JP2016066044A5 - - Google Patents
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Description
実施の形態に係る接液処理装置は、光配向法によって形成された配向膜を有する基板を接液処理する接液処理装置であって、気泡を除去する手段を備え、前記基板に異方性向上液を供給して前記基板の表面上に液膜を形成する第1ノズルと、前記異方性向上液を前記基板に供給するノズルであって、前記第1ノズルとは別の、少なくとも一つの第2ノズルと、前記基板と、前記第1ノズルおよび第2ノズルとを相対的に移動させる搬送手段と、を有し、前記第2ノズルは、第1ノズルよりも基板搬送方向下流側に設置され、且つ、前記基板の表面上に前記第1ノズルによって形成された前記異方性向上液の液膜が存在する状態の前記基板に前記異方性向上液を供給することができる位置に設置されることを特徴とする。
実施の形態に係る接液処理装置は、光配向法によって形成された配向膜を有する基板を接液処理する接液処理装置であって、気泡を除去する手段を備え、前記基板に、エチルラクテート液、IPA、オゾン水のいずれかである異方性向上液を供給して前記基板の表面上に液膜を形成する第1ノズルと、前記第1ノズルによって前記基板の表面上に形成された前記異方性向上液の液膜を除去するべく前記基板の表面に気体を供給する液膜除去ノズルと、を備える第1の処理ユニットと、前記異方性向上液を前記基板に供給するシャワーノズルである、少なくとも1つの第2ノズルを備える第2の処理ユニットと、前記基板と前記第1の処理ユニットおよび第2の処理ユニットとを相対的に移動させる搬送手段と、を有し、前記第1の処理ユニットは、複数連続して設けられていることを特徴とする。
実施の形態に係る基板処理装置は、光配向法によって形成された配向膜を有する基板を処理する基板処理装置であって、気泡を除去する手段を備え、前記基板にエチルラクテート液、IPA、オゾン水のいずれかである異方性向上液を供給して前記基板の表面上に液膜を形成する第1ノズルと、前記異方性向上液を前記基板に供給するシャワーノズルであって、前記第1ノズルとは別の、少なくとも一つの第2ノズルと、を備える接液処理ユニットと、リンス液を供給するシャワーノズルを有し、前記リンス液を供給して、前記接液処理ユニットで前記基板上に形成された前記液膜を前記リンス液に置換するリンス処理ユニットと、前記リンス処理ユニットにてリンス液が供給された前記基板に気体を供給するスリットノズルを有する乾燥ユニットと、前記基板と、前記第1ノズルと前記第2ノズルと前記シャワーノズルおよび前記スリットノズルとを相対的に移動させる搬送手段と、を有し、前記第2ノズルは、第1ノズルよりも基板搬送方向下流側に設置され、且つ、前記第1ノズルによって前記基板の表面上に形成された前記異方性向上液の液膜が存在する状態の前記基板に前記異方性向上液を供給することができる位置に設置されることを特徴とする。
実施の形態に係る接液処理方法は、光配向法によって形成された配向膜を有する基板を搬送手段によって搬送させながら接液処理する接液処理方法であって、前記基板に第1ノズルから、気泡を除去したエチルラクテート液、IPA、オゾン水のいずれかである異方性向上液を供給して前記基板の表面上に液膜を形成する工程と、前記液膜を形成する工程にて形成された前記異方性向上液の液膜が存在する状態の前記基板に対して、少なくとも一つのシャワーノズルである第2ノズルから前記異方性向上液を供給する工程と、を有することを特徴とする。
実施の形態に係る接液処理方法は、光配向法によって形成された配向膜を有する基板を搬送手段によって搬送させながら接液処理する接液処理方法であって、前記基板に第1ノズルから、気泡を除去したエチルラクテート液、IPA、オゾン水のいずれかである異方性向上液を供給して前記基板の表面上に液膜を形成する工程と、前記基板の表面上に形成された前記異方性向上液の液膜を液膜除去ノズルによって除去する工程と、前記異方性向上液の液膜が除去された前記基板に対して、少なくとも1つのシャワーノズルである第2ノズルから前記異方性向上液を供給する工程と、を有し、前記第2ノズルから前記異方性向上液を供給する工程の前に、前記液膜を形成する工程と前記液膜を除去する工程との組み合わせを複数回行うことを特徴とする。
実施の形態に係る基板処理方法は、光配向法によって形成された配向膜を有する基板を搬送手段によって搬送しながら処理する基板処理方法であって、前記基板に第1ノズルから、気泡を除去したエチルラクテート液、IPA、オゾン水のいずれかである異方性向上液を供給して前記基板の表面上に液膜を形成する工程と、前記液膜を形成する工程にて形成された前記異方性向上液の液膜が存在する状態の前記基板に対して、少なくとも一つのシャワーノズルである第2ノズルから前記異方性向上液を供給する工程と、を有する接液処理工程と、前記接液処理工程で前記基板上に形成された前記液膜をリンス液に置換するリンス処理工程と、前記リンス処理工程にてリンス液が供給された前記基板に気体を供給する乾燥工程と、有することを特徴とする。
図2は、基板処理装置100の接液処理ユニットU1の概略構成図である。第1ノズルN1は、スリットノズルであり、処理液であるエチルラクテート液をカーテン状に吐出する構成となっている。さらに第1ノズルN1は、吐出されるエチルラクテート液に気泡が含まれることを防止するために、余剰気体を抜くための弁を有するなど、公知の気泡防止のための構成を有するノズルである(例えば、特開2008−53689号公報)。なお、ここでいう「防止」とは、ノズルから吐出されるエチルラクテート液の中に気泡が含まれることを防ぐことであって、一度発生した気泡を除去してから吐出する機構も含まれる。
Claims (11)
- 光配向法によって形成された配向膜を有する基板を接液処理する接液処理装置であって、
気泡を除去する手段を備え、前記基板に異方性向上液を供給して前記基板の表面上に液膜を形成する第1ノズルと、
前記異方性向上液を前記基板に供給するノズルであって、前記第1ノズルとは別の、少なくとも一つの第2ノズルと、
前記基板と、前記第1ノズルおよび第2ノズルとを相対的に移動させる搬送手段と、を有し、
前記第2ノズルは、第1ノズルよりも基板搬送方向下流側に設置され、且つ、前記基板の表面上に前記第1ノズルによって形成された前記異方性向上液の液膜が存在する状態の前記基板に前記異方性向上液を供給することができる位置に設置されることを特徴とする接液処理装置。 - 前記異方性向上液は、エチルラクテート液、IPA、オゾン水のいずれかであることを特徴とする請求項1に記載の接液処理装置。
- 前記基板が前記第1ノズルの下に存在しなくなるタイミングで前記第1ノズルからの前記異方性向上液の供給を停止するとともに、前記搬送手段は、前記基板の搬送を一定時間停止し、
前記第2ノズルは、前記停止している状態の前記基板に対して、前記異方性向上液の供給を行うことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の接液処理装置。 - 前記第2ノズルは、前記基板に供給された後に回収された前記異方性向上液を、再度前記基板に供給することを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の接液処理装置。
- 前記第2ノズルよりも基板搬送方向下流側に設置され、且つ、前記第2ノズルによって前記基板の表面上に形成された前記異方性向上液の液膜が存在する状態の前記基板に、未使用の異方性向上液を供給する第3ノズルを有することを特徴とする請求項4に記載の接液処理装置。
- 前記第1ノズルと前記第2ノズルと前記第3ノズルから供給され前記基板の表面に供給された前記異方性向上液が回収されるタンクを有し、
前記タンクは、前記第1ノズルから供給された前記異方性向上液を主に回収する第1の領域と、前記第3ノズルから供給された前記異方性向上液を主に回収する第2の領域とに分けるための仕切りを有し、
前記タンクの壁面には、前記第1の領域に貯留される前記異方性向上液を前記第1ノズルに供給するための循環配管を有することを特徴とする請求項5に記載の接液処理装置。 - 光配向法によって形成された配向膜を有する基板を接液処理する接液処理装置であって、
気泡を除去する手段を備え、前記基板に、エチルラクテート液、IPA、オゾン水のいずれかである異方性向上液を供給して前記基板の表面上に液膜を形成する第1ノズルと、前記第1ノズルによって前記基板の表面上に形成された前記異方性向上液の液膜を除去するべく前記基板の表面に気体を供給する液膜除去ノズルと、を備える第1の処理ユニットと、
前記異方性向上液を前記基板に供給するシャワーノズルである、少なくとも1つの第2ノズルを備える第2の処理ユニットと、
前記基板と前記第1の処理ユニットおよび第2の処理ユニットとを相対的に移動させる搬送手段と、を有し、
前記第1の処理ユニットは、複数連続して設けられていることを特徴とする接液処理装置。 - 光配向法によって形成された配向膜を有する基板を処理する基板処理装置であって、
気泡を除去する手段を備え、前記基板にエチルラクテート液、IPA、オゾン水のいずれかである異方性向上液を供給して前記基板の表面上に液膜を形成する第1ノズルと、前記異方性向上液を前記基板に供給するシャワーノズルであって、前記第1ノズルとは別の、少なくとも一つの第2ノズルと、を備える接液処理ユニットと、
リンス液を供給するシャワーノズルを有し、前記リンス液を供給して、前記接液処理ユニットで前記基板上に形成された前記液膜を前記リンス液に置換するリンス処理ユニットと、
前記リンス処理ユニットにてリンス液が供給された前記基板に気体を供給するスリットノズルを有する乾燥ユニットと、
前記基板と、前記第1ノズルと前記第2ノズルと前記シャワーノズルおよび前記スリットノズルとを相対的に移動させる搬送手段と、を有し、
前記第2ノズルは、第1ノズルよりも基板搬送方向下流側に設置され、且つ、前記第1ノズルによって前記基板の表面上に形成された前記異方性向上液の液膜が存在する状態の前記基板に前記異方性向上液を供給することができる位置に設置されることを特徴とする基板処理装置。 - 光配向法によって形成された配向膜を有する基板を搬送手段によって搬送させながら接液処理する接液処理方法であって、
前記基板に第1ノズルから、気泡を除去したエチルラクテート液、IPA、オゾン水のいずれかである異方性向上液を供給して前記基板の表面上に液膜を形成する工程と、
前記液膜を形成する工程にて形成された前記異方性向上液の液膜が存在する状態の前記基板に対して、少なくとも一つのシャワーノズルである第2ノズルから前記異方性向上液を供給する工程と、
を有することを特徴とする接液処理方法。 - 光配向法によって形成された配向膜を有する基板を搬送手段によって搬送させながら接液処理する接液処理方法であって、
前記基板に第1ノズルから、気泡を除去したエチルラクテート液、IPA、オゾン水のいずれかである異方性向上液を供給して前記基板の表面上に液膜を形成する工程と、
前記基板の表面上に形成された前記異方性向上液の液膜を液膜除去ノズルによって除去する工程と、
前記異方性向上液の液膜が除去された前記基板に対して、少なくとも1つのシャワーノズルである第2ノズルから前記異方性向上液を供給する工程と、
を有し、
前記第2ノズルから前記異方性向上液を供給する工程の前に、前記液膜を形成する工程と前記液膜を除去する工程との組み合わせを複数回行うことを特徴とする接液処理方法。 - 光配向法によって形成された配向膜を有する基板を搬送手段によって搬送しながら処理する基板処理方法であって、
前記基板に第1ノズルから、気泡を除去したエチルラクテート液、IPA、オゾン水のいずれかである異方性向上液を供給して前記基板の表面上に液膜を形成する工程と、前記液膜を形成する工程にて形成された前記異方性向上液の液膜が存在する状態の前記基板に対して、少なくとも一つのシャワーノズルである第2ノズルから前記異方性向上液を供給する工程と、を有する接液処理工程と、
前記接液処理工程で前記基板上に形成された前記液膜をリンス液に置換するリンス処理工程と、
前記リンス処理工程にてリンス液が供給された前記基板に気体を供給する乾燥工程と、
を有することを特徴とする基板処理方法。
。
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