JP2016169399A - 金属皮膜の成膜装置およびその成膜方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】成膜装置1Aは、陽極11と、陽極11と基材Bとの間に配置される固体電解質膜13と、陽極11と基材Bとの間に電圧を印加する電源部14と、を備える。成膜装置1Aには、陽極11と固体電解質膜13との間に、金属イオンを含む電解液Lが陽極11と固体電解質膜13とに接触するように電解液Lを収容する液収容部15aが形成されている。成膜装置1Aは、固体電解質膜13を基材Bに接触させた状態で、陽極11を振動させる振動部31を備える。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の第1実施形態に係る金属皮膜Fの成膜装置1Aの模式的概念図であり、図1(a)は、成膜装置1Aの成膜前の状態を説明するための模式的断面図であり、図1(b)は、成膜装置1Aの成膜時の状態を説明するための模式的断面図である。
図2は、本発明の第2実施形態に係る金属皮膜Fの成膜装置1Bの模式的概念図であり、図2(a)は、成膜装置1Bの成膜前状態を説明するための模式的断面図であり、図2(b)は、成膜装置1Bの成膜時の状態を説明するための模式的断面図である。本実施形態が、第1実施形態と相違する点は、液収容部15aに、液供給口15bと液排出口15cとを設けた点である。したがって、その他の共通する構成は、同じ符号を付して、詳細な説明を省略する。
図3は、本発明の第3実施形態に係る金属皮膜Fの成膜装置1Cの模式的概念図であり、図3(a)は、成膜装置1Cの成膜前の状態を説明するための模式的断面図であり、図3(b)は、成膜装置1Cの成膜時の状態を説明するための模式的断面図である。本実施形態が、第2実施形態と相違する点は、液収容部15aの液供給口15bと液排出口15cの位置と、陽極11の表面11aの位置、およびガス排出口18を新たに設けた点と、である。したがって、その他の共通する構成は、同じ符号を付して、詳細な説明を省略する。
図4は、本発明の第4実施形態に係る金属皮膜Fの成膜装置1Dの模式的概念図であり、図4(a)は、成膜装置1Dの成膜前の状態を説明するための模式的断面図であり、図4(b)は、成膜装置1Dの成膜時の状態を説明するための模式的断面図である。
図6は、本発明の第5実施形態に係る金属皮膜Fの成膜装置1Eの模式的概念図であり、図6(a)は、成膜装置1Eの成膜前の状態を説明するための模式的断面図であり、図6(b)は、成膜装置1Eの成膜時の状態を説明するための模式的断面図である。本実施形態が、第4実施形態と相違する点は、陽極11およびケーシング15の構造である。したがって、その他の共通する構成は、同じ符号を付して、詳細な説明を省略する。
図7は、本発明の第6実施形態に係る金属皮膜Fの成膜装置1Fの模式的概念図であり、図7(a)は、成膜装置1Fの成膜前の状態を説明するための模式的断面図であり、図7(b)は、成膜装置1Fの成膜時の状態を説明するための模式的断面図である。本実施形態が、第5実施形態と相違する点は、ケーシング15の構造と、液収容部15aに液供給口15bと液排出口15cを設けた点と、である。したがって、その他の共通する構成は、同じ符号を付して、詳細な説明を省略する。
表面に成膜する基材して、純アルミニウム基材(50mm×50mm×厚さ1mm)を準備し、この表面にニッケルめっき皮膜を形成し、さらにニッケルめっき皮膜の表面に、金めっき皮膜を形成し、これを純水で流水洗浄した。
実施例1と同じように銅皮膜を成膜した。実施例1と相違する点は、図7(a)に示す第6実施形態に係る成膜装置1Eを用いた点である。なお、陽極の貫通孔の孔面積3.14mm2のものを用いた。
実施例1と同じように銅皮膜を成膜した。実施例1と相違する点は、陽極に、銅陽極(可溶性陽極((株)ニラコ社製))を用いた点である。
実施例1と同じように銅皮膜を成膜した。実施例1と相違する点は、図2(a)に示す第2実施形態に係る成膜装置1Bを用いたが、振動部による振動を行わず成膜をした点である。
実施例1〜3および比較例1に係る銅皮膜の被覆率およびピンホールの有無を評価した。この結果を表1に示す。
表1から、比較例1の場合には、陽極の表面に酸素ガスが滞留したことにより、局所的に陽極と陰極(基材)との間の抵抗が上昇し、銅皮膜の被覆率が低下し、ピンホールが発生したものと考えられる。
Claims (12)
- 陽極と、前記陽極と陰極となる基材との間に配置される固体電解質膜と、前記陽極と前記基材との間に電圧を印加する電源部と、を少なくとも備え、前記固体電解質膜を上方から前記基材に接触させた状態で前記陽極と前記基材との間に電圧を印加して、前記固体電解質膜の内部に含有された金属イオンを還元することで金属皮膜を前記基材の表面に成膜する金属皮膜の成膜装置であって、
前記成膜装置には、前記陽極と前記固体電解質膜との間に、前記金属イオンを含む電解液が前記陽極と前記固体電解質膜とに接触するように前記電解液を収容する液収容部が形成されており、
前記成膜装置は、前記固体電解質膜を前記基材に接触させた状態で、少なくとも前記陽極を振動させる振動部を備えることを特徴とする金属皮膜の成膜装置。 - 前記液収容部には、前記液収容部の内部に前記電解液を供給する液供給口と、前記液収容部の内部から前記電解液を排出する液排出口と、が形成されており、
前記液供給口と前記液排出口とは、前記陽極と前記固体電解質膜との間に前記電解液が流れるように、形成されていることを特徴とする請求項1に記載の金属皮膜の成膜装置。 - 前記液排出口は、前記液供給口よりも高い位置に形成されていることを特徴とする請求項2に記載の金属皮膜の成膜装置。
- 前記陽極の表面のうち前記固体電解質膜に対向する表面は、前記液供給口から前記液排出口に向かって、水平面に対して上方に傾斜していることを特徴とする請求項3に記載の金属皮膜の成膜装置。
- 前記成膜装置には、前記液供給口と前記液排出口との間の前記液排出口の近傍において、前記液排出口よりも高い位置に、前記液収容部内のガスを排出するためのガス排出口が形成されていることを特徴とする請求項2〜4のいずれかに記載の金属皮膜の成膜装置。
- 前記陽極には、前記固体電解質膜に対向する表面を一方の表面とし、前記一方の表面と反対側の表面を他方の表面としたとき、前記一方の表面から前記他方の表面に亘って、複数の貫通孔が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の金属皮膜の成膜装置。
- 前記液収容部には、前記液収容部の内部に前記電解液を供給する液供給口と、供給された前記電解液を排出する液排出口と、が形成されており、
前記陽極の前記他方の表面側に、前記液排出口が形成されていることを特徴とする請求項6に記載の金属皮膜の成膜装置。 - 陽極と、陰極となる基材との間に固体電解質膜を配置し、前記固体電解質膜を上方から前記基材に接触させると共に、前記陽極と前記基材との間に電圧を印加して、前記固体電解質膜の内部に含有された金属イオンを還元することで金属皮膜を前記基材の表面に成膜する金属皮膜の成膜方法であって、
前記陽極と前記固体電解質膜との間において、前記金属イオンを含む電解液を前記陽極と前記固体電解質膜とに接触するように前記電解液を収容し、
前記固体電解質膜を前記基材に接触させた状態で、少なくとも前記陽極を振動させながら、前記金属皮膜の成膜を行うことを特徴とする金属皮膜の成膜方法。 - 前記電解液を前記陽極と前記固体電解質膜との間に流しながら、前記金属皮膜の成膜を行うことを特徴とする請求項8に記載の金属皮膜の成膜方法。
- 前記陽極と前記固体電解質膜との間を流れる前記電解液の流れの上流側から下流側に向かって、前記陽極の表面のうち前記固体電解質膜に対向する表面が水平面に対して上方に傾斜するように、前記陽極を配置した状態で、前記金属皮膜の成膜を行うことを特徴とする請求項9に記載の金属皮膜の成膜方法。
- 前記陽極として、前記固体電解質膜に対向する表面を一方の表面とし、前記一方の表面と反対側の表面を他方の表面としたとき、前記一方の表面から前記他方の表面に亘って、複数の貫通孔が形成されている陽極を用いることを特徴とする請求項8に記載の金属皮膜の成膜方法。
- 前記陽極の前記一方の表面から前記他方の表面に向かって、前記陽極と前記固体電解質膜との間の前記電解液を前記陽極の貫通孔に通過させながら、前記金属皮膜の成膜を行うことを特徴とする請求項11に記載の金属皮膜の成膜方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20200075735A (ko) | 2018-12-18 | 2020-06-26 | 도요타지도샤가부시키가이샤 | 성막 장치 및 그것을 사용한 금속막의 형성 방법 |
JP2020104383A (ja) * | 2018-12-27 | 2020-07-09 | トヨタ紡織株式会社 | 成形型の製造方法、成形型、乗物用内装材の製造方法 |
US11230781B1 (en) | 2020-07-29 | 2022-01-25 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Method for forming silver film |
US12006584B2 (en) | 2021-10-15 | 2024-06-11 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Film formation apparatus and film formation method for forming metal film |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6760166B2 (ja) * | 2017-03-23 | 2020-09-23 | トヨタ自動車株式会社 | ニッケル皮膜の形成方法及び当該方法に使用するためのニッケル溶液 |
US11142840B2 (en) * | 2018-10-31 | 2021-10-12 | Unison Industries, Llc | Electroforming system and method |
CA3141101C (en) | 2021-08-23 | 2023-10-17 | Unison Industries, Llc | Electroforming system and method |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03226600A (ja) * | 1990-01-31 | 1991-10-07 | Kawasaki Steel Corp | 金属材表面の電解処理方法及び装置 |
JP2003328190A (ja) * | 2002-05-14 | 2003-11-19 | Matsushita Electric Works Ltd | 陽極酸化方法、電気化学酸化方法、電界放射型電子源およびその製造方法 |
JP2004250747A (ja) * | 2003-02-20 | 2004-09-09 | Renesas Technology Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2004360028A (ja) * | 2003-06-05 | 2004-12-24 | Ebara Corp | めっき装置 |
JP2014051701A (ja) * | 2012-09-06 | 2014-03-20 | Toyota Motor Corp | 金属被膜の成膜装置および成膜方法 |
JP2014185371A (ja) * | 2013-03-25 | 2014-10-02 | Toyota Motor Corp | 金属被膜の成膜装置および成膜方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1739657A (en) * | 1928-01-16 | 1929-12-17 | Reuben B Shemitz | Electroplating device |
GB1257541A (ja) * | 1968-04-03 | 1971-12-22 | ||
US5644341A (en) * | 1993-07-14 | 1997-07-01 | Seiko Epson Corporation | Ink jet head drive apparatus and drive method, and a printer using these |
JP3462970B2 (ja) * | 1997-04-28 | 2003-11-05 | 三菱電機株式会社 | メッキ処理装置およびメッキ処理方法 |
US6416647B1 (en) | 1998-04-21 | 2002-07-09 | Applied Materials, Inc. | Electro-chemical deposition cell for face-up processing of single semiconductor substrates |
GB9812586D0 (en) * | 1998-06-12 | 1998-08-12 | Glacier Vandervell Ltd | Method and apparatus for electroplating |
JP2002121699A (ja) * | 2000-05-25 | 2002-04-26 | Nippon Techno Kk | めっき浴の振動流動とパルス状めっき電流との組み合わせを用いた電気めっき方法 |
US20040016648A1 (en) * | 2002-07-24 | 2004-01-29 | Applied Materials, Inc. | Tilted electrochemical plating cell with constant wafer immersion angle |
JP4212905B2 (ja) * | 2003-01-23 | 2009-01-21 | 株式会社荏原製作所 | めっき方法およびこれに使用するめっき装置 |
JP2004353061A (ja) * | 2003-05-30 | 2004-12-16 | Ebara Corp | 電解処理方法及び装置 |
US7998323B1 (en) * | 2006-06-07 | 2011-08-16 | Actus Potentia, Inc. | Apparatus for focused electric-field imprinting for micron and sub-micron patterns on wavy or planar surfaces |
JP5949696B2 (ja) | 2013-08-07 | 2016-07-13 | トヨタ自動車株式会社 | 金属皮膜の成膜装置および成膜方法 |
-
2015
- 2015-03-11 JP JP2015048021A patent/JP6222145B2/ja active Active
-
2016
- 2016-03-07 US US15/062,293 patent/US9752249B2/en active Active
- 2016-03-07 DE DE102016104030.4A patent/DE102016104030B4/de active Active
- 2016-03-09 CN CN201610132860.XA patent/CN105970258B/zh active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03226600A (ja) * | 1990-01-31 | 1991-10-07 | Kawasaki Steel Corp | 金属材表面の電解処理方法及び装置 |
JP2003328190A (ja) * | 2002-05-14 | 2003-11-19 | Matsushita Electric Works Ltd | 陽極酸化方法、電気化学酸化方法、電界放射型電子源およびその製造方法 |
JP2004250747A (ja) * | 2003-02-20 | 2004-09-09 | Renesas Technology Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2004360028A (ja) * | 2003-06-05 | 2004-12-24 | Ebara Corp | めっき装置 |
JP2014051701A (ja) * | 2012-09-06 | 2014-03-20 | Toyota Motor Corp | 金属被膜の成膜装置および成膜方法 |
JP2014185371A (ja) * | 2013-03-25 | 2014-10-02 | Toyota Motor Corp | 金属被膜の成膜装置および成膜方法 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20200075735A (ko) | 2018-12-18 | 2020-06-26 | 도요타지도샤가부시키가이샤 | 성막 장치 및 그것을 사용한 금속막의 형성 방법 |
EP3680367A2 (en) | 2018-12-18 | 2020-07-15 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Film forming device and method for forming metal film using the same |
JP2020104383A (ja) * | 2018-12-27 | 2020-07-09 | トヨタ紡織株式会社 | 成形型の製造方法、成形型、乗物用内装材の製造方法 |
JP7081480B2 (ja) | 2018-12-27 | 2022-06-07 | トヨタ紡織株式会社 | 成形型の製造方法、成形型、乗物用内装材の製造方法 |
US11230781B1 (en) | 2020-07-29 | 2022-01-25 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Method for forming silver film |
DE102021114445A1 (de) | 2020-07-29 | 2022-02-03 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Verfahren zur bildung eines silberfilms |
US12006584B2 (en) | 2021-10-15 | 2024-06-11 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Film formation apparatus and film formation method for forming metal film |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9752249B2 (en) | 2017-09-05 |
CN105970258A (zh) | 2016-09-28 |
DE102016104030B4 (de) | 2018-03-01 |
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