JP2001153608A - 位置合わせ装置及び位置合わせ方法及び重ね合わせ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光学系の光軸と第１及び第２の基体との傾き
によるアライメントマークのずれ量を考慮して第１及び
第２の基体の位置合わせをする。 【解決手段】 第１の基体に備えられた第１のアライメ
ントマークと第２の基体に備えられた第２のアライメン
トマークとを観測する光学系及び、観測した結果に基づ
いて前記第１及び第２のアライメントマーク間のずれを
なくすように前記第１の基体と前記第２の基体とを相対
移動する手段を有する位置合わせ装置において、前記光
学系の光軸と前記第１及び第２の基体との傾きにより生
じる前記第１及び第２のアライメントマークのずれ量を
測定する手段を備え、測定した前記ずれ量を考慮して前
記第１の基体と前記第２の基体とを相対移動する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、位置合わせ装置及
び位置合わせ方法、重ね合わせ装置に関し、特に、光学
系の光軸と基体との傾きにより生じるアライメントマー
クのずれ量を考慮して位置合わせする位置合わせ装置及
び位置合わせ方法、重ね合わせ装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、たとえば特開平６−２６８１６号
公報には、光学系を用いてアクティブマトリックス側と
対向ガラス側との双方のアライメントマークを、ＣＣＤ
等の撮像素子を用いて取り込んだ２次元の画像の画像解
析を行い、相互の位置のずれ方向およびずれ量を測定し
て、測定結果に基づいて、サーボ手段等により適宜ＸＹ
およびθ方向に変位させることによりアライメントする
重ね合わせ装置が記載されている。

【０００３】また、特開平７−２４９５７１号公報に
は、位置合わせマークの検出の光学として、テレセント
リック・レンズ系を用いることによりアライメントマー
ク間のギャップによらないアライメントずれ量の測定方
法が記載されている。

【０００４】さらに、特開平１０−２９４５４０号公報
には、アライメントマーク間のギャップが数百μｍオー
ダーのように大きい場合には、予めアライメントマーク
間に任意の基準点を定め、画像処理ユニットを用いて、
この基準点とアクティブマトリックス側のアライメント
マークとのずれ量を測定し、さらにこの基準点と対向ガ
ラス側のアライメントマークとのずれ量を測定し、それ
らに基づいてアライメントを行う方法が示されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、特開平６−２
６８１６号公報や、特開平６−２４２４３１号公報に記
載されている技術は、現実には３次元であるアライメン
トマークの位置情報を、２次元に投影し焼き直してい
る。そのため、たとえ特開平７−２４９５７１号公報に
記載のように、テレセントリック・レンズ系を用いて
も、光軸のわずかなずれなどによって完全な垂直投影が
できていない場合には、理想的に位置合わせをすること
ができない。この現象を図５（ａ）、図５（ｂ）を用い
て説明する。

【０００６】図５（ａ）は、セルのアライメントマーク
１０３を備えた下基板１０１及びアライメントマーク１
０４を備えた上基板１０２の断面図である。図５（ｂ）
は、図示しない光学系の光軸が角度θだけ傾いている場
合に観測される上基板１０２及び下基板１０１のアライ
メントマーク１０３，１０４付近の画像を模式的に示し
た図である。

【０００７】図５（ｂ）に示すように、アライメントマ
ーク１０３，１０４を、各中心位置で一致させるように
しても、実際には、光学系の光軸が角度θ傾いている
と、アライメントマーク１０３，１０４間ではずれが生
じる。

【０００８】すなわち、このずれは、アライメントマー
ク１０３，１０４間のずれ量をｂ、アライメントマーク
１０３，１０４間の距離をｄとすると、 ｂ＝ｄ×ｔａｎθ という関係になり、撮像素子により取り込んだ画像で
は、アライメントマーク１０３，１０４を、各中心位置
で一致させるようにしても、この“ｂ”だけのずれ量が
生じる。

【０００９】さらに、特開平１０−２９４５４０号公報
に記載の方法では、アライメントマーク間に任意の基準
点を設定し、それを装置に記憶させる必要がある。この
ため、装置には、メモリなどの記憶手段が必要となる。
また、記憶手段による高コスト化は免れない。さらに基
準点の設定をどのようにするかは、明らかにされていな
い。

【００１０】ここで、光軸がずれを生じる原因として、
光学系の鏡筒を重ね合わせ装置へ光軸がずれないように
取り付けることができないことや、鏡筒内のレンズ系の
位置合わせが困難であることや、レンズ自身の偏芯など
がある。これらすべての原因を修正することは可能であ
るが、そのための調整費、加工費用などを積算すると極
めて装置価格が高価になる。

【００１１】また、重ね合わせ装置のメンテナンス時に
光学系の取り外しを行うと、その度に光軸を厳密に測定
して調整する必要が生じるため、現実的な使用法になら
ないという問題が生じる。

【００１２】さらに、光学系とアクティブマトリックス
等との傾きによる問題は、アライメントマークを検出す
る為の光学系そのものの光軸の傾きの影響を受ける為、
別の光学系で観察した際のアライメントのずれ量と、重
ね合わせ装置でアライメントした際のアライメントのず
れ量が異なった値になってしまい真のずれ量が測定でき
ないという問題点がある。

【００１３】そこで、本発明は、光学系の光軸と第１及
び第２の基体との傾きによるアライメントマークのずれ
量を考慮して第１及び第２の基体の位置合わせをするこ
とを課題とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、第１の基体に備えられた第１のアライメ
ントマークと第２の基体に備えられた第２のアライメン
トマークとを観測する光学系及び、観測した結果に基づ
いて前記第１及び第２のアライメントマーク間のずれを
なくすように前記第１の基体と前記第２の基体とを相対
移動する手段を有する位置合わせ装置において、前記光
学系の光軸と前記第１及び第２の基体との傾きにより生
じる前記第１及び第２のアライメントマークのずれ量を
測定する手段を備え、測定した前記ずれ量を考慮して前
記第１の基体と前記第２の基体とを相対移動する。

【００１５】また、本発明は、第１の基体に備えられた
第１のアライメントマークと第２の基体に備えられた第
２のアライメントマークとを光学系により観測し、前記
観測した結果に基づいて前記第１及び第２のアライメン
トマーク間のずれをなくすように前記第１の基体と前記
第２の基体とを相対移動することにより前記第１の基体
と前記第２の基体との位置合わせをする位置合わせ方法
において、前記光学系の光軸と前記第１及び第２の基体
との傾きにより生じる前記第１及び第２のアライメント
マーク間のずれ量を測定し、測定した前記ずれ量を考慮
して前記第１の基体と第２の基体とを相対移動する。

【００１６】さらに、本発明は、第１のアライメントマ
ークを備えた第１の基体及び第２のアライメントマーク
を備えた第２の基体を固定するそれぞれの定盤と、前記
第１のアライメントマークと前記第２のアライメントマ
ークとを観測する光学系と、観測した結果に基づいて前
記第１及び第２のアライメントマーク間のずれをなくす
ように前記第１の基体と前記第２の基体とを相対移動す
る手段と、前記移動後に前記第１の基体と前記第２の基
体とを重ね合わせする手段とを備えた重ね合わせ装置に
おいて、前記光学系の光軸と前記第１及び第２の基体と
の傾きにより生じる前記第１及び第２のアライメントマ
ークのずれ量を測定する手段を備え、測定した前記ずれ
量を考慮して前記第１の基体と前記第２の基体とを相対
移動した後に、前記第１の基体と前記第２の基体とを重
ね合わせる。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態について説明する。

【００１８】図１は、本実施形態の重ね合わせ装置の断
面図である。図１において、１０１は第１の基体である
ところの下基板であり、例えば図示しないＴＦＴ（Thin
Film Transistor）などのアクティブマトリックス素子
を搭載している。１０２は第２の基体であるところの上
基板であり、例えば図示しないガラス又は透明樹脂にマ
イクロレンズ等を形成している。

【００１９】下基板１０１には、アライメントマーク１
０３が設けられており、上基板１０２には、アライメン
トマーク１０４が設けられている。アライメントマーク
１０３と１０４との位置合わせを行うことにより、上基
板１０２と下基板１０１とのアライメントを実行する。

【００２０】また、４０１は下基板１０１を固定する為
の下定盤であり、アライメントステージ４０２の上に設
置されている。一方、上基板１０２は上定盤４０３を介
して装置の筐体４０４に固定されている。また、上定盤
４０３はアライメントマーク１０３，１０４を観察する
為の光学系４０５の光束が透過できるように石英などの
光学的に透明な材料であることが必要である。

【００２１】光学系４０５は、可動ステージ４０９を介
して筐体４０４に固定されており、可動ステージ４０９
はアライメントマーク観察時にオートフォーカスが必要
な際に動かすことができる。光学系４０５は主に対物レ
ンズ４０６と、鏡筒４０７と、撮像素子４０８とから構
成される。

【００２２】アライメントマーク１０３，１０４間の垂
直方向の距離が対物レンズ４０６の焦点深度よりも大き
い場合には、光学系４０５は２焦点光学系を用いても良
い。また、対物レンズ４０６は、光学的に透明な材料４
０３を通してアライメントマーク１０３，１０４を観察
する為に、通常の対空気の設計とは異なるガラス厚補正
のなされたものを用いてもよい。

【００２３】すなわち、下基板１０１と上基板１０２と
を重ね合わせるときには、後述するように、下基板１０
１と上基板１０２とを位置合わせした後に、これらを互
いに押し付ける。このときに、上定盤４０３と下定盤４
０１とに圧力がかかり、そのため、これらに歪みが生じ
る場合がある。歪みが生じると、下基板１０１と上基板
１０２との間のギャップを均一にすることができない。

【００２４】そこで、この歪みを生じさせないように、
上定盤４０３と下定盤４０１との厚さを、それぞれ１０
ｍｍ以上としている。しかし、上定盤４０３と下定盤４
０１とをこのような厚さにすると、対物レンズ４０６に
よって上定盤４０３を介してアライメントマークを観察
しようとすると、画像にぼけが生じる場合があり、アラ
イメントが困難になる。そのため、対物レンズ４０６
は、上定盤４０３の媒質に応じた補正をしている。

【００２５】アライメントマーク１０３，１０４の画像
は、光学系４０５を通して撮像素子４０８に結像され、
その画像は画像処理装置４１０によりアライメントのず
れ量に変換され、ずれ量が最小になるような値を算出す
る。算出した最小値に基づくアライメントステージ４０
２の移動量を、サーボ手段４１１に伝達する。

【００２６】その際、後述する重ね合わせ方法により測
定したオフセット値を加味して、アライメントステージ
４０２の移動量を決定し、それを差し引くことにより光
学系４０５の光軸の傾きによるずれ量を補正して、正確
なアライメントを行う。

【００２７】図２は、本実施形態の位置合わせ方法の原
理図である。図２に示すように、まず、上基板１０２と
下基板１０１とが既に固定された重ね合わせ後のセルを
位置２０１において、光学系４０５によりアライメント
マーク１０３と１０４とのアライメントのずれ量を測定
する。

【００２８】つづいて、上基板１０２と下基板１０１と
を、たとえばアライメントマーク１０３の真ん中を中心
として、１８０度回転させた位置２０２で、再度光学系
４０５により、アライメントマーク１０３，１０４の付
近の画像を取り込み、アライメントのずれ量を測定す
る。

【００２９】こうすると、測定した１０３と１０４との
相対的なアライメントのずれ量から、光学系４０５の光
軸の傾き量およびアライメントのオフセット量、実際の
アライメントマーク１０３と１０４とのずれ量を算出す
ることができる。

【００３０】図３（ａ）〜図３（ｄ）は、図２に示した
方法により位置合わせした後に重ね合わせた上基板１０
２と下基板１０１との断面図および平面図である。図３
（ａ）は位置２０１における上基板１０２と下基板１０
１とのアライメントマーク付近１０３，１０４の断面図
であり、図３（ｂ）は図３（ａ）の状態を角度θだけ傾
いた光軸を有する光学系で観察した際の画像の模式図で
ある。図３（ｃ）および図３（ｄ）は、位置２０２にお
ける上基板１０２と下基板１０１との断面図及び平面図
であり、図３（ａ）、図３（ｂ）に対応する。

【００３１】下基板１０１のアライメントマーク１０３
を基準として、図面の右をＸ＋方向とし、アライメント
マーク１０３，１０４間の実際にずれを“ａ”、光学系
の傾きによるずれを“ｂ”、撮像素子により取り込んだ
画像で認識するずれ量をＸstdとすると、Ｘstdは、 Ｘstd ＝ａ＋ｂ で表される。

【００３２】つぎに、上基板１０２と下基板１０１と
を、１８０度回転させた位置２０２において、撮像素子
により取り込んだ画像で認識するずれ量をＸ180とする
と、Ｘ180は、 Ｘ180 ＝−ａ＋ｂ で表される。

【００３３】従って、本来のアライメントのずれ量を
“ａ”、および光軸ずれによるアライメントのずれ量
“ｂ”は、 ａ＝（Ｘstd −Ｘ180 ）／２ ｂ＝（Ｘstd ＋Ｘ180 ）／２ で表される。

【００３４】したがって、光学系４０５の光軸の傾きを
“θｘ”、マーク間距離を“ｄ”とすれば ｂ＝ｄ×ｔａｎθｘ＝（Ｘstd ＋Ｘ180 ）／２ であることから、光学系４０５の光軸の傾きは θｘ＝ａｒｃｔａｎ（（Ｘstd ＋Ｘ180 ）／（２×
ｄ）） で表される。

【００３５】アライメントマーク１０３，１０４間の距
離ｄは、通常、セルギャップおよびマイクロレンズのＮ
Ａ（Numerical Aperture）によって設定される既知の値
である為、これらを用いることにより、重ね合わせ装置
の光学系４０５の光軸の傾きθｘは求めることができ
る。

【００３６】また、ｄの値をより正確に測定する為に、
オートフォーカス機構を装置の光学系４０５に備えても
よい。アライメントマーク１０３と１０４とのそれぞれ
に、フォーカスをあわせ、２つのマーク間の変位量を測
定することによりｄを求めることができる。このことに
より、ｄのバラツキが大きなサンプルに対応することが
できる。

【００３７】図２及び図３では、説明の容易のため、Ｘ
方向にのみアライメントマーク１０３，１０４がずれて
いる場合を例にしたが、同様にＹ方向のみのずれ、およ
びＸとＹが同時にずれている際のずれ量についても算出
することができる。

【００３８】このようにして求めた光学系４０５の光軸
の傾きθおよびｄの値から光軸ずれによるアライメント
のずれ量“ｂ”を算出し、“ｂ”を予め見込んでオフセ
ットをかけてアライメントすることにより、重ね合わせ
装置に特別な機構を付加することなく、低コストで正確
なアライメント操作をすることができる。

【００３９】また、本実施形態では実際のセルを用いて
測定する例について示したが、原理的には重ね合わせ装
置が認識できるアライメントマークだけがあり、アライ
メントマークを中心として標準位置と１８０度反転した
位置で光学系を移動することなく、それぞれ相対的なア
ライメントのずれ量Ｘstd 、Ｘ180 が測定できればよ
い。

【００４０】従って、重ね合わせ装置が本来重ね合わせ
るサイズの基板サイズ、アライメントマークではなくて
も、アライメントマーク間の距離ｄが明確であり、かつ
重ね合わせ装置がアライメントマークを認識することさ
えできれば、光学系４０５の光軸のずれによるアライメ
ントのずれ量は前述の方法により容易に求めることがで
きる。

【００４１】このずれ量と実際に重ね合わせるアライメ
ントマーク間の距離ｄ′が判れば、アライメント時に考
慮すべきＸoffsetおよびＹoffsetは Ｘoffset＝（Ｘstd ＋Ｘ180 ）／２×（ｄ′／ｄ） Ｙoffset＝（Ｙstd ＋Ｙ180 ）／２×（ｄ′／ｄ） として求めることができる。

【００４２】上式から判るようにアライメントマーク間
の距離ｄとｄ′が概ね同じ値であれば Ｘoffset＝（Ｘstd ＋Ｘ180 ）／２ Ｙoffset＝（Ｙstd ＋Ｙ180 ）／２ と式を単純化できる。

【００４３】図４は、上基板１０２及び下基板１０１と
を重ね合わせ既に固定した空セル８０１を回転させる手
段の構成図である。図４において、４０５ａは位置２０
１で右下にあるアライメントマーク１０３，１０４間の
ずれを測定するための光学系、４０５ｂは位置２０１で
左上にあるアライメントマーク１０３’，１０４’間の
ずれを測定するための光学系を示している。

【００４４】また、８０５は空セルを回転させるための
回転ステージ、８０６は空セルを回転できるような機構
の搬送ロボットであり、ＸＹＺ方向の任意の位置に空セ
ル８０１を移動させる。なお、空セル８０１を位置２０
１からアライメントマーク１０３，１０４を中心として
１８０°回転した位置を位置２０２、光学系４０５ｂで
アライメントマーク１０３’，１０４’を中心として１
８０°回転した位置を位置２０３としている。

【００４５】つぎに、図４に示す回転手段の動作につい
て説明する。まず、下定盤４０１上で位置２０１にある
２つのアライメントマーク１０３と１０４とのずれ量を
光学系４０５ａによって観測し、アライメントマーク１
０３’と１０４’とのずれ量を光学系４０５ｂによって
測定する。

【００４６】つぎに、空セル８０１を搬送ロボット８０
６により保持して、回転ステージ８０５上に搬送して、
これにセットする。そして、回転ステージ８０５上で空
セル８０１を１８０°回転させる。再度、搬送ロボット
８０６により空セル８０１を保持して、下定盤４０１上
に搬送する。このとき、空セル８０１の搬送位置は、位
置２０１からアライメントマーク１０３，１０４を中心
として１８０°回転した位置２０２である。

【００４７】つづいて、位置２０２において光学系４０
５ａを用いてアライメントマーク１０３，１０４のずれ
量を測定する。測定が終了したら、搬送ロボット８０６
により空セル８０１を保持して、位置２０３へ平行移動
する。これにより、アライメントマーク１０３’と１０
４’そのものも回転し、アライメントマーク１０３’と
１０４’との向きが、位置２０１にあるときから１８０
°回転した場合と同様になる。

【００４８】その後、光学系４０５ｂによりアライメン
トマーク１０３，１０４のずれ量を測定する。こうし
て、図２に示した原理で、光学系４０５の傾きによるず
れを把握する。

【００４９】なお、図４に示した回転手段は、図１に示
した重ね合わせ装置に取り付けるようにしてもよく、ま
た、空セル８０１以外のものを用いて、アライメントマ
ーク１０３と１０４とのずれ量を測定してもよい。

【００５０】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
光学系の光軸と第１及び第２の基体との傾きにより第１
及び第２のアライメントマーク間にずれ量が生じるが、
これを測定してそのずれ量を考慮して第１の基体と第２
の基体とを相対移動することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態の重ね合わせ装置の構成図で
ある。

【図２】本発明の実施形態の位置合わせ方法の原理図で
ある。

【図３】図２に示した方法により位置合わせした後に重
ね合わせた上基板と下基板との断面図および平面図であ
る。

【図４】上基板及び下基板と擬製した空セルを回転させ
る手段の構成図である。

【図５】従来のアライメントマークを備えた下基板及び
アライメントマークを備えた上基板の断面図及び平面図
である。

【符号の説明】

１０１ 下基板 １０２ 上基板 １０３ 下基板のアライメントマーク １０４ 上基板のアライメントマーク １０５ 下基板のアライメントマークを平面的の表示し
た画像 １０６ 角度θだけ傾いた光軸を有する光学系で観察し
た際の上基板のアライメントマークの平面画像 ４０１ 下定盤 ４０２ アライメントステージ ４０３ 上定盤 ４０４ 筐体 ４０５ 光学系 ４０６ 対物レンズ ４０７ 鏡筒 ４０８ 撮像素子 ４０９ 可動ステージ ４１０ 画像処理装置 ４１１ サーボ手段

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 第１の基体に備えられた第１のアライメ
   ントマークと第２の基体に備えられた第２のアライメン
   トマークとを観測する光学系及び、観測した結果に基づ
   いて前記第１及び第２のアライメントマーク間のずれを
   なくすように前記第１の基体と前記第２の基体とを相対
   移動する手段を有する位置合わせ装置において、 前記光学系の光軸と前記第１及び第２の基体との傾きに
   より生じる前記第１及び第２のアライメントマークのず
   れ量を測定する手段を備え、 測定した前記ずれ量を考慮して前記第１の基体と前記第
   ２の基体とを相対移動することを特徴とする位置合わせ
   装置。
2. 【請求項２】 前記第１及び第２の基体を重ねて前記光
   学系によって前記第１及び第２のアライメントマークを
   観測して、該第１及び第２のアライメントマークの第１
   のずれ量を測定し、 前記第１及び第２の基体を、前記第１又は第２のアライ
   メントマークを軸に回転させた後に、前記光学系によっ
   て前記第１及び第２のアライメントマークを観測して、
   該第１及び第２のアライメントマークの第２のずれ量を
   測定し、 前記第１のずれ量と前記第２のずれ量とに基づいて、前
   記光学系の光軸と前記第１及び第２の基体との傾きによ
   り生じるずれ量を測定することを特徴とする請求項１に
   記載の位置合わせ装置。
3. 【請求項３】 前記第１及び第２の基体の回転角度を、
   １８０°とすることを特徴とする請求項２に記載の位置
   合わせ装置。
4. 【請求項４】 前記光学系の光軸と前記第１及び第２の
   基体との傾きにより生じるずれ量（Ｘoffset、Ｙoffse
   t）は、 前記第１の基体と前記第２の基体との距離をｄ、前記第
   １のずれ量を（Ｘstd、Ｙstd ）、前記第２のずれ量を
   （Ｘ180 、Ｙ180 ）とすると、 Ｘoffset＝（Ｘstd ＋Ｘ180 ）／ｄ Ｙoffset＝（Ｙstd ＋Ｙ180 ）／ｄ であることを特徴とする請求項３に記載の位置合わせ装
   置。
5. 【請求項５】 前記第１の基体はアクティブマトリック
   ス素子を搭載した基体であり、前記第２の基体はマイク
   ロレンズを搭載した基体であることを特徴とする請求項
   １〜４のいずれか１項に記載の位置合わせ装置。
6. 【請求項６】 前記第２の基体は、ガラス又は透明樹脂
   からなることを特徴とする請求項５に記載の位置合わせ
   装置。
7. 【請求項７】 前記第１の基体と前記第２の基体との距
   離ｄは、前記光学系のオートフォーカス機構の変位量に
   より測定することを特徴とする請求項４に記載の位置合
   わせ装置。
8. 【請求項８】 第１の基体に備えられた第１のアライメ
   ントマークと第２の基体に備えられた第２のアライメン
   トマークとを光学系により観測し、前記観測した結果に
   基づいて前記第１及び第２のアライメントマーク間のず
   れをなくすように前記第１の基体と前記第２の基体とを
   相対移動することにより前記第１の基体と前記第２の基
   体との位置合わせをする位置合わせ方法において、 前記光学系の光軸と前記第１及び第２の基体との傾きに
   より生じる前記第１及び第２のアライメントマーク間の
   ずれ量を測定し、 測定した前記ずれ量を考慮して前記第１の基体と第２の
   基体とを相対移動することを特徴とする位置合わせ方
   法。
9. 【請求項９】 第１のアライメントマークを備えた第１
   の基体及び第２のアライメントマークを備えた第２の基
   体を固定するそれぞれの定盤と、前記第１のアライメン
   トマークと前記第２のアライメントマークとを観測する
   光学系と、観測した結果に基づいて前記第１及び第２の
   アライメントマーク間のずれをなくすように前記第１の
   基体と前記第２の基体とを相対移動する手段と、前記移
   動後に前記第１の基体と前記第２の基体とを重ね合わせ
   する手段とを備えた重ね合わせ装置において、 前記光学系の光軸と前記第１及び第２の基体との傾きに
   より生じる前記第１及び第２のアライメントマークのず
   れ量を測定する手段を備え、 測定した前記ずれ量を考慮して前記第１の基体と前記第
   ２の基体とを相対移動した後に、前記第１の基体と前記
   第２の基体とを重ね合わせることを特徴とする重ね合わ
   せ装置。
10. 【請求項１０】 前記光学系は前記いずれかの定盤の媒
    質に対して補正された対物レンズを備えていることを特
    徴とする請求項９に記載の重ね合わせ装置。