JP2016225427A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板処理装置1では、複数のチャック312および複数の係合部313は、ベース支持部314よりも径方向外方に広がる保持ベース部311の上面に配置され、複数の係合部313は複数のチャック312よりも径方向外側に位置する。略円環状の下部突出部315は、保持ベース部311よりも下方においてベース支持部314から径方向外方に広がる。カップ部4では、ガード移動機構43が第1ガード41を受液位置と待避位置との間で上下方向に移動することにより、基板9からの処理液を受けるガードを第1ガード41と第2ガード42との間で切り替える。下部突出部315は、第1ガード41が待避位置に位置する状態では、第1ガード天蓋部412の内周縁へと向かう。これにより、第1ガード41と第2ガード42との間のガスの流れを抑制することができる。
【選択図】図6
Description
4 カップ部
5 トッププレート
9 基板
31,31a 基板保持部
33 基板回転機構
34 回転機構収容部
41 第1ガード
42 第2ガード
43 ガード移動機構
44 排出ポート
54 対向部材開口
72 処理液供給部
73 ガス供給部
91 (基板の)上面
310 保持部下方間隙
311,311a 保持ベース部
312 チャック
313 係合部
314 ベース支持部
315,315a 下部突出部
411 第1ガード側壁部
412 第1ガード天蓋部
421 第2ガード側壁部
422 第2ガード天蓋部
511 対向部材天蓋部
512 対向部材側壁部
J1 中心軸
S11〜S19 ステップ
Claims (5)
- 基板を処理する基板処理装置であって、
水平状態で基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部により保持されて前記基板の上面に対向するとともに中央部に対向部材開口が設けられる対向部材と、
前記基板保持部の下方に配置されて上下方向を向く中心軸を中心として前記基板および前記対向部材を前記基板保持部と共に回転させる基板回転機構と、
前記基板保持部の下方にて前記基板回転機構を収容する回転機構収容部と、
前記対向部材開口を介して前記基板の前記上面に処理液を供給する処理液供給部と、
前記基板保持部の周囲に配置されて前記基板からの処理液を受けるカップ部と、
を備え、
前記基板保持部は、
ベース支持部と、
前記ベース支持部により下方から支持されるとともに前記ベース支持部よりも径方向外方に広がる円板状の保持ベース部と、
前記保持ベース部の上面に配置されて前記基板を支持する複数のチャックと、
前記保持ベース部の前記上面において前記複数のチャックよりも径方向外側に配置されて前記対向部材を支持する対向部材支持部と、
を備え、
前記カップ部は、
円筒状の第1ガード側壁部および前記第1ガード側壁部の上端部から径方向内方に広がる円環板状の第1ガード天蓋部を有する第1ガードと、
前記第1ガード側壁部よりも径方向外側に位置する円筒状の第2ガード側壁部および前記第1ガード天蓋部よりも上方にて前記第2ガード側壁部の上端部から径方向内方に広がる円環板状の第2ガード天蓋部を有する第2ガードと、
前記第1ガードを前記基板からの処理液を受ける受液位置と前記受液位置よりも下方の待避位置との間で前記上下方向に移動することにより、前記基板からの処理液を受けるガードを前記第1ガードと前記第2ガードとの間で切り替えるガード移動機構と、
前記第1ガード内および前記第2ガード内のガスが排出される排出ポートと、
を備え、
前記第1ガード天蓋部の内径および前記第2ガード天蓋部の内径は、前記保持ベース部の外径および前記対向部材の外径よりも大きく、
前記保持ベース部よりも下方において前記ベース支持部または前記回転機構収容部から径方向外方に広がり、前記第1ガードが前記待避位置に位置する状態では前記第1ガード天蓋部の内周縁へと向かう円環状の下部突出部が設けられることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記基板保持部の前記ベース支持部と前記回転機構収容部との間の空間にパージガスを供給し、中央部から径方向外方へと向かう気流を形成するパージガス供給部をさらに備え、
前記下部突出部が前記ベース支持部に設けられることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置であって、
前記対向部材の外径が、前記保持ベース部の外径よりも大きく、
前記下部突出部の外径が、前記保持ベース部の外径よりも大きく、かつ、前記対向部材の外径以下であることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1ないし3のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記対向部材は、
前記基板の前記上面に対向するとともに中央部に前記対向部材開口が設けられる円環板状の対向部材天蓋部と、
前記対向部材天蓋部の外周部から下方に広がる円筒状の対向部材側壁部と、
を備え、
前記対向部材側壁部の下端は、前記保持ベース部の前記上面よりも下方、または、前記保持ベース部の前記上面と前記上下方向に関して同じ位置に位置することを特徴とする基板処理装置。 - 基板を処理する基板処理装置であって、
水平状態で基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部に保持されて前記基板の上面に対向するとともに中央部に対向部材開口が設けられる対向部材と、
前記基板保持部の下方に配置されて上下方向を向く中心軸を中心として前記基板を前記基板保持部と共に回転させる基板回転機構と、
前記対向部材開口を介して前記基板の前記上面に処理液を供給する処理液供給部と、
前記基板保持部の周囲に配置されて前記基板からの処理液を受けるカップ部と、
を備え、
前記基板保持部は、
保持ベース部と、
前記保持ベース部の上面に配置されて前記基板を支持する複数のチャックと、
前記保持ベース部の前記上面において前記複数のチャックよりも径方向外側に配置されて前記対向部材を支持する対向部材支持部と、
を備え、
前記カップ部は、
円筒状の第1ガード側壁部および前記第1ガード側壁部の上端部から径方向内方に広がる円環板状の第1ガード天蓋部を有する第1ガードと、
前記第1ガード側壁部よりも径方向外側に位置する円筒状の第2ガード側壁部および前記第1ガード天蓋部よりも上方にて前記第2ガード側壁部の上端部から径方向内方に広がる円環板状の第2ガード天蓋部を有する第2ガードと、
前記第1ガードを前記基板からの処理液を受ける受液位置と前記受液位置よりも下方の待避位置との間で前記上下方向に移動することにより、前記基板からの処理液を受けるガードを前記第1ガードと前記第2ガードとの間で切り替えるガード移動機構と、
前記第1ガード内および前記第2ガード内のガスが排出される排出ポートと、
を備え、
前記対向部材は、
前記基板の前記上面に対向するとともに中央部に前記対向部材開口が設けられる円環板状の対向部材天蓋部と、
前記対向部材天蓋部の外周部から下方に広がる円筒状の対向部材側壁部と、
を備え、
前記第1ガード天蓋部の内径および前記第2ガード天蓋部の内径は、前記保持ベース部の外径および前記対向部材の外径よりも大きく、
前記対向部材側壁部の下端は、前記保持ベース部の前記上面よりも下方、または、前記保持ベース部の前記上面と前記上下方向に関して同じ位置に位置し、
前記第1ガードが前記待避位置に位置する状態では、前記第1ガード天蓋部の内周縁が、前記保持ベース部の外側面と径方向に対向することを特徴とする基板処理装置。
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