JPS63184335A - 洗浄装置 - Google Patents

洗浄装置

Info

Publication number
JPS63184335A
JPS63184335A JP1571687A JP1571687A JPS63184335A JP S63184335 A JPS63184335 A JP S63184335A JP 1571687 A JP1571687 A JP 1571687A JP 1571687 A JP1571687 A JP 1571687A JP S63184335 A JPS63184335 A JP S63184335A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tank
chemical
carrier
wash
drying
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1571687A
Other languages
English (en)
Inventor
Kiyomi Yamamura
山村 清見
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP1571687A priority Critical patent/JPS63184335A/ja
Publication of JPS63184335A publication Critical patent/JPS63184335A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は半導体装置の製造装置、特に薬液蒸気を用いて
半導体基板を洗浄・乾燥する洗浄装置の改良に関するも
のである。
[従来の技術] 第3図に従来の洗浄装置の縦断面図を示す。
従来、この種の洗浄装置は、薬液3を加熱し薬液蒸気を
発生させる薬液加熱用ヒータ2と、薬液蒸気を冷却水通
路4内の冷却水にて凝縮・液化させる凝縮機構5とが一
つの薬液槽1内に設置されており、前記薬液槽1の上部
に排気口6がある。
薬液槽1の排気口6は常時開放されており、凝縮機構5
によって回収できなかった残留薬液蒸気は排気口6.排
気ダクト7により常に排気されている。
被洗浄物は凝縮機構5の下方でかつ薬液3に接触しない
位置Aで、薬液加熱用ヒータ2によって発生した薬液蒸
気で洗浄された後、上方へ移動する。被洗浄物表面に残
った薬液は凝縮機構5で生成される薬液蒸気濃縮域のあ
る位置Bで完全に凝縮・液化され、被洗浄物表面をった
って下方に落下し、被洗浄物が乾燥する。乾燥か終了し
た被洗浄物は更に上方へ移動し、被洗浄物積載位置Cで
取り出される。
以上、一連の被洗浄物洗浄・乾燥の過程において、未回
収の薬液蒸気は全て排気口6に排気されている。
[発明が解決しようとする問題点] 上述した従来の洗浄装置では、洗浄部及び乾燥部が同一
槽内に設置されており、かつ、前記槽と槽上方にある排
気口との間に隔壁がないため、洗浄・乾燥時に相互に干
渉を受は易く、短時間で均一な洗浄・乾燥ができにくい
。又、処理・未処理時ともに薬液消費量が多いという欠
点がある。
本発明の目的は前記問題点を解消した洗浄装置を提供す
ることにある。
[発明の従来技術に対する相違点] 上述した従来の洗浄装置に対し、本発明は洗浄を行う薬
液槽と乾燥を行う凝縮槽とを有し、かつ、隔壁付被洗浄
物積載用キャリアを有することにより、洗浄・乾燥・積
載時の相互間の干渉を低減し、洗浄・乾燥の高効率化・
薬液消費量の低減化を行うという独創的内容を有する。
[問題点を解決するための手段] 本発明は薬液蒸気を用いて被洗浄物を洗浄・乾燥する洗
浄装置において、薬液蒸気により被洗浄物の洗浄を行う
薬液槽と、被洗浄物表面の薬液の乾燥を行う凝縮槽と、
被洗浄物積載用キャリアとを有し、薬液槽と凝縮槽とを
連通口にて接続するとともに、凝縮槽に排気口を連通口
と同軸上に開口し、薬液槽と凝縮槽との相互間にキャリ
アを連通口と排気口とを結ぶ線と同軸上でかつ連通口を
通して搬出入可能に設け、キャリアの前後端に連通口及
び排気口を閉塞する大きさの隔壁を設けたことを特徴と
する洗浄装置である。
[実施例] 以下、本発明の実施例を図により説明する。
(実施例1) 第1図は本発明に係る縦型洗浄装置の実施例を示すもの
である。第1図に示すように、本実施例は薬液蒸気によ
り被洗浄物の洗浄を行う薬液槽1と、被洗浄物表面の薬
液の乾燥を行う凝縮槽8とを上下二段に配設し、その相
互間を連通口14にて接続し、凝縮槽8の上部に排気口
6を連通口14と同軸上に開口する。ざらに薬液槽1と
凝縮槽8との相互間に被洗浄物積載用キャリア9を連通
口14と排気口6とを結ぶ線と同軸上でかつ連通口14
を介して搬出入可能に設け、キャリア9の前後端に連通
口14及び排気口6を閉塞する大きさの隔壁10゜11
を設けたものである。7は排気ダクトである。
また薬液槽1内には薬液3を加熱する薬液加熱用ヒータ
2を設置し、一方凝縮槽8には冷却水通路4を設置する
。薬液槽1はその底部に薬液加熱用ヒータ2を有し、こ
のヒータ2を用いて槽内下部に貯液されている薬液3を
加熱することによって薬液の蒸気を発生させ、被洗浄物
の洗浄を行う。
このとき隔壁付被洗浄物積載用キャリア(以下キャリア
と称す)9及び被洗浄物はAの位置にあり、従って、上
部隔壁10によって連通口14が閉塞され、薬液槽1は
凝縮槽8と隔離されているため、薬液蒸気の漏れもなく
、効率的な洗浄が行われる。
薬液槽1の上方には、その内壁に沿って数本の冷却水通
路4を有する凝縮槽8があり、これによって被洗浄物表
面に残った薬液を下方に落下させ被洗浄物を乾燥させる
と共に、余分に発生した薬液蒸気を凝縮・液化し、薬液
槽1内に回収する。Aの位置で洗浄を終えた被洗浄物及
びキャリア9は、次に、凝縮槽8内Bの位置で乾燥を行
う。このとき、キャリア9の下部隔壁11によって下方
の薬液槽1と隔離されているため、効率的な乾燥が行わ
れる。乾燥が終了した被洗浄物及びキャリア9は更に上
方へ移動し、Cの位置で被洗浄物が取り出される。この
とき、キャリア9の下部隔壁11によって排気口6が閉
塞され下方の薬液槽1及び凝縮槽8と隔離されているた
め、残留薬液蒸気が排気されることもなく、従って、未
処理時においても薬液消費量が減少する。
例えば、薬液としてイソプロピルアルコール(沸点:8
2.7℃)、トリクロルエチレン(沸点=87℃)等を
用い、凝縮槽8の冷却水通路4に流す冷却水温度を10
〜15°Cとした場合、本発明の構造により、処理時で
60〜70%、未処理時で20〜30%に薬液消費量が
減少し、かつ、洗浄時間及び乾燥時間が60〜80%に
短縮される。また、トリクロルエチレン等のように腐食
性の強い薬液、あるいは有毒な薬液を使用する場合、排
気ダクト7内の薬液蒸気濃度が低下するために、排気ダ
クトの腐食防止、中和処理に要する費用の大幅な削減等
の効果がある。
(実施例2) 第2図は本発明の実施例2の縦断面図である。
被洗浄物の洗浄・乾燥・積載の機能については実施例1
で説明したため、ここでの説明は省略する。
実施例2では、薬液槽1及び凝縮槽8が横方向に配置さ
れており、洗浄時には布部隔壁12が、乾燥時・積載時
には左部隔壁13がそれぞれの場合に他の槽との干渉を
防止することで実施例1と同様の動画を得る。
[発明の効果] 以上説明したように本発明は洗浄・乾燥・積載時の相互
間の干渉を低減することにより、洗浄・乾燥時間を短縮
でき、かつ、処理・未処理時の薬液消費量を減少できる
効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例1の縦断面図、第2図は本発明
の実施例2の縦断面図、第3図は従来の洗浄装置の縦断
面図である。 1・・・薬液槽      2・・・薬液加熱用ヒータ
3・・・薬液       4・・・冷却水通路5・・
・凝縮機構     6・・・排気ロア・・・排気ダク
ト    8・・・凝縮槽9・・・被洗浄物積載用キャ
リア 10・・・上部隔壁     11・・・下部隔壁12
・・・右部隔壁     13・・・左部隔壁14・・
・連通口

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)薬液蒸気を用いて被洗浄物を洗浄・乾燥する洗浄
    装置において、薬液蒸気により被洗浄物の洗浄を行う薬
    液槽と、被洗浄物表面の薬液の乾燥を行う凝縮槽と、被
    洗浄物積載用キャリアとを有し、薬液槽と凝縮槽とを連
    通口にて接続するとともに、凝縮槽に排気口を連通口と
    同軸上に開口し、薬液槽と凝縮槽との相互間にキャリア
    を連通口と排気口とを結ぶ線と同軸上でかつ連通口を通
    して搬出入可能に設け、キャリアの前後端に連通口及び
    排気口を閉塞する大きさの隔壁を設けたことを特徴とす
    る洗浄装置。
JP1571687A 1987-01-26 1987-01-26 洗浄装置 Pending JPS63184335A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1571687A JPS63184335A (ja) 1987-01-26 1987-01-26 洗浄装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1571687A JPS63184335A (ja) 1987-01-26 1987-01-26 洗浄装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63184335A true JPS63184335A (ja) 1988-07-29

Family

ID=11896488

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1571687A Pending JPS63184335A (ja) 1987-01-26 1987-01-26 洗浄装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63184335A (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0379885U (ja) * 1989-11-29 1991-08-15
JPH03284842A (ja) * 1990-03-30 1991-12-16 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板用洗浄処理装置
WO2000031321A1 (fr) * 1998-11-26 2000-06-02 Japan Field Co., Ltd. Dispositif de nettoyage
KR100337153B1 (ko) * 2000-06-09 2002-05-18 이준호 납땜용 솔더볼의 세척장치
WO2012066699A1 (ja) * 2010-11-16 2012-05-24 ジャパン・フィールド株式会社 被洗浄物の洗浄装置
CN103128074A (zh) * 2011-11-25 2013-06-05 株式会社Ihi 真空清洗装置以及真空清洗方法
TWI495519B (zh) * 2012-06-08 2015-08-11 Japan Field Kk 被清洗物之蒸汽清洗方法及其裝置

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0379885U (ja) * 1989-11-29 1991-08-15
JPH03284842A (ja) * 1990-03-30 1991-12-16 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板用洗浄処理装置
WO2000031321A1 (fr) * 1998-11-26 2000-06-02 Japan Field Co., Ltd. Dispositif de nettoyage
KR100337153B1 (ko) * 2000-06-09 2002-05-18 이준호 납땜용 솔더볼의 세척장치
WO2012066699A1 (ja) * 2010-11-16 2012-05-24 ジャパン・フィールド株式会社 被洗浄物の洗浄装置
CN103128074A (zh) * 2011-11-25 2013-06-05 株式会社Ihi 真空清洗装置以及真空清洗方法
US9555450B2 (en) 2011-11-25 2017-01-31 Ihi Corporation Vacuum cleaning apparatus and vacuum cleaning method
TWI495519B (zh) * 2012-06-08 2015-08-11 Japan Field Kk 被清洗物之蒸汽清洗方法及其裝置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0677203A (ja) 乾燥処理装置
CN104617018A (zh) 一种基板处理装置及基板处理方法
JPS63184335A (ja) 洗浄装置
JPH073634Y2 (ja) ウェハ液洗乾燥装置
JP2002050600A (ja) 基板処理方法及び基板処理装置
KR100809592B1 (ko) 기판 처리 장치 및 방법
KR19980056811U (ko) 알콜 증기건조기
JPH06283497A (ja) 洗浄処理後の基板の乾燥処理装置
JP4541422B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JPH11315383A (ja) 基板のめっき装置
JP2978235B2 (ja) 黒染装置
GB824474A (en) Improvements in or relating to chemical cleaning process and an apparatus for carrying out the process
JP3009006B2 (ja) 半導体基板の乾燥装置
KR980011979A (ko) 웨이퍼 세정/건조 장치 및 방법
KR100697266B1 (ko) 이송 로봇의 척 세정장치
JPS6227264Y2 (ja)
JPS6336533A (ja) ウエツト洗浄処理方法
KR0170459B1 (ko) 웨이퍼 세정방법 및 그 장치
KR940008366B1 (ko) 웨이퍼 세정/건조방법 및 장비
KR0129304Y1 (ko) 이소프로필 알콜 증기건조기
JPH0684872A (ja) クリーン洗浄装置
JP2004169053A (ja) プレス部品の洗浄方法およびそのプレス部品の洗浄装置
JPS5499358A (en) Washer
JPS6213592Y2 (ja)
KR100449273B1 (ko) 반도체 제조 장치 및 방법