃｍ^２の範囲内である。また、０．０１ｍｍ以下の輝点も少ない方が好ましい。

ドープの濾過は通常の方法で行うことができるが、溶媒の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶媒が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差（差圧という）の発現が小さく、好ましい。好ましい温度は４５〜１２０℃であり、４５〜７０℃がより好ましく、４５〜５５℃であることが更に好ましい。
濾圧は小さい方が好ましい。具体的には、濾圧が１．６ＭＰａ以下であることが好ましく、１．２ＭＰａ以下であることがより好ましく、１．０ＭＰａ以下であることが更に好ましい。

２−２．流延・剥離工程
得られたドープを流延ダイから吐出させて金属支持体上に流延し、得られた流延膜を乾燥及び剥離して膜状物を得る。流延幅は、例えば、１〜４ｍとすることができる。金属支持体としては、ステンレススティールベルト又は鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムを用いることができる。金属支持体の表面は、鏡面仕上げされていることが好ましい。
金属支持体の表面温度は、−５０℃〜溶媒の沸点未満の温度で、高い方が膜状物の乾燥速度を高くすることができるので好ましいが、高過ぎると膜状物が発泡したり、平面性が劣化したりする。したがって、金属支持体の表面温度は、０〜４０℃であることが好ましく、５〜３０℃であることがより好ましい。

金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹き付ける方法や、金属支持体の裏側に温水を接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。
温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使用する場合がある。

良好な平面性を有する膜状物を得るためには、金属支持体から剥離する際の膜状物の残留溶媒量は、１０〜１５０質量％であることが好ましく、２０〜４０質量％又は６０〜１３０質量％であることがより好ましく、２０〜３０質量％又は７０〜１２０質量％であることが更に好ましい。

ここで、膜状物の残留溶媒量は、下記式で定義される。
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
（Ｍは、膜状物の質量を示し、Ｎは、当該膜状物を１２０℃で１時間加熱した後の質量を示す。）

本発明においては、金属支持体上にドープを流延したときに、金属支持体界面側と空気界面側との間に極性の差が生まれるため、ドープ中の成分の表面自由エネルギーの違いによって、溶媒の揮発とともに有機添加剤が膜状物中で移動し、有機添加剤が空気界面側に局在した光学フィルムが得られる。更に、流延されたドープ中には微粒子が含有されており、この微粒子が有機添加剤の局在化に伴って空気界面側に移動するため、得られる光学フィルムにおいて微粒子も空気界面側に局在している。
このように、溶液流延法を用いて光学フィルムを製造することで、光学フィルムにすべり性を付与して搬送性を向上させることができ、プロテクトフィルムを用いることなく高収率で偏光板等を作製することができる。

２−３．乾燥工程
乾燥工程は、金属支持体より剥離した膜状物を、残留溶媒量が１質量％以下になるまで乾燥することが好ましく、更に好ましくは０．１質量％以下、特に好ましくは０〜０．０１質量％の範囲内である。これにより、光学フィルムを得ることができる。
乾燥工程では、一般にローラー乾燥方式（上下に配置した多数のローラーに膜状物を交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式で膜状物を搬送させながら乾燥する方式が採られる。
特に、流延から剥離するまでの間で、上記金属支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。

２−４．延伸工程
延伸工程では、剥離して得られた膜状物を延伸して位相差の調整を行う。
延伸は、少なくとも一方向に行うことができる。延伸方向は、膜状物の長手方向（ＭＤ方向）、膜状物の長手方向と直交する幅手方向（ＴＤ方向）、及び膜状物の長手方向に対して斜め方向のいずれであっても良い。延伸は、逐次延伸でも良いし、同時延伸でも良い。

互いに直交する２軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的にはＭＤ方向に１．０〜２．０倍の範囲内、ＴＤ方向に１．０５〜２．０倍の範囲内とすることが好ましく、ＭＤ方向に１．０〜１．５倍の範囲内、ＴＤ方向に１．０５〜２．０倍の範囲内とすることがより好ましい。例えば、複数のローラーに周速差をつけ、その間でローラー周速差を利用してＭＤ方向に延伸する方法、膜状物の両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げてＭＤ方向に延伸する方法、同様に横方向に広げてＴＤ方向に延伸する方法、又はＭＤ方向及びＴＤ方向に同時に広げて両方向に延伸する方法等が挙げられる。
延伸工程におけるこれらの幅保持又は幅手方向の延伸は、テンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでも良い。
テンター等のフィルム搬送張力は温度にもよるが、１２０〜２００Ｎ／ｍの範囲内が好ましく、１４０〜２００Ｎ／ｍの範囲内が更に好ましく、１４０〜１６０Ｎ／ｍの範囲内が最も好ましい。

延伸する際の温度は、光学フィルムのガラス転移温度をＴｇとすると、（Ｔｇ−３０）〜（Ｔｇ＋１００）℃の範囲内が好ましく、（Ｔｇ−２０）〜（Ｔｇ＋８０）℃の範囲内がより好ましく、（Ｔｇ−５）〜（Ｔｇ＋２０）℃の範囲内が更に好ましい。
光学フィルムのＴｇは、光学フィルムを構成する材料種及び構成する材料の比率によって制御することができる。光学フィルムの乾燥時のＴｇは、１１０℃以上が好ましく、１２０℃以上が更に好ましく、１５０℃以上が特に好ましい。また、光学フィルムのＴｇは、１９０℃以下が好ましく、１７０℃以下がより好ましい。光学フィルムのＴｇは、ＪＩＳ Ｋ７１２１に記載の方法等に準拠して求めることができる。

延伸する際の光学フィルムの温度をＴｇ＋１０℃以上とし、延伸倍率を１．１０倍以上とすると、光学フィルムの表面に適度な粗さを付与できるため好ましい。光学フィルム表面に適度な粗さを付与することにより、滑り性が向上するとともに、表面加工性が向上するため好ましい。

２−５．巻き取り工程
巻き取り工程では、得られた光学フィルムを、巻き取り機で巻き取る。巻き取り方法は、一般に使用される方法を採用でき、例えば、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等を用いることができる。
本発明の光学フィルムは、長尺状であることが好ましく、具体的には、長さが１００〜５０００ｍ程度であることが好ましい。このような長尺状の光学フィルムは、通常、長さ方向に対して直交する方向を巻き取り軸として巻き取ったロール体で提供され得る。光学フィルムの幅は、１．３〜４ｍであることが好ましく、１．４〜２ｍであることがより好ましい。光学フィルムの長さ及び幅を当該範囲内とすることで、機能性層等の塗布における加工適性や光学フィルム自体のハンドリング性に優れる。

巻き取る前に、製品となる幅になるように、光学フィルムの端部をスリットして裁ち落とし、巻き取り中の貼り付きや擦り傷防止のために、ナール加工（エンボッシング加工）を両端に施しても良い。ナール加工の方法としては、凹凸のパターンを側面に有する金属リングを用いて、光学フィルムに対して加熱や加圧をすることにより加工する方法を挙げることができる。光学フィルム両端部のクリップによる把持部分は、通常、変形しており製品として使用できないため切除され、その切除片は原料として再利用される。
なお、作製した光学フィルムの残留溶媒量は、〔実施例〕の欄において詳述する方法により測定することができ、３０〜７００質量ｐｐｍ（（３０〜７００）×１０^−４質量％）の範囲内であることが好ましい。

２−６．フィルムの表面改質処理
表面改質処理の方法としてはコロナ放電処理、プラズマ処理、紫外線照射処理、ケン化処理、グロー処理、オゾン処理、電子線処理等が挙げられるが、上記の有機添加剤を含有した光学フィルムがこれらの処理に対して活性であることが望ましい。特に生産性の観点から、コロナ放電処理、プラズマ処理、紫外線照射処理、ケン化処理が好ましい。
本発明における表面処理に対して活性であるとは、表面が親水性に近づくことを意味しており、すなわちそれは表面改質処理前後で表面自由エネルギーが１０ｍＪ／ｍ^２以上上昇することと定義される。

コロナ処理やプラズマ処理は、フィルム表面を放電処理に供して官能基（例えば、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アクリル基、アミド基など）を付与し、フィルム表面の濡れ性を向上させる処理である。コロナ処理は通常大気圧下（空気中）で行われ、プラズマ処理は通常、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノン、二酸化炭素、一酸化二窒素、水素、アンモニアなどの雰囲気下で行われる。

コロナ放電処理とは、誘電体と絶縁された電極間に高周波・高電圧をかけてコロナを発生させ、誘電体と電極との間に基材フィルムを通過させることで、基材フィルムの表面を処理する方法である。それにより、基材フィルムの表面の接着性が高められる。電極の材質の例には、セラミックス及びアルミが含まれる。電極と誘電体との距離は、１〜５ｍｍであることが好ましく、１〜３ｍｍであることがより好ましい。ライン速度（移動速度）は、３〜７０ｍ／分程度が好ましく、３〜５０ｍ／分程度がより好ましい。

コロナ出力強度は、０．２〜３ｋＷであることが好ましく、０．５〜１．５ｋＷであることがより好ましい。コロナ出力強度が０．２以上であることで、コロナ放電が安定化し、基材フィルムの表面に安定した接着力を付与しやすい点が好ましい。コロナ出力強度が２．０ｋＷ以下であることで、基材フィルムが傷付きにくくなる場合がある。コロナ放電処理における電子照射量は、１００〜１０００Ｗ／ｍ^２・ｍｉｎとしうる。
プラズマ処理は、減圧下又は大気圧下で発生させた不活性ガスや酸素ガス等のガス雰囲気下で、プラズマ放電をすることにより、基材フィルムの表面を活性化させる処理である。ロールを用いた搬送下で効率良く生産するためには、大気圧下でのプラズマ処理が好ましい。

プラズマ処理は、ガスの種類を種々変更することにより基材層の表面を種々に改質することができる。そのため、基材層の表面を活性化するにあたり、適宜任意にガスの種類を選択することができる。ガスの種類の例には、窒素、酸素、アルゴン、ヘリウム、アクリル酸、ヒドロキシアルキル、ＣＦ_４、ＣＨＦ_３Ｃ_２Ｆ_６等のフッ素系化合物が含まれる。
プラズマ出力は、０．２〜３ｋＷであることが好ましい。ライン速度（移動速度）は、３〜７０ｍ／分であることが好ましく、３〜５０ｍ／分であることがより好ましい。周波数は、３〜３０ｋＨｚであることが好ましく、５〜２０ｋＨｚであることがより好ましい。

本発明において、「紫外線」とは、一般的に１０〜４００ｎｍの波長を有する電磁波をいうが、紫外線照射処理の場合は、好ましくは２１０〜３７５ｎｍの紫外線を用いる。
紫外線の照射は、照射されるバリア層を担持している基材又は支持体がダメージを受けない範囲で、照射強度や照射時間を設定することが好ましい。
紫外線照射は、バッチ処理にも連続処理にも適合可能であり、使用する基材又は支持体の形状によって適宜選定することができる。例えば、ＳＡＭＣＯ社製のＵＶオゾンクリーナーＵＶ−１、アイグラフィクス株式会社製の紫外線焼成炉等の装置を使用することができる。紫外線照射に要する時間は、使用する基材若しくは基材又はバリア層の組成、濃度にもよるが、一般に０．１秒〜６０分であり、好ましくは０．５秒〜３０分である。
ケン化処理は、一般的には、一定温度、一定濃度の水酸化ナトリウム溶液に一定時間浸漬することにより行う。例えば、本発明の光学フィルムについては、６０℃の２モル／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に９０秒間浸漬する。

《３．偏光板》
本発明の偏光板は、偏光子と、上記光学フィルムと、を備えることを特徴とする。
本発明の偏光板は、一般的な方法で作製することができる。例えば、本発明の光学フィルムをコロナ処理し、処理した光学フィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の少なくとも一方の面に、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。また、偏光子は、本発明の光学フィルムの両面のうち表面粗さＲａが低い面に接着されていることが好ましい。

偏光子のもう一方の面には、上記光学フィルムや、市販品であるＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ６ＵＡ、ＫＣ４ＵＡ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ４ＣＺ、ＫＣ８ＵＣＲ、ＫＣ４ＦＲ（コニカミノルタ（株）製）、アートンフィルム（ＪＳＲ（株）製）、ゼオノアフィルム（日本ゼオン（株）製）等を貼り合わせることができる。
偏光子は、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムである。ポリビニルアルコール系偏光フィルムには、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものとがある。

ポリビニルアルコール系偏光フィルムは、ポリビニルアルコール系フィルムを一軸延伸した後、ヨウ素又は二色性染料で染色したフィルム（好ましくは更にホウ素化合物で耐久性処理を施したフィルム）であっても良いし、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素又は二色性染料で染色した後、一軸延伸したフィルム（好ましくは、更にホウ素化合物で耐久性処理を施したフィルム）であっても良い。偏光子の吸収軸は、通常、最大延伸方向と平行である。

偏光子としては、例えば、特開２００３−２４８１２３号公報又は特開２００３−３４２３２２号公報等に記載のエチレン単位の含有量１〜４モル％、重合度２０００〜４０００、ケン化度９９．０〜９９．９９モル％のエチレン変性ポリビニルアルコールが用いられる。中でも、熱水切断温度が６６〜７３℃であるエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムが好ましく用いられる。
偏光子の厚さは、５〜３０μｍの範囲内であることが好ましく、偏光板を薄型化する観点等から、５〜２０μｍの範囲内であることがより好ましい。

《４．画像表示装置》
本発明の画像表示装置は、上記光学フィルムを備えることを特徴とする。これにより、視認性やムラに優れる性能が発揮される点で好ましい。画像表示装置としては、反射型、透過型、半透過型液晶表示装置又は、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＶＡ型、ＩＰＳ型、ＥＣＢ型等の各種駆動方式の液晶表示装置、タッチパネル表示装置、有機ＥＬ表示装置やプラズマディスプレイ等が挙げられる。
また、本発明の光学フィルムは、例えば、液晶表示装置（上面側偏光板／液晶セル／下面側偏光板構成）の上面側偏光板の下にタッチパネル部材を用いたインナータッチパネルや静電容量方式のタッチパネル等にも使用することができる。

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」又は「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」又は「質量％」を表す。
先ず、本実施例において使用する各種材料について説明する。

（１）シクロオレフィン系樹脂
アートンＧ７８１０：ＡＲＴＯＮ−Ｇ７８１０（ＪＳＲ社製）、シクロオレフィン系樹脂（一般式（Ａ−２）で表される単量体と他の単量体との共重合体（前述の（５）の重合体）、重量平均分子量Ｍｗ＝１４００００）
アートンＲ５０００：ＡＲＴＯＮ−Ｒ５０００（ＪＳＲ社製）、シクロオレフィン系樹脂（一般式（Ａ−１）で表される単量体と、式（Ａ−２）で表される単量体と、他の単量体との共重合体（前述の（５）の重合体）、重量平均分子量Ｍｗ＝５００００）
アートンＲＸ４５００：ＡＲＴＯＮ−ＲＸ４５００（ＪＳＲ社製）、シクロオレフィン系樹脂（一般式（Ａ−１）で表される単量体と、式（Ａ−２）で表される単量体と、他の単量体との共重合体（前述の（５）の重合体）、重量平均分子量Ｍｗ＝６３０００）
（２）マット剤：ケイ素化合物を含有する微粒子
Ｒ８１２：シリカ微粒子（日本アエロジル社製）、平均一次粒径７ｎｍ
（３）有機添加剤
ＧＬ−０１：アクリル変性シリコーン（共栄社化学社製）、重量平均分子量Ｍｗ＝５２００
ＧＬ−０３：アクリル変性シリコーン（共栄社化学社製）、重量平均分子量Ｍｗ＝４１００
ＧＬ−０４Ｒ：アクリル変性シリコーン（共栄社化学社製）、重量平均分子量Ｍｗ＝４７００
メガファックＲＳ−７５：含フッ素オリゴマー（ＤＩＣ株式会社）
オプツールＤＡＣ−ＨＰ：含フッ素オリゴマー（ダイキン工業株式会社）
ＺＸ−０５８−Ａ：含フッ素オリゴマー（株式会社Ｔ＆Ｋ ＴＯＫＡ）
ＬＦ−１９８４：アクリル重合体（楠本化成社製）、重量平均分子量Ｍｗ＝３０００
２３０：アクリル重合体（楠本化成社製）、重量平均分子量Ｍｗ＝３５００

《光学フィルム１（比較例）の作製》
（二酸化ケイ素分散希釈液の調製）
１０質量部のアエロジルＲ８１２と、８０質量部のエタノールとをディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行い、二酸化ケイ素分散液を調製した。調製した二酸化ケイ素分散液に、８０質量部のジクロロメタンを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、微粒子分散希釈液濾過器（アドバンテック東洋（株）：ポリプロピレンワインドカートリッジフィルターＴＣＷ−ＰＰＳ−１Ｎ）で濾過して二酸化ケイ素分散希釈液を調製した。

（ドープの調製）
シクロオレフィン系樹脂：アートンＧ７８１０ １２０質量部
紫外線吸収剤：ＴＩＮＵＶＩＮ ９２８（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ３質量部
マット剤：二酸化ケイ素分散希釈液 １０質量部
ジクロロメタン ３５７質量部
エタノール １９質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、ドープを調製した。

次に、ベルト流延製膜装置を用い、ステンレスバンド支持体上に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶媒量が８０質量％になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。得られたウェブを３５℃に保持して更に溶媒を蒸発させ、１．１５ｍ幅にスリットし、１６０℃の乾燥温度で乾燥させた。その後、１３０℃の乾燥装置内を多数のローラーで搬送させながら１５分間乾燥させた後、１．０ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ２μｍのナーリング加工を施し、巻芯に巻き取り、光学フィルム１を得た。光学フィルム１の厚さは１０μｍ、巻長は５０００ｍであった。なお、ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるＭＤ方向の延伸倍率は１．０１倍であった。

《光学フィルム２（比較例）の作製》
上記光学フィルム１の作製と同様にして、光学フィルム２を作製した。

《光学フィルム３（比較例）の作製》
（二酸化ケイ素分散希釈液の調製）
マット剤としての１０質量部のＲ８１２と、８０質量部のエタノールとをディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行い、二酸化ケイ素分散液を調製した。調製した二酸化ケイ素分散液に、８０質量部のジクロロメタンを撹拌しながら投入し、ディゾルバーで３０分間撹拌混合した後、微粒子分散希釈液濾過器（アドバンテック東洋（株）：ポリプロピレンワインドカートリッジフィルターＴＣＷ−ＰＰＳ−１Ｎ）で濾過して二酸化ケイ素分散希釈液を調製した。

（ドープの調製）
下記組成のドープを調製し、これを密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４を使用して濾過し、ドープを調製した。

シクロオレフィン樹脂：Ｇ７８１０ １２０質量部
マット剤：二酸化ケイ素分散希釈液 ２０質量部
紫外線吸収剤：ＴＩＮＵＶＩＮ ９２８（ＢＡＳＦジャパン（株）製） ３質量部
ジクロロメタン ３５６質量部
エタノール １４質量部

（シクロオレフィン樹脂層の形成）
次に、ベルト流延製膜装置を用い、ステンレスバンド支持体上に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が８０質量％になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。得られたウェブを３５℃に保持して更に溶媒を蒸発させ、１．１５ｍ幅にスリットし、１６０℃の乾燥温度で乾燥させた。その後、１３０℃の乾燥装置内を多数のローラーで搬送させながら１５分間乾燥させた後、１．０ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ２μｍのナーリング加工を施し、巻芯に巻き取り、シクロオレフィン樹脂層を形成した。シクロオレフィン樹脂層の厚さは１０．０μｍ、巻長は５０００ｍであった。なお、ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるＭＤ方向の延伸倍率は１．０１倍であった。

（下塗り層の形成）
特開２０１５−１６０４３４号公報の実施例１を参照して、シクロオレフィン樹脂上に下塗り層を形成した。
具体的には、下記組成の下塗り層形成用塗布液を調製した。

ウレタン系バインダー（タケラックＷＳ５１００、三井武田ケミカル（株）製、濃度３０質量％） ３．９０質量部
オキサゾリン基含有水分散性ポリマー（エポクロスＫ−２０１０Ｅ、Ｔｇ＝−５０℃、日本触媒（株）製、固形分：４０質量％） ０．３２質量部
コロイダルシリカ（スノーテックスＵＰ、日産化学（株）製、固形分：１０質量％水希釈） ０．２７質量部
滑り剤：カルナバワックス（セロゾール５２４、中京油脂（株）製、固形分：３質量％水希釈） １．６７質量部
・界面活性剤Ａ：界面活性剤（ナロアクティーＣＬ９５、三洋化成工業（株）製、固形分：１質量％水溶液） １．６７質量部
界面活性剤Ｂ：界面活性剤（ラピゾールＡ−９０、日油（株）製、固形分：１質量％水溶液） ２．６７質量部
蒸留水 ８９．５０質量部

次いで、シクロオレフィン樹脂層上の一方の表面上に、８ｋＪ／ｍ^２の条件でコロナ放電処理を行い、このコロナ放電処理を行った表面に下塗り層形成用塗布液を、乾燥後の膜厚が９０ｎｍになるように塗布し、膜面温度９０℃で１分間乾燥させて、下塗り層を形成し、厚さ１０．１μｍの光学フィルム３を作製した。

《光学フィルム４〜２２の作製》
上記光学フィルム１の作製において、シクロオレフィン系樹脂（表２において「ＣＯＰ」と略記する。）の種類、光学フィルムの表面自由エネルギーを変化させる有機添加剤（表１において「有機添加剤」と略記する。）の添加量及び膜厚を表２に記載のとおりに変更した以外は同様にして、光学フィルム４〜２２を作製した。

《光学フィルム１〜２２の表面自由エネルギーの測定》
作製した光学フィルム１〜２２について、有機添加剤を添加していない点を除いて同様に作製した光学フィルム１′〜２２′を用いて、下記測定方法により表面自由エネルギーを測定した。

＜表面自由エネルギーの測定方法＞
本発明においては、フィルムの表面自由エネルギーを、次のように測定した。
測定装置：固液界面解析装置（ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ５００、協和界面科学株式会社製）
測定方法：液滴法
環境 ：温度２３℃、５５％ＲＨ
３種の標準液体（純水、ニトロメタン、ヨウ化メチレン）と、被測定固体（機能性フィルム、成形密着層又は自己修復層）との接触角を、ＪＩＳ Ｒ３２５７で規定される方法に準拠して前記標準液体を被測定固体上に約３μＬ滴下して、固液界面解析装置（ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ５００、協和界面科学株式会社製）により５回測定し、測定値の平均から平均接触角を得た。接触角測定までの時間は試薬を滴下してから６０秒後に測定した。
次に、Ｙｏｕｎｇ−Ｄｕｐｒｅの式及び拡張Ｆｏｗｋｅｓの式に基づき、固体の表面自由エネルギーの３成分を算出した。
この場合、表面自由エネルギー解析ソフトＥＧ−１１（協和界面科学株式会社製）を用いて計算することができる。

Ｙｏｕｎｇ−Ｄｕｐｒｅの式：Ｗ_ＳＬ＝γＬ（１＋ｃｏｓθ）
Ｗ_ＳＬ：液体／固体間の付着エネルギー
γＬ：液体の表面自由エネルギー
θ：液体／固体の接触角
拡張Ｆｏｗｋｅｓの式：
Ｗ_ＳＬ＝２｛（γＳ_ｄ・γＬ_ｄ）^１／２＋（γＳ_ｐ・γＬ_ｐ）^１／２＋（γＳ_ｈ・γＬ_ｈ）^１／２｝
γＬ＝γＬ_ｄ＋γＬ_ｐ＋γＬ_ｈ：液体の表面自由エネルギー
γＳ＝γＳ_ｄ＋γＳ_ｐ＋γＳ_ｈ：固体の表面自由エネルギー
γＳ_ｄ、γＳ_ｐ、γＳ_ｈ：固体の表面自由エネルギーの分散、双極子、水素結合の各成分
γＬ_ｄ、γＬ_ｐ、γＬ_ｈ：液体の表面自由エネルギーの分散、双極子、水素結合の各成分
標準液体の表面自由エネルギー各成分値（ｍＮ／ｍ）は、表１のように既知であるので、接触角の値から３元連立方程式を解くことにより、固体表面の表面自由エネルギー各成分値（γＳ_ｄ、γＳ_ｐ、γＳ_ｈ）を求めることができる。

《光学フィルムのヘイズの評価》
上記光学フィルム１〜２２（表面改質処理を施す前のフィルム）を３．０ｃｍ×３．０ｃｍに切り出して試験片とした。この試験片を、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準じ、２３℃・５５％ＲＨの条件下、ヘーズメーターＮＤＨ−２０００（日本電色工業株式会社製）にて測定したときの値を、以下の基準で評価した。
○：ヘイズ値が、２．０％未満
△：ヘイズ値が、２．０％以上５．０％未満
×：ヘイズ値が、５．０％以上

《光学フィルムの折り曲げ耐性の評価》
上記光学フィルム（表面改質処理を施す前のフィルム）を、１．５ｃｍ×１０ｃｍの大きさに切り出して試料片とした。この試料片を、２５℃・６０％ＲＨ下、ＭＩＴ耐折疲労試験機（東洋精機製）にセットし、折り曲げ速度１７０ｒｐｍ、折り曲げ角度１３５°、チャック先端半径（折り曲げクランプの先端半径）０．３５ｍｍ、及び荷重４．９Ｎの条件で折り曲げたときの割れの有無を、以下の基準で評価した。
◎：２５００回折り曲げて割れを生じない
○：２０００回折り曲げて割れを生じない
△：１５００回折り曲げて割れを生じない
×：１５００回未満で割れを生じた

《光学フィルム中の残留溶媒の評価》
光学フィルム１〜２２（表面改質処理を施す前）に含まれる残留溶媒の定量は、ヘッド・スペース・ガスクロマトグラフィー法により行った。すなわち、測定試料（上記光学フィルム）を容器に封入して、１５０℃で１時間、加熱し、容器中に揮発成分が充満した状態で速やかに容器中のガスをガスクロマトグラフに注入し、質量分析を行って化合物の同定を行いながら揮発成分の定量を行った。揮発成分の定量は、濃度が既知の試料を用いて検量線をあらかじめ作成しておき、測定で得られた揮発成分のピーク面積と検量線とを照合して行った。

＜測定条件＞
ヘッドスペース装置：７６９４ Ｈｅａｄｓｐａｃｅ Ｓａｍｐｌｅｒ（アジレント・テクノロジー社製）
温度条件：トランスファーライン２００℃、ループ温度２００℃
サンプル量：０．８ｇ／２０ｍＬバイアル
ＧＣ：５８９０（アジレント・テクノロジー社製）
ＭＳ：５９７１（アジレント・テクノロジー社製）
カラム：ＤＢ−６２４（３０ｍ×内径０．２５ｍｍ）
オーブン温度：初期温度４０℃（保持時間３分）、昇温速度１０℃／分、到達温度２００℃（保持時間５分）
測定モード：ＳＩＭ（セレクトイオンモニター）モード
なお、光学フィルムの残留溶媒量は、下記式で定義される。
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
（Ｍは、光学フィルム試料を加熱する前の質量を表す。Ｎは、当該試料を１５０℃で１時間の加熱した後の質量を表す。）

《表面改質処理前の光学フィルムの偏光子に対する接着性の評価》
（１）偏光子の作製
厚さ２５μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３５℃の水で膨潤させた。得られたフィルムを、ヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ及び水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、さらにヨウ化カリウム３ｇ、ホウ酸７．５ｇ及び水１００ｇからなる４５℃の水溶液に浸漬した。得られたフィルムを、延伸温度５５℃、延伸倍率５倍の条件で一軸延伸した。この一軸延伸フィルムを、水洗した後、乾燥させて、厚さ７μｍの偏光子を得た。

（２）評価用光学フィルムサンプルの作製
上記光学フィルム１〜２２のそれぞれのフィルム上に、水系接着剤であるポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３質量％水溶液を塗布した後、上記作製した偏光子を貼り合わせた。貼り合わせは、光学積層フィルムの遅相軸と偏光子の吸収軸とが直交するように行った。得られた積層物を６０℃で５分間乾燥させて、評価用光学フィルムサンプル１〜２２を得た。

（３）光学フィルムの接着性の評価
前記評価用光学フィルムサンプル１〜２２を、２３℃で相対湿度５５％の環境下で２４時間放置した。その後、評価用サンプルの偏光子と光学積層フィルムとの接着面を手で引き剥がしたとき、光学積層フィルムに材料破壊の発生の有無、及び剥離の程度を目視観察して、以下の基準で接着性を評価した。○以上であれば実用上問題ないレベルと判断した。
◎：剥がれない
○：光学積層フィルムと偏光子との間の接着力に問題はなく、光学積層フィルムを剥がそうとすると、光学積層フィルムと偏光子の少なくとも一方の端部の一部に材料（基材）破壊が生じる
△：光学積層フィルムと偏光子との界面の一部が剥がれる
×：光学積層フィルムと偏光子との界面の全部が剥がれる

《表面改質処理後の光学フィルムの偏光子に対する接着性の評価》
下記手順に従って光学フィルムの偏光子に対する接着性を評価した。

（１）光学フィルム１〜２２の表面改質処理
以下のように上記で作製した光学フィルムを偏光子に接着（貼合）する前に、下記各種表面改質処理のいずれかを上記光学フィルム１〜２２に、表３に示すように施した。

＜コロナ放電処理＞
上記光学フィルムに対し、コロナ放電処理（表３において「コロナ放電」と略記する。）を施した。コロナ放電における誘電体との距離は２ｍｍ、電子照射量は５００Ｗ／ｍ^２／ｍｉｎとした。

＜プラズマ処理＞
常圧プラズマ照射装置を使用し、フィルムを常圧プラズマ照射装置の下を通過させ、常圧プラズマ照射処理を施した。
常圧プラズマ処理に用いた混合ガス（反応ガス）の組成を以下に示した。なお、気圧は１．０１３×１０^５Ｐａとした。
窒素：９９．９８体積％
酸素：０．０２体積％
混合ガス流量：２ｍ^３／ｍｉｎ

＜紫外線照射処理＞
幅１６００ｍｍ、照射ガラス長手長約３００ｍｍ、Ｘｅ_２波長１７２ｎｍエキシマＵＶランプが４本入った装置にて、ランプのガラス外部表面から流延膜表面までの間隙が３ｍｍの条件で、フィルムを紫外線照射装置の下を通過させ、処理時の残留溶媒量を変えて紫外線照射処理を施した。

＜ケン化処理＞
６０℃の２モル／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に９０秒間浸漬した後、水洗及び乾燥させて、偏光子と貼合する側の表面をケン化した。

（２）偏光子の作製
厚さ２５μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３５℃の水で膨潤させた。得られたフィルムを、ヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ及び水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、さらにヨウ化カリウム３ｇ、ホウ酸７．５ｇ及び水１００ｇからなる４５℃の水溶液に浸漬した。得られたフィルムを、延伸温度５５℃、延伸倍率５倍の条件で一軸延伸した。この一軸延伸フィルムを、水洗した後、乾燥させて、厚さ７μｍの偏光子を得た。

（３）評価用光学フィルムサンプルの作製
上記光学フィルム１〜２２のそれぞれに対し表３に示した表面改質処理を施し、その表面改質処理を施したフィルム上に、水系接着剤であるポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３質量％水溶液を塗布した後、上記作製した偏光子を貼り合わせた。貼り合わせは、光学積層フィルムの遅相軸と偏光子の吸収軸とが直交するように行った。得られた積層物を６０℃で５分間乾燥させて、評価用光学フィルムサンプル１〜２２を得た。なお、表面改質処理後の下記接着性評価の際に表面自由エネルギーを測定し、いずれも１０ｍＪ／ｍ^２以上上昇していることを確認した。

（４）光学フィルムの接着性の評価
前記評価用光学フィルムサンプル１〜２２を、２３℃で相対湿度５５％の環境下で２４時間放置した。その後、評価用サンプルの偏光子と光学積層フィルムとの接着面を手で引き剥がしたとき、光学積層フィルムに材料破壊の発生の有無、及び剥離の程度を目視観察して、以下の基準で接着性を評価した。○以上であれば実用上問題ないレベルと判断した。
◎：剥がれない
○：光学積層フィルムと偏光子との間の接着力に問題はなく、光学積層フィルムを剥がそうとすると、光学積層フィルムと偏光子の少なくとも一方の端部の一部に材料（基材）破壊が生じる
△：光学積層フィルムと偏光子との界面の一部が剥がれる
×：光学積層フィルムと偏光子との界面の全部が剥がれる

測定結果を表３に示す。表３においては、表面自由エネルギーを変化させる有機添加剤を含有しない比較例としての光学フィルムの表面自由エネルギーの膜厚依存性を示すとともに、本発明の実施例としての光学フィルム１〜２２及び光学フィルム１′〜２２′（光学フィルム１〜２２に対応する、有機添加剤を添加しない光学フィルム）の表面自由エネルギーＥを用いて、表面自由エネルギー差の絶対値｜ΔＥ｜を求めた。
具体的には、光学フィルム４′（有機添加剤添加前）の表面自由エネルギーから光学フィルム４（有機添加剤添加後）の表面自由エネルギーの差の絶対値を算出した。
なお、光学フィルム１については、有機添加剤を用いていないため、光学フィルム１′と表面自由エネルギーに差がない。光学フィルム２についても同様である。
また、光学フィルム３は有機添加剤を添加していないが、下塗り層を作製しているため、下塗り層を作製していないものを光学フィルム３′として、表面自由エネルギー差の絶対値｜ΔＥ｜を求めている。

表３に示した結果から明らかなように、本発明の光学フィルム５〜７及び９〜２２は、上記の各評価において比較例の光学フィルム１〜４及び８より優れている。
また、表中にはコロナ処理を行った場合の接着性評価を主に記しているが、プラズマ処理、紫外線照射処理、ケン化処理でも同様の接着結果が得られることを確認した。

《液晶表示装置の作製と画像の視認性の評価》
下記手順に従って、本発明の画像表示装置の一例として、偏光板とそれを備えた液晶表示装置を作製し、本発明の上記光学フィルムを偏光板に用いたときの画像の視認性に対する効果を評価した。
（１）第１の偏光板（視認側偏光板）の作製
下記工程１〜４に従って、上記作製した偏光子の一方の面に上記作製した光学フィルム１を貼り合わせ、他方の面にコニカミノルタ社製ＫＣ４ＵＡ（偏光子保護フィルム）を貼り合わせて、偏光板を作製した。
工程１：作製した光学フィルム１の表面自由エネルギーを変化させた面に対し、コロナ放電を行い、コロナ処理を施した。別途、コニカミノルタ社製ＫＣ４ＵＡ（偏光子保護フィルム）を６０℃の２モル／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に９０秒間浸漬した後、水洗及び乾燥させて、偏光子と貼合する側の面をケン化した。
工程２：偏光子を、固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒間浸漬した。次いで、偏光子に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除いた後、工程１でコロナ処理を施した光学フィルム１の面上に配置した。
工程３：光学フィルム１及び偏光子と、工程１でケン化処理した偏光子保護フィルムとを、圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ^２、搬送スピードは約２ｍ／分で貼り合わせて、積層体を得た。
工程４：工程３で得られた積層体を、８０℃の乾燥機中で２分間乾燥させて、ＫＣ４ＵＡ（偏光子保護フィルム）／偏光子／光学フィルム１の積層構造を有する第１の偏光板を得た。

（２）第２の偏光板（バックライト側偏光板）の作製
第１の偏光板の作製と同様にして、光学フィルム１／偏光子／ＫＣ４ＵＡ（偏光子保護フィルム）の積層構造を有する第２の偏光板を作製した。

（液晶表示装置１の作製）
携帯用液晶表示装置として、ＩＰＳ方式のＸｐｅｒｉａ Ｚ２ Ｄ６５０２（Ｓｏｎｙ株式会社製）を準備した。この装置から２枚の偏光板を剥がしとり、液晶セルの視認側の面に上記作製した第１の偏光板を、バックライト側の面に上記作製した第２の偏光板を、それぞれ粘着剤を介して貼り付けて液晶表示装置１を作製した。
第１の偏光板の貼り付けは、ＫＣ４ＵＡが視認側となるように行った。また、第２の偏光板の貼り付けは、ＫＣ４ＵＡがバックライト側となるように行った。

《液晶表示装置５〜７、９〜２２の作製》
上記液晶表示装置１の作製において、光学フィルム１を表２に記載のとおりに変更した以外は同様にして、上記光学フィルム５〜７、９〜２２を用いて各フィルム番号に対応させた液晶表示装置５〜７、９〜２２を作製した。

《液晶表示装置１、５〜７、９〜２２の評価》
作製した画像表示装置１、５〜７、９〜２２に対して、視認性の評価として光漏れの評価を行った。

（光漏れの評価）
上記作製した液晶表示装置１、５〜７、９〜２２を暗室にて黒表示させた。このときの画面端部からの光漏れの有無を以下の基準で評価した。
○：光漏れが全く認識できない
△：僅かな光漏れが認識される
×：明らかな光漏れが確認される
上記評結果は、光学フィルム１については、明らかな光漏れが視認され×のレベルと評価された。この結果は、光学フィルムと偏光子の密着性が不十分で、光学フィルムと偏光子との接着界面に隙間が生じ、僅かな光漏れが発生したと考えられる。
一方、本発明に係る光学フィルム５〜７及び９〜２２については、光漏れが無視できる程度に僅か（△のレベル）又は光漏れが全く視認できない（○のレベルである。）ことが、評価結果として、確認された。

Claims (6)

1. シクロオレフィン系樹脂と表面自由エネルギーを変化させる有機添加剤とを含有する光学フィルムであって、
   前記有機添加剤として、ポリシロキサン系化合物を含有し、当該ポリシロキサン系化合物が、アクリル変性シリコーンであり、
   前記有機添加剤の含有による表面自由エネルギーＥの変化量の絶対値｜ΔＥ｜が、１０〜３１ｍＪ／ｍ^２の範囲内であり、
   表面自由エネルギー増加のための、コロナ放電処理、プラズマ処理、紫外線照射処理、及びケン化処理のいずれかの表面改質処理が施されていることを特徴とする光学フィルム。
2. フィルム膜厚が、５〜４０μｍの範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
3. 請求項１又は請求項２に記載の光学フィルムを製造する光学フィルムの製造方法であって、
   少なくとも、シクロオレフィン系樹脂と表面自由エネルギーを変化させる有機添加剤を含有するドープを溶液流延法により製膜する工程と、
   コロナ放電処理、プラズマ処理、紫外線照射処理、及びケン化処理のいずれかの表面改質処理方法により表面自由エネルギーを増加させる工程と、
   を有することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
4. フィルム中の残留溶媒量が、３０〜７００質量ｐｐｍの範囲内であることを特徴とする請求項３に記載の光学フィルムの製造方法。
5. 請求項１又は請求項２に記載の光学フィルムと偏光子とを具備していることを特徴とする偏光板。
6. 請求項１又は請求項２に記載の光学フィルムを具備していることを特徴とする画像表示装置。