JP6009220B2 - 成膜装置 - Google Patents
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- チャンバー内で成膜材料をイオン化させて拡散し被処理物に付着させる成膜装置であって、
前記チャンバー内にプラズマを生成する複数のプラズマガンと、
前記成膜材料が配置される複数のハース部と、
前記被処理物が配置される被処理物配置部と、
前記ハース部と前記被処理物配置部との間に、電位の勾配を発生させる電位勾配発生部と、を備え、
前記複数のハース部は、一方向に隣り合う前記複数のプラズマガンのうちの一方に対応して配置された一方のハース部と、前記複数のプラズマガンのうちの他方に対応して配置された他方のハース部と、を含み、
前記電位勾配発生部は、一対の電極を有し、前記ハース部と前記被処理物配置部との間に、電位差を生成する電位差生成部と、
一対のコイルを有し、前記電位の勾配を制御する勾配制御部と、を備え、
前記被処理物配置部から前記ハース部を見た場合に、
前記一対の電極は、前記ハース部を挟むように配置され、
前記一対のコイルは、前記一対の電極が対向する第1の方向と交差する第2の方向に対向して配置され、
前記電位勾配発生部は、前記一方のハース部と前記被処理物配置部との間で、前記一方のハース部から前記他方のハース部に向かう方向に、イオン化した前記成膜材料を引き寄せる電位の勾配を発生させる成膜装置。 - 前記被処理物配置部から前記ハース部を見た場合に、
前記一対のコイルは、前記第1の方向と、前記第2の方向とが直交するように、配置されている請求項1に記載の成膜装置。 - 前記電位勾配発生部は、前記被処理物配置部と、前記プラズマガンのステアリングコイルとの間に配置されている請求項1又は2に記載の成膜装置。
- 前記ハース部と前記被処理物とを結ぶ方向に延在する軸線を回転中心として、前記電位勾配発生部は、前記チャンバーに対して回転移動可能である請求項1〜3の何れか1項に記載の成膜装置。
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