JP2017073539A - 電子部品 - Google Patents
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Abstract
Description
電子部品素体と、電子部品素体の表面に配設された外部電極とを備えた電子部品であって、
前記電子部品素体は、一部が当該電子部品素体の表面に引き出されて、前記外部電極と接続するように配設されている内部電極を備え、
前記外部電極は、導電材料と樹脂材料とを含む導電材料含有樹脂層と、前記導電材料含有樹脂層を覆うように設けられためっき層とを備え、
前記導電材料含有樹脂層は、前記導電材料として金属粒子を含み、かつ、
前記めっき層は、前記導電材料含有樹脂層の表面から、前記導電材料含有樹脂層の内部に延伸し、前記金属粒子の少なくとも一部を被覆していること
を特徴としている。
なお、この実施形態では、電子部品として、積層セラミックコンデンサを例にとって説明する。
図1は、本発明の一実施形態(実施形態1)にかかる積層セラミックコンデンサ(電子部品)の構成を示す正面断面図、図2は図1の積層セラミックコンデンサの外観構成を示す斜視図、図3は側面断面図である。
電子部品素体10は、図1に示すように直方体形状を有しており、積層方向である図2のT方向に相対する第1の主面11aおよび第2の主面11bと、積層方向に直交する幅方向である図2のW方向に相対する第1の側面21aおよび第2の側面21bと、積層方向および幅方向に直交する長さ方向である図2のL(長さ)方向に相対する第1の端面31aおよび第2の端面31bとを備えている。なお、電子部品素体10は、欠けの発生を防止するため、角部および稜線部に丸みがつけられていることが好ましい。
L方向の寸法は、0.2mm以上3.2mm以下
T方向の寸法は、0.1mm以上2.5mm以下
W方向の寸法は、0.1mm以上2.5mm以下
であることが好ましい。
この実施形態にかかる積層セラミックコンデンサ50を構成する電子部品素体10は、複数の内部電極2として、図1に示すように、第1の内部電極2a,第2の内部電極2bを備えている。
また、内部電極2の厚みは、通常、0.5μm以上1μm以下であることが好ましい。
さらに、内部電極2がセラミック層を覆っている割合は、通常、70%以上95%以下であることが好ましい。
この実施形態の積層セラミックコンデンサ50において、外部電極5(5a,5b)は、電子部品素体(積層体)10の第1、第2の端面31a,31bに形成され、さらに第1および第2の端面31a,31bから、第1、第2の主面11a,11b、および、第1、第2の側面21a,21bに回り込むように形成されている。
前記下地電極層が、導電成分として上記の材料を含むものである場合、内部電極との接続信頼性の高い外部電極を備えた電子部品を提供することが可能になり、好ましい。
また、上記下地電極層13は、単層構造としてもよく、また、複数層構造としてもよい。
導電材料含有樹脂層12を構成する金属粒子としては、CuまたはAgを用いることが望ましいが、これに限られるものではない。なお、Cuは安価で、経済性に優れているが、酸化しやすい傾向がある。一方、そのために、めっき膜を形成するためのめっき工程で、めっき液の侵入による、導電材料含有樹脂層内へのめっき膜の延伸によりESRを低下させやすいという特徴を有している。すなわち、導電材料含有樹脂層12の金属粒子として、Cu粒子を用い、適切にめっき層を延伸させることにより、Cu粒子の表面の少なくとも一部をめっき層により被覆して、ESRを低下させることが可能になる。なお、金属粒子としては、Ag粒子を用いてもよいし、Agを被覆したCu粒子を用いてもよい。
また、導電材料含有樹脂層12に含まれる金属粒子の含有割合は、後で詳しく説明するが、83重量%以上93重量%以下であることが好ましい。
導電材料含有樹脂層12は、単層構造としてもよく、また、複数層構造としてもよい。
また、めっき層32を構成するめっき層の1層あたりの厚みは、1.0μm以上10μm以下であることが好ましい。
図7は、導電材料含有樹脂層に対するNiめっき層の侵入率と、ESRとの関係を示す図である。ESRは、1MHzの測定周波数で測定した値である。図7に示すように、導電材料含有樹脂層12の厚みの60%以上の深さにまでNiめっき層33が延伸していれば、ESRは30mΩ以下となり、良好な導通信頼性を確保することができる。すなわち、導電材料含有樹脂層の厚みの60%以上の深さにまで、めっき層が延伸している場合、金属粒子間の接触抵抗を抑えて、抵抗値をさらに小さくすることが可能になる。
図4に示すように、Niめっき層133の侵入のある箇所で、導電材料含有樹脂層12とNiめっき層33の界面に第1の仮想線L1を引くとともに、導電材料含有樹脂層12と下地電極層13の界面に第2の仮想線L2を引く。そして、第1と第2の仮想線L1,L2間の距離を導電材料含有樹脂層12の厚みとする。
まず、電子部品素体10を長さL方向、厚みW方向からなる断面が露出するように研磨して、外部電極の断面を露出させる。それから、露出した外部電極の断面をWDX分析する。そして、図6(b)に示すようにWDXのめっき金属成分をターゲットに分析することにより、めっき層の延伸を確認することができる。
また、めっき層や金属粒子の組成などもWDX分析により判別することが可能である。
次に、本発明の実施形態にかかる電子部品の製造方法について説明する。
例えば、BaTiO3系の誘電体セラミックからなる誘電体粉末と、添加成分粉末と、バインダ樹脂の溶解液とを分散混合することにより、誘電体スラリーを得る。
誘電体スラリーは、溶剤系であっても、水系であってもよい。誘電体スラリーを水系のスラリーとする場合には、水溶性のバインダや分散剤などを、水に分散させた誘電体原料とを混合すればよい。
この誘電体ブロックをカットテーブル上に固定し、個々のチップ(未焼成の電子部品素体)に分割する。なお、誘電体ブロックの分割は、切断刃による切断、ダイサーによる切削、レーザー加工による分割などの種々の方法で実施することができる。
焼結済みの電子部品素体に、例えば以下に説明する方法により、外部電極を形成する。
(b−1)下地電極層の形成
まず、導電性粒子と、樹脂と、溶剤を含む、外部電極の下地電極層を形成するための導電性ペーストを準備する。
次に、テーブルに導電性ペーストを塗布して所定の厚みの導電性ペースト層を形成する。
下地電極層の形成方法は、上記の例に限定されるものではなく、他の方法を用いることも可能である。
導電材料含有樹脂層を形成するにあたっては、まず、導電材料である金属粒子と、樹脂材料とを含む導電材料含有樹脂ペーストを準備する。
そして、上述の下地電極層の場合と同様の方法で、下地電極層を覆うように、導電材料含有樹脂ペーストを付与する。
導電材料含有樹脂ペーストを熱硬化させる際の温度は、150〜230℃である。
導電材料含有樹脂層に含まれる金属粒子の割合は、83重量%〜93重量%であることが好ましい。
次に、上述のようにして、電子部品素体に形成された導電材料含有樹脂層の表面にめっき層を形成する。
めっき層を形成するにあたっては、Niめっき液を入れためっき槽に、導電材料含有樹脂層が形成された電子部品素体と導電メディアを入れ、電子部品素体に形成された導電材料含有樹脂層の表面に、導電メディアを介して通電し、導電材料含有樹脂層の表面にNiめっき層を析出させる。
これにより、図1に示すような構造を有する積層セラミックコンデンサが得られる。
導電材料含有樹脂層にNiめっき層が延伸していない積層セラミックコンデンサ(比較用の試料)と、上述のように、導電材料含有樹脂層内にNiめっき層が延伸した本発明の実施形態にかかる積層セラミックコンデンサ50(図1)を用意し、175℃の高温雰囲気中で、500時間放置した後、等価直列抵抗(ESR)を測定した。その結果を図5に示す。
2(2a,2b) 内部電極
2a1,2b1 内部電極の対向電極部
2a2,2b2 内部電極の引出電極部
5(5a,5b) 外部電極
10 電子部品素体
10a 電子部品素体の対向部
10b 電子部品素体の側部
10c 電子部品素体の端部
11a 電子部品素体の第1の主面
11b 電子部品素体の第2の主面
12(12a,12b) 導電材料含有樹脂層
13(13a,13b) 下地電極層(焼き付け電極層)
21a 電子部品素体の第1の側面
21b 電子部品素体の第2の側面
31a 電子部品素体の第1の端面
31b 電子部品素体の第2の端面
32(32a,32b) めっき層
33(33a,33b) Niめっき層
34(34a,34b) Snめっき層
50 積層セラミックコンデンサ
L 積層セラミックコンデンサの長さ
T 積層セラミックコンデンサの高さ
W 積層セラミックコンデンサの幅
133 めっき層の延伸部
Claims (7)
- 電子部品素体と、電子部品素体の表面に配設された外部電極とを備えた電子部品であって、
前記電子部品素体は、一部が当該電子部品素体の表面に引き出されて、前記外部電極と接続するように配設されている内部電極を備え、
前記外部電極は、導電材料と樹脂材料とを含む導電材料含有樹脂層と、前記導電材料含有樹脂層を覆うように設けられためっき層とを備え、
前記導電材料含有樹脂層は、前記導電材料として金属粒子を含み、かつ、
前記めっき層は、前記導電材料含有樹脂層の表面から、前記導電材料含有樹脂層の内部に延伸し、前記金属粒子の少なくとも一部を被覆していること
を特徴とする電子部品。 - 前記導電材料含有樹脂層の厚みの60%以上の深さにまで、前記めっき層が前記導電材料含有樹脂層の内部に延伸していることを特徴とする請求項1に記載の電子部品。
- 前記導電材料含有樹脂層を構成する前記金属粒子が、Cu粒子、Ag粒子、またはAgを被覆したCu粒子であることを特徴とする請求項1または2に記載の電子部品。
- 前記めっき層が、前記導電材料含有樹脂層上に形成されたNiめっき層と、Niめっき層上に形成されたSnめっき層からなり、前記導電材料含有樹脂層内の前記金属粒子の少なくとも一部を被覆して延伸しためっき層が前記Niめっき層であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の電子部品。
- 前記導電材料含有樹脂層を覆うように設けられためっき層が、前記導電材料含有樹脂層を経て、前記電子部品素体に至るまで延伸し、前記電子部品素体の表面に引き出された前記内部電極と接続していることを特徴する請求項1〜4のいずれかに記載の電子部品。
- 前記外部電極が、前記電子部品素体上に形成された、ガラス成分と金属成分を含む焼き付け電極からなる下地電極層をさらに備え、前記導電材料含有樹脂層が前記下地電極層上に形成され、前記導電材料含有樹脂層を覆っためっき層が、前記下地電極層に接続するまで延伸していることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の電子部品。
- 前記下地電極層が、前記金属成分としてCuまたはNiを含むものであることを特徴とする請求項6に記載の電子部品。
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