JP2008135708A - 接合基板の接合性測定 - Google Patents
接合基板の接合性測定 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008135708A JP2008135708A JP2007252998A JP2007252998A JP2008135708A JP 2008135708 A JP2008135708 A JP 2008135708A JP 2007252998 A JP2007252998 A JP 2007252998A JP 2007252998 A JP2007252998 A JP 2007252998A JP 2008135708 A JP2008135708 A JP 2008135708A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- alignment mark
- overlay measurement
- measurement alignment
- overlay
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K31/00—Processes relevant to this subclass, specially adapted for particular articles or purposes, but not covered by only one of the preceding main groups
- B23K31/02—Processes relevant to this subclass, specially adapted for particular articles or purposes, but not covered by only one of the preceding main groups relating to soldering or welding
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2101/00—Articles made by soldering, welding or cutting
- B23K2101/36—Electric or electronic devices
- B23K2101/40—Semiconductor devices
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
【解決手段】下部基板の上面上に上部基板を有する接合された基板の接合特性を測定する方法であり、その方法は、上部基板内に1つまたは複数の窓をエッチングすることを含み、したがって上部基板上のオーバレイ測定アライメントマークが測定システムによって認識され、下部基板上のオーバレイ測定アライメントマークが測定システムによって認識されて、オーバレイ測定アライメントマークの位置を測定するために測定システムが使用され、上部と下部基板上の対応するオーバレイ測定アライメントマークの間の間隔が決定され、上部基板上のオーバレイ測定アライメントマークと下部基板上のオーバレイ測定アライメントマークの間のオフセットを考慮して確定された間隔が調整されてよい。
【選択図】図2
Description
1.ステップモードでは、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTは本質的に静止状態に維持され、一方、放射ビームに与えられた全パターンが一挙にターゲット部分C上に投影(すなわち、単一静止露光)される。次いで、基板テーブルWTが、別のターゲット部分Cが露光可能となるようにXおよび/またはY方向に位置を変えられる。ステップモードでは、露光フィールドの最大寸法が、単一静止露光で結像されるターゲット部分Cの寸法を制限する。
2.スキャンモードでは、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTは、同期してスキャンされ、一方、放射ビームに与えられたパターンがターゲット部分C上に投影される(すなわち、単一動的露光)。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの拡大(縮小)率およびイメージ反転特性によって決定されてよい。スキャンモードでは、露光フィールドの最大寸法が、単一動的露光内のターゲット部分の幅(非スキャン方向の)を制限し、一方、スキャン動作の長さが、ターゲット部分の高さ(スキャン方向の)を決定する。
3.別のモードでは、マスクテーブルMTが、プログラマブルパターニングデバイスを本質的に静止状態に保持し続け、基板テーブルWTが移動され、またはスキャンされ、一方、放射ビームに与えられたパターンがターゲット部分Cの上に投影される。このモードでは、一般にパルス放射源が使用され、基板テーブルWTの各移動後、あるいはスキャンの間の連続する放射パルスの合間に、必要に応じてプログラマブルパターニングデバイスが更新される。この動作モードは、上述した形式のプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用可能である。
Claims (18)
- 下部基板の上面に上部基板を有する接合基板の接合特性を測定する方法であって、
前記上部基板上のオーバレイ測定アライメントマークが測定システムによって認識され、前記下部基板上のオーバレイ測定アライメントマークが前記測定システムによって認識されることができるように、前記上部基板内で1つまたは複数の窓をエッチングすること、
前記オーバレイ測定アライメントマークの位置を測定するために前記測定システムを使用すること、
前記上部および下部基板上の対応する前記オーバレイ測定アライメントマークの間の間隔を決定すること、
前記上部基板上の前記オーバレイ測定アライメントマークと前記下部基板上の前記オーバレイ測定アライメントマークの間のオフセットを考慮して前記決定された間隔を調整すること、
を含む、測定方法。 - 前記エッチングに対して終点として作用する絶縁層が前記基板の間に提供され、したがって前記1つまたは複数の窓内で前記上部基板が前記絶縁体層までエッチングされて除去される、請求項1に記載の方法。
- 前記上部基板の前記オーバレイ測定アライメントマークが、前記絶縁体層にレリーフで形成される、請求項2に記載の方法。
- 前記測定システムが、前記オーバレイ測定アライメントマークの前記位置を測定するために可視スペクトルまたは紫外スペクトルの波長の放射を用いる、請求項1に記載の方法。
- 前記上部基板上に提供されている前記オーバレイ測定アライメントマークが、前記下部基板上に提供されている前記オーバレイ測定アライメントマークの鏡像である、請求項1に記載の方法。
- 前記接合基板がMEMSデバイスを形成するために用いることができるフィーチャを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記オフセットが100ミクロンより大きい、請求項1に記載の方法。
- 前記オーバレイ測定アライメントマークの前記位置の測定がリソグラフィ装置内で実施される、請求項1に記載の方法。
- 下部基板の上面に上部基板を有する接合基板の接合特性を測定する方法であって、
前記上部基板上のオーバレイ測定アライメントマークが測定システムによって認識され、前記下部基板上のオーバレイ測定アライメントマークが前記測定システムによって認識されることができるように、前記上部基板の厚さを減少させること、
前記オーバレイ測定アライメントマークの位置を測定するために前記測定システムを使用すること、
前記上部および下部基板上の対応する前記オーバレイ測定アライメントマークの間の間隔を決定すること、
前記上部基板上の前記オーバレイ測定アライメントマークと前記下部基板上の前記オーバレイ測定アライメントマークの間のオフセットを考慮して前記決定された間隔を調整すること、
を含む、測定方法。 - 前記基板の前記減少させた厚さが50ミクロン未満である、請求項9に記載の方法。
- 前記基板の前記減少させた厚さが10ミクロン未満である、請求項10に記載の方法。
- 前記測定システムが、前記オーバレイ測定アライメントマークの前記位置を測定するために可視スペクトルまたは紫外スペクトルの波長の放射を用いる、請求項9に記載の方法。
- 前記上部基板上に提供されている前記オーバレイ測定アライメントマークが、前記下部基板上に提供されている前記オーバレイ測定アライメントマークの鏡像である、請求項9に記載の方法。
- 前記接合基板がMEMSデバイスを形成するために用いることができるフィーチャを含む、請求項9に記載の方法。
- 前記オフセットが100ミクロンより大きい、請求項9に記載の方法。
- 前記オーバレイ測定アライメントマークの前記位置の測定がリソグラフィ装置内で実施される、請求項9に記載の方法。
- 下部基板の上面に上部基板を有する接合基板であって、
前記上部および下部基板には複数のオーバレイ測定アライメントマークが設けられ、前記上部基板上の前記オーバレイ測定アライメントマークが前記下部基板上の前記オーバレイ測定アライメントマークの鏡像であり、前記上部基板上の前記オーバレイ測定アライメントマークと、前記下部基板上の前記オーバレイ測定アライメントマークとの間にオフセットが提供される、接合基板。 - 前記オーバレイ測定アライメントマークに加えて前記基板が、MEMSデバイスを形成するために用いることができるフィーチャを含む、請求項17に記載の接合基板。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/544,000 US20080083818A1 (en) | 2006-10-06 | 2006-10-06 | Measuring the bonding of bonded substrates |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008135708A true JP2008135708A (ja) | 2008-06-12 |
JP4559461B2 JP4559461B2 (ja) | 2010-10-06 |
Family
ID=39301187
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007252998A Active JP4559461B2 (ja) | 2006-10-06 | 2007-09-28 | 接合基板の接合性測定 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20080083818A1 (ja) |
JP (1) | JP4559461B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014192233A (ja) * | 2013-03-26 | 2014-10-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体装置の製造方法及び半導体基板の製造方法 |
JP2016503589A (ja) * | 2013-12-06 | 2016-02-04 | エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー | 基板をアライメントする装置及び方法 |
JP2016185604A (ja) * | 2015-03-27 | 2016-10-27 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェットヘッドの製造方法 |
US20160315064A1 (en) * | 2015-04-24 | 2016-10-27 | Kulicke And Soffa Industries, Inc. | Thermocompression bonders, methods of operating thermocompression bonders, and horizontal scrub motions in thermocompression bonding |
KR20210148855A (ko) * | 2020-05-28 | 2021-12-08 | 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 | 본딩된 웨이퍼들을 위한 포토리소그래피 정렬 공정 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL2006004A (en) * | 2010-03-25 | 2011-09-27 | Asml Netherlands Bv | Imprint lithography. |
EP2889900B1 (en) * | 2013-12-19 | 2019-11-06 | IMEC vzw | Method for aligning micro-electronic components using an alignment liquid and electrostatic alignment as well as corresponding assembly of aligned micro-electronic components |
CN116034457A (zh) * | 2021-08-26 | 2023-04-28 | 株式会社新川 | 接合装置及位置对准方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000223391A (ja) * | 1999-01-28 | 2000-08-11 | Sharp Corp | 半導体装置の製造方法 |
WO2003085723A1 (en) * | 2002-04-04 | 2003-10-16 | Toray Engineering Co., Ltd. | Alignment method and mounting method using the alignment method |
JP2004165670A (ja) * | 2002-11-13 | 2004-06-10 | Asml Netherlands Bv | デバイスの製造方法およびそれによって製造されたデバイス |
JP2005294800A (ja) * | 2003-12-02 | 2005-10-20 | Bondotekku:Kk | 接合方法及びこの方法により作成されるデバイス並びに表面活性化装置及びこの装置を備えた接合装置 |
JP2006186367A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Asml Netherlands Bv | 接合基板を形成するシステム及び方法並びに接合基板製品 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5236118A (en) * | 1992-05-12 | 1993-08-17 | The Regents Of The University Of California | Aligned wafer bonding |
US6969635B2 (en) * | 2000-12-07 | 2005-11-29 | Reflectivity, Inc. | Methods for depositing, releasing and packaging micro-electromechanical devices on wafer substrates |
US6768539B2 (en) * | 2001-01-15 | 2004-07-27 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
SG121844A1 (en) * | 2002-12-20 | 2006-05-26 | Asml Netherlands Bv | Device manufacturing method |
US7130049B2 (en) * | 2003-12-24 | 2006-10-31 | Asml Netherlands B.V. | Method of measurement, method for providing alignment marks, and device manufacturing method |
US7410880B2 (en) * | 2004-12-27 | 2008-08-12 | Asml Netherlands B.V. | Method for measuring bonding quality of bonded substrates, metrology apparatus, and method of producing a device from a bonded substrate |
US7349140B2 (en) * | 2005-05-31 | 2008-03-25 | Miradia Inc. | Triple alignment substrate method and structure for packaging devices |
-
2006
- 2006-10-06 US US11/544,000 patent/US20080083818A1/en not_active Abandoned
-
2007
- 2007-09-28 JP JP2007252998A patent/JP4559461B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000223391A (ja) * | 1999-01-28 | 2000-08-11 | Sharp Corp | 半導体装置の製造方法 |
WO2003085723A1 (en) * | 2002-04-04 | 2003-10-16 | Toray Engineering Co., Ltd. | Alignment method and mounting method using the alignment method |
JP2004165670A (ja) * | 2002-11-13 | 2004-06-10 | Asml Netherlands Bv | デバイスの製造方法およびそれによって製造されたデバイス |
JP2005294800A (ja) * | 2003-12-02 | 2005-10-20 | Bondotekku:Kk | 接合方法及びこの方法により作成されるデバイス並びに表面活性化装置及びこの装置を備えた接合装置 |
JP2006186367A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Asml Netherlands Bv | 接合基板を形成するシステム及び方法並びに接合基板製品 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014192233A (ja) * | 2013-03-26 | 2014-10-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体装置の製造方法及び半導体基板の製造方法 |
JP2016503589A (ja) * | 2013-12-06 | 2016-02-04 | エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー | 基板をアライメントする装置及び方法 |
US9851645B2 (en) | 2013-12-06 | 2017-12-26 | Ev Group E. Thallner Gmbh | Device and method for aligning substrates |
JP2016185604A (ja) * | 2015-03-27 | 2016-10-27 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェットヘッドの製造方法 |
US20160315064A1 (en) * | 2015-04-24 | 2016-10-27 | Kulicke And Soffa Industries, Inc. | Thermocompression bonders, methods of operating thermocompression bonders, and horizontal scrub motions in thermocompression bonding |
US9847313B2 (en) * | 2015-04-24 | 2017-12-19 | Kulicke And Soffa Industries, Inc. | Thermocompression bonders, methods of operating thermocompression bonders, and horizontal scrub motions in thermocompression bonding |
KR20210148855A (ko) * | 2020-05-28 | 2021-12-08 | 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 | 본딩된 웨이퍼들을 위한 포토리소그래피 정렬 공정 |
KR102495799B1 (ko) * | 2020-05-28 | 2023-02-06 | 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 | 본딩된 웨이퍼들을 위한 포토리소그래피 정렬 공정 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4559461B2 (ja) | 2010-10-06 |
US20080083818A1 (en) | 2008-04-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6936385B2 (en) | Calibration methods, calibration substrates, lithographic apparatus and device manufacturing methods | |
JP4578494B2 (ja) | オーバーレイ測定を使用するリソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
TWI476538B (zh) | 定位測量系統及微影裝置 | |
JP4519822B2 (ja) | リソグラフィ投影装置、デバイス製造方法、およびデバイス製造方法で使用するマスク | |
JP4745292B2 (ja) | 波面センサを含むリソグラフィ装置 | |
KR100985834B1 (ko) | 리소그래피 투영 장치의 포커스를 측정하는 방법 | |
JP4559461B2 (ja) | 接合基板の接合性測定 | |
KR100734589B1 (ko) | 기판 테이블, 기판의 위치를 측정하는 방법, 및 리소그래피장치 | |
JP5312501B2 (ja) | アライメントマーク、基板、パターニングデバイスの組、およびデバイス製造方法 | |
KR20090095509A (ko) | 정렬 마크 제공 방법, 디바이스 제조 방법 및 리소그래피 장치 | |
JP2006054460A (ja) | 位置合せマークを提供する方法、基板を位置合せする方法、デバイス製造方法、コンピュータ・プログラム及びデバイス | |
KR100803267B1 (ko) | 포커스 결정 방법, 디바이스 제조 방법, 및 마스크 | |
JP4940219B2 (ja) | オーバレイを測定する方法 | |
US7463337B2 (en) | Substrate table with windows, method of measuring a position of a substrate and a lithographic apparatus | |
US8252491B2 (en) | Method of forming a marker, substrate having a marker and device manufacturing method | |
US20090207399A1 (en) | Lithographic method | |
EP1675176B1 (en) | Method for measuring the bonding quality of bonded substrates and method of producing a device from a bonded substrate | |
JP2007123872A (ja) | リソグラフィ装置 | |
US20060035159A1 (en) | Method of providing alignment marks, method of aligning a substrate, device manufacturing method, computer program, and device | |
JP4832493B2 (ja) | リソグラフィ方法及びデバイス製造方法 | |
KR20070035531A (ko) | 모아레 패턴 생성 장치 및 기판의 위치를 측정하는 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070928 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071227 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100622 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100722 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4559461 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130730 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |