JP2016503589A - 基板をアライメントする装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
Description
・真空サンプルホルダ
・静電式サンプルホルダ
・粘着性表面を備えたサンプルホルダ
・ベンチュリ効果及びベルヌーイ効果に基づくサンプルホルダ
・磁気式サンプルホルダ
・機械式固定部材及び/又は挟持機構を備えたサンプルホルダ
・加熱モジュール
・冷却モジュール
・コーティングモジュール
・接合モジュール
・剥離モジュール
・検査モジュール
・積層モジュール
・表面処理モジュール
・プラズマモジュール
・左上方の光学系として構成された、又は左上方の光学系を備えた第1の検出ユニット3
・左下方の光学系として構成された、又は左下方の光学系を備えた第2の検出ユニット3′
・右上方の光学系として構成された、又は右上方の光学系を備えた、さらに別の第1の検出ユニット3
・右下方の光学系として構成された、又は右下方の光学系を備えた、さらに別の第2の検出ユニット3
・上方のホルダとして構成された、又は上方のホルダを備えた第1のホルダ4
・上方のホルダとして構成された、又は上方のホルダを備えた第2のホルダ5
2 支持フレーム
3,3″ 第1の検出ユニット
3′,3′″ 第2の検出ユニット
4 第1のホルダ
5 第2のホルダ
6,6′,6″ 真空チャンバ
7 窓
8 X方向並進ユニット
9 Y方向並進ユニット
10 Z方向並進ユニット
11 φ回転ユニット
12 アライメントチャンバ
13,13′,13″ 較正基板
13i,13a 較正基板表面
14 第1の基板
14′ 第2の基板
15 大気領域
16 真空領域
17,17′,17″o,17″u マーキング
18 マーキングフィールド
19 搬入出ゲート
20 カバー
21 基板積層体
22 ロボット
23 真空クラスタ
OA 光軸
DOF 焦点深度範囲 depth of focus
A 間隔
F 視野領域 field of view
F′ マーキングの有利な滞留領域
Claims (14)
- 第1の基板(14)を第2の基板(14′)とアライメントして接触させる方法において、以下のステップ特に以下のフローを有する、即ち、
・第1の基板(14)を第1のホルダ(4)に固定し、第2の基板(14′)を、前記第1のホルダ(4)と向き合って配置された第2のホルダ(5)に固定し、前記第1の基板(14)の第1の接触面と前記第2の基板(14′)の第2の接触面との間に間隔Aをもたせて、前記第1のホルダ(4)と前記第2のホルダ(5)との間に、前記第1の基板(14)及び前記第2の基板(14′)を配置するステップと、
・前記第1の基板(14)の第1のマーキング(17)と、前記第2の基板(14′)の第2のマーキング(17′)を、少なくとも4つの検出ユニット(3,3′,3″,3′″)によって検出するステップと、
ただし該少なくとも4つの検出ユニットのうち、
a)少なくとも2つの第1の検出ユニット(3,3″)は、少なくともX方向及びY方向に移動可能であり、
b)少なくとも2つの第2の検出ユニット(3′,3′″)は検出に際して、X及びY方向と交差するZ方向においてのみ移動され、
・X方向及び該X方向と交差するY方向で、前記ホルダ(4,5)により前記基板(14,14′)を移動させることにより、前記第1の基板(14)を前記第2の基板(14′)に対しアライメントするステップと、
・アライメントされた前記基板(14,14′)の前記接触面をZ方向で接触させるステップと
を有することを特徴とする、
第1の基板(14)を第2の基板(14′)とアライメントして接触させる方法。 - 前記第2のホルダ(5)に固定された前記第2の基板(14′)は、Z方向のみに移動可能である、請求項1記載の方法。
- 前記アライメントを、1barよりも低い真空中で行い、有利には10-3mbarよりも低い真空中で、さらに有利には10-5mbarよりも低い、著しく有利には10-7mbarよりも低い、最も有利には10-9mbarよりも低い真空中で行う、請求項1又は2記載の方法。
- 前記検出手段をアライメント前に較正し、特に少なくとも第1の較正基板(13)を用いて較正し、有利には、該第1の較正基板(13)とは異なるように形成された第2の較正基板(13′)も加えて較正する、請求項1から3のいずれか1項記載の方法。
- 前記第1の較正基板(13)を、それぞれ向き合って配置可能な検出ユニットの光軸を較正するために用い、及び/又は、前記第1の較正基板(13)に関して前記検出ユニットの焦点深度を較正するために用いる、請求項4記載の方法。
- 前記第2の基板(13′)を、前記第1のホルダ(4)における前記第1の基板(14)のX方向及びY方向の動きに対し、前記第1の検出ユニット(3,3″)を較正するために用いる、請求項4又は5記載の方法。
- 前記ホルダ(4,5)による前記基板(14,14′)の動きの制御及び検出と、前記検出ユニット(3,3′,3″,3′″)の動きの制御及び検出と、接触手段の動きの制御及び検出を、制御装置により制御する、請求項1から6のいずれか1項記載の方法。
- 第1の基板(14)を第2の基板(14′)とアライメントして接触させる装置において、
・第1の基板(14)を固定し移動させる第1のホルダ(4)と、該第1のホルダ(4)と向き合って配置され、第2の基板(14′)を固定し移動させる第2のホルダ(5)が設けられており、前記第1の基板(14)の第1の接触面と前記第2の基板(14′)の第2の接触面との間に間隔Aをもたせて、X方向及び該X方向と交差するY方向ならびに前記X及びY方向と交差するZ方向において、前記第1のホルダ(4)と前記第2のホルダ(5)との間で、前記第1の基板(14)及び第2の基板(14′)をアライメント可能であり、
・少なくとも4つの検出ユニット(3,3′,3″,3′″)が設けられており、該少なくとも4つの検出ユニットのうち、
a)少なくとも2つの第1の検出ユニット(3,3″)は、少なくともX方向及びY方向に移動可能であり、
b)少なくとも2つの第2の検出ユニット(3′,3′″)は、Z方向のみに移動可能であり、
・前記第2の基板(14′)に対しアライメントされた前記第1の基板(14)を、Z方向で前記第2の基板(14′)と接触させる接触手段と、
・前記ホルダ(4,5)による前記基板(14,14′)の動きの制御及び検出と、前記検出ユニット(3,3′,3″,3′″)の動きの制御及び検出と、前記接触手段の動きの制御及び検出のための制御装置と
が設けられていることを特徴とする、
第1の基板(14)を第2の基板(14′)とアライメントして接触させる装置。 - 前記第1のホルダ(4)は、X方向並進ユニット特に直線的にのみ移動可能なX方向並進ユニットと、Y方向並進ユニット特に直線的にのみ移動可能なY方向並進ユニットと、Z方向並進ユニット特に直線的にのみ移動可能なZ方向並進ユニットとを有する、請求項8記載の装置。
- 前記第2のホルダ(5)は、Z方向並進ユニット特に直線的にのみ移動可能なZ方向並進ユニットを有する、請求項8又は9記載の装置。
- 前記少なくとも2つの第1の検出ユニット(3,3″)はそれぞれ、前記第1のホルダ(4)の側方に対向して配置されており、及び/又は、前記少なくとも2つの第2の検出ユニット(3′,3′″)はそれぞれ、前記第2のホルダ(5)の側方に対向して配置されている、請求項8から10のいずれか1項記載の装置。
- 前記少なくとも2つの第1の検出ユニット(3,3″)はそれぞれ、X方向並進ユニット特に直線的にのみ移動可能なX方向並進ユニットと、Y方向並進ユニット特に直線的にのみ移動可能なY方向並進ユニットと、Z方向並進ユニット特に直線的にのみ移動可能なZ方向並進ユニットとを有する、請求項8から11のいずれか1項記載の装置。
- 前記第2の検出ユニット(3′,3′″)はそれぞれ、Z方向並進ユニット特に直線的にのみ移動可能なZ方向並進ユニットを有する、請求項8から12のいずれか1項記載の装置。
- それぞれ1つの第1の検出ユニット(3,3″)と、それぞれ1つの第2の検出ユニット(3′,3′″)とを、互いに向き合うように配置可能である、請求項8から13のいずれか1項記載の装置。
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