JP2016221668A - 処理対象物を保持するためのテーブルおよび該テーブルを有する処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
かかる湿式基板処理装置は、基板を保持するためのテーブルと、前記テーブルに保持される基板に処理液を供給するための処理液供給機構と、を有する。前記テーブルは、基板を支持するための支持面と、前記支持面に形成される第1開口部と、前記支持面に形成され、前記第1開口部を少なくとも部分的に囲むように配置される第2開口部と、前記テーブルを通じて前記支持面の前記第1開口部まで延び、真空源に接続可能に構成される第1流体通路と、前記テーブルを通じて前記支持面の前記第2開口部まで延び、前記第2開口部を大気開放するように構成される第2流体通路と、を有する。
、前記第1開口部を少なくとも部分的に囲むように配置される第2開口部と、前記テーブルを通じて前記支持面の前記第1開口部まで延び、流体供給源に接続可能に構成される第1流体通路と、前記テーブルを通じて前記支持面の前記第2開口部まで延び、真空源に接続可能に構成される第2流体通路と、を有する。
ずにバフテーブル400に直接的にウェハWfが吸着される場合、バフテーブルの表面がウェハWfを支持する「支持面」となる。以下、単に「支持面」または「バフテーブルの支持面」という場合、この両者の場合を含むものとする。
ることができる開閉弁718が設けられる。分岐薬液配管722aには、分岐薬液配管722aを開閉することができる開閉弁728が設けられる。スラリー配管732には、スラリー配管732を開閉することができる開閉弁736が設けられる。
制御装置を用いて開閉弁750、752、754、756の開閉を制御することにより、任意のタイミングでバフテーブル400の第1流体通路410を通じて支持面402に純水、薬液、および窒素ガスを供給でき、また任意のタイミングで第1流体通路410を真空引きすることができる。
fの裏面との間の隙間を通って第1開口部404および第1流体通路410に吸い込まれることを抑制できる。言い換えると、第2流体通路420は、第2開口部424を大気開放する大気開放経路としての役割を持つ。第2開口部424とは逆側に位置する第2流体通路420の端部は、バフテーブル400の外に開放されており、第2開口部424とは逆側に位置する第2流体通路420の端部は大気開放口と称することもできる。
ができる。
402…支持面
404…第1開口部
406…拡張縁部
410…第1流体通路
420…第2流体通路
424…第2開口部
450…バッキング材
452…貫通孔
502…研磨パッド
714…純水供給源
724…薬液供給源
744…窒素源
746…真空源
Wf…ウェハ
Claims (17)
- 基板を処理するための湿式基板処理装置であって、
基板を保持するためのテーブルと、
前記テーブルに保持される基板に処理液を供給するための処理液供給機構と、を有し、
前記テーブルは、
基板を支持するための支持面と、
前記支持面に形成される第1開口部と、
前記支持面に形成され、前記第1開口部を少なくとも部分的に囲むように配置される第2開口部と、
前記テーブルを通じて前記支持面の前記第1開口部まで延び、真空源に接続可能に構成される第1流体通路と、
前記テーブルを通じて前記支持面の前記第2開口部まで延び、前記第2開口部を大気開放するように構成される第2流体通路と、を有する、
湿式基板処理装置。 - 請求項1に記載の湿式基板処理装置であって、前記第2流体通路は前記テーブルの少なくとも一部を貫通するように延びる、湿式基板処理装置。
- 請求項2に記載の湿式基板処理装置であって、前記テーブルは、前記テーブルの表面が拡張する方向に延びる拡張縁部を有し、前記第2開口部は前記拡張縁部に位置し、前記第・BR>Q流体通路は前記拡張縁部を貫通して延びる、湿式基板処理装置。
- 請求項1乃至3のいずれか一項に記載の湿式基板処理装置であって、前記第1流体通路は、前記第1流体通路を通って前記第1開口部から流体を供給するための流体供給源に接続可能に構成される、湿式基板処理装置。
- 請求項4に記載の湿式基板処理装置であって、前記流体は、空気、窒素、および水からなるグループの少なくとも1つを有する、湿式基板処理装置。
- 請求項1乃至5のいずれか一項に記載の湿式基板処理装置であって、前記テーブルは回転可能に構成される、湿式基板処理装置。
- 請求項1乃至6のいずれか一項に記載の湿式基板処理装置であって、
前記基板を研磨処理するための研磨パッドを有する、
湿式基板処理装置。 - 基板を処理するための湿式基板処理装置であって、
基板を保持するためのテーブルと、
前記テーブルに保持される基板に処理液を供給するための処理液供給機構と、を有し、
前記テーブルは、
基板を支持するための支持面と、
前記支持面に形成される第1開口部と、
前記支持面に形成され、前記第1開口部を少なくとも部分的に囲むように配置される第2開口部と、
前記テーブルを通じて前記支持面の前記第1開口部まで延び、真空源に接続可能に構成される第1流体通路と、
前記テーブルを通じて前記支持面の前記第2開口部まで延び、流体供給源に接続可能に構成される第2流体通路と、を有する、
湿式基板処理装置。 - 請求項8に記載の湿式基板処理装置であって、前記流体は、空気、窒素、および水からなるグループの少なくとも1つを有する、湿式基板処理装置。
- 請求項1乃至9のいずれか一項に記載の湿式基板処理装置であって、前記テーブルは回転可能に構成される、湿式基板処理装置。
- 請求項8乃至10のいずれか一項に記載の湿式基板処理装置であって、
基板を研磨処理するための研磨パッドを有する、
湿式基板処理装置。 - 基板を処理するための湿式基板処理装置であって、
基板を保持するためのテーブルと、
前記テーブルに保持される基板に処理液を供給するための処理液供給機構とを有し、
前記テーブルは、
基板を支持するための支持面と、
前記支持面に形成される第1開口部と、
前記支持面に形成され、前記第1開口部を少なくとも部分的に囲むように配置される第2開口部と、
前記テーブルを通じて前記支持面の前記第1開口部まで延び、流体供給源に接続可能に構成される第1流体通路と、
前記テーブルを通じて前記支持面の前記第2開口部まで延び、真空源に接続可能に構成される第2流体通路と、を有する、
湿式基板処理装置。 - 請求項12に記載の湿式基板処理装置であって、前記流体は、空気、窒素、および水からなるグループの少なくとも1つを有する、湿式基板処理装置。
- 請求項12または13に記載の湿式基板処理装置であって、第1流体通路は真空源に接続可能に構成される、湿式基板処理装置。
- 請求項12乃至14のいずれか一項に記載の湿式基板処理装置であって、前記テーブルは回転可能に構成される、湿式基板処理装置。
- 請求項12乃至15のいずれか一項に記載の湿式基板処理装置であって、
基板を研磨処理するための研磨パッドを有する、
湿式基板処理装置。 - 基板を保持するためのテーブルに配置可能なバッキング材であって、
前記バッキング材は、請求項1乃至16のいずれか一項に記載の湿式基板処理装置のテーブルに配置されたときに、前記テーブルの前記第1開口部および前記第2開口部の位置に対応する位置に貫通孔を有する、バッキング材。
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