JP2017211681A5 - - Google Patents

Claims (5)

1. 光配向法によって形成された配向膜を有する基板を接液処理する接液処理装置であって、
   気泡を除去する手段を備え、前記基板に異方性向上液を供給して前記基板表面上に液膜を形成する第１ノズルと、
   前記異方性向上液を前記基板に供給するノズルである、少なくとも一つの第２ノズルと、
   前記基板を保持する保持手段を有し、前記基板と、前記第１ノズルおよび第２ノズルとを相対的に移動させる搬送手段と、を有し、
   前記第２ノズルは、第１ノズルよりも基板搬送方向下流側に設置され、且つ、前記第１ノズルによって前記基板表面上に形成された液膜が存在する状態の前記基板に異方性向上液を供給することができる位置に設置されることを特徴とする接液処理装置。
2. 前記異方性向上液は、少なくとも、エチルラクテート液、ＩＰＡ、オゾン水のいずれかであることを特徴とする請求項１に記載の接液処理装置。
3. 光配向法によって形成された配向膜を有する基板を処理する基板処理装置であって、
   気泡を除去する手段を備え、前記基板に少なくともエチルラクテート液、ＩＰＡ、オゾン水のいずれかである異方性向上液を供給して前記基板表面上に液膜を形成する第１ノズルと、
   前記異方性向上液を前記基板に供給するシャワーノズルである、少なくとも一つの第２ノズルと、を備える接液処理ユニットと、
   前記接液処理ユニットで前記基板上に形成された前記液膜を置換するリンス液を供給するシャワーノズルを有するリンス処理ユニットと、
   前記リンス処理ユニットにてリンス液が供給された前記基板に気体を供給するスリットノズルを有する乾燥ユニットと、
   前記基板を保持する保持手段を有し、前記基板と、前記第１ノズルと前記第２ノズルおよび前記シャワーノズルとを相対的に移動させる搬送手段と、を有し、
   前記第２ノズルは、第１ノズルよりも基板搬送方向下流側に設置され、且つ、前記第１ノズルによって前記基板表面上に形成された液膜が存在する状態の前記基板に前記異方性向上液を供給することができる位置に設置されることを特徴とする基板処理装置。
4. 光配向法によって形成された配向膜を有する基板を搬送手段によって搬送させながら接液処理する接液処理方法であって、
   前記基板に第１ノズルから気泡を除去した少なくともエチルラクテート液、ＩＰＡ、オゾン水のいずれかである異方性向上液を供給して前記基板表面上に液膜を形成する工程と、
   前記液膜を形成する工程にて形成された液膜が存在する状態の前記基板に対して、少なくとも一つのシャワーノズルである第２ノズルから前記異方性向上液を供給する工程と、
   を有することを特徴とする接液処理方法。
5. 光配向法によって形成された配向膜を有する基板を搬送手段によって搬送しながら処理する基板処理方法であって、
   前記基板に第１ノズルから気泡を除去した少なくともエチルラクテート液、ＩＰＡ、オゾン水のいずれかである異方性向上液を供給して前記基板表面上に液膜を形成する工程と、前記液膜を形成する工程にて形成された液膜が存在する状態の前記基板に対して、少なくとも一つのシャワーノズルである第２ノズルから異方性向上液を供給する工程と、を有する接液処理工程と、
   前記接液処理工程で前記基板上に形成された前記液膜をリンス液に置換するリンス処理工程と、
   前記リンス処理工程にてリンス液が供給された前記基板に気体を供給する乾燥工程と、を有することを特徴とする基板処理方法。