JP2016021541A - 個片化物品の移送方法、製造方法及び製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】開閉弁35を使用して所定の噴射時間だけ各加圧系配管33を開くことにより、加圧源19と加圧系配管33と作動切替弁30opと作動個別配管26opと作動パッド28opが有する開口27とを順次経由して電子部品(個片化物品)24に高圧ガスを所定の噴射時間だけ噴射して、トレイ(容器)15に向かって電子部品24を吹き飛ばす。読み出した作動パッド情報に基づいて算出した作動パッド28opの数に応じて噴射時間を決定する。作動パッド28opの数が多い場合には噴射時間を長くし、作動パッド28opの数が少ない場合には噴射時間を短くする。これらにより、既に容器に収容された個片化物品が高圧ガスによって吹き飛ばされることを抑制できる。
【選択図】図4
Description
(1)個片化物品を吸着する場合
(a)開閉弁を使用して加圧系配管を閉じる。
(b)複数の吸着パッドのうち個片化物品を吸着する作動パッドを特定する作動パッド情報を読み出す。
(c)複数の切替弁のうち作動パッドが有する開口に連通する個別配管からなる作動個別配管に設けられた作動切替弁を使用して作動個別配管と吸引系配管とを接続することによって、作動パッドにおいて個片化物品を吸着する。
(2)個片化物品を容器に移載する場合
(a)作動パッド情報に基づいて作動パッドの数を算出する。
(b)作動パッドの数に応じて、作動パッドの数が多い場合には個片化物品に高圧ガスが噴射される噴射時間を長くし、作動パッドの数が少ない場合には噴射時間を短くして、所定の噴射時間を決定する。
(c)作動切替弁を使用して作動個別配管と吸引系配管とを遮断し、作動個別配管と加圧系配管とを接続する。
(d)開閉弁を使用して所定の噴射時間だけ加圧系配管を開くことによって、加圧源と加圧系配管と作動個別配管と作動パッドが有する開口とを順次経由して個片化物品に高圧ガスを所定の噴射時間だけ噴射して容器に向かって個片化物品を吹き飛ばす。
(a)複数の吸着パッドのうち1個を含む少数個において個片化物品を吸着した場合における適正な第1の噴射時間を記憶する。
(b)複数の吸着パッドのうち全数個を含む多数個において個片化物品を吸着した場合における適正な第2の噴射時間を記憶する。
(c) 所定の噴射時間として、第1の噴射時間と第2の噴射時間とに基づいて、複数の吸着パッドのうち作動パッドの数において個片化物品を吸着した場合における適正な第3の噴射時間を算出して決定する。
2 封止済基板(対象物)
3 切断用移送機構
4 切断用ステージ
5 スピンドル
6 回転刃(切断手段)
7 洗浄機構
8 第1搬送機構
9 集合体
10 洗浄ブラシ
11 第2搬送機構
12 検査用カメラ
13 インデックステーブル
14 移送機構
15 トレイ(容器)
16、17 搬送レール
18 吸引源
19 加圧源
20 全体基板
21 全体封止樹脂
22 境界線
23 領域
24 電子部品(個片化物品)
25 凹部
26 個別配管
26op 作動個別配管
27 開口
28 吸着パッド
28op 作動パッド
29 収容部
30 切替弁
30op 作動切替弁
31 吸引系配管
32 吸引系共通配管
33 加圧系配管
34 加圧系共通配管
35 開閉弁
A 切断モジュール
B 払い出しモジュール
C 受け入れ部
CTL 制御部
D 切断部
E 洗浄部
M モータ
M1 個片化物品の製造装置
Claims (9)
- 対象物を切断することによって個片化された個片化物品を、複数の吸着パッドを有する移送機構によって容器に移送する個片化物品の移送方法であって、
開閉弁を使用して、前記複数の吸着パッドがそれぞれ有する開口にそれぞれつながる複数の個別配管が接続されることができ加圧源につながる加圧系配管を閉じる工程と、
吸引源に接続された吸引系配管と前記加圧系配管とを切り替える複数の切替弁を使用して前記複数の個別配管と前記加圧系配管とを接続する工程と、
前記複数の吸着パッドのうち前記個片化物品を吸着する作動パッドを特定する作動パッド情報を読み出す工程と、
前記複数の切替弁のうち前記作動パッドにつながる前記個別配管からなる作動個別配管につながる作動切替弁を使用して前記作動個別配管と前記吸引系配管とを接続することによって、前記作動パッドにおいて前記個片化物品を吸着する工程と、
前記移送機構を使用して前記個片化物品を前記容器の上方まで搬送する工程と、
前記作動切替弁を使用して前記作動個別配管と前記吸引系配管とを遮断し、前記作動個別配管と前記加圧系配管とを接続する工程と、
前記開閉弁を使用して所定の噴射時間だけ前記加圧系配管を開くことによって、前記加圧源と前記加圧系配管と前記作動個別配管と前記作動パッドが有する前記開口とを順次経由して前記個片化物品に高圧ガスを前記所定の噴射時間だけ噴射して前記容器に向かって前記個片化物品を吹き飛ばす工程とを備え、
前記作動パッド情報を読み出す工程の後に、
前記作動パッド情報に基づいて前記作動パッドの数を算出する工程と、
前記作動パッドの数に応じて前記噴射時間を決定する工程とを更に備え、
前記決定する工程においては、前記作動パッドの数が多い場合には前記噴射時間を長くし、前記作動パッドの数が少ない場合には前記噴射時間を短くすることを特徴とする個片化物品の移送方法。 - 請求項1に記載された個片化物品の移送方法において、
前記複数の吸着パッドのうち1個を含む少数個において前記個片化物品を吸着した場合における適正な第1の噴射時間を記憶する工程と、
前記複数の吸着パッドのうち全数個を含む多数個において前記個片化物品を吸着した場合における適正な第2の噴射時間を記憶する工程とを備え、
前記決定する工程においては、前記所定の噴射時間として、前記第1の噴射時間と前記第2の噴射時間とに基づいて、前記複数の吸着パッドのうち前記作動パッドの数において前記個片化物品を吸着した場合における適正な第3の噴射時間を算出して決定することを特徴とする個片化物品の移送方法。 - 請求項2に記載された個片化物品の移送方法において、
前記第1の噴射時間は、前記少数個において前記個片化物品を吸着した場合における適正な噴射時間として実測値に基づいて予め得られた時間であり、
前記第2の噴射時間は、前記多数個において前記個片化物品を吸着した場合における適正な噴射時間として実測値に基づいて予め得られた時間であることを特徴とする個片化物品の移送方法。 - 対象物を切断する工程を有する個片化物品の製造方法であって、
開閉弁を使用して、前記複数の吸着パッドがそれぞれ有する開口にそれぞれつながる複数の個別配管が接続されることができ加圧源につながる加圧系配管を閉じる工程と、
吸引源に接続された吸引系配管と前記加圧系配管とを切り替える複数の切替弁を使用して前記複数の個別配管と前記加圧系配管とを接続する工程と、
前記複数の吸着パッドのうち前記個片化物品を吸着する作動パッドを特定する作動パッド情報を読み出す工程と、
前記複数の切替弁のうち前記作動パッドにつながる前記個別配管からなる作動個別配管につながる作動切替弁を使用して前記作動個別配管と前記吸引系配管とを接続することによって、前記作動パッドにおいて前記個片化物品を吸着する工程と、
前記移送機構を使用して前記個片化物品を前記容器の上方まで搬送する工程と、
前記作動切替弁を使用して前記作動個別配管と前記吸引系配管とを遮断し、前記作動個別配管と前記加圧系配管とを接続する工程と、
前記開閉弁を使用して所定の噴射時間だけ前記加圧系配管を開くことによって、前記加圧源と前記加圧系配管と前記作動個別配管と前記作動パッドが有する前記開口とを順次経由して前記個片化物品に高圧ガスを前記所定の噴射時間だけ噴射して前記容器に向かって前記個片化物品を吹き飛ばす工程とを備え、
前記作動パッド情報を読み出す工程の後に、
前記作動パッド情報に基づいて前記作動パッドの数を算出する工程と、
前記作動パッドの数に応じて前記噴射時間を決定する工程とを更に備え、
前記決定する工程においては、前記作動パッドの数が多い場合には前記噴射時間を長くし、前記作動パッドの数が少ない場合には前記噴射時間を短くすることを特徴とする個片化物品の製造方法。 - 請求項4に記載された個片化物品の製造方法において、
前記複数の吸着パッドのうち1個を含む少数個において前記個片化物品を吸着した場合における適正な第1の噴射時間を記憶する工程と、
前記複数の吸着パッドのうち全数個を含む多数個において前記個片化物品を吸着した場合における適正な第2の噴射時間を記憶する工程とを備え、
前記決定する工程においては、前記所定の噴射時間として、前記第1の噴射時間と前記第2の噴射時間とに基づいて、前記複数の吸着パッドのうち前記作動パッドの数において前記個片化物品を吸着した場合における適正な第3の噴射時間を算出して決定することを特徴とする個片化物品の製造方法。 - 請求項5に記載された個片化物品の製造方法において、
前記第1の噴射時間は、前記少数個において前記個片化物品を吸着した場合における適正な噴射時間として実測値に基づいて予め得られた時間であり、
前記第2の噴射時間は、前記多数個において前記個片化物品を吸着した場合における適正な噴射時間として実測値に基づいて予め得られた時間であることを特徴とする個片化物品の製造方法。 - 切断手段と、該切断手段を使用して対象物を切断することによって個片化された個片化物品を容器に移送する移送機構とを備えた個片化物品の製造装置であって、
前記個片化物品を吸着するための吸引源と、
前記吸引源に接続された吸引系配管と、
前記移送機構に設けられ、複数の前記個片化物品をそれぞれ吸着するための複数の吸着パッドと、
前記複数の吸着パッドにそれぞれ形成された複数の開口と、
前記移送機構に設けられ、前記複数の開口にそれぞれ接続された複数の個別配管と、
前記複数の個別配管に高圧ガスを供給して前記個片化物品を加圧することによって前記個片化物品を前記複数の吸着パッドから吹き飛ばすための加圧源と、
前記加圧源に接続された加圧系配管と、
前記加圧系配管に設けられ前記加圧系配管を開閉する開閉弁と、
前記複数の個別配管にそれぞれ設けられ、前記複数の個別配管のそれぞれと前記吸引系配管とを接続し、又は、前記複数の個別配管のそれぞれと前記加圧系配管とを接続する複数の切替弁と、
少なくとも前記開閉弁と前記複数の切替弁とを制御する制御部とを備え、
前記制御部は、少なくとも前記開閉弁と前記複数の切替弁とを以下のようにして制御することを特長とする個片化物品の製造装置。
(1)前記個片化物品を吸着する場合
(a)前記開閉弁を使用して前記加圧系配管を閉じる。
(b)前記複数の吸着パッドのうち前記個片化物品を吸着する作動パッドを特定する作動パッド情報を読み出す。
(c)前記複数の切替弁のうち前記作動パッドが有する前記開口に連通する前記個別配管からなる作動個別配管に設けられた作動切替弁を使用して前記作動個別配管と前記吸引系配管とを接続することによって、前記作動パッドにおいて前記個片化物品を吸着する。
(2)前記個片化物品を容器に移載する場合
(a)前記作動パッド情報に基づいて前記作動パッドの数を算出する。
(b)前記作動パッドの数に応じて、前記作動パッドの数が多い場合には前記個片化物品に前記高圧ガスが噴射される噴射時間を長くし、前記作動パッドの数が少ない場合には前記噴射時間を短くして、所定の噴射時間を決定する。
(c)前記作動切替弁を使用して前記作動個別配管と前記吸引系配管とを遮断し、前記作動個別配管と前記加圧系配管とを接続する。
(d)前記開閉弁を使用して前記所定の噴射時間だけ前記加圧系配管を開くことによって、前記加圧源と前記加圧系配管と前記作動個別配管と前記作動パッドが有する前記開口とを順次経由して前記個片化物品に前記高圧ガスを前記所定の噴射時間だけ噴射して前記容器に向かって前記個片化物品を吹き飛ばす。 - 請求項7に記載された個片化物品の製造装置において、
前記制御部は前記所定の噴射時間を以下のようにして決定することを特徴とする個片化物品の製造装置。
(a)前記複数の吸着パッドのうち1個を含む少数個において前記個片化物品を吸着した場合における適正な第1の噴射時間を記憶する。
(b)前記複数の吸着パッドのうち全数個を含む多数個において前記個片化物品を吸着した場合における適正な第2の噴射時間を記憶する。
(c) 前記所定の噴射時間として、前記第1の噴射時間と前記第2の噴射時間とに基づいて、前記複数の吸着パッドのうち前記作動パッドの数において前記個片化物品を吸着した場合における適正な第3の噴射時間を算出して決定する。 - 請求項8に記載された個片化物品の製造装置において、
前記第1の噴射時間は、前記少数個において前記個片化物品を吸着した場合における適正な噴射時間として実測値に基づいて予め得られた時間であり、
前記第2の噴射時間は、前記多数個において前記個片化物品を吸着した場合における適正な噴射時間として実測値に基づいて予め得られた時間であることを特徴とする個片化物品の製造装置。
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180111513A (ko) | 2017-03-31 | 2018-10-11 | 토와 가부시기가이샤 | 절단 장치, 반도체 패키지의 부착 방법 및 전자 부품의 제조 방법 |
CN108987326A (zh) * | 2017-06-02 | 2018-12-11 | 株式会社迪思科 | 芯片收纳方法 |
KR20190003371A (ko) * | 2017-06-30 | 2019-01-09 | 토와 가부시기가이샤 | 워크 반송 장치, 전자 부품의 제조 장치, 워크 반송 방법, 및, 전자 부품의 제조 방법 |
JP2020047900A (ja) * | 2018-09-21 | 2020-03-26 | 株式会社ディスコ | 搬送ユニット及び搬送方法 |
WO2021124602A1 (ja) * | 2019-12-16 | 2021-06-24 | Towa株式会社 | 統計データ生成方法、切断装置及びシステム |
CN114178230A (zh) * | 2021-11-17 | 2022-03-15 | 贵州德科纳精密设备制造有限公司 | 气门自动清洗机 |
JP2022104810A (ja) * | 2020-12-29 | 2022-07-11 | セメス株式会社 | 半導体パッケージの移送方法、半導体パッケージ移送モジュール、及び半導体パッケージ切断及び分類装置 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6861602B2 (ja) * | 2017-09-15 | 2021-04-21 | Towa株式会社 | 保持部材、保持部材の製造方法、保持機構及び製品の製造装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080101894A1 (en) * | 2006-10-31 | 2008-05-01 | Chi Wah Cheng | Singulation handler system for electronic packages |
JP2008538453A (ja) * | 2005-04-20 | 2008-10-23 | ハンミ セミコンダクター カンパニー リミテッド | 半導体パッケージピックアップ装置 |
JP2013198953A (ja) * | 2012-03-23 | 2013-10-03 | Disco Corp | 吸引保持手段の被加工物離脱方法 |
JP2013219201A (ja) * | 2012-04-09 | 2013-10-24 | Disco Abrasive Syst Ltd | 切削装置 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5348033A (en) * | 1991-10-01 | 1994-09-20 | National Semiconductor Corporation | Method and apparatus for handling singulated electronic components |
JP2002050670A (ja) * | 2000-08-04 | 2002-02-15 | Toshiba Corp | ピックアップ装置及びピックアップ方法 |
US6709877B2 (en) * | 2001-07-23 | 2004-03-23 | Asm Assembly Automation Limited | Apparatus and method for testing semiconductor devices |
JP2003168659A (ja) | 2001-12-04 | 2003-06-13 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | 高圧洗浄ノズルを有するシンギュレーション装置 |
JP3849589B2 (ja) | 2002-06-20 | 2006-11-22 | 松下電器産業株式会社 | 電子部品実装装置および電子部品実装方法 |
JP3769254B2 (ja) * | 2002-09-10 | 2006-04-19 | Smc株式会社 | 真空吸着装置及びその駆動方法 |
JP2011207552A (ja) * | 2010-03-29 | 2011-10-20 | Ihi Corp | 浮上搬送装置 |
JP2012033739A (ja) * | 2010-07-30 | 2012-02-16 | Japan Fine Tech Co Ltd | 基板搬送装置 |
KR101559420B1 (ko) * | 2011-01-19 | 2015-10-13 | (주)테크윙 | 테스트핸들러용 반도체소자 파지 및 파지 해제 압 제공 시스템 |
US9519007B2 (en) * | 2012-02-10 | 2016-12-13 | Asm Technology Singapore Pte Ltd | Handling system for testing electronic components |
-
2014
- 2014-07-16 JP JP2014145543A patent/JP6333648B2/ja active Active
-
2015
- 2015-06-11 CN CN201510319500.6A patent/CN105304542B/zh active Active
- 2015-06-11 KR KR1020150082691A patent/KR101741319B1/ko active IP Right Grant
- 2015-06-15 TW TW104119208A patent/TWI548027B/zh active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008538453A (ja) * | 2005-04-20 | 2008-10-23 | ハンミ セミコンダクター カンパニー リミテッド | 半導体パッケージピックアップ装置 |
US20080101894A1 (en) * | 2006-10-31 | 2008-05-01 | Chi Wah Cheng | Singulation handler system for electronic packages |
JP2013198953A (ja) * | 2012-03-23 | 2013-10-03 | Disco Corp | 吸引保持手段の被加工物離脱方法 |
JP2013219201A (ja) * | 2012-04-09 | 2013-10-24 | Disco Abrasive Syst Ltd | 切削装置 |
Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180111513A (ko) | 2017-03-31 | 2018-10-11 | 토와 가부시기가이샤 | 절단 장치, 반도체 패키지의 부착 방법 및 전자 부품의 제조 방법 |
CN108987326A (zh) * | 2017-06-02 | 2018-12-11 | 株式会社迪思科 | 芯片收纳方法 |
JP2018206929A (ja) * | 2017-06-02 | 2018-12-27 | 株式会社ディスコ | チップ収容方法 |
CN108987326B (zh) * | 2017-06-02 | 2024-02-20 | 株式会社迪思科 | 芯片收纳方法 |
KR20190003371A (ko) * | 2017-06-30 | 2019-01-09 | 토와 가부시기가이샤 | 워크 반송 장치, 전자 부품의 제조 장치, 워크 반송 방법, 및, 전자 부품의 제조 방법 |
JP2019012782A (ja) * | 2017-06-30 | 2019-01-24 | Towa株式会社 | ワーク搬送装置、電子部品の製造装置、ワーク搬送方法、および、電子部品の製造方法 |
KR102192278B1 (ko) * | 2017-06-30 | 2020-12-17 | 토와 가부시기가이샤 | 워크 반송 장치, 전자 부품의 제조 장치, 워크 반송 방법, 및, 전자 부품의 제조 방법 |
JP7138002B2 (ja) | 2018-09-21 | 2022-09-15 | 株式会社ディスコ | 搬送ユニット及び搬送方法 |
JP2020047900A (ja) * | 2018-09-21 | 2020-03-26 | 株式会社ディスコ | 搬送ユニット及び搬送方法 |
CN110943025A (zh) * | 2018-09-21 | 2020-03-31 | 株式会社迪思科 | 搬送单元和搬送方法 |
WO2021124602A1 (ja) * | 2019-12-16 | 2021-06-24 | Towa株式会社 | 統計データ生成方法、切断装置及びシステム |
CN114746232A (zh) * | 2019-12-16 | 2022-07-12 | Towa株式会社 | 统计数据生成方法、切割装置以及系统 |
KR20220109463A (ko) * | 2019-12-16 | 2022-08-04 | 토와 가부시기가이샤 | 통계 데이터 생성 방법, 절단 장치 및 시스템 |
JP2021097093A (ja) * | 2019-12-16 | 2021-06-24 | Towa株式会社 | 統計データ生成方法、切断装置及びシステム |
CN114746232B (zh) * | 2019-12-16 | 2024-03-19 | Towa株式会社 | 统计数据生成方法、切割装置以及系统 |
KR102716016B1 (ko) * | 2019-12-16 | 2024-10-15 | 토와 가부시기가이샤 | 통계 데이터 생성 방법, 절단 장치 및 시스템 |
JP2022104810A (ja) * | 2020-12-29 | 2022-07-11 | セメス株式会社 | 半導体パッケージの移送方法、半導体パッケージ移送モジュール、及び半導体パッケージ切断及び分類装置 |
CN114178230A (zh) * | 2021-11-17 | 2022-03-15 | 贵州德科纳精密设备制造有限公司 | 气门自动清洗机 |
CN114178230B (zh) * | 2021-11-17 | 2023-06-16 | 贵州德科纳精密设备制造有限公司 | 气门自动清洗机 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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