JP2005157196A - 液晶表示素子の基板洗浄方法およびその装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 ラビング処理後の基板を洗浄するにあたって、その基板表面における洗浄水の滞留や泡発生を防止する。
【解決手段】 ラビング処理された基板Pを水平方向に搬送する基板搬送手段(例えばコロコンベア)60と、基板Pを通過させる基板通過用開口部を有する隔壁を介して仕切られた複数の洗浄室とを含み、基板Pを基板搬送手段60にて各洗浄室内を順次移動させながら、給水ノズルにより基板Pに洗浄水を供給して基板のラビング処理面を洗浄するにあたって、給水ノズル(例えばパドルノズル)21より基板Pの搬送方向L1とほぼ直交する方向L2から基板Pに対して洗浄水を供給して基板Pのラビング処理面を洗浄する。
【選択図】 図3
【解決手段】 ラビング処理された基板Pを水平方向に搬送する基板搬送手段(例えばコロコンベア)60と、基板Pを通過させる基板通過用開口部を有する隔壁を介して仕切られた複数の洗浄室とを含み、基板Pを基板搬送手段60にて各洗浄室内を順次移動させながら、給水ノズルにより基板Pに洗浄水を供給して基板のラビング処理面を洗浄するにあたって、給水ノズル(例えばパドルノズル)21より基板Pの搬送方向L1とほぼ直交する方向L2から基板Pに対して洗浄水を供給して基板Pのラビング処理面を洗浄する。
【選択図】 図3
Description
本発明は、液晶表示素子を構成する基板(透明電極基板)の例えばラビング処理面を洗浄するのに好適な基板洗浄方法およびその装置に関するものである。
液晶表示素子の製造工程中における配向膜形成プロセスにおいては、基板表面にポリイミドなどの高分子膜により配向膜を形成したのち、その膜面をラビング処理する。ラビング処理にはナイロンやポリエステルなどの植毛布が用いられるため、往々にして膜面にラビング布からの抜け毛やカスなどが付着して残される。この種の残渣を除去するため、ラビング処理後に基板洗浄工程が用意されている(下記特許文献1参照)。
図7に、その基板洗浄工程で用いられている一般的な基板洗浄装置を模式的に示す。この基板洗浄装置1には、大別して基板を洗浄する洗浄工程と洗浄した基板を乾燥する乾燥工程とが含まれるが、この例では1回のパドル洗浄と2回のシャワー洗浄および1回の乾燥工程とが含まれている。
すなわち、この基板洗浄装置1には、パドル洗浄室20、第1および第2のシャワー洗浄室30,40および乾燥室50の各室がこの順序で隣接するように区画されて設けられている。また、パドル洗浄室20、第1および第2のシャワー洗浄室30,40および乾燥室50の全室にわたって基板搬送手段としての多数本の回転ローラ60aを含むコロコンベア60が配設されている。
基板搬送手段に関連して、パドル洗浄室20には基板搬入口S1が、乾燥室5には基板搬出口S2がそれぞれ設けられている。また、パドル洗浄室20,第1および第2のシャワー洗浄室30,40および乾燥室50をそれぞれ仕切る隔壁には、ラビング処理済みの基板Pを次室へと通過させるための基板通過用開口部S3,S4,S5がそれぞれ形成されている。
パドル洗浄室20には、スリット状の吐出口より基板Pの表面(ラビング処理面)に対して洗浄水W1をカーテン状に流下するパドルノズル21が設置されている。これに対して、第1および第2のシャワー洗浄室30,40には、独立した複数の散水口より基板Pの表面に対して所定の洗浄水W2,W3を供給するシャワーノズル31,41が設置されている。乾燥室50には、エアナイフ51が設けられている。
通常、洗浄水W1〜W3には純水もしくは超純水が用いられるが、洗浄水W2,W3のいずれかにIPA(イソプロピルアルコール)が使用されることもある。パドル洗浄は、シャワー洗浄する際に純水のミストが付着してむらが生ずるのを防止する目的で行われる前洗浄で、純水をあらかじめラビング処理面になじませるための洗浄である。
上記基板洗浄装置1によれば、基板Pをコロコンベア60によりパドル洗浄室20側から送り込むことにより、パドル洗浄→シャワー洗浄→乾燥が自動的に行われるのであるが、これには次のような問題がある。
パドル洗浄室20と第1シャワー洗浄室30との間、第1シャワー洗浄室30と第2シャワー洗浄室40の間および第2シャワー洗浄室40と乾燥室50との間は、それぞれ隔壁により仕切られているが、各室の洗浄液が隣室にできるだけ入り込まないようにするため、基板Pを次室へと通過させるための基板通過用開口部S3,S4,S5をスリット状の狭い開口部としている。
特に洗浄液にIPAを使用する場合には、IPAが隣室の純水に混入しないようにするため、基板通過用開口部S3,S4,S5がより狭くされる。また、上記基板洗浄装置1を含めて従来装置では、ノズルからの基板Pに対する洗浄液の供給方向を基板が送り出される方向(搬送方向の下流側)としている。
これによれば、ノズルから基板Pに供給された洗浄液はその表面を伝わって基板搬送方向下流側に向けて流れるが、その行き先には上記基板通過用開口部S3,S4,S5の狭いスリットが存在するため洗浄液の流れが妨げられ流動が変動する。
これにより、基板P上に洗浄液が滞留したり泡が発生することがあり、これが原因で基板Pの表面からラビング処理時の残渣が流し切れず、最終的に完成品として組み立てられた液晶表示素子に表示欠陥が発生することがある。
したがって、本発明の課題は、ラビング処理後の基板(透明電極基板)をパドル洗浄室やシャワー洗浄室などの各洗浄室に順次搬送して基板表面からラビング処理時の残渣を除去するにあたって、各洗浄室の洗浄液を隣室にできるだけ入り込まないようにする前提のもとで、上記基板の表面に付着している残渣をきれいに洗浄することができるようにすることにある。
上記課題を解決するために、本願の第1発明は、少なくとも一方の面が前処理されている基板を水平方向に搬送する基板搬送手段と、その基板搬送経路に沿って配置され上記基板を通過させる基板通過用開口部を有する隔壁を介して仕切られた複数の洗浄室とを含み、上記基板を上記基板搬送手段にて上記各洗浄室内を順次移動させながら、上記各洗浄室内の給水ノズルにより上記基板に洗浄水を供給して上記基板の前処理面を洗浄する液晶表示素子の基板洗浄方法において、上記基板の搬送方向とほぼ直交する方向から上記基板に対して上記洗浄水を供給して上記基板の前処理面を洗浄することを特徴としている。
また、上記課題を解決するため、本願の第2発明は、少なくとも一方の面が前処理されている基板を水平方向に搬送する基板搬送手段と、その基板搬送経路に沿って配置され上記基板を通過させる基板通過用開口部を有する隔壁を介して仕切られた複数の洗浄室とを含み、上記基板を上記基板搬送手段にて上記各洗浄室内を順次移動させながら、上記各洗浄室内の給水ノズルにより上記基板に洗浄水を供給して上記基板の前処理面を洗浄する液晶表示素子の基板洗浄装置において、上記給水ノズルが、上記基板の搬送方向とほぼ直交する方向から上記基板に対して上記洗浄水を供給するように配置されていることを特徴としている。
上記第2発明において、上記給水ノズルには、スリット口から上記洗浄水をカーテン状に吐出するパドルノズルと、独立した複数の散水口を有するシャワーノズルとが含まれるが、そのいずれにも上記基板の前処理面に対して40〜50°の角度で上記洗浄水が流下するように角度付けされていることが好ましい。
また、上記第2発明においては、上記基板搬送手段として多数本の回転ローラを有するコロコンベアが好ましく採用されるが、この場合、上記基板1枚が跨る範囲内の複数本の回転ローラのうち、所定本数の回転ローラが両端に搬送ガイド用の鍔を有するガイド用回転ローラであり、残りの回転ローラが少なくとも洗浄水供給側とは反対側に上記鍔を持たない非ガイド用回転ローラであり、さらには上記ガイド用回転ローラと上記非ガイド用回転ローラとが交互に配置されていることがより好ましい。
また、上記ガイド用回転ローラの両端に設けられる上記鍔のうち、少なくとも洗浄水供給側とは反対側に位置する鍔の上記回転ローラによる基板支持面からの突出高さが、上記基板の板厚を基準としてその4.5〜7.5倍であることが好ましい。
本発明によれば、前処理された面を有する基板を基板通過用開口部を有する隔壁を介して仕切られている複数の洗浄室内を順次通過させて洗浄するにあたって、上記基板の搬送方向とほぼ直交する方向から上記基板に対して上記洗浄水を供給するようにしたことにより、洗浄水が基板通過用開口部付近に溜まることなくスムーズに流れる。したがって、基板表面上に洗浄水が滞留したり、その流動変動により泡が発生したりすることがなく、基板表面上の異物やゴミをきれいに洗い流すことができる。
また、給水ノズルからの洗浄水が基板の前処理面に対して40〜50°の角度で流下するように給水ノズルの角度を調整することにより、パドル洗浄およびシャワー洗浄のいずれにおいても、基板表面上における洗浄水の流れをよりスムーズにすることができる。
また、基板搬送手段としてコロコンベアを使用する場合において、そのコロコンベア内に搬送ガイド用の鍔を有するガイド用回転ローラと、鍔のない非ガイド用回転ローラとを含ませたことにより、基板の搬送方向とほぼ直交する方向から供給される洗浄水の流れに対する堰止め抵抗が少なくなり、これによっても基板表面上における洗浄水の流れをよりスムーズにすることができる。
図1ないし図6に本発明のいくつかの実施形態を示すが、まず、図1ないし図3により本発明の第1実施形態について説明する。図1は本発明による基板洗浄装置10の一例を模式的に示す説明図、図2は本発明の要部を示す模式的な斜視図、図3はその要部平面図である。
なお、この実施形態に係る基板洗浄装置10は、先に説明した従来例と同じくラビング処理された配向膜を有する基板Pを被洗浄基板とする枚葉式の洗浄装置であり、上記従来例と同一もしくは同一と見なされてよい構成要素についてはそれと同じ参照符号を用いている。
図1に示すように、この基板洗浄装置10には、パドル洗浄室20,第1および第2の2つのシャワー洗浄室30,40および乾燥室50が設けられている。基板搬送手段は多数の回転ローラ60aを含むコロコンベア60であり、パドル洗浄室20には基板搬送口S1が、乾燥室50には基板搬出口S2が備えられ、また、各洗浄室を仕切る隔壁にはスリット状の基板通過用開口部S3,S4,S5がそれぞれ設けられている。
パドル洗浄室20にはスリット口から基板Pに対して洗浄水W1をカーテン状に吐出するパドルノズル21が設置されており、第1および第2のシャワー洗浄室30,40には独立した散水口から基板Pに対して洗浄水W2,W3を放出するシャワーノズル31,41が設置されている。
なお、先の従来例でも説明したように、パドル洗浄は、シャワー洗浄する際に純水のミストが付着してむらが生ずるのを防止する目的で行われる前洗浄で、純水をあらかじめラビング処理面になじませるための洗浄である。すなわち、いきなりシャワー洗浄を行うとシャワーが搬送系や基板それに洗浄室内で跳ね返り、それが洗浄前に待機している基板にミストや水滴として付着し乾燥むらとなりやすいため前洗浄としてパドル洗浄を行う。
洗浄水W1〜W3には純水もしくは超純水が好ましく用いられるが、シャワー洗浄室30,40での洗浄水W2,W3には必要に応じてIPA(イソプロピルアルコール)などの溶剤系を混入してもよい。また、乾燥室50には基板Pに対して乾燥用のエアを放出するエアナイフ51が設置されている。
図3を参照して、コロコンベア60の各回転ローラ60aは、基板Pの底面に対する接触面積をできるだけ小さくするため、その回転軸60bの両端にのみ支持輪61,62を備えており、各支持輪61,62には搬送ガイド用の鍔63,64が形成されている。この例において、鍔63,64は円錐状のガイド面を備えており、また、支持輪61,62には基板Pに対する傷付け防止用のゴムリング65がそれぞれ取り付けられている。
図2および図3に示すように、コロコンベア60による基板Pの搬送方向をL1とすると、本発明において、パドルノズル21はその搬送方向L1とほぼ直交する方向L2から基板Pに対して洗浄水W1を供給するように配置されている。
詳しくは図示しないが、シャワーノズル31,42についてもパドルノズル21と同様に、基板Pの搬送方向L1とほぼ直交する方向L2から基板Pに対して洗浄水W2,W3をそれぞれ供給するように配置されている。
これによれば、各洗浄室20,30,40において、基板Pには上記搬送方向L1と直交する一辺P2側から洗浄水W1,W2,W3が供給され、その洗浄水W1,W2,W3が上記一辺P2と対向する他辺P3側に向かって流れるため、基板通過用開口部S3,S4,S5付近での洗浄水の滞留や泡発生をなくすことができる。
なお、基板P上での洗浄水の流れをスムーズにさせるには、図2に示すように、パドルノズル21からの洗浄水W1が基板Pの表面(ラビング処理面)に対して40〜50°の角度で流下するようにパドルノズル21の取付角度を設定することが好ましい。シャワーノズル31,42についても同様に、その洗浄水W2,W3が基板Pの表面に対して40〜50°の角度で流下するように取付角度を設定することが好ましい。
ところで、この種の基板洗浄装置においては、コロコンベア60として回転ローラ60aが狭いピッチ(例えば80mmピッチ)で並べられたコロコンベアが一般的に採用されるが、上記第1実施形態のようにすべての回転ローラ60aが鍔付きであると、洗浄水の流速にもよるが、基板Pの一辺P2側から供給される洗浄水に対して他辺P3側(反給水側)に存在する鍔64が堰止め抵抗となり、洗浄水のスムーズな流れが遮られることがある。
これを防止するための本発明の第2実施形態を図4に示す。すなわち、この第2実施形態においては、例えば奇数本目の回転ローラ60aは両端の支持輪61,62に鍔63,64を有するガイド用回転ローラ601とし、偶数本目の回転ローラ60aについては反給水側(洗浄水供給側とは反対側)の支持輪62には鍔を付けない支持専用の非ガイド用回転ローラ602とする。
これによれば、基板Pの他辺P3側において隣接する鍔部64の間隔が広げられ、基板Pの一辺P2側から供給される洗浄水に対する抵抗が小さくなるため、基板P上における洗浄水のスムーズな流れが確保される。
なお、この例ではガイド用回転ローラ601と非ガイド用回転ローラ602とを交互に配置しているが、例えばガイド用回転ローラ1本に対して非ガイド用回転ローラを2本の割合としてもよく、要するに1枚の基板Pが跨る範囲を繰り返し単位としてその範囲内の複数本の回転ローラのうちの所定本数をガイド用回転ローラ601とし、残りを非ガイド用回転ローラ602とすればよい。なお、非ガイド用回転ローラ602については基板Pの一辺P2側(給水側)の鍔63をさらに外してもよい。
次に、基板P上における洗浄水のスムーズな流れが確保するための本発明の第3実施形態を図5により説明する。図5は回転ローラ60aの反給水側の鍔64を示す拡大図で、基板P上を流下する洗浄水の堰止め抵抗を小さくするには鍔64はできるだけ小径であることが好ましいが、基板Pの搬送時の安定性との兼ね合いが問題となる。
その両立をはかるため第3実施形態では、図5において鍔64の支持輪62による基板支持面からの突出高さをaとして、その突出高さaを基板Pの板厚を基準としてその4.5〜7.5倍としている。すなわち、一例として基板Pの板厚が0.7mmである場合には、鍔64の突出高さaを3.15〜5.25mmの範囲内とする。
なお、鍔64の変形例として、図6に示すように円錐状のガイド面を持たない単なるフランジ状としてもよい。また、給水側の鍔63については必ずしも上記鍔64と同じとする必要はないが、部品点数上同一のものを使用することが好ましい。
上記第3実施形態によれば、基板P上を流下する洗浄水の堰止め抵抗を可及的に小さくできるとともに、基板Pの搬送時の安定性も確保することができる。この第3実施形態は上記第1実施形態および上記第2実施形態のいずれにも適用可能である。
以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち、必ずしもパドル洗浄室とシャワー洗浄室の双方に適用されるものではなく、例えば洗浄水の給水量などによっては、パドル洗浄室のみに適用されてもよいし、もしくはシャワー洗浄室のみに適用されてもよい。
また本発明は、ラビング処理後の基板洗浄に限らず、電極パターニング後の基板洗浄やカラーフィルタなどの積層膜形成後の基板洗浄などにも適用可能である。
10 基板洗浄装置
20 パドル洗浄室
21 パドルノズル
30 第1のシャワー洗浄室
40 第2のシャワー洗浄室
31,41 シャワーノズル
50 乾燥室
51 エアナイフ
60 コロコンベア
60a 回転ローラ
61,62 支持輪
63,64 鍔
L1 基板搬送方向
L2 洗浄水放出方向
P 基板
S3,S4,S5 基板通過用開口部
W1,W2,W3 洗浄水
20 パドル洗浄室
21 パドルノズル
30 第1のシャワー洗浄室
40 第2のシャワー洗浄室
31,41 シャワーノズル
50 乾燥室
51 エアナイフ
60 コロコンベア
60a 回転ローラ
61,62 支持輪
63,64 鍔
L1 基板搬送方向
L2 洗浄水放出方向
P 基板
S3,S4,S5 基板通過用開口部
W1,W2,W3 洗浄水
Claims (7)
- 少なくとも一方の面が前処理されている基板を水平方向に搬送する基板搬送手段と、その基板搬送経路に沿って配置され上記基板を通過させる基板通過用開口部を有する隔壁を介して仕切られた複数の洗浄室とを含み、上記基板を上記基板搬送手段にて上記各洗浄室内を順次移動させながら、上記各洗浄室内の給水ノズルにより上記基板に洗浄水を供給して上記基板の前処理面を洗浄する液晶表示素子の基板洗浄方法において、
上記基板の搬送方向とほぼ直交する方向から上記基板に対して上記洗浄水を供給して上記基板の前処理面を洗浄することを特徴とする液晶表示素子の基板洗浄方法。 - 少なくとも一方の面が前処理されている基板を水平方向に搬送する基板搬送手段と、その基板搬送経路に沿って配置され上記基板を通過させる基板通過用開口部を有する隔壁を介して仕切られた複数の洗浄室とを含み、上記基板を上記基板搬送手段にて上記各洗浄室内を順次移動させながら、上記各洗浄室内の給水ノズルにより上記基板に洗浄水を供給して上記基板の前処理面を洗浄する液晶表示素子の基板洗浄装置において、
上記給水ノズルが、上記基板の搬送方向とほぼ直交する方向から上記基板に対して上記洗浄水を供給するように配置されていることを特徴とする液晶表示素子の基板洗浄装置。 - 上記給水ノズルが、上記基板の前処理面に対して40〜50°の角度で上記洗浄水が流下するように角度付けされている請求項2に記載の液晶表示素子の基板洗浄装置。
- 上記給水ノズルには、スリット口から上記洗浄水をカーテン状に吐出するパドルノズルと、独立した複数の散水口を有するシャワーノズルとが含まれる請求項2または3に記載の液晶表示素子の基板洗浄装置。
- 上記基板搬送手段として多数本の回転ローラを有するコロコンベアが用いられ、上記基板1枚が跨る範囲内の複数本の回転ローラのうち、所定本数の回転ローラが両端に搬送ガイド用の鍔を有するガイド用回転ローラであり、残りの回転ローラが少なくとも洗浄水供給側とは反対側に上記鍔を持たない非ガイド用回転ローラである請求項2ないし4のいずれか1項に記載の液晶表示素子の基板洗浄装置。
- 上記ガイド用回転ローラと上記非ガイド用回転ローラとが交互に配置されている請求項5項に記載の液晶表示素子の基板洗浄装置。
- 上記ガイド用回転ローラの両端に設けられる上記鍔のうち、少なくとも洗浄水供給側とは反対側に位置する鍔の上記回転ローラによる基板支持面からの突出高さが、上記基板の板厚を基準としてその4.5〜7.5倍である請求項5または6項に記載の液晶表示素子の基板洗浄装置。
Priority Applications (1)
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JP2003398935A JP2005157196A (ja) | 2003-11-28 | 2003-11-28 | 液晶表示素子の基板洗浄方法およびその装置 |
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JP2003398935A Withdrawn JP2005157196A (ja) | 2003-11-28 | 2003-11-28 | 液晶表示素子の基板洗浄方法およびその装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016066044A (ja) * | 2014-03-07 | 2016-04-28 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 接液処理装置、接液処理方法、基板処理装置および基板処理方法 |
CN110652603A (zh) * | 2019-11-12 | 2020-01-07 | 佛山克情日用品有限公司 | 一种家用高档显示器储存消毒柜 |
CN111463152A (zh) * | 2020-04-17 | 2020-07-28 | 重庆芯洁科技有限公司 | 半导体衬底的高压水洗设备及其使用方法 |
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2003
- 2003-11-28 JP JP2003398935A patent/JP2005157196A/ja not_active Withdrawn
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---|---|---|---|---|
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