JP2017069313A - 半導体装置の製造方法、基板処理装置、ガス供給システムおよびプログラム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
絶縁膜と、インキュベーションタイムがそれぞれ異なる複数の導体膜と、が表面に露出する基板に対して、第1の還元ガスを供給して、複数の導体膜のインキュベーションタイムの差を0.01%以上50%以下とするよう第1の還元ガスのプロセス条件を調整して基板上に露出する複数の導体膜を還元する工程と、基板に対して、第2の還元ガスと金属含有ガスとを供給して、還元された複数の導体膜上に選択的に金属膜を形成する工程と、を有する。
【選択図】図6
Description
絶縁膜と、インキュベーションタイムがそれぞれ異なる複数の導体膜と、が表面に露出する基板に対して、第1の還元ガスを供給して、前記複数の導体膜のインキュベーションタイムの差を0.01%以上50%以下とするよう第1の還元ガスのプロセス条件を調整して前記基板上に露出する前記複数の導体膜を還元する工程と、
前記基板に対して、第2の還元ガスと金属含有ガスとを供給して、前記還元された複数の導体膜上に選択的に金属膜を形成する工程と、
を有する技術が提供される。
以下、本発明の第1の実施形態について図1および図2を用いて説明する。基板処理装置10は、半導体装置(デバイス)の製造工程の一工程である基板処理工程において使用される装置の一例として構成されている。
処理炉202には加熱手段(加熱機構、加熱系)としてのヒータ207が設けられている。ヒータ207は上方が閉塞された円筒形状に形成されている。
半導体装置(デバイス)の製造工程の一工程として、基板上に、例えば金属膜を形成する工程の第1実施形態について図6を用いて説明する。金属膜を形成する工程は、上述した基板処理装置10の処理炉202を用いて実行される。以下の説明において、基板処理装置10を構成する各部の動作はコントローラ121により制御される。
絶縁膜(例えばSiO膜)と、インキュベーションタイムがそれぞれ異なる複数の導体膜(例えばCu膜、Ta膜、TaN膜)と、が表面に露出するウエハ200に対して、第1の還元ガス(例えばB2H6ガス)を供給して、複数の導体膜のインキュベーションタイムの差を0.01%以上50%以下とするよう第1の還元ガスのプロセス条件を調整してウエハ200上に露出する複数の導体膜を還元する工程と、
ウエハ200に対して、第2の還元ガス(例えばH2ガス)と金属含有ガス(例えばWF6ガス)とを供給して、還元された複数の導体膜上に選択的に金属膜(例えばW膜)を形成する工程と、
を行う。
複数枚のウエハ200がボート217に装填(ウエハチャージ)されると、シャッタ開閉機構によりシャッタが移動させられて、マニホールド209の下端開口が開放される(シャッタオープン)。その後、図1に示すように、複数枚のウエハ200を支持したボート217は、ボートエレベータ115によって持ち上げられて処理室201内へ搬入(ボートロード)される。この状態で、シールキャップ219は、Oリング220bを介してマニホールド209の下端をシールした状態となる。
処理室201内、すなわち、ウエハ200が存在する空間が所望の圧力(真空度)となるように、真空ポンプ246によって真空排気(減圧排気)される。この際、処理室201内の圧力は圧力センサ245で測定され、この測定された圧力情報に基づきAPCバルブ243がフィードバック制御される。真空ポンプ246は、少なくとも後述する成膜処理が終了するまでの間は常時作動させた状態を維持する。また、処理室201内のウエハ200が所望の成膜温度となるようにヒータ207によって加熱される。この際、処理室201内が所望の温度分布となるように、温度センサ263が検出した温度情報に基づきヒータ207への通電具合がフィードバック制御される。ヒータ207による処理室201内の加熱は、少なくとも後述する成膜処理が終了するまでの間は継続して行われる。また、回転機構267によるボート217およびウエハ200の回転を開始する。回転機構267によるボート217およびウエハ200の回転は、少なくとも後述する成膜処理が終了するまでの間は継続して行われる。
続いて、図6に示す還元ステップを説明する。還元ステップは、以下に説明するB2H6ガス供給ステップ、残留ガス除去ステップを含む。
バルブ324を開き、ガス供給管320内に第1の還元ガスとして、B2H6ガスを流す。ガス供給管320内を流れたB2H6ガスはMFC322により流量調整されてノズル420のガス供給孔420aから処理室201内に供給され、排気管231から排気される。
ウエハ200(表面の下地膜)の最表面上に、B2H6含有層が形成された後、バルブ324を閉じ、B2H6ガスの供給を停止する。このとき、APCバルブ243は開いたままとして、真空ポンプ246により処理室201内を真空排気し、処理室201内に残留する未反応もしくは中途半端に分解してしまったB2H6ガス(副生成物、中間体)を処理室201内から排除する。すなわち、B2H6が吸着されたウエハ200が存在する空間に残留するB2H6ガスを除去する。このときバルブ514,524,534は開いたままとして、N2ガスの処理室201内への供給を維持する。N2ガスはパージガスとして作用し、処理室201内に残留する未反応もしくは中途半端に分解してしまったB2H6ガス(副生成物、中間体)を処理室201内から排除する効果を高めることができる。
上述したB2H6ガス供給ステップ、残留ガス除去ステップを順に時分割して(非同時に、すなわち同期させることなく)行うサイクルを1サイクルとして、これらの処理をnサイクル(nは1以上の整数)だけ実行することにより、ウエハ200の表面に形成されたTa膜、TaN膜、Cu膜上に優先的にB2H6が吸着してB2H6含有層が形成される。上述のサイクルは、複数回繰り返すのが好ましい。
所定膜厚のTiN膜を形成した後、バルブ514,524,534を開き、ガス供給管510,520,530のそれぞれからN2ガスを処理室201内へ供給し、排気管231から排気する。N2ガスはパージガスとして作用し、これにより処理室201内が不活性ガスでパージされ、処理室201内に残留するガスや副生成物が処理室201内から除去される(アフターパージ)。
続いて、図6に示す金属膜であるW膜を形成するW膜形成ステップについて説明する。W膜形成ステップは、以下に説明するWF6ガスおよびH2供給ステップ、残留ガス除去ステップを含む。
バルブ314を開き、ガス供給管310内に原料ガスとして、WF6ガスを流す。同時に、バルブ334を開き、ガス供給管330内に第2の還元ガスとして、H2ガスを流す。ガス供給管310内を流れたWF6ガスはMFC312により流量調整されてノズル410のガス供給孔410aから処理室201内に供給され、排気管231から排気される。ガス供給管330内を流れたH2ガスはMFC332により流量調整されてノズル430のガス供給孔430aから処理室201内に供給され、排気管231から排気される。
WF6ガスの供給流量が3slmより多いとWF6ガスが過供給となって選択性が破れる(選択性が取れなくなる)可能性がある。WF6ガスの供給流量が0.001slmより少ないとWF6ガスの反応速度が十分に得られない(すなわち所定の成膜レートを得ることができない)可能性がある。
ウエハ200に形成されたTa膜、TaN膜、Cu膜等の導体膜上にW膜が形成された後、バルブ314,324を閉じ、WF6ガスおよびH2ガスの供給を停止する。このとき、APCバルブ243は開いたままとして、真空ポンプ246により処理室201内を真空排気し、処理室201内に残留する未反応もしくはW膜の形成に寄与した後のWF6ガスおよびH2ガスを処理室201内から排除する。すなわち、W膜が形成されたウエハ200が存在する空間に残留するWF6ガスおよびH2ガスを除去する。このときバルブ514,524,534は開いたままとして、N2ガスの処理室201内への供給を維持する。N2ガスはパージガスとして作用し、処理室201内に残留する未反応もしくはW膜の形成に寄与した後のWF6ガスおよびH2ガスを処理室201内から排除する効果を高めることができる。
所定膜厚のW膜を形成した後、ガス供給管510,520,530のそれぞれからN2ガスを処理室201内へ供給し、排気管231から排気する。N2ガスはパージガスとして作用し、これにより処理室201内が不活性ガスでパージされ、処理室201内に残留するガスや副生成物が処理室201内から除去される(アフターパージ)。その後、処理室201内の雰囲気が不活性ガスに置換され(不活性ガス置換)、処理室201内の圧力が常圧に復帰される(大気圧復帰)。
その後、ボートエレベータ115によりシールキャップ219が下降され、マニホールド209の下端が開口されるとともに、処理済のウエハ200が、ボート217に支持された状態でマニホールド209の下端から反応管203の外部に搬出(ボートアンロード)される。ボートアンロードの後は、シャッタ219sが移動させられ、マニホールド209の下端開口がOリング220cを介してシャッタ219sによりシールされる(シャッタクローズ)。処理済のウエハ200は、反応管203の外部に搬出された後、ボート217より取り出されることとなる(ウエハディスチャージ)。
本実施形態によれば、以下に示す1つまたは複数の効果が得られる。
(B)絶縁膜と、インキュベーションタイムがそれぞれ異なる複数の導体膜と、が表面に露出する基板に対して第1の還元ガスを供給する際、第1の還元ガスの所定温度に対する、基板が存在する領域における第1の還元ガスの分圧、基板に対して第1の還元ガスを供給する時間を第1の還元ガスのプロセス条件において、各プロセス条件の積が所定の値となるようプロセス条件のうち少なくとも1つを制御することにより、絶縁膜を実質的に還元しない状態で複数の導体膜を還元することが可能となる。
(C)上述の(B)のプロセス条件の積が、絶縁膜上に吸着する第1の還元ガスに含まれる単位面積当たりの原子の平均数が0.0001以上0.01以下である値となるよう第1の還元ガスのプロセス条件のうち少なくとも1つを制御することにより、絶縁膜を実質的に還元しない状態で複数の導体膜を還元することが可能となる。
還元ステップの処理中、処理室201(すなわち、ウエハ200が存在する領域)内の全圧を一定となるようにしてもよい。すなわち、B2H6ガス供給ステップと残留ガス除去ステップとにおける処理室201内の全圧を一定となるようにする。例えば、図9に示すように、B2H6ガス供給ステップでは、N2ガスの分圧が下がるようN2ガスの供給流量を少なくし、残留ガス除去ステップではN2ガスの分圧が上がるようN2ガスの供給流量を多くする。本変形例によれば、図6に示す成膜シーケンスと同様の効果が得られることに加えて、還元ステップの処理中、処理室201内の全圧を一定とすることにより、B2H6ガスが断熱膨張により熱分解してしまうことを抑制することが可能となる。
図10に示すように、還元ステップのB2H6ガス供給ステップにおけるN2ガスの分圧を途中で上げて全圧を上げ、還元ステップの残留ガス除去ステップにおけるN2ガスの分圧を途中で下げて全圧を下げるようにしてもよい。本変形例によれば、図6に示す成膜シーケンスと同様の効果が得られることに加えて、全圧が増加することによりB2H6ガスの分解を抑制しつつ、同時にB2H6ガスの分解物をパージする効果が得られる。
本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。
比較例1として、上述の実施形態における基板処理装置を用い、図13(a)に示すように、絶縁膜としてのSiO膜と、導体膜としてのTa膜、TaN膜、Cu膜が表面に露出するウエハ上にW膜を形成した。その際、まずウエハに対してH2ガスを用いて熱処理を行った。熱処理時のプロセス条件は、処理室内の圧力を500〜1500Paの範囲内の(所定の)値、H2ガスの流量を0.8〜1.2slmの範囲内の(所定の)値、H2ガスを供給する時間を50〜70分の範囲内の(所定の)値、処理室内の温度を100〜300℃の範囲内の(所定の)温度とした。次に、熱処理を行ったウエハに対してWF6ガスとH2ガスとを用いて図6に示すW膜形成ステップによりW膜をTa膜、TaN膜、Cu膜上に優先的に成長(選択成長)させた。W膜形成ステップで用いたプロセス条件は、処理室内の圧力を100〜300Paの範囲内の(所定の)値、WF6ガスの流量を0.004〜0.006Lの範囲内の(所定の)値、H2ガスの流量を0.8〜1.2Lの範囲内の(所定の)値として、WF6ガスおよびH2ガスを供給する時間を10分、15分、20分と変えた。
比較例2として、上述の実施形態における基板処理装置を用い、図13(b)に示すように、絶縁膜としてのSiO膜と、導体膜としてのTaN膜、Cu膜が表面に露出するウエハ上にW膜を形成した。比較例2では、比較例1と異なる箇所はウエハの表面にTa膜が露出していない点のみであり、熱処理およびW膜形成ステップを行う点やそれぞれのプロセス条件は比較例1と同様とした。
実施例として、上述の実施形態における基板処理装置を用い、図13(a)に示すように、絶縁膜としてのSiO膜と、導体膜としてのTa膜、TaN膜、Cu膜が表面に露出するウエハ上にW膜を形成した。その際、まずウエハに対してH2ガスを用いて熱処理を行った。熱処理時のプロセス条件は、比較例1と同様である。次に、熱処理を行ったウエハに対してB2H6ガスを用いて図6に示す還元ステップを行った。還元ステップで用いたプロセス条件は、処理室内の圧力を400〜600Paの範囲内の(所定の)値、B2H6ガスの分圧を4〜6Paの範囲内の(所定の)値、B2H6ガスの流量を0.02〜0.06L、B2H6ガスを供給する時間を50〜70秒の範囲内の(所定の)値とした。還元ステップの後、ウエハに対してWF6ガスとH2ガスとを用いて図6に示すW膜形成ステップによりW膜をTa膜、TaN膜、Cu膜上に優先的に成長(選択成長)させた。W膜形成ステップで用いたプロセス条件は、WF6ガスとH2ガスを供給する圧力を400〜600Paと変えた点以外は同様である。
(付記1)
本発明の一態様によれば、
絶縁膜と、インキュベーションタイムがそれぞれ異なる複数の導体膜と、が表面に露出する基板に対して、第1の還元ガスを供給して、前記複数の導体膜のインキュベーションタイムの差を0.01%以上50%以下とするよう前記第1の還元ガスのプロセス条件を調整して前記基板上に露出する前記複数の導体膜を還元する工程と、
前記基板に対して、第2の還元ガスと金属含有ガスとを供給して、前記還元された複数の導体膜上に選択的に金属膜を形成する工程と、
を有する半導体装置の製造方法または基板処理方法が提供される。
付記1に記載の方法であって、前記第1の還元ガスのプロセス条件は、前記第1の還元ガスの所定温度に対する、前記基板が存在する領域における前記第1の還元ガスの分圧、前記基板に対して前記第1の還元ガスを供給する時間を含み、前記プロセス条件の積が所定の値となるよう前記第1の還元ガスのプロセス条件のうち少なくとも1つを調整することにより、前記絶縁膜を実質的に還元しない状態で、前記複数の導体膜を還元する。
付記2に記載の方法であって、前記プロセス条件の積が、前記絶縁膜上に吸着する第1の還元ガスに含まれる単位面積当たりの原子の平均数が0.0001以上0.01以下である値となるよう前記第1の還元ガスのプロセス条件のうち少なくとも1つを調整する。
付記3に記載の方法であって、前記第1の還元ガスの温度を200〜300℃の範囲内の値とし、前記基板が存在する領域における前記第1の還元ガスの分圧を0.1〜10Paの範囲内の値とし、前記基板に対して前記第1の還元ガスを供給する時間を0.01〜10分の範囲内の値とする。
付記1〜4のいずれかに記載の方法であって、前記複数の導体膜を還元する工程では、前記基板に対してパルス的(パルス状、間欠的)に前記第1の還元ガスを供給する。
付記5に記載の方法であって、前記複数の導体膜を還元する工程では、前記基板が存在する領域に不活性ガスを常時供給する。
付記6に記載の方法であって、前記複数の導体膜を還元する工程では、前記基板が存在する領域の全圧を一定の値とする。
付記1〜7のいずれかに記載の方法であって、前記複数の導体膜は、メタル配線とバリアメタル膜である。
付記8に記載の方法であって、前記バリアメタル膜はTa膜とTaN膜である。
付記1〜9に記載の方法であって、前記金属膜は前記第2の還元ガスと前記金属含有ガスとの気相反応を用いて形成する。
付記1〜10に記載の方法であって、前記金属膜はW膜、Ti膜、Ta膜、Co膜、Y膜、Ru膜、Al膜、Mo膜、Nb膜のいずれかである。
付記11に記載の方法であって、前記第1の還元ガスは、好ましくはB含有ガスであって、より好ましくはB2H6であり、前記第2の還元ガスは、好ましくは前記第1の還元ガスとは異なるH含有ガスであって、より好ましくはH2であり、前記金属含有ガスは、好ましくはW含有ガスであって、より好ましくはWF6であり、前記金属膜はW膜である。
付記1〜12に記載の方法であって、さらに、前記金属膜が形成された基板に対してエッチングガスを供給する工程を有する。
付記13に記載の方法であって、前記エッチングガスは、好ましくはF含有ガスであって、より好ましくはNF3である。
付記1〜14に記載の方法であって、さらに、前記複数の導体膜を還元する工程の前に、前記基板に対して前記第2の還元ガスを供給する工程を有する。
本発明の他の態様によれば、
絶縁膜と、複数の導体膜と、が表面に露出する基板に対して、第1の還元ガスを供給して、該第1の還元ガスの温度、前記基板が存在する領域における前記第1の還元ガスの分圧、前記基板に対して前記第1の還元ガスを供給する時間を含む前記第1の還元ガスのプロセス条件の少なくとも1つを調整して、前記プロセス条件の積が所定の値となるよう制御して前記基板上に露出する前記複数の導体膜を還元する工程と、
前記基板に対して、気相反応した状態の第2の還元ガスと金属含有ガスとを供給して、前記還元された複数の導体膜上に選択的に金属膜を形成する工程と、
を有する半導体装置の製造方法または基板処理方法が提供される。
本発明の他の態様によれば、
基板を収容する処理室と、
前記処理室に、第1の還元ガス、第2の還元ガス、金属含有ガスを供給するガス供給系と、
前記ガス供給系を制御して、前記処理室に、絶縁膜と、インキュベーションタイムがそれぞれ異なる複数の導体膜と、が表面に露出する基板を収容した状態で、前記基板に対して前記第1の還元ガスを供給して、前記複数の導体膜のインキュベーションタイムの差を0.01%以上50%以下とするよう前記第1の還元ガスのプロセス条件を調整して前記基板上に露出する前記複数の導体膜を還元する処理と、前記基板に対して、前記第2の還元ガスと前記金属含有ガスとを供給して、前記還元された複数の導体膜上に選択的に金属膜を形成する処理と、を行わせるよう構成される制御部と、
を有する基板処理装置が提供される。
本発明の他の態様によれば、
基板を収容する処理室と、
前記処理室に、第1の還元ガス、第2の還元ガス、金属含有ガスを供給するガス供給系(部)と、
前記ガス供給系(部)を制御して、前記処理室に、絶縁膜と、インキュベーションタイムがそれぞれ異なる複数の導体膜と、が表面に露出する基板を収容した状態で、前記基板に対して前記第1の還元ガスを供給して、該第1の還元ガスの温度、前記基板が存在する領域における前記第1の還元ガスの分圧、前記基板に対して前記第1の還元ガスを供給する時間を含む前記第1の還元ガスのプロセス条件の少なくとも1つを調整して、前記プロセス条件の積が所定の値となるよう制御して前記基板上に露出する前記複数の導体膜を還元する処理と、前記基板に対して、気相反応した状態の前記第2の還元ガスと前記金属含有ガスとを供給し、前記還元された複数の導体膜上に選択的に金属膜を形成する処理と、を行うよう構成される制御部と、
を有する基板処理装置が提供される。
本発明の他の態様によれば、
絶縁膜と、インキュベーションタイムがそれぞれ異なる複数の導体膜と、が表面に露出する基板に対して、第1の還元ガスを供給する第1の供給系(部)と、
前記基板に対して第2の還元ガスを供給する第2の供給系(部)と、
前記基板に対して金属含有ガスを供給する第3の供給系(部)と、
を有し、
前記第1の供給系(部)より、前記基板に対して前記複数の導体膜のインキュベーションタイムの差を0.01%以上50%以下とするよう前記第1の還元ガスのプロセス条件を制御して前記第1の還元ガスを供給して前記基板上に露出する前記複数の導体膜を還元する処理を行わせ、前記第2の供給系(部)より前記基板に対して前記第2の還元ガスを供給し、前記第3の供給系(部)より前記基板に対して前記金属含有ガスを供給して、前記還元された複数の導体膜上に選択的に金属膜を形成する処理と、を行わせるよう制御させるガス供給システムが提供される。
本発明の他の態様によれば、
絶縁膜と、複数の導体膜と、が表面に露出する基板に対して、第1の還元ガスを供給する第1の供給系(部)と、
前記基板に対して第2の還元ガスを供給する第2の供給系(部)と、
前記基板に対して金属含有ガスを供給する第3の供給系(部)と、
を有し、
前記第1の供給系(部)より、前記基板に対して前記第1の還元ガスを供給し、前記第1の還元ガスの温度、前記基板が存在する領域における前記第1の還元ガスの分圧、前記基板に対して前記第1の還元ガスを供給する時間を含む前記第1の還元ガスのプロセス条件の少なくとも1つを調整して、前記プロセス条件の積が所定の値となるよう制御して、前記基板上に露出する前記複数の導体膜を還元する処理と、前記第2の供給系(部)より前記基板に対して前記第2の還元ガスを供給し、前記第3の供給系(部)より前記基板に対して前記金属含有ガスを供給し、気相反応した状態の前記第2の還元ガスと前記金属含有ガスとに供給し、前記還元された複数の導体膜上に選択的に金属膜を形成する処理と、を行わせるよう制御させるガス供給システムが提供される。
本発明の他の態様によれば、
絶縁膜と、インキュベーションタイムがそれぞれ異なる複数の導体膜と、が表面に露出する基板に対して、第1の還元ガスを供給して、前記複数の導体膜のインキュベーションタイムの差を0.01%以上50%以下とするよう前記第1の還元ガスのプロセス条件を調整して前記基板上に露出する前記複数の導体膜を還元する手順と、
前記基板に対して、第2の還元ガスと金属含有ガスとを供給して、前記還元された複数の導体膜上に選択的に金属膜を形成する手順と、
をコンピュータに実行させるプログラム、または、該プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。
本発明の他の態様によれば、
絶縁膜と、複数の導体膜と、が表面に露出する基板に対して、第1の還元ガスを供給し、該第1の還元ガスの温度、前記基板が存在する領域における前記第1の還元ガスの分圧、前記基板に対して前記第1の還元ガスを供給する時間を含む前記第1の還元ガスのプロセス条件の少なくとも1つを調整して、前記プロセス条件の積が所定の値となるよう制御して前記基板上に露出する前記複数の導体膜を還元する手順と、
前記基板に対して、気相反応した状態の第2の還元ガスと金属含有ガスとを供給して、前記還元された複数の導体膜上に選択的に金属膜を形成する手順と、
をコンピュータに実行させるプログラム、または、該プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。
200・・・ウエハ
201・・・処理室
202・・・処理炉
Claims (9)
- 絶縁膜と、インキュベーションタイムがそれぞれ異なる複数の導体膜と、が表面に露出する基板に対して、第1の還元ガスを供給して、前記複数の導体膜のインキュベーションタイムの差を0.01%以上50%以下とするよう前記第1の還元ガスのプロセス条件を制御して前記基板上に露出する前記複数の導体膜を還元する工程と、
前記基板に対して、第2の還元ガスと金属含有ガスとを供給して、前記還元された複数の導体膜上に選択的に金属膜を形成する工程と、
を有する半導体装置の製造方法。 - 請求項1に記載の半導体装置の製造方法であって、前記第1の還元ガスのプロセス条件は、前記第1の還元ガスの所定温度に対する、前記基板が存在する領域における前記第1の還元ガスの分圧、前記基板に対して前記第1の還元ガスを供給する時間を含み、前記プロセス条件の積が所定の値となるよう前記第1の還元ガスのプロセス条件のうち少なくとも1つを調整することにより、前記絶縁膜を実質的に還元しない状態で、前記複数の導体膜を還元する半導体装置の製造方法。
- 請求項2に記載の半導体装置の製造方法であって、前記プロセス条件の積が、前記絶縁膜上に吸着する第1の還元ガスに含まれる単位面積当たりの原子の平均数が0.0001以上0.01以下である値となるよう前記第1の還元ガスのプロセス条件のうち少なくとも1つを調整する半導体装置の製造方法。
- 請求項3に記載の半導体装置の製造方法であって、前記第1の還元ガスの温度を200〜300℃の範囲内の値とし、前記基板が存在する領域における前記第1の還元ガスの分圧を0.1〜10Paの範囲内の値とし、前記基板に対して前記第1の還元ガスを供給する時間を0.01〜10分の範囲内の値とする半導体装置の製造方法。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の半導体装置の製造方法であって、前記複数の導体膜を還元する工程では、前記基板に対して前記第1の還元ガスをパルス的に供給する半導体装置の製造方法。
- 絶縁膜と、複数の導体膜と、が表面に露出する基板に対して、第1の還元ガスを供給し、該第1の還元ガスの温度に対する、前記基板が存在する領域における前記第1の還元ガスの分圧、前記基板に対して前記第1の還元ガスを供給する時間を含む前記第1の還元ガスのプロセス条件の少なくとも1つを調整して、前記プロセス条件の積が所定の値となるよう制御して前記基板上に露出する前記複数の導体膜を還元する工程と、
前記基板に対して、気相反応した状態の第2の還元ガスと金属含有ガスと供給して、前記還元された複数の導体膜上に選択的に金属膜を形成する工程と、
を有する半導体装置の製造方法。 - 基板を収容する処理室と、
前記処理室に、第1の還元ガス、第2の還元ガス、金属含有ガスを供給するガス供給系と、
前記ガス供給系を制御して、前記処理室に、絶縁膜と、インキュベーションタイムがそれぞれ異なる複数の導体膜と、が表面に露出する基板を収容した状態で、前記基板に対して前記第1の還元ガスを供給して、前記複数の導体膜のインキュベーションタイムの差を0.01%以上50%以下とするよう前記第1の還元ガスのプロセス条件を調整して前記基板上に露出する前記複数の導体膜を還元する処理と、前記基板に対して、前記第2の還元ガスと前記金属含有ガスとを供給して、前記還元された複数の導体膜上に選択的に金属膜を形成する処理と、を行わせるよう構成される制御部と、
を有する基板処理装置。 - 絶縁膜と、インキュベーションタイムがそれぞれ異なる複数の導体膜と、が表面に露出する基板に対して、第1の還元ガスを供給する第1の供給系と、
前記基板に対して第2の還元ガスを供給する第2の供給系と、
前記基板に対して金属含有ガスを供給する第3の供給系と、
を有し、
前記第1の供給系より、前記基板に対して前記複数の導体膜のインキュベーションタイムの差を0.01%以上50%以下とするよう前記第1の還元ガスのプロセス条件を調整して前記第1の還元ガスを供給して前記基板上に露出する前記複数の導体膜を還元する処理を行わせ、前記第2の供給系より前記基板に対して前記第2の還元ガスを供給し、前記第3の供給系より前記基板に対して前記金属含有ガスを供給して、前記還元された複数の導体膜上に選択的に金属膜を形成する処理と、を行わせるよう制御させるガス供給システム。 - 絶縁膜と、インキュベーションタイムがそれぞれ異なる複数の導体膜と、が表面に露出する基板に対して、第1の還元ガスを供給して、前記複数の導体膜のインキュベーションタイムの差を0.01%以上50%以下とするよう前記第1の還元ガスのプロセス条件を調整して前記基板上に露出する前記複数の導体膜を還元する手順と、
前記基板に対して、第2の還元ガスと金属含有ガスとを供給して、前記還元された複数の導体膜上に選択的に金属膜を形成する手順と、
をコンピュータに実行させるプログラム。
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