JP2016185544A - 真空洗浄装置および真空洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
Description
まず、真空洗浄装置1を稼働させる。そのために、開閉バルブ20および切換バルブV1〜V3を閉弁するとともに、切換バルブV4を開弁して真空ポンプ10を駆動する。これにより、凝縮室21を真空引きして、この凝縮室21の内部を10kPa以下に減圧する。そして、温度保持装置22を駆動して、減圧状態にある凝縮室21を、洗浄室2よりも低い温度、より詳細には、使用する石油系溶剤の凝縮点以下の温度(5℃〜50℃、より好ましくは15℃〜約25℃)に保持する。
真空洗浄装置1によってワークWの洗浄を行う際には、まず、開閉扉4を開放し、開口3aから洗浄室2にワークWを搬入して載置部5に載置する。このとき、開閉バルブ20は閉弁したままであり、凝縮室21が減圧状態に維持されている。そして、ワークWの搬入が完了したら、開閉扉4を閉じて洗浄室2を密閉状態にする。このとき、ワークWの温度は、常温(15〜40℃程度)となっている。
次に、真空ポンプ10を駆動して、真空引きにより洗浄室2を凝縮室21と同じ10kPa以下に減圧する。
次に、切換バルブV1を開弁して、蒸気発生室8によって生成された蒸気を洗浄室2に供給する。このとき、蒸気の温度は、70〜150℃(より好ましくは115〜125℃)に制御されており、高温の蒸気が洗浄室2に充満する。
上記ステップS400の蒸気洗浄工程が終了すると、次に、洗浄の際にワークWに付着した石油系溶剤を乾燥させる乾燥工程が行われる。この乾燥工程は、開閉バルブ20を開弁して、洗浄室2と凝縮室21とを連通させることによって行われる。具体的には、乾燥工程の開始時には、洗浄室2の温度が蒸気の温度である70〜150℃となっているが、凝縮室21の温度は、温度保持装置22によって5〜50℃(より好ましくは15〜25℃)に維持されている。
上記のように、洗浄室2およびワークWの乾燥が完了したら、開閉バルブ20を閉弁して、洗浄室2と凝縮室21とを遮断する。そして、切換バルブV3を開弁して洗浄室2を大気開放し、洗浄室2が大気圧まで復圧したときに、開閉扉4を開放して開口3aからワークWを搬出する。こうして、ワークWに対する全工程が、終了する。このとき、凝縮室21は、所望の圧力に維持されていることから、以後は、上記ステップS200〜ステップS600を繰り返すことで、次々とワークWを洗浄することができる。
まず、真空洗浄装置51を稼働するにあたり、切換バルブV1〜V4を閉弁するとともに、開閉扉4を閉じて真空容器52内を外部から遮断する。そして、中間扉54を開放するとともに開閉バルブ20を開弁し、浸漬室53および凝縮室21を洗浄室2に連通させる。次に、切換バルブV2を開弁して真空ポンプ10を駆動し、洗浄室2、浸漬室53および凝縮室21を真空引きにより10kPa以下に減圧する。このようにして、洗浄室2、浸漬室53および凝縮室21を所望の圧力まで減圧したら、中間扉54を閉じるとともに開閉バルブ20を閉弁して、浸漬室53および凝縮室21を洗浄室2から遮断する。
蒸気洗浄工程が終了すると、載置部5が降下して、浸漬室53に貯留された石油系溶剤にワークWが浸漬される。このとき、不図示の昇降装置によってワークWが鉛直方向の昇降を複数回繰り返し、蒸気洗浄工程で洗浄しきれなかったワークWの細部に付着した油脂類等が洗浄される。このようにしてワークWの洗浄が完了したら、載置部5を上昇させてワークWを洗浄室2に搬送し、中間扉54を閉じて洗浄室2と浸漬室53とを遮断する。
2 洗浄室
8 蒸気発生室
8a ヒータ
10 真空ポンプ
20 開閉バルブ
21 凝縮室
22 温度保持装置
23 リターン配管
24 リザーバタンク
53 浸漬室
53a ヒータ
W ワーク
Claims (4)
- 石油系溶剤の蒸気を生成する蒸気生成手段と、
前記蒸気生成手段から供給される蒸気によって減圧下でワークを洗浄可能な洗浄室と、
前記洗浄室に隣接し、減圧状態に保持される凝縮室と、
前記凝縮室を前記洗浄室よりも低い温度に保持する温度保持手段と、
前記凝縮室と前記洗浄室とを連通させ、または、その連通を遮断する開閉バルブと、を備え、
前記ワークの洗浄後に前記凝縮室を減圧することなく、前記開閉バルブによって前記凝縮室と前記洗浄室とを連通させることによって洗浄後の前記ワークを乾燥させることを特徴とする真空洗浄装置。 - 石油系溶剤の蒸気を生成する蒸気生成手段と、
前記蒸気生成手段から供給される蒸気によって減圧下でワークを洗浄可能な洗浄室と、
前記洗浄室に隣接し、減圧状態に保持される凝縮室と、
前記凝縮室を前記洗浄室よりも低い温度に保持する温度保持手段と、
前記凝縮室と前記洗浄室とを連通させ、または、その連通を遮断する開閉バルブと、を備え、
洗浄後の前記ワークの乾燥に真空ポンプを寄与させることなく、前記開閉バルブによって前記凝縮室と前記洗浄室とを連通させることによって洗浄後の前記ワークを乾燥させることを特徴とする真空洗浄装置。 - ワークが搬入された洗浄室および当該洗浄室に隣接した凝縮室を減圧する工程と、
石油系溶剤の蒸気を生成し、当該蒸気を減圧下にある前記洗浄室に供給して前記ワークを洗浄する工程と、
減圧下にある前記凝縮室を前記洗浄室よりも低い温度に保持する工程と、
前記ワークの洗浄後に前記凝縮室を減圧することなく、開閉バルブを開弁して前記洗浄室と前記凝縮室とを連通させることによって洗浄後の前記ワークを乾燥させる工程と
を含む真空洗浄方法。 - ワークが搬入された洗浄室および当該洗浄室に隣接した凝縮室を減圧する工程と、
石油系溶剤の蒸気を生成し、当該蒸気を減圧下にある前記洗浄室に供給して前記ワークを洗浄する工程と、
減圧下にある前記凝縮室を前記洗浄室よりも低い温度に保持する工程と、
洗浄後の前記ワークの乾燥に真空ポンプを寄与させることなく、開閉バルブを開弁して前記洗浄室と前記凝縮室とを連通させることによって洗浄後の前記ワークを乾燥させる工程と
を含む真空洗浄方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011257625 | 2011-11-25 | ||
JP2011257625 | 2011-11-25 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015022618A Division JP5976858B2 (ja) | 2011-11-25 | 2015-02-06 | 真空洗浄装置および真空洗浄方法 |
Related Child Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016146784A Division JP6043888B2 (ja) | 2011-11-25 | 2016-07-26 | 真空洗浄装置および真空洗浄方法 |
JP2017187515A Division JP6783209B2 (ja) | 2011-11-25 | 2017-09-28 | 真空洗浄装置および真空洗浄方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016185544A true JP2016185544A (ja) | 2016-10-27 |
JP6220018B2 JP6220018B2 (ja) | 2017-10-25 |
Family
ID=47935768
Family Applications (8)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013545937A Active JP5695762B2 (ja) | 2011-11-25 | 2012-11-20 | 真空洗浄装置および真空洗浄方法 |
JP2014118204A Active JP5707527B2 (ja) | 2011-11-25 | 2014-06-06 | 真空洗浄装置および真空洗浄方法 |
JP2015022618A Active JP5976858B2 (ja) | 2011-11-25 | 2015-02-06 | 真空洗浄装置および真空洗浄方法 |
JP2016142767A Active JP6220018B2 (ja) | 2011-11-25 | 2016-07-20 | 真空洗浄装置および真空洗浄方法 |
JP2016146784A Active JP6043888B2 (ja) | 2011-11-25 | 2016-07-26 | 真空洗浄装置および真空洗浄方法 |
JP2017187515A Active JP6783209B2 (ja) | 2011-11-25 | 2017-09-28 | 真空洗浄装置および真空洗浄方法 |
JP2019197928A Active JP6921163B2 (ja) | 2011-11-25 | 2019-10-30 | 真空洗浄装置および真空洗浄方法 |
JP2021121434A Pending JP2021183331A (ja) | 2011-11-25 | 2021-07-26 | 真空洗浄装置および真空洗浄方法 |
Family Applications Before (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013545937A Active JP5695762B2 (ja) | 2011-11-25 | 2012-11-20 | 真空洗浄装置および真空洗浄方法 |
JP2014118204A Active JP5707527B2 (ja) | 2011-11-25 | 2014-06-06 | 真空洗浄装置および真空洗浄方法 |
JP2015022618A Active JP5976858B2 (ja) | 2011-11-25 | 2015-02-06 | 真空洗浄装置および真空洗浄方法 |
Family Applications After (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016146784A Active JP6043888B2 (ja) | 2011-11-25 | 2016-07-26 | 真空洗浄装置および真空洗浄方法 |
JP2017187515A Active JP6783209B2 (ja) | 2011-11-25 | 2017-09-28 | 真空洗浄装置および真空洗浄方法 |
JP2019197928A Active JP6921163B2 (ja) | 2011-11-25 | 2019-10-30 | 真空洗浄装置および真空洗浄方法 |
JP2021121434A Pending JP2021183331A (ja) | 2011-11-25 | 2021-07-26 | 真空洗浄装置および真空洗浄方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9555450B2 (ja) |
EP (1) | EP2783762B1 (ja) |
JP (8) | JP5695762B2 (ja) |
CN (2) | CN202823972U (ja) |
TW (1) | TWI565535B (ja) |
WO (1) | WO2013077336A1 (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN202823972U (zh) | 2011-11-25 | 2013-03-27 | 株式会社Ihi | 真空清洗装置 |
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JP2017000996A (ja) * | 2015-06-15 | 2017-01-05 | 株式会社Ihi | 凝縮器及び洗浄装置 |
JP6014630B2 (ja) * | 2014-06-30 | 2016-10-25 | 株式会社Ihi | 洗浄装置 |
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-
2012
- 2012-07-05 CN CN2012203228834U patent/CN202823972U/zh not_active Expired - Lifetime
- 2012-07-05 CN CN201210231005.6A patent/CN103128074B/zh active Active
- 2012-11-20 WO PCT/JP2012/080105 patent/WO2013077336A1/ja active Application Filing
- 2012-11-20 JP JP2013545937A patent/JP5695762B2/ja active Active
- 2012-11-20 EP EP12850922.1A patent/EP2783762B1/en active Active
- 2012-11-22 TW TW101143622A patent/TWI565535B/zh active
-
2014
- 2014-05-12 US US14/274,883 patent/US9555450B2/en active Active
- 2014-06-06 JP JP2014118204A patent/JP5707527B2/ja active Active
-
2015
- 2015-02-06 JP JP2015022618A patent/JP5976858B2/ja active Active
-
2016
- 2016-07-20 JP JP2016142767A patent/JP6220018B2/ja active Active
- 2016-07-26 JP JP2016146784A patent/JP6043888B2/ja active Active
-
2017
- 2017-09-28 JP JP2017187515A patent/JP6783209B2/ja active Active
-
2019
- 2019-10-30 JP JP2019197928A patent/JP6921163B2/ja active Active
-
2021
- 2021-07-26 JP JP2021121434A patent/JP2021183331A/ja active Pending
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2783762B1 (en) | 2021-04-07 |
JP6783209B2 (ja) | 2020-11-11 |
JP6043888B2 (ja) | 2016-12-14 |
JP6220018B2 (ja) | 2017-10-25 |
JP6921163B2 (ja) | 2021-08-18 |
JP2020073258A (ja) | 2020-05-14 |
JP2015096264A (ja) | 2015-05-21 |
CN202823972U (zh) | 2013-03-27 |
US9555450B2 (en) | 2017-01-31 |
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EP2783762A1 (en) | 2014-10-01 |
TW201328794A (zh) | 2013-07-16 |
JP2021183331A (ja) | 2021-12-02 |
JP5707527B2 (ja) | 2015-04-30 |
JP2014166637A (ja) | 2014-09-11 |
EP2783762A4 (en) | 2015-08-12 |
JP5695762B2 (ja) | 2015-04-08 |
JP2016193436A (ja) | 2016-11-17 |
TWI565535B (zh) | 2017-01-11 |
JP2018012106A (ja) | 2018-01-25 |
CN103128074B (zh) | 2016-06-22 |
JPWO2013077336A1 (ja) | 2015-04-27 |
CN103128074A (zh) | 2013-06-05 |
WO2013077336A1 (ja) | 2013-05-30 |
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