JP2017025407A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7185487B2 (ja) * 2018-03-14 2022-12-07 住友重機械工業株式会社 負イオン生成装置
JP7125789B2 (ja) 2018-06-14 2022-08-25 国立大学法人京都工芸繊維大学 特定種イオン源およびプラズマ成膜装置
JP7120540B2 (ja) * 2018-06-26 2022-08-17 住友重機械工業株式会社 イオン照射装置、イオン照射方法、成膜装置、及び成膜方法
JP7246628B2 (ja) * 2018-06-26 2023-03-28 住友重機械工業株式会社 成膜・イオン照射システム、及び成膜・イオン照射方法
JP7316770B2 (ja) * 2018-09-03 2023-07-28 住友重機械工業株式会社 成膜装置、及び膜構造体の製造装置
JP7336863B2 (ja) 2019-03-28 2023-09-01 住友重機械工業株式会社 負イオン生成装置
JP7209572B2 (ja) * 2019-03-28 2023-01-20 住友重機械工業株式会社 負イオン生成装置
JP7313929B2 (ja) * 2019-06-26 2023-07-25 住友重機械工業株式会社 負イオン照射装置
KR102757114B1 (ko) 2019-07-08 2025-01-17 스미도모쥬기가이고교 가부시키가이샤 부이온생성장치
TWI756742B (zh) * 2019-07-09 2022-03-01 日商住友重機械工業股份有限公司 負離子生成裝置
TWI700967B (zh) * 2019-07-09 2020-08-01 日商住友重機械工業股份有限公司 負離子生成裝置
CN112226734A (zh) * 2019-07-15 2021-01-15 住友重机械工业株式会社 负离子生成装置
KR102180979B1 (ko) * 2019-08-19 2020-11-19 참엔지니어링(주) 처리 장치 및 방법
JP7349910B2 (ja) 2019-12-27 2023-09-25 住友重機械工業株式会社 負イオン生成装置、及び負イオン生成方法
JP7404119B2 (ja) 2020-03-19 2023-12-25 住友重機械工業株式会社 負イオン生成装置
JP7518690B2 (ja) 2020-07-29 2024-07-18 住友重機械工業株式会社 プラズマガン、成膜装置、及び負イオン生成装置
US11915910B2 (en) 2021-03-25 2024-02-27 Tokyo Electron Limited Fast neutral generation for plasma processing

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS571586B2 (enrdf_load_stackoverflow) * 1974-05-22 1982-01-12
JPH0674767B2 (ja) * 1984-07-18 1994-09-21 富士重工業株式会社 エンジンのアイドル回転数制御方法
JPH0417669A (ja) * 1990-05-08 1992-01-22 Jeol Ltd プラズマを用いた成膜方法およびｒｆイオンプレーティング装置
JPH06128732A (ja) * 1992-10-15 1994-05-10 Ricoh Co Ltd 薄膜形成装置および薄膜形成方法
JPH0980200A (ja) * 1995-09-08 1997-03-28 Nissin Electric Co Ltd イオン発生装置
JP2823834B2 (ja) * 1996-03-28 1998-11-11 中外炉工業株式会社 蒸着装置におけるるつぼ部機構
JPH11273894A (ja) * 1998-03-23 1999-10-08 Jeol Ltd 薄膜形成装置
JP2000282226A (ja) 1999-04-01 2000-10-10 Nippon Sheet Glass Co Ltd 真空成膜装置及び方法
JP3765990B2 (ja) * 2001-03-16 2006-04-12 住友重機械工業株式会社 導体の形成方法及び装置
JP4339562B2 (ja) * 2002-09-06 2009-10-07 住友重機械工業株式会社 イオンプレーティング方法およびその装置
CN101298667A (zh) * 2003-01-31 2008-11-05 东京毅力科创株式会社 半导体处理用的成膜方法
JP4613050B2 (ja) * 2004-11-04 2011-01-12 大日本印刷株式会社 圧力勾配型イオンプレーティング式成膜装置
CN203049026U (zh) * 2013-01-23 2013-07-10 中国科学院金属研究所 一种低温低损伤多功能复合镀膜的装置
JP5951542B2 (ja) * 2013-03-28 2016-07-13 住友重機械工業株式会社 成膜装置

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