JP2017094580A - 配線構造、memsデバイス、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、memsデバイスの製造方法、液体噴射ヘッドの製造方法、および、液体噴射装置の製造方法 - Google Patents

配線構造、memsデバイス、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、memsデバイスの製造方法、液体噴射ヘッドの製造方法、および、液体噴射装置の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】接続端子に異方性導電膜を転写する工程において異方性導電膜が接続端子から剥がれてしまうことを抑制することが可能な配線構造、MEMSデバイス、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、MEMSデバイスの製造方法、液体噴射ヘッドの製造方法、および、液体噴射装置の製造方法を提供する。
【解決手段】第1の基板(12)に形成された接続端子列(22)に、第2の基板(30)の被接続端子列(57)が電気的に接続されてなる配線構造であって、接続端子列の両端部の端子並設方向側に、電気信号の送受に使用されないダミー端子(24)がそれぞれ設けられ、第1の基板と第2の基板との間に設けられた導電性粒子を含む異方性導電膜(9)は、ダミー端子に向かって延在し、異方性導電膜の端がダミー端子の表面上に設けられていることを特徴とする。
【選択図】図13

Description

本発明は、基板の端子同士を接続する配線構造、MEMSデバイス、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、MEMSデバイスの製造方法、液体噴射ヘッドの製造方法、および、液体噴射装置の製造方法に関するものである。
例えば、液体噴射装置、表示装置、あるいは各種センサー等に応用されているMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)デバイスには、当該MEMSデバイスを構成する部材同士の間、あるいは、外部回路との間で電気信号の送受をするための接続端子を有する基板を備えているものがある。例えば、特許文献1には、液晶表示装置に応用されているMEMSデバイスにおいて、液晶パネルの外部回路との接続用の端子取出部と、フレキシブルプリント基板(FPC)の接続端子とが、異方性導電膜(異方性導電フィルム)により接続された構成が開示されている。この構成では、FPCの接続端子の両端部にダミー端子が設けられていることにより、外側両端部のストレス等による断線が防止されている。
このような構成においては、例えば、可撓性を有する剥離フィルム(特許文献1のベースフィルム)上に異方性導電膜の材料が一定の膜厚で形成され、基板の接続端子に異方性導電材料を貼りつけた状態でヒートツール(特許文献1のヒートヘッド)により加熱および加圧した後(仮圧着)、剥離フィルムのみを剥がすことで基板の接続端子上に異方性導電膜が転写される。
特開平5−183247号公報
図17は、従来の構成において、基板63の接続端子64に異方性導電材料65を圧着した後、剥離フィルム66を剥離する工程(転写工程)について説明する模式図である。従来の構成では、接続端子64の並設方向において、異方性導電膜65の端E1は、接続端子列の端(ダミー端子64′の外側の端)E2よりも外側に位置し、あるいはE2に揃えられていた。このような構成においては、異方性導電膜65から剥離フィルム66を剥がす際に、本来、剥離の起点となるべき異方性導電膜65の端E1に、接続端子64(64′)と異方性導電膜65との間の粘着力が十分に作用し難い。このため、剥離フィルム66を剥がす際に、剥離フィルム66と共に異方性導電膜65が接続端子64(ダミー端子64′)から剥がれてしまい、不良となるおそれがあった。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、接続端子に異方性導電膜を転写する工程において異方性導電膜が接続端子から剥がれてしまうことを抑制することが可能な配線構造、MEMSデバイス、液体噴射ヘッド、液体噴射装置、MEMSデバイスの製造方法、液体噴射ヘッドの製造方法、および、液体噴射装置の製造方法を提供することにある。
本発明は、上記目的を達成するために提案されたものであり、
第1の基板に形成された接続端子列に、第2の基板の被接続端子列が電気的に接続されてなる配線構造であって、
前記接続端子列の両端部の端子並設方向側に、電気信号の送受に使用されないダミー端子がそれぞれ設けられ、
前記第1の基板と前記第2の基板との間に設けられた導電性粒子を含む異方性導電膜は、前記ダミー端子に向かって延在し、前記異方性導電膜の端が前記ダミー端子の表面上に設けられていることを特徴とする。
本発明によれば、異方性導電膜の端がダミー端子の表面に位置することで、接続端子列に異方性導電膜を転写する工程において異方性導電膜から剥離フィルムが剥離される際、異方性導電膜とダミー端子との間の粘着力が異方性導電膜の端に作用するので、異方性導電膜の端を起点として当該異方性導電膜から剥離フィルムがより確実に剥離される。これにより、異方性導電膜が剥離フィルムと共に接続端子列から引き剥がされてしまう不具合が抑制される。
上記構成において、前記端子並設方向に垂直な方向において、前記異方性導電膜の幅が前記ダミー端子の幅よりも小さく、前記異方性導電膜の少なくとも一方の端が前記ダミー端子の表面上に設けられている構成を採用することが望ましい。
この構成によれば、異方性導電膜の端子並設方向における端および端子並設方向に垂直な方向における端が、それぞれダミー端子の表面上に位置するので、異方性導電膜とダミー端子との間の粘着力がダミー端子上の異方性導電膜の各方向における端にそれぞれ作用する。このため、異方性導電膜が剥離フィルムと共に接続端子列から引き剥がされてしまう不具合がより確実に抑制される。
上記構成において、前記ダミー端子の面積は、前記接続端子列を構成する複数の接続端子のうち最も大きい接続端子の面積に揃えられている構成を採用することが望ましい。
この構成によれば、異方性導電膜とダミー端子とが重なる面積をより広く確保することができるので、異方性導電膜が剥離フィルムと共に接続端子列から引き剥がされてしまう不具合が一層確実に抑制される。また、異方性導電膜と基板端子列との相対位置が多少ずれたとしても、異方性導電膜の端が、ダミー端子の表面上から外れることが抑制される。
また、本発明のMEMSデバイスは、上記構成の配線構造により電気的に接続された第1の基板および第2の基板を備えることを特徴とする。
また、本発明の液体噴射ヘッドは、上記構成のMEMSデバイスを備えることを特徴とする。
さらに、本発明の液体噴射装置は、上記構成の液体噴射ヘッドを備えることを特徴とする。
また、本発明のMEMSデバイスの製造方法は、可撓性を有する剥離フィルム上に形成された前記異方性導電膜が、前記接続端子列の端子並設方向における当該異方性導電膜の両端がそれぞれ接続端子列の両側のダミー端子の表面に位置する状態で前記第1の基板に貼着される工程と、
前記異方性導電膜が、熱圧着治具によって前記剥離フィルムと前記第1の基板との間で加熱および押圧されて前記接続端子列および前記ダミー端子に仮圧着される工程と、
前記接続端子列および前記ダミー端子に仮圧着された異方性導電膜から前記剥離フィルムが剥離される工程と、
前記接続端子列の各接続端子と前記被接続端子列の各被接続端子とがそれぞれ対応するように前記第1の基板と前記第2の基板との相対位置が規定された状態で、前記第1の基板と前記第2の基板とが前記異方性導電膜を介在させて貼り合わされる工程と、
前記第1の基板と前記第2の基板とが、熱圧着治具により前記異方性導電膜を挟む方向に加熱および加圧されて圧着される工程と、
を経ることを特徴とする。
本発明によれば、異方性導電膜の端がダミー端子の表面に位置することで、剥離フィルムが剥離される工程において異方性導電膜から剥離フィルムを剥離する際、異方性導電膜の端とダミー端子との間の粘着力が異方性導電膜の端により確実に作用するので、剥離フィルムから異方性導電膜が剥がれずに接続端子列から引き剥がされてしまう不具合が抑制される。
また、本発明の液体噴射ヘッドの製造方法は、上記MEMSデバイスの製造方法を含むことを特徴とする。
さらに、本発明の液体噴射装置の製造方法は、上記液体噴射ヘッドの製造方法を含むことを特徴とする。
液体噴射装置(プリンター)の構成を説明する模式図である。 MEMSデバイス(記録ヘッド)の断面図である。 第1の基板(中継基板)の斜視図である。 第1の基板(中継基板)における接続端子列(基板端子列)および配線挿通口の平面図である。 ヘッドユニットの断面図である。 接続端子列(基板端子列)および被接続端子列(他端側端子列)の接続工程について説明する断面図である。 接続端子列(基板端子列)および被接続端子列(他端側端子列)の接続工程について説明する断面図である。 接続端子列(基板端子列)および被接続端子列(他端側端子列)の接続工程について説明する断面図である。 接続端子列(基板端子列)および被接続端子列(他端側端子列)の接続工程について説明する断面図である。 接続端子列(基板端子列)および被接続端子列(他端側端子列)の接続工程について説明する断面図である。 接続端子列(基板端子列)および被接続端子列(他端側端子列)の接続工程について説明する断面図である。 接続端子列(基板端子列)および被接続端子列(他端側端子列)の接続工程について説明する断面図である。 第2の実施形態における圧着工程について説明する断面図である。 第3の実施形態における接続端子列(基板端子列)の平面図である。 第4の実施形態における接続端子列(基板端子列)と被接続端子列(他端側端子列)の平面図である。 第5の実施形態における接続端子列(基板端子列)の平面図である。 従来における基板の接続端子に異方性導電材料を転写する工程について説明する模式図である。
以下、本発明を実施するための形態を、添付図面を参照して説明する。なお、以下に述べる実施の形態では、本発明の好適な具体例として種々の限定がされているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの態様に限られるものではない。また、以下においては、MEMSデバイスの一つの形態である記録ヘッド(インクジェットヘッド。液体噴射ヘッドの一種。)2を用いて説明する。当該記録ヘッド2においては、外部(プリンターコントローラー)からの駆動信号を第1の基板の一種である中継基板12および第2の基板であるフレキシブル基板30を通じて駆動素子の一種である圧電素子40(図5参照)に印加される構成となっている。
図1は、プリンター1(液体噴射装置の一種)の内部構成を示す斜視図である。このプリンター1は、記録ヘッド2が取り付けられると共に、液体供給源としてのインクカートリッジ3が着脱可能に取り付けられるキャリッジ4、このキャリッジ4を記録用紙6の紙幅方向、即ち、主走査方向に往復移動させるキャリッジ移動機構7、主走査方向に直交する副走査方向に記録用紙6を搬送する紙送り機構8等を備えている。キャリッジ4は、キャリッジ移動機構7によって主走査方向に移動するように構成されている。このプリンター1は、記録用紙6を順次搬送しつつ、キャリッジ4を往復移動させながら当該記録用紙6上に文字や画像等を記録する。画像データに基づくドットパターンデータや駆動信号や各種の制御信号等はフレキシブルフラットケーブル(FFC)5を通じて図示しないプリンターコントローラー側から記録ヘッド2に伝送される。なお、インクカートリッジ3がキャリッジ4ではなくプリンター1の本体側に配置され、このインクカートリッジ3内のインクがインク供給チューブを通じて記録ヘッド2側に供給される構成を採用することもできる。
図2は、記録ヘッド2の断面図である。本実施形態における記録ヘッド2は、インク導入基板10、中継基板12、流路基板13、複数のヘッドユニット11、およびホルダー14等を積層して備えている。なお、以下においては、便宜上、各部材の積層方向を上下方向として説明する。
インク導入基板10の上面にはインク導入針15が、フィルター16を介在させた状態で複数立設されている。このインク導入針15は、インクの種類(色)毎に設けられている。インク導入基板10およびインク導入針15は、いずれも合成樹脂により作製されている。また、フィルター16は、流路内のインクを濾過する部材であり、例えば、金属を網目状に編み込んだものや薄手の金属板に多数の穴を開けたもの等が用いられる。このフィルター16によってインク内の異物や気泡が捕捉される。そして、本実施形態においては、インク導入基板10の上面に、インクカートリッジ3が装着されて、当該インクカートリッジ3の内部にインク導入針15が挿入されるように構成されている。そしてインクカートリッジ3内のインクはインク導入針15の先端部に設けられた開口Opから内部流路に導入される。インク導入針15からインクが導入されると、フィルター16を通過してインク導入基板10の下方に配置されている流路基板13に流路接続部19を介して供給される。なお、インク導入針15をサブタンク等のインク貯留部材に挿入させる構成に限られず、例えば、インク導入基板10のインク導入部分に不織布やスポンジ等の多孔質材が配設され、インクカートリッジ3やサブタンクのインク導出部分にも同様な多孔質材が設けられ、両者の多孔質部材同士が接触してインクの授受を行う所謂フォーム形式の構成を採用することもできる。
流路基板13は、インク導入針15から導入されたインクをヘッドユニット11側に案内する中間流路18が形成された基板である。この流路基板13の上面において、中間流路の入り口側開口の周縁には、円筒状の流路接続部19が突設されている。この流路接続部19の高さ(流路基板13の上面からの突出長)は、インク導入基板10と流路基板13との間に配置される中継基板12の厚さ以上に設定されている。そして、流路接続部19は、インク導入基板10の流路と連通して当該インク導入基板10側からのインクを受けて中間流路18側に導入する。中間流路18は、流路基板13の下面に開口して、ホルダー14の仕切板35に開設された連通流路20と連通する。また、流路基板13には、中間流路18から外れた位置に板厚方向を貫通する配線開口部17が開設されている。この配線開口部17は、後述する中継基板12の配線連通口25と連通するとともに、ホルダー14の仕切板35に形成された配線貫通口28と連通し、後述するフレキシブル基板30が挿通される空部である。
図3は、中継基板12(本発明における第1の基板の一種)の構成を説明する斜視図である。また、図4は、中継基板12における基板端子列22および配線挿通口25の平面図である。この中継基板12は、FFC5を通じてプリンター本体側からの駆動信号等を受け、この駆動信号を、フレキシブル基板30(本発明における第2の基板の一種)を通じてヘッドユニット11側の圧電素子40へ供給するための配線パターン等が形成されたリジッド基板である。この中継基板12の上面(ヘッドユニット11側の下面とは反対側の面)には、複数の基板端子21(本発明における接続端子の一種)が並設されてなる基板端子列22(本発明における接続端子列の一種)が形成されており、また、プリンター本体側からのFFC5が接続されるコネクター23やその他の電子部品等が実装されている。中継基板12は、コネクター23に接続されたFFC5を介してプリンター本体側から駆動信号を受けるようになっている。
基板端子列22の両端部に位置する基板端子21の端子並設方向における側には、電気信号の送受に使用されないダミー端子24がそれぞれ設けられている。本実施形態におけるダミー端子24は、基板端子列22を構成する基板端子21と同じ金属製の端子であり、これらの基板端子21と同一の大きさに揃えられている。また、ダミー端子24と当該ダミー端子24に隣り合う基板端子21との間の間隔は、隣り合う基板端子21同士の間隔に揃えられている。このため、本実施形態におけるダミー端子24は、外見上、基板端子21と何ら変わりがないが、当該ダミー端子24には、電気信号線が接続されていない。このダミー端子24は、各基板端子21に異方性導電膜(ACFまたはACP)9を貼付する際に、当該異方性導電膜9が基板端子21から剥がれにくくする機能を奏する。この点の詳細については後述する。
中継基板12において流路基板13の流路接続部19に対応する位置には、この流路接続部19が挿通される逃げ穴26が開設されている。逃げ穴26は、流路接続部19の外径よりも少し大きい貫通穴である。また、中継基板21において基板端子列22と隣接する位置には、基板厚さ方向を貫通する配線挿通口25が当該基板端子列22に沿って形成されている。この配線挿通口25は、一端が圧電素子40の素子端子と接続されたフレキシブル基板30の他端側が挿通される穴である。本実施形態における配線挿通口25の長手方向および短手方向の内寸は、フレキシブル基板30が支障なく挿通可能な程度の大きさに設定されている。
図2に示すように、ホルダー14の内部には、ヘッドユニット11を収容可能な空間である収容空部32が複数区画されている。この収容空部32は、下面側(プリンター1において印刷動作中に記録用紙6と相対する側)が開口しており、この開口から固定板33に接合されたヘッドユニット11が収容される。固定板33は、例えば、ステンレス鋼等の金属製の板材から構成されている。この固定板33に各ヘッドユニット11のノズルプレート37が接合されることにより、これらのヘッドユニット11の高さ方向(ノズルプレート37に垂直な方向の位置)が規定される。ホルダー14において収容空部32よりも上面側には、流路基板13および中継基板12が配置される基板載置部34が設けられている。基板載置部34と収容空部32とは仕切板35によって仕切られており、当該仕切板35の上面が基板載置面として機能する。この仕切板35には、連通流路20および配線貫通口28が板厚方向を貫通した状態で形成されている。ヘッドユニット11が収容空部32に位置決めされた状態で収容されると、ヘッドユニット11の導入口46(図5参照)が連通流路20と連通し、また、同じくヘッドユニット11の配線空部49(図5参照)が配線貫通口28と連通する。
図5は、ヘッドユニット11の内部構成を示す断面図である。本実施形態におけるヘッドユニット11は、ノズルプレート37、連通基板38、圧力室形成基板39、振動板41、圧電素子40、および保護基板42が積層されてなる噴射ユニット36を有し、この噴射ユニット36がユニットケース43に取り付けられている。ユニットケース43は、ホルダー14の仕切板35に開設された連通流路20に連通してインク導入針15側からのインクを導入する導入口46と、当該導入口46から導入されたインクを共通液室47側に導入する導入路48が形成された部材である。このユニットケース43の平面視における中心部分には配線空部49が形成されている。この配線空部49の上部開口は、配線貫通口28と連通し、配線空部49の下部開口は、後述する保護基板42の配線接続空部50と連通する。また、ユニットケース43の下面側には、当該下面からユニットケース43の高さ方向の途中まで直方体状に窪んだ収納空部44が形成されている。この収納空部44は、噴射ユニット36のうち、圧力室形成基板39、振動板41、圧電素子40、および保護基板42が収容されるように構成されている。この状態で、ユニットケース43の下面には、噴射ユニット36における連通基板38の上面が接合される。
本実施形態における圧力室形成基板39は、シリコン単結晶基板(以下、単にシリコン基板とも言う。)から作製されている。この圧力室形成基板39には、圧力室51を区画する圧力室空部が、ノズルプレート37の各ノズル45に対応して異方性エッチングによって複数形成されている。圧力室形成基板39における圧力室空部の一方(上面側)の開口部は、振動板41によって封止される。また、圧力室形成基板39における振動板41とは反対側の面には、連通基板38が接合され、当該連通基板38によって圧力室空部の他方の開口部が封止される。これにより、圧力室51が区画形成される。ここで、圧力室51の上部開口が振動板41により封止された部分は、圧電素子40の駆動により変位する可撓面である。
本実施形態における圧力室51は、ノズル45の並設方向に直交する方向に長尺な空部である。この圧力室51の第2の方向の一端部は、連通基板38のノズル連通口52を介してノズル45と連通する。また、圧力室51の第2の方向の他端部は、連通基板38の個別連通口53を介して共通液室47と連通する。そして、圧力室51は、ノズル45毎に対応して複数並設されている。連通基板38は、圧力室形成基板39と同様にシリコン基板から作製された板材である。この連通基板38には、圧力室形成基板39の複数の圧力室51に共通に設けられる共通液室47(リザーバーあるいはマニホールドとも呼ばれる)となる空部が、異方性エッチングによって形成されている。この共通液室47は、各圧力室51の並設方向に沿って長尺な空部である。各圧力室51は、それぞれ個別連通口53を介してこの共通液室47と連通している。
ノズルプレート37は、複数のノズル45が列状に開設された板材である。本実施形態では、ドット形成密度に対応したピッチでノズル45が複数列設されてノズル列が構成されている。本実施形態におけるノズルプレート37は、シリコン基板から作製され、当該基板に対してドライエッチングにより円筒形状のノズル45が形成されている。そして、本実施形態における噴射ユニット36には、上記の共通液室47から個別連通口53、圧力室51、およびノズル連通口52を通ってノズル45に至るまでのインク流路が形成されている。
圧力室形成基板39の上面に形成された振動板41は、例えば厚さが約1μmの二酸化シリコンから構成される。また、この振動板41上には、図示しない絶縁膜が形成される。この絶縁膜は、例えば、酸化ジルコニウムから成る。そして、この振動板41および絶縁膜上における各圧力室51に対応する位置に、圧電素子40がそれぞれ形成されている。本実施形態における圧電素子40、振動板41および絶縁膜上に、金属製の下電極膜、チタン酸ジルコン酸鉛(PZT)等からなる圧電体層、および、金属製の上電極膜(何れも図示せず)が順次積層されて構成される(何れも図示せず)。この構成において、上電極膜または下電極膜の一方が共通電極とされ、他方が個別電極とされる。また、個別電極となる電極膜および圧電体層が圧力室51毎にパターニングされる。
圧力室形成基板39および圧電素子40が積層された連通基板38の上面には、保護基板42が配置される。この保護基板42は、例えば、ガラス、セラミックス材料、シリコン単結晶基板、金属、合成樹脂等から作製される。この保護基板42の内部には、圧電素子40に対向する領域に当該圧電素子40の駆動を阻害しない程度の大きさの凹部54が形成されている。さらに、保護基板42の中央部分には、基板厚さ方向を貫通した配線接続空部50が形成されている。この配線接続空部50内には、上述したように、圧電素子40の素子端子とフレキシブル基板30の一端部とが配置される。
フレキシブル基板30(本発明における第2の基板の一種)は、ポリイミド等の矩形状の剥離フィルムの一方の面に圧電素子40への駆動電圧の印加を制御する駆動IC55(図2参照)が実装されると共に、この駆動IC55に接続される配線のパターンが形成されているCOF(Chip On Film)タイプの配線基板である。また、フレキシブル基板30の一端部(図2における下端部)には、一端側配線端子が、圧電素子40の素子端子に対応して複数列設され、他端部(図4参照)には、中継基板12の基板端子21に接続される複数の他端側端子56(本発明における被接続端子の一種)からなる他端側端子列57(本発明における被接続端子列の一種)が設けられている。そして、フレキシブル基板30において、配線端子以外の配線パターンや駆動IC55の表面は、ソルダーレジストで覆われている。
保護基板42の配線接続空部50において圧電素子40の素子端子に一端側の配線端子が電気的に接続されたフレキシブル基板30の他端側は、ユニットケース26の配線空部49、保護基板24の配線空部49、ホルダー14の配線貫通口28、および流路基板13の配線開口部17を通じて中継基板12の下面側から配線挿通口25に挿通されて、当該中継基板12の上面側に引き出され、基板端子列22側に屈曲される。当該フレキシブル基板30の他端側に設けられた複数の他端側端子56からなる他端側端子列57は、熱硬化性樹脂および導電性粒子を含む異方性導電膜9を介在させて基板端子列22の各基板端子21と電気的に接続される。
上記中継基板12およびフレキシブル基板30を通じて駆動信号(駆動電圧)が圧電素子40に印加されると、当該圧電素子40は印加電圧の変化に応じて圧電能動部が撓み変形することにより、圧力室51の一面を区画する可撓面、すなわち、振動板41が、ノズル45に近づく側またはノズル45から遠ざかる方向に変位する。これにより、圧力室51内のインクに圧力変動が生じ、この圧力変動を利用してノズル45からインクが吐出される。
次に、MEMSデバイスの一形態である記録ヘッド2の製造工程(液体噴射ヘッドの製造工程でもあり、液体噴射装置としてのプリンター1の製造工程に含まれる。)において特に中継基板12の基板端子21と、フレキシブル基板30の他端側端子56の接続工程について説明する。このうち、以下の貼着工程、仮圧着工程、および、剥離工程が、基板端子21への異方性導電膜9の転写工程に相当する。上述したように、基板端子21と端側端子56との電気的な接合には、異方性導電膜9が用いられる。まず、図6に示すように、ポリエチレンテレフタラート(PET)等の可撓性を有する剥離フィルム59上に形成された異方性導電膜9が、中継基板21の基板端子列22に対し相対位置が規定された状態で貼着される(貼着工程)。ここで、基板端子21の並設方向(以下、適宜、第1の方向という)において、異方性導電膜9の全長L1は、基板端子列22の一方のダミー端子24の第1の方向における外側の端(縁)から他方のダミー端子24の外側の端までの距離L2よりも短く、且つ、基板端子列22の一方のダミー端子24の第1の方向における内側の端から他方のダミー端子24の内側の端までの距離L3よりも長くなっている。このため、中継基板21の基板端子列22に対して相対位置が規定された状態で異方性導電膜9が貼付されると、異方性導電膜9の第1の方向における両端は、それぞれ基板端子列22の両側のダミー端子24の表面上に位置する。
なお、本実施形態において、異方性導電膜9の幅方向(端子並設方向である第1の方向に直交する第2の方向)の寸法は、各基板端子21の第2の方向における寸法に揃えられている。このように基板端子列22に異方性導電膜9が位置決めされて貼着された状態で、図7に示すように、ヒートツール60(熱圧着治具)によって剥離フィルム59側から中継基板12側に向けて加熱および加圧されて異方性導電膜9が各基板端子21およびダミー端子24に仮圧着される(仮圧着工程)。この際、ヒートツール60による加熱および加圧の程度に関し、異方性導電膜9の表面が溶融する程度とされる。このため、仮圧着された時点においては、異方性導電膜9は未だ柔軟性を有する。なお、ヒートツール60の第1の方向における寸法は、異方性導電膜9の全長L1に揃えられている。
続いて、各基板端子21およびダミー端子24に仮圧着された異方性導電膜9から剥離フィルム59が剥離される(剥離工程)。このとき、異方性導電膜9の端子並設方向における端がダミー端子24の表面上に位置するので、当該異方性導電膜9の端とダミー端子24との粘着力が剥離フィルム59による引き剥がし力に抗し、図8に示すように、ダミー端子24の表面上の異方性導電膜9の第1の方向における端を起点として異方性導電膜9から剥離フィルム59が剥がされ、異方性導電膜9は各基板端子21に貼着・保持される。このように、異方性導電膜9の第1の方向における端がダミー端子24の表面上に位置することで、剥離フィルム59の剥離の際に、異方性導電膜9の端とダミー端子24との間の粘着力が異方性導電膜9の端により確実に作用するので、異方性導電膜9の端を起点として当該異方性導電膜9から剥離フィルム59がより確実に剥離される。これにより、異方性導電膜9が剥離フィルム59とともに各基板端子21から引き剥がされてしまう不具合が抑制される。その結果、歩留まりを向上させることが可能となる。なお、図9に示すように、剥離フィルム59が剥離された後のダミー端子24の表面上の異方性導電膜9の端9eは、ヒートツール59によりダミー端子24との間で押圧・圧縮されることにより、ヒートツール59と重なる領域から第1の方向における外側に多少膨出すると共に押圧方向とは反対側に反り返った形状となる。このように異方性導電膜9の端が反り返った形状となることで、異方性導電膜9の端と剥離フィルム59との間に浮きが生じ、これにより、異方性導電膜9の端を起点として当該異方性導電膜9から剥離フィルム59を剥がしやすくすることが可能となる。このような異方性導電膜9の端が反り返った形状を積極的に形成するため、ヒートツール60の第1の方向における寸法を、異方性導電膜9の全長L1よりも僅かに小さくする構成としてもよい。
異方性導電膜9が各基板端子21に仮圧着された状態で、図10に示すように、中継基板12の各基板端子21にフレキシブル基板30の他端側端子56が向き合わせられ、各基板端子21と他端側端子56とが1対1に対応するように中継基板12とフレキシブル基板30との相対位置が規定された状態で、これらの中継基板12とフレキシブル基板30とが異方性導電膜9を介在させた状態で貼り合わされる(貼り合わせ工程)。続いて、図11に示すように、ヒートツール60によってフレキシブル基板30側から中継基板12側に向けて加熱および加圧されて中継基板12にフレキシブル基板30が圧着される(圧着工程)。そして、図12に示すように、フレキシブル基板30の他端側端子56は、加熱により軟化した異方性導電膜9を押しのけつつ下降して、対応する基板端子21に当接する。これらの他端側端子56と基板端子21との重ね合わせ部にヒートツール60からの荷重が集中し、この部分における異方性導電膜9の導電性粒子(図示せず)が潰れて重なり合うなどして、他端側端子56と基板端子21とを電気的に接続する。一方、導通を要しない部分では、導通を要する部分に対する荷重よりも少ない荷重で熱圧着されるので、異方性導電膜9の熱硬化性樹脂の厚みを確保しつつ硬化させることができ、これにより十分な接合強度と電気的絶縁性を得ることができる。なお、本実施形態において、ダミー端子24上の異方性導電膜9は、圧着工程におけるヒートツール60からの熱により溶融してダミー端子24上から流れ出し、当該ダミー端子24の表面上に殆ど残らない。
図13は、第2の実施形態における圧着工程について説明する図である。上記第1の実施形態では、ダミー端子24上の異方性導電膜9が当該ダミー端子24の表面上から流れて残らない構成を例示したが、ヒートツール60′の形状、温度、加圧時間等の条件によっては、異方性導電膜9がダミー端子24の表面上に残る場合もある。すなわち、この場合、中継基板12とフレキシブル基板30との間に設けられた導電性粒子を含む異方性導電膜9は、ダミー端子24に向かって延在し、この異方性導電膜9の端がダミー端子25の表面上に設けられている。本実施形態においては、ヒートツール60′の第1の方向における寸法が、基板端子列22の第1の方向における一端から他端までの距離以上で、且つ、基板端子列22の一方のダミー端子24の第1の方向における内側の端から他方のダミー端子24の内側の端までの距離よりも短くなっている。このため、ヒートツール60′は、圧着工程において平面視でダミー端子24に重ならないように構成されている。これにより、圧着工程においてヒートツール60′からの熱がダミー端子24上の異方性導電膜9に伝わりにくくなる。このような構成により、ダミー端子24の表面上の異方性導電膜9が溶融することなく当該ダミー端子24の表面上にそのままの形で残る。本実施形態の構成によれば、ダミー端子24上の異方性導電膜9がダミー端子24から流れ出して、意図しない部分に付着してショートを生じさせる等の不具合を防止することが可能となる。
図14は、第3の実施形態における中継基板12の基板端子21およびダミー端子24の構成を説明する平面図である。上記第1の実施形態においては、ダミー端子24の第2の方向(図14における上下方向)の寸法が、各基板端子21の第2の方向における寸法に揃えられているのに対し、本実施形態においては、ダミー端子24の第2の方向の寸法W1が、各基板端子21の第2の方向における寸法W2よりも大きい点で相違している。なお、他の構成については第1の実施形態と同様である。本実施形態におけるダミー端子24の第2の方向における両端のうちの少なくとも一方は、基板端子21の第2の方向における端よりも外側に位置する。一方、異方性導電膜9の第2の方向における寸法(幅)は、各基板端子21の第2の方向における寸法W2に揃えられている。また、異方性導電膜9の第1の方向の寸法(全長)L1は、上記第1の実施形態の場合と同様、一方のダミー端子24の第1の方向における外側の端から他方のダミー端子24の外側の端までの距離L2よりも短く、且つ、基板端子列22の一方のダミー端子24の第1の方向における内側の端から他方のダミー端子24の内側の端までの距離L3よりも長くなっている。このため、中継基板21の基板端子列22に対して相対位置が規定された状態で異方性導電膜9が貼付されると、異方性導電膜9の第1の方向における端および第2の方向における端は、それぞれダミー端子24の表面上に位置する。本実施形態の構成では、剥離フィルム59の剥離の際に、異方性導電膜9の端とダミー端子24との間の粘着力が、ダミー端子24上における異方性導電膜9の第1の方向および第2の方向における端にそれぞれ作用する。このため、異方性導電膜9が剥離フィルム59と共に基板端子21から引き剥がされてしまう不具合がより確実に抑制される。
図15は、第4の実施形態における中継基板12の基板端子21およびダミー端子24の構成を説明する平面図である。上記各実施形態において、ダミー端子24はフレキシブル基板30の他端側端子56に接続されない構成を例示したが、これには限られない。本実施形態においては、フレキシブル基板30の他端側端子列57の第1の方向における両側に、ダミー端子24に対応するダミー他端側端子56′が設けられている点が、上記各実施形態と異なっている。当該ダミー他端側端子56′も電気信号の送受に使用されない端子である。他の構成は第1の実施形態と同様である。本実施形態においては、ダミー他端側端子56′がダミー端子24に異方性導電膜9により電気的に接続される。これにより、基板端子列22と他端側端子列57との接合部分に外力が加わった場合においても、ダミー他端側端子56′とダミー端子24との接合により補強されているため、基板端子21と他端側端子56とが剥離する等の不具合が抑制される。
図16は、第5の実施形態における中継基板12の基板端子21およびダミー端子24の構成を説明する平面図である。基板端子列22を構成する基板端子21のうち、第1の方向の両側に位置する基板端子21′は、圧電素子40の共通電極用の端子である。本実施形態における基板端子21′の面積(表面積)は、他の基板端子21よりも第1の方向の寸法が大きくなっていることで、他の基板端子21の表面積よりも大きくなっている。また、ダミー端子24の表面積も、基板端子21のうち最も大きい基板端子21′の表面積に揃えられている。このような構成とすることにより、異方性導電膜9とダミー端子24とが重なる面積をより広く確保することができるので、異方性導電膜9が剥離フィルム59と共に接続端子列22から引き剥がされてしまう不具合が一層確実に抑制される。また、異方性導電膜9と基板端子列22との相対位置が多少ずれたとしても、異方性導電膜9の端が、ダミー端子24の表面上から外れることが抑制される。
また、フレキシブル基板30に関し、上記実施形態においては駆動IC55を有するCOFタイプのものを例示したがこれには限られない。例えば、駆動IC55がフレキシブル基板30上に設けられておらず、保護基板42に設けられた構成においても本発明を適用することが可能である。
また、本発明の配線構造は、第1の基板に形成された接続端子列に第2の基板の被接続端子列が電気的に接続されるものであれば、上記記録ヘッド2に限られず、種々のMEMSデバイスに応用することが可能である。例えば、MEMSデバイスの外部からの駆動信号を第1の基板および第2の基板を通じて駆動素子に印加して当該駆動素子を駆動する構成、あるいは、センサーとして機能する駆動素子からの出力信号を第1の基板および第2の基板を通じてMEMSデバイスの外部に送信する構成に適用することもできる。
さらに、上記実施形態においては、液体噴射ヘッドとしてインクジェット式記録ヘッド2を例に挙げて説明したが、本発明は、他の液体噴射ヘッドにも適用することができる。例えば、液晶ディスプレイ等のカラーフィルターの製造に用いられる色材噴射ヘッド、有機EL(Electro Luminescence)ディスプレイ、FED(面発光ディスプレイ)等の電極形成に用いられる電極材噴射ヘッド、バイオチップ(生物化学素子)の製造に用いられる生体有機物噴射ヘッド等にも本発明を適用することができる。ディスプレイ製造装置用の色材噴射ヘッドでは液体の一種としてR(Red)・G(Green)・B(Blue)の各色材の溶液を噴射する。また、電極形成装置用の電極材噴射ヘッドでは液体の一種として液状の電極材料を噴射し、チップ製造装置用の生体有機物噴射ヘッドでは液体の一種として生体有機物の溶液を噴射する。
1…プリンター,2…記録ヘッド,3…キャリッジ,4…キャリッジ,5…FFC,6…記録用紙,7…キャリッジ移動機構,8…紙送り機構,9…異方性導電膜,10…インク導入基板,11…ヘッドユニット,12…中継基板,13…流路基板,14…ホルダー,15…インク導入針,16…フィルター,17…配線開口部,18…中間流路,19…流路接続部,20…連通流路,21…基板端子,22…基板端子列,23…コネクター,24…ダミー端子,25…配線挿通口,26…逃げ穴,28…配線貫通口,32…収容空部,33…固定板,34…基板載置部,35…仕切板,36…噴射ユニット,37…ノズルプレート,38…連通基板,39…圧力室形成基板,40…圧電素子,41…振動板,42…保護基板,43…ユニットケース,45…ノズル,46…導入口,47…共通液支部,48…導入路,49…配線空部,50…配線接続空部,51…圧力室,52…ノズル連通口,53…個別連通口,54…凹部,55…駆動IC,56…他端側端子,59…剥離フィルム,60…ヒートツール

Claims (9)

  1. 第1の基板に形成された接続端子列に、第2の基板の被接続端子列が電気的に接続されてなる配線構造であって、
    前記接続端子列の両端部の端子並設方向側に、電気信号の送受に使用されないダミー端子がそれぞれ設けられ、
    前記第1の基板と前記第2の基板との間に設けられた導電性粒子を含む異方性導電膜は、前記ダミー端子に向かって延在し、前記異方性導電膜の端が前記ダミー端子の表面上に設けられていることを特徴とする配線構造。
  2. 前記端子並設方向に垂直な方向において、前記異方性導電膜の幅が前記ダミー端子の幅よりも小さく、前記異方性導電膜の少なくとも一方の端が前記ダミー端子の表面上に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の配線構造。
  3. 前記ダミー端子の面積は、前記接続端子列を構成する複数の接続端子のうち最も大きい接続端子の面積に揃えられていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の配線構造。
  4. 請求項1から請求項3の何れか一項に記載の配線構造により電気的に接続された第1の基板および第2の基板を備えることを特徴とするMEMSデバイス。
  5. 請求項4に記載のMEMSデバイスを備えることを特徴とする液体噴射ヘッド。
  6. 請求項5に記載の液体噴射ヘッドを備えることを特徴とする液体噴射装置。
  7. 請求項4に記載のMEMSデバイスの製造方法であって、
    可撓性を有する剥離フィルム上に形成された前記異方性導電膜が、前記接続端子列の端子並設方向における当該異方性導電膜の両端がそれぞれ接続端子列の両側のダミー端子の表面に位置する状態で前記第1の基板に貼着される工程と、
    前記異方性導電膜が、熱圧着治具によって前記剥離フィルムと前記第1の基板との間で加熱および押圧されて前記接続端子列および前記ダミー端子に仮圧着される工程と、
    前記接続端子列および前記ダミー端子に仮圧着された異方性導電膜から前記剥離フィルムが剥離される工程と、
    前記接続端子列の各接続端子と前記被接続端子列の各被接続端子とがそれぞれ対応するように前記第1の基板と前記第2の基板との相対位置が規定された状態で、前記第1の基板と前記第2の基板とが前記異方性導電膜を介在させて貼り合わされる工程と、
    前記第1の基板と前記第2の基板とが、熱圧着治具により前記異方性導電膜を挟む方向に加熱および加圧されて圧着される工程と、
    を有することを特徴とするMEMSデバイスの製造方法。
  8. 請求項7に記載のMEMSデバイスの製造方法を含む液体噴射ヘッドの製造方法。
  9. 請求項8に記載の液体噴射ヘッドの製造方法を含む液体噴射装置の製造方法。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7056059B2 (ja) * 2017-09-29 2022-04-19 ブラザー工業株式会社 複合基板
JP7147319B2 (ja) * 2018-07-20 2022-10-05 セイコーエプソン株式会社 液体噴射装置および液体噴射ヘッド
CN109278409B (zh) * 2018-08-16 2019-07-23 西安微电子技术研究所 一种mems压电打印喷头组件集成结构
CN110491281A (zh) * 2019-08-09 2019-11-22 深圳市华星光电技术有限公司 覆晶薄膜组件及显示面板组件
US11289444B2 (en) 2019-12-13 2022-03-29 General Electric Company Sensor systems and methods for providing sensor systems

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07161771A (ja) * 1993-12-02 1995-06-23 Toshiba Corp フィルムキャリア、電子部品および離型紙剥離方法
JPH09300632A (ja) * 1996-05-09 1997-11-25 Ricoh Co Ltd インクジェット記録装置
JP2002103600A (ja) * 2000-09-28 2002-04-09 Ricoh Co Ltd インクジェットヘッド及びインクジェット記録装置
JP2004172604A (ja) * 2002-10-31 2004-06-17 Rohm Co Ltd 半導体集積回路装置
JP2005026682A (ja) * 2003-06-30 2005-01-27 Innolux Display Corp Cog実装方式の構造
KR20060112639A (ko) * 2005-04-28 2006-11-01 (주)유비엠디 반도체 패키지용 필름 기판 및 이를 구비한 반도체 패키지
JP2012142341A (ja) * 2010-12-28 2012-07-26 Funai Electric Co Ltd 中継基板とフレキシブル基板の配線構造及び配線方法、並びに、パネル型表示装置
US20120212888A1 (en) * 2011-02-18 2012-08-23 E Ink Holdings Inc. Display apparatus

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR950020972A (ko) * 1993-12-21 1995-07-26 쯔지 하루오 전극 단자가 미소 피치를 갖는 경우에도 전극 단자의 고신뢰성 접속을 달성할 수 있는 패널 실장 구조 및 패널 실장 방법
JPH11167971A (ja) * 1997-12-05 1999-06-22 Olympus Optical Co Ltd 電子機器
JP3610787B2 (ja) * 1998-03-24 2005-01-19 セイコーエプソン株式会社 半導体チップの実装構造体、液晶装置及び電子機器
JP2003023135A (ja) * 2001-07-06 2003-01-24 Sharp Corp 半導体集積回路装置
US6960830B2 (en) * 2002-10-31 2005-11-01 Rohm Co., Ltd. Semiconductor integrated circuit device with dummy bumps
JP4356683B2 (ja) * 2005-01-25 2009-11-04 セイコーエプソン株式会社 デバイス実装構造とデバイス実装方法、液滴吐出ヘッド及びコネクタ並びに半導体装置
CN100405152C (zh) * 2005-03-10 2008-07-23 夏普株式会社 薄膜型配线基板的再生装置
US8018737B2 (en) * 2005-12-22 2011-09-13 Panasonic Corporation Connecting structure of circuit board, connecting part of circuit board and electronic device
JP2009045906A (ja) * 2007-08-22 2009-03-05 Seiko Epson Corp 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置
JP2009056756A (ja) * 2007-09-03 2009-03-19 Seiko Epson Corp アクチュエータユニットの製造方法、アクチュエータユニット、及びこれを用いた液体噴射ヘッド
JP2009226923A (ja) * 2008-02-26 2009-10-08 Seiko Epson Corp 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置並びにアクチュエータ装置
JP5396743B2 (ja) * 2008-05-19 2014-01-22 セイコーエプソン株式会社 ヘッド用制御部、及び、ヘッドユニット
CN102113423B (zh) * 2008-09-29 2013-07-03 夏普株式会社 基板模块及其制造方法
JP5375138B2 (ja) * 2009-02-03 2013-12-25 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法
JP5621684B2 (ja) * 2011-03-29 2014-11-12 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッドユニットおよび液体噴射装置
JP2013132810A (ja) * 2011-12-26 2013-07-08 Sii Printek Inc 液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び液体噴射ヘッドの製造方法
JP6376328B2 (ja) * 2014-03-17 2018-08-22 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッド及び液体噴射装置
US9421768B2 (en) * 2014-04-02 2016-08-23 Kabushiki Kaisha Toshiba Inkjet printer head

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07161771A (ja) * 1993-12-02 1995-06-23 Toshiba Corp フィルムキャリア、電子部品および離型紙剥離方法
JPH09300632A (ja) * 1996-05-09 1997-11-25 Ricoh Co Ltd インクジェット記録装置
JP2002103600A (ja) * 2000-09-28 2002-04-09 Ricoh Co Ltd インクジェットヘッド及びインクジェット記録装置
JP2004172604A (ja) * 2002-10-31 2004-06-17 Rohm Co Ltd 半導体集積回路装置
JP2005026682A (ja) * 2003-06-30 2005-01-27 Innolux Display Corp Cog実装方式の構造
KR20060112639A (ko) * 2005-04-28 2006-11-01 (주)유비엠디 반도체 패키지용 필름 기판 및 이를 구비한 반도체 패키지
JP2012142341A (ja) * 2010-12-28 2012-07-26 Funai Electric Co Ltd 中継基板とフレキシブル基板の配線構造及び配線方法、並びに、パネル型表示装置
US20120212888A1 (en) * 2011-02-18 2012-08-23 E Ink Holdings Inc. Display apparatus

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