JP2008223112A - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】中間電極から陽極に向かって引き出されたプラズマに対して、対向する方向からプラズマ軸に向かう一対の磁界を印加して該方向に交差する方向にプラズマ径を広げ、プラズマの断面形状を扁平にする。一対の磁界の印加方向を軸を中心に回転させ、プラズマの扁平な方向を軸を中心に傾斜させる。これにより、立体構造の基板の端部(側面部)にプラズマを傾斜させて接近させることができるため、基板の中央部と端部の処理速度の分布を低減し、処理速度を向上させることができる。
【選択図】図1
Description
(第1の実施の形態)
第1の実施の形態の直流高密度プラズマを用いた処理装置は、プラズマCVD法により成膜を行う装置である。この成膜装置の構成について図1〜図3を用いて説明する。図1に示したように、この成膜装置は、連結されたプラズマ室1と成膜室7とを有している。プラズマ室1には、陰極2および第1および第2の中間電極3がプラズマ軸(図1のz軸)に沿って順に配置されている。陰極2は、グロー放電(プラズマ)からアーク放電(直流高密度プラズマ11)に移行させるのに適した公知の複合陰極構造である。第1および第2の中間電極3は、プラズマ11を通過させるための貫通孔をその中心に有する。プラズマ室1には、放電ガス4を導入するための放電ガス導入口4aが備えられている。第1および第2の中間電極3の貫通孔は、オリフィスとしても作用し、プラズマ室1の圧力を成膜室7の圧力よりも高く維持し、圧力勾配を形成する。
第2の実施の形態として、インライン成膜装置について説明する。インライン成膜装置は、第1の実施の形態の図1の成膜装置の構成と基本構造は同じであるが、成膜室7には、真空を保ったまま基板を搬入および搬出するためのロードロック室が連結されている。また、図示しないが、成膜室7内には、基板ホルダ16をx軸方向に移動させる基板搬送機構が配置されている。
Claims (4)
- 所定の軸に沿って順に配置された、陰極、中間電極および陽極と、前記中間電極と陽極との間の空間に基板を保持する基板保持部と、前記中間電極から陽極に向かって引き出されたプラズマに対して、前記軸に向かう一対の磁界を対向する方向から印加して該方向に交差する方向にプラズマ径を広げる磁界印加部とを有し、
前記磁界印加部は、前記一対の磁界の印加方向を前記軸を中心に回転させ、前記プラズマ径を広げる方向を前記軸を中心に傾斜させる手段を備えることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1に記載の成膜装置おいて、前記磁界印加部は、前記一対の磁界を印加するために、前記軸を挟んで対向配置された一対の磁界発生部と、前記一対の磁界発生部を相互の位置関係を保ったまま前記軸を中心に回転させる回転機構部とを備えることを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項1または2に記載のプラズマ処理装置において、前記回転機構部には、前記回転機構部を回転駆動する駆動部と、前記駆動部を制御する制御部とが接続され、該制御部は、プラズマ処理中に予め定めた角度に前記プラズマを傾斜させることを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項3に記載のプラズマ処理装置において、前記基板保持部は、前記プラズマ軸に対して交差する方向に基板を搬送する搬送機構を備え、前記制御部は、前記搬送機構により搬送されている基板の位置に応じて、予め定めた角度に前記プラズマを傾斜させることを特徴とするプラズマ処理装置。
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2007
- 2007-03-15 JP JP2007066498A patent/JP4963992B2/ja active Active
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