JP2016021541A - 個片化物品の移送方法、製造方法及び製造装置 - Google Patents

個片化物品の移送方法、製造方法及び製造装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2016021541A
JP2016021541A JP2014145543A JP2014145543A JP2016021541A JP 2016021541 A JP2016021541 A JP 2016021541A JP 2014145543 A JP2014145543 A JP 2014145543A JP 2014145543 A JP2014145543 A JP 2014145543A JP 2016021541 A JP2016021541 A JP 2016021541A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
injection time
article
pads
suction
individual
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2014145543A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6333648B2 (ja
Inventor
一郎 今井
Ichiro Imai
一郎 今井
渡辺 創
So Watanabe
創 渡辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Towa Corp
Original Assignee
Towa Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Towa Corp filed Critical Towa Corp
Priority to JP2014145543A priority Critical patent/JP6333648B2/ja
Priority to CN201510319500.6A priority patent/CN105304542B/zh
Priority to KR1020150082691A priority patent/KR101741319B1/ko
Priority to TW104119208A priority patent/TWI548027B/zh
Publication of JP2016021541A publication Critical patent/JP2016021541A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6333648B2 publication Critical patent/JP6333648B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6838Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67276Production flow monitoring, e.g. for increasing throughput
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67763Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67766Mechanical parts of transfer devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/77Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
    • H01L21/78Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Robotics (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Dicing (AREA)
  • Manipulator (AREA)
  • Eyeglasses (AREA)

Abstract

【課題】個片化物品を容器に移送する工程において、既に容器に収容された個片化物品が真空破壊用の高圧ガスによって吹き飛ばされることを抑制する。
【解決手段】開閉弁35を使用して所定の噴射時間だけ各加圧系配管33を開くことにより、加圧源19と加圧系配管33と作動切替弁30opと作動個別配管26opと作動パッド28opが有する開口27とを順次経由して電子部品(個片化物品)24に高圧ガスを所定の噴射時間だけ噴射して、トレイ(容器)15に向かって電子部品24を吹き飛ばす。読み出した作動パッド情報に基づいて算出した作動パッド28opの数に応じて噴射時間を決定する。作動パッド28opの数が多い場合には噴射時間を長くし、作動パッド28opの数が少ない場合には噴射時間を短くする。これらにより、既に容器に収容された個片化物品が高圧ガスによって吹き飛ばされることを抑制できる。
【選択図】図4

Description

本発明は、複数の領域を有する対象物を個片化すること(singulation )によって各領域にそれぞれ対応する複数の個片化物品を製造する際に使用される、個片化物品の移送方法、製造方法及び製造装置に関するものである。
回転刃(ブレード)を使用して封止済基板を個片化することによって複数の電子部品を製造することが、広く実施されている(例えば、特許文献1の段落[0018]参照)。複数の電子部品のそれぞれが個片化物品に相当する。
図1を参照して、個片化物品の製造装置の例を説明する。図1は、個片化物品の製造装置の例を示す平面図である。なお、本出願書類におけるいずれの図についても、わかりやすくするために、適宜省略し又は誇張して模式的に概略が描かれている。
図1において、個片化物品の製造装置M1は切断モジュールAと払い出しモジュールBとを有する。切断モジュールAは、受け入れ部Cと切断部Dと洗浄部Eとを有する。切断モジュールAと払い出しモジュールBとは、及び、受け入れ部Cと切断部Dと洗浄部Eとは、X方向に沿って並んで装着されている。受け入れ部Cはプレステージ1を有する。プレステージ1は、個片化物品の製造装置M1の外部から対象物である封止済基板2を受け取る。
切断部Dは、切断用移送機構3と、切断用移送機構3の上に設けられた切断用ステージ4とを有する。切断用ステージ4には、プレステージ1から受け取った封止済基板2が有する一方の面が、吸着、粘着などの周知の技術によって固定される。封止済基板2が有する一方の面は、例えば、封止樹脂が形成された面である(図2参照)。一方、封止済基板2が有する他方の面は、例えば、封止樹脂が形成されていない面である(図2参照)。他方の面には、電子部品が電子機器のプリント基板等に実装されるための外部端子、はんだボール、バンプ等(図示なし)が形成されている。
切断用移送機構3は、封止済基板2を搬送してスピンドル5の下方において停止する。スピンドル5が有する回転軸(図示なし)には回転刃6が固定される。回転刃6は高速で(例えば、15,000〜30,000rpm)回転することができる。例えば、切断用移送機構3及び切断用ステージ4はY、θ方向に適宜移動し、回転刃6はX、Z方向に適宜移動する。これらによって、回転刃6と封止済基板2とが位置合わせされる。切断用移送機構3とスピンドル5とがY方向に相対的に移動することによって、高速で回転する回転刃6が封止済基板2をY方向に沿って切断する。封止済基板2は他方の面から一方の面に向かって切断される(フルカットされる)。回転刃6と封止済基板2とが接触する部分には、切削水(図示なし)が供給される。
洗浄部Eは洗浄機構7と第1搬送機構8とを有する。第1搬送機構8は、封止済基板2が切断されることによって形成された複数の電子部品を含む集合体9を、搬送する。洗浄機構7は、水槽(図示なし)と、水槽内に収容され回転する洗浄ブラシ10とを有する。洗浄ブラシ10は、その下方が水槽内の水に浸かることによって水を含んだ状態で回転する。第1搬送機構8は、集合体9の一方の面を下向きにして他方の面を吸着して、この状態を保って+X方向に移動する。このことによって、回転する洗浄ブラシ10が集合体9の一方の面を洗浄する。洗浄部Eに、洗浄された集合体9を乾燥するために乾燥空気噴射機構を設けてもよい。
払い出しモジュールBは、個片化物品の製造装置M1の外部に複数の電子部品を払い出すモジュールである。払い出しモジュールBは、第2搬送機構11と、下向きの検査用カメラ12と、インデックステーブル13と、移送機構(pick and place機構)14とを有する。払い出しモジュールBは、複数のトレイ15と、X方向の搬送レール16と、Y方向の搬送レール17とを有する。第2搬送機構11は、第1搬送機構8から集合体9を受け取って、集合体9を吸着して固定する。検査用カメラ12は、集合体9が有する他方の面を撮影する。撮影された画像に基づいて、他方の面の外観検査が行われる。加えて、上向きの別の検査用カメラを設けて、その検査用カメラが、第1搬送機構8に吸着された集合体9が有する一方の面を撮影してもよい。
検査された集合体9はインデックステーブル13に移送される。集合体9に含まれる複数の電子部品はそれぞれ移送機構14によって吸着される。複数の電子部品のうち検査の結果良品と判定された電子部品は、移送機構14によって吸着され、X方向の搬送レール16とY方向の搬送レール17とに沿って移送される。最終的に、良品の電子部品は複数のトレイ15のうち良品用のトレイ15に収容される。複数の電子部品のうち検査の結果不良品と判定された電子部品は、複数のトレイ15のうち不良品用のトレイ15に収容される。複数の電子部品のうち検査の結果手直し品と判定された電子部品は、複数のトレイ15のうち手直し品用のトレイ15に収容される。
払い出しモジュールBの下部には、吸引ポンプ(真空ポンプ)、真空エジェクタ等を有する吸引源18が設けられる。吸引源18は、封止済基板2を切断用ステージ4に吸着すること、集合体9を第1搬送機構8及び第2搬送機構11に吸着すること、各電子部品を移送機構14に吸着すること等を目的として設けられる。吸引源18は、配管及び弁(いずれも図示なし)を介して切断用ステージ4、第1搬送機構8、第2搬送機構11、移送機構14等に接続される。払い出しモジュールBの下部には、高圧ガスが貯蔵された高圧ガスタンクからなる加圧源19が設けられる。個片化物品の製造装置M1には、ここまで説明した各構成要素及び各動作を制御する制御部CTLが設けられている。
図2を参照して、封止済基板及び複数の電子部品を含む集合体並びに移送機構が電子部品を移送する工程を説明する。図2(1)は封止済基板の斜視図であり、図2(2)は複数の電子部品を含む集合体の斜視図であり、図2(3)は移送機構が電子部品を移送する工程を示す概略断面図である。
図2(1)に示されるように、封止済基板2は、全体基板20と全体封止樹脂21とを有する。全体基板20は、仮想的に設けられた格子状の境界線22によって複数の領域23に区分けされる。複数の領域23のそれぞれが、図2(2)に示された複数の電子部品24のそれぞれに対応する。図2(1)及び(2)は簡略化された図である。図2(1)及び(2)は、それぞれにおける最も下方に示された角の部分から左上の方向に向かって領域23が4列並び、右上の方向に向かって領域23が5列並ぶ場合(4×5=20個取りの配列を有する場合)を示す。実際の封止済基板2ははるかに多数の領域23が両方向に沿って並ぶ配置を有する場合が多い。
図2(3)に示された移送機構14は、インデックステーブル13において1列に並ぶ電子部品24のうち少なくとも一部がピックアップされ移送されて収容される、所定の個数(例えばN個)の凹部25を有する。移送機構14は凹部25のそれぞれにおいて電子部品24を吸着する。N個の凹部25のそれぞれに対応してN個の個別配管26が設けられる。N個の個別配管26はそれぞれ開口27を有する。凹部25と開口27とを含む吸着パッド28が、吸着する部分(吸着部)として機能する。移送機構14はトレイ15の上方まで移動する。トレイ15には、格子状に形成された凹部からなる収容部29が設けられる。図2(3)に示されるように、移送機構14の凹部25とトレイ15の収容部29とは等しい中心間距離を有する。
N個の電子部品24に対する吸着は、個別配管26と開口27と凹部25とを使用して独立して行われる。移送機構14は、N個の電子部品24をトレイ15の上方まで搬送して停止し、N個の電子部品24に対する吸着を停止する。これにより、通常であれば、N個の電子部品24はトレイ15が有する収容部29に落下して移送される。
N個の電子部品24を移送する工程において、洗浄用の水等によって電子部品24が濡れている場合がある。この場合には、電子部品24と移送機構14の凹部25とが密着することに起因して、電子部品24が落下しないので収容部29に移送されないという事態が発生するおそれがある。移送機構14が有するN個の吸着パッド28がふっ素ゴム、シリコーンゴム等のゴム系材料によって構成されている場合においても、同様の事態が発生するおそれがある。この事態の発生を防ぐために、N個の電子部品24に対する吸着を停止した直後に個別配管26から各電子部品24に向かって高圧ガスを噴射する。このことによって、N個の電子部品24のすべてを確実にトレイ15の各収容部29に移送する。物品に対する吸着を停止した後にその物品に高圧ガスを噴射することによって、言い換えれば正圧を印加することによってその物品を確実に離脱させることは、しばしば真空破壊(vacuum brake)と呼ばれる。
ところで、移送機構14が1回の動作によって移送できる上限の個数N個と、トレイ15が有する収容部29の1列に相当する個数(例えば、M個)とは、通常はN<Mという関係にある。加えて、MがNの倍数になる場合は少ない。したがって、1回の動作によってN個を移送できる移送機構14を1回又は複数回使用して、収容部29の1列に相当する個数M個の電子部品24を移送する場合において(MがNの倍数には相当しないものとする)、移送機構14が移送する電子部品24の数がN個に満たない場合が生じる。この場合には、電子部品24が存在しない凹部25(図2(3)では移送機構14の左端に位置する)が生じる。
電子部品24が存在しない凹部25が生じると、その凹部25が有する個別配管26につながる開口27からトレイ15に向かって、真空破壊用の高圧ガスが噴射される。噴射された高圧ガスは、図2(3)において太い破線の矢印で示される。噴射された高圧ガスにより、既にトレイ15に収容された電子部品24rが吹き飛ばされるおそれがある。電子部品24が吹き飛ばされることによって、第1に、電子部品24に打痕等の傷が付くことがある。第2に、電子部品24が製造装置の下部にまで吹き飛ばされて電子部品24が失われることがある。いずれも電子部品24の歩留まり(良品率)を低下させる原因になる。なお、既にトレイ15に収容された電子部品24rは図2(3)において手前側及び奥側にも存在し得る。
既にトレイ15に収容された電子部品24rが高圧ガスによって吹き飛ばされるというトラブルは、移送機構14が移送できる上限の個数のN個に比べて実際に移送する個数が少ない場合ほど発生しやすいという傾向を有する。この傾向は、すべての(N個の)電子部品24を確実に離脱させることを目的にして設定された流量と噴射時間とを有する高圧ガスが少数の電子部品24に対して集中して噴射されることに起因する。具体的には、移送機構14に保持された少数の電子部品24が離脱した後に、残りの噴射時間の間において余剰の高圧ガスが周囲に拡散することによって、既にトレイ15に収容された電子部品24rが高圧ガスによって吹き飛ばされる。最も極端な例として実際に移送する個数が1個である場合を想定すればこの傾向を理解しやすい。加えて、上述したトラブルは、電子部品24が小型化かつ軽量化されるという近年の技術動向に起因していっそう発生しやすくなっている。
特開2003−168659号公報(第2−4頁、第1−4図)
本発明が解決しようとする課題は、個片化物品を製造する際に個片化物品を容器に移送する工程において、既に容器に収容された個片化物品が真空破壊用に噴射された高圧ガスによって吹き飛ばされることである。
上述した課題を解決するために、本発明に係る個片化物品の移送方法は、対象物を切断することによって個片化された個片化物品を、複数の吸着パッドを有する移送機構によって容器に移送する個片化物品の移送方法であって、開閉弁を使用して、複数の吸着パッドがそれぞれ有する開口にそれぞれつながる複数の個別配管が接続されることができ加圧源につながる加圧系配管を閉じる工程と、吸引源に接続された吸引系配管と加圧系配管とを切り替える複数の切替弁を使用して複数の個別配管と加圧系配管とを接続する工程と、複数の吸着パッドのうち個片化物品を吸着する作動パッドを特定する作動パッド情報を読み出す工程と、複数の切替弁のうち作動パッドにつながる個別配管からなる作動個別配管につながる作動切替弁を使用して作動個別配管と吸引系配管とを接続することによって、作動パッドにおいて個片化物品を吸着する工程と、移送機構を使用して個片化物品を容器の上方まで搬送する工程と、作動切替弁を使用して作動個別配管と吸引系配管とを遮断し、作動個別配管と加圧系配管とを接続する工程と、開閉弁を使用して所定の噴射時間だけ加圧系配管を開くことによって、加圧源と加圧系配管と作動個別配管と作動パッドが有する開口とを順次経由して個片化物品に高圧ガスを所定の噴射時間だけ噴射して容器に向かって個片化物品を吹き飛ばす工程とを備え、作動パッド情報を読み出す工程の後に、作動パッド情報に基づいて作動パッドの数を算出する工程と、作動パッドの数に応じて噴射時間を決定する工程とを更に備え、決定する工程においては、作動パッドの数が多い場合には噴射時間を長くし、作動パッドの数が少ない場合には噴射時間を短くすることを特徴とする。
本発明に係る個片化物品の移送方法は、上述の移送方法において、複数の吸着パッドのうち1個を含む少数個において個片化物品を吸着した場合における適正な第1の噴射時間を記憶する工程と、複数の吸着パッドのうち全数個を含む多数個において個片化物品を吸着した場合における適正な第2の噴射時間を記憶する工程とを備え、決定する工程においては、所定の噴射時間として、第1の噴射時間と第2の噴射時間とに基づいて、複数の吸着パッドのうち作動パッドの数において個片化物品を吸着した場合における適正な第3の噴射時間を算出して決定することを特徴とする。
本発明に係る個片化物品の移送方法は、上述の移送方法において、第1の噴射時間は、少数個において個片化物品を吸着した場合における適正な噴射時間として実測値に基づいて予め得られた時間であり、第2の噴射時間は、多数個において個片化物品を吸着した場合における適正な噴射時間として実測値に基づいて予め得られた時間であることを特徴とする。
本発明に係る個片化物品の製造方法は、対象物を切断する工程を有する個片化物品の製造方法であって、開閉弁を使用して、複数の吸着パッドがそれぞれ有する開口にそれぞれつながる複数の個別配管が接続されることができ加圧源につながる加圧系配管を閉じる工程と、吸引源に接続された吸引系配管と加圧系配管とを切り替える複数の切替弁を使用して複数の個別配管と加圧系配管とを接続する工程と、複数の吸着パッドのうち個片化物品を吸着する作動パッドを特定する作動パッド情報を読み出す工程と、複数の切替弁のうち作動パッドにつながる個別配管からなる作動個別配管につながる作動切替弁を使用して作動個別配管と吸引系配管とを接続することによって、作動パッドにおいて個片化物品を吸着する工程と、移送機構を使用して個片化物品を容器の上方まで搬送する工程と、作動切替弁を使用して作動個別配管と吸引系配管とを遮断し、作動個別配管と加圧系配管とを接続する工程と、開閉弁を使用して所定の噴射時間だけ加圧系配管を開くことによって、加圧源と加圧系配管と作動個別配管と作動パッドが有する開口とを順次経由して個片化物品に高圧ガスを所定の噴射時間だけ噴射して容器に向かって個片化物品を吹き飛ばす工程とを備え、作動パッド情報を読み出す工程の後に、作動パッド情報に基づいて作動パッドの数を算出する工程と、作動パッドの数に応じて噴射時間を決定する工程とを更に備え、決定する工程においては、作動パッドの数が多い場合には噴射時間を長くし、作動パッドの数が少ない場合には噴射時間を短くすることを特徴とする。
本発明に係る個片化物品の製造方法は、上述の製造方法において、複数の吸着パッドのうち1個を含む少数個において個片化物品を吸着した場合における適正な第1の噴射時間を記憶する工程と、複数の吸着パッドのうち全数個を含む多数個において個片化物品を吸着した場合における適正な第2の噴射時間を記憶する工程とを備え、決定する工程においては、所定の噴射時間として、第1の噴射時間と第2の噴射時間とに基づいて、複数の吸着パッドのうち作動パッドの数において個片化物品を吸着した場合における適正な第3の噴射時間を算出して決定することを特徴とする。
本発明に係る個片化物品の製造方法は、上述の製造方法において、第1の噴射時間は、少数個において個片化物品を吸着した場合における適正な噴射時間として実測値に基づいて予め得られた時間であり、第2の噴射時間は、多数個において個片化物品を吸着した場合における適正な噴射時間として実測値に基づいて予め得られた時間であることを特徴とする。
本発明に係る個片化物品の製造装置は、切断手段と、該切断手段を使用して対象物を切断することによって個片化された個片化物品を容器に移送する移送機構とを備えた個片化物品の製造装置であって、個片化物品を吸着するための吸引源と、吸引源に接続された吸引系配管と、移送機構に設けられ、複数の個片化物品をそれぞれ吸着するための複数の吸着パッドと、複数の吸着パッドにそれぞれ形成された複数の開口と、移送機構に設けられ、複数の開口にそれぞれ接続された複数の個別配管と、複数の個別配管に高圧ガスを供給して個片化物品を加圧することによって個片化物品を複数の吸着パッドから吹き飛ばすための加圧源と、加圧源に接続された加圧系配管と、加圧系配管に設けられ加圧系配管を開閉する開閉弁と、複数の個別配管にそれぞれ設けられ、複数の個別配管のそれぞれと吸引系配管とを接続し、又は、複数の個別配管のそれぞれと加圧系配管とを接続する複数の切替弁と、少なくとも開閉弁と複数の切替弁とを制御する制御部とを備え、制御部は、少なくとも開閉弁と複数の切替弁とを以下のようにして制御することを特長とする。
(1)個片化物品を吸着する場合
(a)開閉弁を使用して加圧系配管を閉じる。
(b)複数の吸着パッドのうち個片化物品を吸着する作動パッドを特定する作動パッド情報を読み出す。
(c)複数の切替弁のうち作動パッドが有する開口に連通する個別配管からなる作動個別配管に設けられた作動切替弁を使用して作動個別配管と吸引系配管とを接続することによって、作動パッドにおいて個片化物品を吸着する。
(2)個片化物品を容器に移載する場合
(a)作動パッド情報に基づいて作動パッドの数を算出する。
(b)作動パッドの数に応じて、作動パッドの数が多い場合には個片化物品に高圧ガスが噴射される噴射時間を長くし、作動パッドの数が少ない場合には噴射時間を短くして、所定の噴射時間を決定する。
(c)作動切替弁を使用して作動個別配管と吸引系配管とを遮断し、作動個別配管と加圧系配管とを接続する。
(d)開閉弁を使用して所定の噴射時間だけ加圧系配管を開くことによって、加圧源と加圧系配管と作動個別配管と作動パッドが有する開口とを順次経由して個片化物品に高圧ガスを所定の噴射時間だけ噴射して容器に向かって個片化物品を吹き飛ばす。
本発明に係る個片化物品の製造装置は、上述の製造装置において、制御部は所定の噴射時間を以下のようにして決定することを特徴とする。
(a)複数の吸着パッドのうち1個を含む少数個において個片化物品を吸着した場合における適正な第1の噴射時間を記憶する。
(b)複数の吸着パッドのうち全数個を含む多数個において個片化物品を吸着した場合における適正な第2の噴射時間を記憶する。
(c) 所定の噴射時間として、第1の噴射時間と第2の噴射時間とに基づいて、複数の吸着パッドのうち作動パッドの数において個片化物品を吸着した場合における適正な第3の噴射時間を算出して決定する。
本発明に係る個片化物品の製造装置は、上述の製造装置において、第1の噴射時間は、少数個において個片化物品を吸着した場合における適正な噴射時間として実測値に基づいて予め得られた時間であり、第2の噴射時間は、多数個において個片化物品を吸着した場合における適正な噴射時間として実測値に基づいて予め得られた時間であることを特徴とする。
本発明によれば、所定の噴射時間だけ加圧系配管を開くことによって、加圧源と加圧系配管と作動個別配管と作動パッドが有する開口とを順次経由して個片化物品に高圧ガスを所定の噴射時間だけ噴射して、容器に向かって個片化物品を吹き飛ばす。作動パッド情報に基づいて記憶した作動パッドの数に応じて所定の噴射時間を決定する。作動パッドの数が多い場合には所定の噴射時間を長くし、作動パッドの数が少ない場合には所定の噴射時間を短くする。このことによって、既に容器に収容された個片化物品が真空破壊用に噴射された高圧ガスによって吹き飛ばされることを抑制できる。
個片化物品の製造装置の例を示す概略平面図である。 (1)は封止済基板の斜視図、(2)は複数の電子部品を含む集合体の斜視図、(3)は移送機構がトレイに電子部品を移送する工程を示す概略断面図である。 個片化物品の製造装置の配管系と移送機構と複数の個片化物品を吸着した状態とを示す概略図である。 個片化物品の製造装置において複数の個片化物品を移送する工程を示す概略図である。
開閉弁35を使用して所定の噴射時間だけ各加圧系配管33を開くことによって、加圧源19と加圧系配管33と作動切替弁30opと作動個別配管26opと作動パッド28opが有する開口27とを順次経由して電子部品24に高圧ガスを所定の噴射時間だけ噴射して、トレイ15に向かって電子部品24を吹き飛ばす。作動パッド情報に基づいて記憶した作動パッド28opの数に応じて所定の噴射時間を決定する。具体的には、作動パッド28opの数が多い場合には所定の噴射時間を長くし、作動パッド28opの数が少ない場合には所定の噴射時間を短くする。
図1と図3とを参照して、本発明に係る個片化物品の製造装置が有する配管系と移送機構とを説明する。図3に示されるように、個片化物品の製造装置1Aに設けられた移送機構14(図1参照)は、制御部CTLによって制御されるモータM(図3参照)によって移動する。移送機構14はN個の個別配管26を有する。N個の個別配管26のそれぞれには切替弁30が設けられる。N個の切替弁30の一方は吸引系配管31に接続される。吸引系配管31は吸引系共通配管32を介して吸引源18に接続される。切替弁30の一方は、加圧系配管33と加圧系共通配管34と開閉弁35とを順次介して加圧源19に接続される。
図3において、吸着又は高圧ガスの噴射に関与して作動する構成要素が次のように示される。N個の個別配管26のうち作動するものが作動個別配管26opとして示される。N個の吸着パッド28のうち作動するものが作動パッド28opとして示される。N個の切替弁30のうち吸着又は噴射に関与して作動するものが作動切替弁30opとして示される。
制御部CTLは、次のようにしてN個の切替弁30と1個の開閉弁35とを制御する。第1に、開閉弁35に信号を供給して、開閉弁35を開閉させる。このことによって、加圧系配管33のすべてが一括して、加圧源19に接続され、又は、加圧源19から遮断される。
第2に、N個の切替弁30のそれぞれに信号を供給して、個別配管26と吸引系配管31とを接続し、又は、個別配管26と加圧系配管33とを接続する。これらの接続は、制御部CTLが記憶する特定の情報に基づいて個別配管26毎に独立して行われる。その情報は、電子部品24が吸着される吸着パッド28はどの吸着パッド28かということに関する情報である。言い換えれば、その情報は、N個の吸着パッド28のうちどの吸着パッド28を作動させるべきかということに関する情報(以下「作動パッド情報」という。)である。
作動パッド情報は、対応する電子部品24がない吸着パッド28が存在するか否かということ、及び、存在するとすればどの吸着パッド28かということを、示す情報である。作動パッド情報は、図1に示されたインデックステーブル13における電子部品24の配置と、移送機構14が1回の動作によって移送できる上限の個数であるN個と、トレイ15が有する収容部29の1列に相当する個数であるM個とに基づいて、制御部CTLによって算出されて記憶手段(図示なし)に記憶される。
図3と図4とを参照して、移送機構14の動作を説明する。移送機構14の動作における第1の工程として、図1に示されたインデックステーブル13から、移送機構14が電子部品24を吸着する工程を説明する。
図3は、移送機構14が1回の動作によって移送できる上限の個数であるN個に満たない個数の電子部品24を移送機構14が吸着して移送する場合を示す。図3は、移送機構14の右端の2個の吸着パッド28において対応する電子部品24がない場合を示す。
制御部CTLは次のようにして移送機構14を動作させる。まず、開閉弁35に信号を供給して開閉弁35を閉じる。N個の切替弁30のそれぞれに信号を供給して、個別配管26と加圧系配管33とを接続する。これらによって、各吸着パッド28においては吸着も高圧ガスの噴射も行われない状態になる。
次に、制御部CTLは、モータMに信号を供給して、モータMを使用して移送機構14をインデックステーブル13(図1を参照)の上方における所定の場所まで移動させる。別のモータ(図示なし)に信号を供給して、そのモータによって移送機構14を下降させる。これらのことによって、各吸着パッド28に対応する電子部品24の真上であってすぐ近くに各吸着パッド28が位置するように、移送機構14が移動する。
次に、制御部CTLは、図3に示された移送機構14における右端の2個の吸着パッド28において対応する電子部品24がないことを示す作動パッド情報を、記憶手段から読み出す(取得する)。この作動パッド情報は、移送機構14がインデックステーブル13の上方における所定の場所まで移動した後に光学センサ等によって得られた電子部品24の有無に関する情報であってもよい。
次に、制御部CTLは、作動パッド情報に基づいて、図2に示された吸着パッド28のうちで、図3において対応する電子部品24がない右端の2個の吸着パッド28以外のものを、作動させるべき作動パッド28opに決定する。これに伴い、図2に示されたN個の個別配管26のうち右端の2個の個別配管26以外のものが作動個別配管26opに決定され、N個の切替弁30のうち作動個別配管26opにつながるものが作動切替弁30opに決定される。
次に、制御部CTLは、作動切替弁30opに信号を供給して、作動個別配管26opと吸引系配管31とを接続する。このことによって、右端の2個の吸着パッド28以外の(N−2)個の作動パッド28opにおいて、対応する電子部品24を吸着する。図3においては、吸着に寄与する吸気が太い破線の矢印によって仮想的に示される。
ここまでの工程によれば、電子部品24を吸着する場合において、対応する電子部品24がない右端の2個の吸着パッド28においては吸引が行われない。このことにより、これらの吸着パッド28における無駄な吸引が行われなくなる。したがって、各作動パッド28opにおける吸着力の低下が防止される。
移送機構14の動作における第2の工程として、図3と図4とを参照して、図1に示された移送機構14が吸着した電子部品24をトレイ15に移し替える工程を説明する。
まず、移送機構14が(N−2)個の電子部品24を吸着した後に、制御部CTLはモータ(図示なし)に信号を供給して、そのモータによって移送機構14を上昇させる。その後に、モータMに信号を供給して、モータMを使用して移送機構14をトレイ15(図1参照)の上方における所定の場所まで移動させる。この場所において、これから電子部品24が収容されるトレイ15が有する収容部29と移送機構14が有する吸着パッド28とが相対向する。図3はこの時点における移送機構14の状態を示す。
次に、図3に示された状態から、制御部CTLは、モータ(図示なし)に信号を供給して、そのモータによって移送機構14を下降させる。これによって、トレイ15が有する収容部29のうちこれから電子部品24を収容しようとする収容部29の真上であってそれらの収容部29のすぐ近くまで、移送機構14が下降する。図4はこの時点における移送機構14の位置を示す。
次に、図3に示された状態から、制御部CTLは、作動切替弁30opに信号を供給して、作動個別配管26opと加圧系配管33とを接続する。これによって、すべての作動パッド28opにおいて吸引源18による吸引を停止する。実際に電子部品24を吸着するのは右端の2個以外の作動パッド28opであるので、これらの(N−2)個の作動パッド28opにおいて電子部品24に対する吸着を停止する。吸着が停止された電子部品24は、通常であれば落下して真下に位置する収容部29に収容される。
なお、図3に示された時点において、開閉弁35によって加圧系配管33のすべてが一括して加圧源19から遮断された状態にある。したがって、図3に示された状態の後であって吸引が停止された時点、言い換えれば作動個別配管26opと加圧系配管33とが接続された時点においては、各吸着パッド28においては吸着も高圧ガスの噴射も行われない。
この時点において、図4に示された右から3番目の電子部品24のように電子部品24が落下しないことがある。このことは、電子部品24が濡れていること、吸着パッド28がゴム系材料によって構成されていること等に起因して、電子部品24と吸着パッド28の凹部25とが密着することによって生じる。
図3に示された吸着パッド28のうちどの吸着パッド28において電子部品24が密着して残っているかということを知るためには、すべての吸着パッド28を対象にしてセンサを設ける必要がある。これらのセンサを設けることは費用を要する。費用を削減するためにセンサを設けない場合には、どの吸着パッド28において電子部品24と凹部25とが密着して残っているかということを知ることはできない。したがって、すべての電子部品24を確実に落下させるためには、図3に示された吸着パッド28のすべてを作動パッド28opにして、すべての開口27から高圧ガスを噴射する必要がある。
制御部CTLは、すべての開口27から高圧ガスを噴射するために、開閉弁35に信号を供給して開閉弁35を開く。このことによって、すべての吸着パッド28における開口27から高圧ガスを噴射する。したがって、すべての電子部品24を確実に落下させて各収容部29に収容させることができる。後述するように、高圧ガスを噴射する時間(高圧ガスの噴射時間)は、制御部CTLによって予め決定される。
図4は、吸着が停止された時点において左側の3個の電子部品24が落下し、右から3番目の電子部品24が落下しなかった場合であって、かつ、右から3番目の電子部品24が凹部25に密着した状態から吹き飛ばされ始めた直後の状態を示す。
この場合において、電子部品24が存在しない凹部25(図4では右端の2個)における開口27からもトレイ15に向かって高圧ガスが噴射される。噴射された高圧ガスは、図4において太い破線の矢印で示される。噴射された高圧ガスにより、既にトレイ15に収容された電子部品24r(電子部品24rは、図4において手前側又は奥側にも存在し得る)が吹き飛ばされるおそれがある。
制御部CTLは、取得した作動パッド情報に基づいて、高圧ガスの噴射時間を次のようにして決定する。まず、作動パッド情報に基づいて作動パッド28opの数を算出する。次に、作動パッド28opの数に応じて噴射時間を算出して決定する。具体的には、作動パッド28opの数が多い場合には噴射時間を長く設定し、作動パッド28opの数が少ない場合には噴射時間を短く設定して、噴射時間を決定する。
本実施例によれば、作動パッド28opの数が少ない場合(最も極端な例は、実際に移送する個数が1個である場合)には噴射時間を短く設定する。このことにより、すべての(N個の)電子部品24を確実に離脱させることを目的にして設定された流量を有する高圧ガスが、少数の電子部品24に対して集中して噴射される時間が短時間になる。したがって、少数の(例えば1個の)電子部品24が離脱した後に余剰の高圧ガスが周囲に拡散する時間が短くなる。よって、既にトレイ15に収容された電子部品24rが高圧ガスによって吹き飛ばされることを抑制できる。
加えて、本実施例によれば、作動パッド28opの数が多い場合には噴射時間を長く設定する。最も極端な例として実際に移送する個数がN個である場合には、N個の電子部品24を確実に離脱させることを目的にして設定された流量と噴射時間とを有する高圧ガスをN個の電子部品24に対して噴射する。したがって、すべての(N個の)電子部品24を確実に離脱させることができる。
加えて、本実施例によれば、すべての吸着パッド28においてセンサを設けない。したがって、コストを要することなく、既にトレイ15に収容された電子部品24rが高圧ガスによって吹き飛ばされることを抑制できる。
なお、移送機構14が実際に移送する電子部品24の数が移送できる上限の個数であるN個に満たない場合が生じる別の要因がある。その要因は、検査(例えば、図1に示されたカメラ12を使用した外観検査)の結果良品であると判定された電子部品24だけを移送機構14が移送することである。良品の電子部品24を選ぶ態様としては、第1に、不良品に付されたマークに基づいて良品の電子部品24を選ぶ場合がある。第2に、良品と不良品とを示すマッピング情報に基づいて良品の電子部品24を選ぶ場合がある。これらの場合においては、マークを画像認識して得られた不良品を特定する情報及びマッピング情報が、作動パッド情報に相当する。
本発明に係る個片化物品の製造方法における高圧ガスの噴射時間と高圧ガスの流量とを決定する方法を説明する。この方法は、個片化物品である電子部品について、大きさ、形状、重量、材料、表面の平滑性等が様々であることを考慮して、電子部品の種類毎、シリーズ毎に実施することが好ましい。例えば、電子部品24が有する封止樹脂が柔らかいシリコーン樹脂である場合には、電子部品24と凹部25とが密着する頻度が高くなる。
まず、実際に移送する電子部品の個数が最多である場合、すなわちN個である場合において、最適な噴射条件を実験によって決定する。この場合における噴射条件は、N個の電子部品を確実に離脱させることができる、噴射時間Tnと電子部品1個当たりの流量Fnとの組合せである。Nが非常に多い場合においては、N個に満たない多数(例えば、(N−1)、(N−2)、・・・個)の電子部品を使用して決定してもよい。
次に、実際に移送する電子部品の個数が最少である場合、すなわち1個である場合において、最適な噴射条件を実験によって決定する。この場合における噴射条件は、その1個の電子部品を確実に離脱させることができ、かつ、その1個の近傍において既にトレイ15に収容された電子部品24rが吹き飛ばされない程度の、噴射時間T1と電子部品1個当たりの流量F1との組合せである。Nが非常に多い場合においては、1個を超える少数(例えば、1、2、・・・個)の電子部品を使用して決定してもよい。
次に、上述した2つの最適な噴射条件に基づいて、2種類のグラフを作成する。第1のグラフは、横軸に電子部品の個数を、縦軸に高圧ガスの噴射時間をそれぞれとり、電子部品の個数である1及びNと、それぞれ対応する高圧ガスの噴射時間T1及びTnとをプロットしたグラフである。第2のグラフは、横軸に電子部品の個数を、縦軸に高圧ガスの噴射時間をそれぞれとり、電子部品の個数である1及びNと、それぞれ対応する電子部品1個当たりの高圧ガスの流量F1及びFnとをプロットしたグラフである。これらの2種類のグラフを使用して、実際に移送する電子部品の個数が2個以上で(N−1)個以下である場合について、最適な噴射時間と最適な流量とを補間して算出する。これらの最適な噴射時間と最適な流量との複数個の組合せを、ルックアップテーブル(lookup table)として制御部CTLに記憶させることが好ましい。
本実施例によれば、予め少なくとも2つの場合における最適な噴射条件を実験によって決定する。その実験によって得られた実測値に基づいて他の場合における最適な噴射条件を算出して、それらの噴射条件を制御部CTLに記憶させる。したがって、制御部CTLが、作動パッド情報に基づいてルックアップテーブルから対応する最適な噴射条件を見出して、その最適な噴射条件によって開閉弁35を制御できる。移送する電子部品の数が1個からN個までのすべての場合において最適な噴射時間と最適な流量との組合せを見出して、それらN個の組合せを制御部CTLに記憶させてもよい。
なお、上述した各実施例において、対象物としての封止済基板2は、その封止済基板2を切断してLEDパッケージ、CCD等の光素子(光学系電子部品)を製造する場合における、透光性樹脂を含む封止済基板であってもよい。対象物は、封止済基板以外に、シリコンウェーハ、化合物半導体ウェーハ等の半導体ウェーハ類、ガラス基板、セラミックス基板等の基板類であってもよい。対象物は、シリコンウェーハ等であって複数のMEMS(Micro Electro Mechanical Systems )が作り込まれた基板類であってもよい。
対象物は、封止済基板以外に、透光性樹脂を含む樹脂成形体を切断して光学レンズ、光通信部品、導光板等の光学系の物品を製造する場合における樹脂成形体であってもよい。特に、光素子や光学系の物品を製造する場合において打痕等の傷が発生することは、歩留まり低下の原因になる。本発明によれば、光素子や光学系の物品に傷が発生することを防止することによって、光素子や光学系の物品を製造する際の歩留まりを向上させることができる。対象物は、光学系の物品以外の一般的な樹脂成形品であってもよい。言い換えれば、対象物を切断して個片化する際に傷の発生を避けたい場合において本発明を適用することができる。
切断手段としては、回転刃17の他に、レーザ光、ウォータージェット、ワイヤソー、バンドソー、ブラスト、又は、全体基板20における境界線22に設けられた溝を利用する割断のうち少なくともいずれか1つを使用することができる。
加圧源に貯蔵される高圧ガスとしては圧縮空気を使用できる。圧縮空気の他に、工場において入手できる気体、例えば窒素ガス等を圧縮した高圧ガスを使用できる。
ここまで、移送機構14に複数の吸着パッド28が一体化されて設けられた例を説明した。この例に限らず、複数の吸着パッド28が独立して、言い換えれば別々の部材として設けられていてもよい。
ここまで、切断手段を有する製造装置に組み込まれた移送機構について説明した。この例に限らず、切断手段を有さない製造装置に組み込まれた移送機構に対しても、本発明を適用できる。
また、本発明は、上述の各実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で、必要に応じて、任意にかつ適宜に組み合わせ、変更し、又は選択して採用できるものである。
1 プレステージ
2 封止済基板(対象物)
3 切断用移送機構
4 切断用ステージ
5 スピンドル
6 回転刃(切断手段)
7 洗浄機構
8 第1搬送機構
9 集合体
10 洗浄ブラシ
11 第2搬送機構
12 検査用カメラ
13 インデックステーブル
14 移送機構
15 トレイ(容器)
16、17 搬送レール
18 吸引源
19 加圧源
20 全体基板
21 全体封止樹脂
22 境界線
23 領域
24 電子部品(個片化物品)
25 凹部
26 個別配管
26op 作動個別配管
27 開口
28 吸着パッド
28op 作動パッド
29 収容部
30 切替弁
30op 作動切替弁
31 吸引系配管
32 吸引系共通配管
33 加圧系配管
34 加圧系共通配管
35 開閉弁
A 切断モジュール
B 払い出しモジュール
C 受け入れ部
CTL 制御部
D 切断部
E 洗浄部
M モータ
M1 個片化物品の製造装置

Claims (9)

  1. 対象物を切断することによって個片化された個片化物品を、複数の吸着パッドを有する移送機構によって容器に移送する個片化物品の移送方法であって、
    開閉弁を使用して、前記複数の吸着パッドがそれぞれ有する開口にそれぞれつながる複数の個別配管が接続されることができ加圧源につながる加圧系配管を閉じる工程と、
    吸引源に接続された吸引系配管と前記加圧系配管とを切り替える複数の切替弁を使用して前記複数の個別配管と前記加圧系配管とを接続する工程と、
    前記複数の吸着パッドのうち前記個片化物品を吸着する作動パッドを特定する作動パッド情報を読み出す工程と、
    前記複数の切替弁のうち前記作動パッドにつながる前記個別配管からなる作動個別配管につながる作動切替弁を使用して前記作動個別配管と前記吸引系配管とを接続することによって、前記作動パッドにおいて前記個片化物品を吸着する工程と、
    前記移送機構を使用して前記個片化物品を前記容器の上方まで搬送する工程と、
    前記作動切替弁を使用して前記作動個別配管と前記吸引系配管とを遮断し、前記作動個別配管と前記加圧系配管とを接続する工程と、
    前記開閉弁を使用して所定の噴射時間だけ前記加圧系配管を開くことによって、前記加圧源と前記加圧系配管と前記作動個別配管と前記作動パッドが有する前記開口とを順次経由して前記個片化物品に高圧ガスを前記所定の噴射時間だけ噴射して前記容器に向かって前記個片化物品を吹き飛ばす工程とを備え、
    前記作動パッド情報を読み出す工程の後に、
    前記作動パッド情報に基づいて前記作動パッドの数を算出する工程と、
    前記作動パッドの数に応じて前記噴射時間を決定する工程とを更に備え、
    前記決定する工程においては、前記作動パッドの数が多い場合には前記噴射時間を長くし、前記作動パッドの数が少ない場合には前記噴射時間を短くすることを特徴とする個片化物品の移送方法。
  2. 請求項1に記載された個片化物品の移送方法において、
    前記複数の吸着パッドのうち1個を含む少数個において前記個片化物品を吸着した場合における適正な第1の噴射時間を記憶する工程と、
    前記複数の吸着パッドのうち全数個を含む多数個において前記個片化物品を吸着した場合における適正な第2の噴射時間を記憶する工程とを備え、
    前記決定する工程においては、前記所定の噴射時間として、前記第1の噴射時間と前記第2の噴射時間とに基づいて、前記複数の吸着パッドのうち前記作動パッドの数において前記個片化物品を吸着した場合における適正な第3の噴射時間を算出して決定することを特徴とする個片化物品の移送方法。
  3. 請求項2に記載された個片化物品の移送方法において、
    前記第1の噴射時間は、前記少数個において前記個片化物品を吸着した場合における適正な噴射時間として実測値に基づいて予め得られた時間であり、
    前記第2の噴射時間は、前記多数個において前記個片化物品を吸着した場合における適正な噴射時間として実測値に基づいて予め得られた時間であることを特徴とする個片化物品の移送方法。
  4. 対象物を切断する工程を有する個片化物品の製造方法であって、
    開閉弁を使用して、前記複数の吸着パッドがそれぞれ有する開口にそれぞれつながる複数の個別配管が接続されることができ加圧源につながる加圧系配管を閉じる工程と、
    吸引源に接続された吸引系配管と前記加圧系配管とを切り替える複数の切替弁を使用して前記複数の個別配管と前記加圧系配管とを接続する工程と、
    前記複数の吸着パッドのうち前記個片化物品を吸着する作動パッドを特定する作動パッド情報を読み出す工程と、
    前記複数の切替弁のうち前記作動パッドにつながる前記個別配管からなる作動個別配管につながる作動切替弁を使用して前記作動個別配管と前記吸引系配管とを接続することによって、前記作動パッドにおいて前記個片化物品を吸着する工程と、
    前記移送機構を使用して前記個片化物品を前記容器の上方まで搬送する工程と、
    前記作動切替弁を使用して前記作動個別配管と前記吸引系配管とを遮断し、前記作動個別配管と前記加圧系配管とを接続する工程と、
    前記開閉弁を使用して所定の噴射時間だけ前記加圧系配管を開くことによって、前記加圧源と前記加圧系配管と前記作動個別配管と前記作動パッドが有する前記開口とを順次経由して前記個片化物品に高圧ガスを前記所定の噴射時間だけ噴射して前記容器に向かって前記個片化物品を吹き飛ばす工程とを備え、
    前記作動パッド情報を読み出す工程の後に、
    前記作動パッド情報に基づいて前記作動パッドの数を算出する工程と、
    前記作動パッドの数に応じて前記噴射時間を決定する工程とを更に備え、
    前記決定する工程においては、前記作動パッドの数が多い場合には前記噴射時間を長くし、前記作動パッドの数が少ない場合には前記噴射時間を短くすることを特徴とする個片化物品の製造方法。
  5. 請求項4に記載された個片化物品の製造方法において、
    前記複数の吸着パッドのうち1個を含む少数個において前記個片化物品を吸着した場合における適正な第1の噴射時間を記憶する工程と、
    前記複数の吸着パッドのうち全数個を含む多数個において前記個片化物品を吸着した場合における適正な第2の噴射時間を記憶する工程とを備え、
    前記決定する工程においては、前記所定の噴射時間として、前記第1の噴射時間と前記第2の噴射時間とに基づいて、前記複数の吸着パッドのうち前記作動パッドの数において前記個片化物品を吸着した場合における適正な第3の噴射時間を算出して決定することを特徴とする個片化物品の製造方法。
  6. 請求項5に記載された個片化物品の製造方法において、
    前記第1の噴射時間は、前記少数個において前記個片化物品を吸着した場合における適正な噴射時間として実測値に基づいて予め得られた時間であり、
    前記第2の噴射時間は、前記多数個において前記個片化物品を吸着した場合における適正な噴射時間として実測値に基づいて予め得られた時間であることを特徴とする個片化物品の製造方法。
  7. 切断手段と、該切断手段を使用して対象物を切断することによって個片化された個片化物品を容器に移送する移送機構とを備えた個片化物品の製造装置であって、
    前記個片化物品を吸着するための吸引源と、
    前記吸引源に接続された吸引系配管と、
    前記移送機構に設けられ、複数の前記個片化物品をそれぞれ吸着するための複数の吸着パッドと、
    前記複数の吸着パッドにそれぞれ形成された複数の開口と、
    前記移送機構に設けられ、前記複数の開口にそれぞれ接続された複数の個別配管と、
    前記複数の個別配管に高圧ガスを供給して前記個片化物品を加圧することによって前記個片化物品を前記複数の吸着パッドから吹き飛ばすための加圧源と、
    前記加圧源に接続された加圧系配管と、
    前記加圧系配管に設けられ前記加圧系配管を開閉する開閉弁と、
    前記複数の個別配管にそれぞれ設けられ、前記複数の個別配管のそれぞれと前記吸引系配管とを接続し、又は、前記複数の個別配管のそれぞれと前記加圧系配管とを接続する複数の切替弁と、
    少なくとも前記開閉弁と前記複数の切替弁とを制御する制御部とを備え、
    前記制御部は、少なくとも前記開閉弁と前記複数の切替弁とを以下のようにして制御することを特長とする個片化物品の製造装置。
    (1)前記個片化物品を吸着する場合
    (a)前記開閉弁を使用して前記加圧系配管を閉じる。
    (b)前記複数の吸着パッドのうち前記個片化物品を吸着する作動パッドを特定する作動パッド情報を読み出す。
    (c)前記複数の切替弁のうち前記作動パッドが有する前記開口に連通する前記個別配管からなる作動個別配管に設けられた作動切替弁を使用して前記作動個別配管と前記吸引系配管とを接続することによって、前記作動パッドにおいて前記個片化物品を吸着する。
    (2)前記個片化物品を容器に移載する場合
    (a)前記作動パッド情報に基づいて前記作動パッドの数を算出する。
    (b)前記作動パッドの数に応じて、前記作動パッドの数が多い場合には前記個片化物品に前記高圧ガスが噴射される噴射時間を長くし、前記作動パッドの数が少ない場合には前記噴射時間を短くして、所定の噴射時間を決定する。
    (c)前記作動切替弁を使用して前記作動個別配管と前記吸引系配管とを遮断し、前記作動個別配管と前記加圧系配管とを接続する。
    (d)前記開閉弁を使用して前記所定の噴射時間だけ前記加圧系配管を開くことによって、前記加圧源と前記加圧系配管と前記作動個別配管と前記作動パッドが有する前記開口とを順次経由して前記個片化物品に前記高圧ガスを前記所定の噴射時間だけ噴射して前記容器に向かって前記個片化物品を吹き飛ばす。
  8. 請求項7に記載された個片化物品の製造装置において、
    前記制御部は前記所定の噴射時間を以下のようにして決定することを特徴とする個片化物品の製造装置。
    (a)前記複数の吸着パッドのうち1個を含む少数個において前記個片化物品を吸着した場合における適正な第1の噴射時間を記憶する。
    (b)前記複数の吸着パッドのうち全数個を含む多数個において前記個片化物品を吸着した場合における適正な第2の噴射時間を記憶する。
    (c) 前記所定の噴射時間として、前記第1の噴射時間と前記第2の噴射時間とに基づいて、前記複数の吸着パッドのうち前記作動パッドの数において前記個片化物品を吸着した場合における適正な第3の噴射時間を算出して決定する。
  9. 請求項8に記載された個片化物品の製造装置において、
    前記第1の噴射時間は、前記少数個において前記個片化物品を吸着した場合における適正な噴射時間として実測値に基づいて予め得られた時間であり、
    前記第2の噴射時間は、前記多数個において前記個片化物品を吸着した場合における適正な噴射時間として実測値に基づいて予め得られた時間であることを特徴とする個片化物品の製造装置。
JP2014145543A 2014-07-16 2014-07-16 個片化物品の移送方法、製造方法及び製造装置 Active JP6333648B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014145543A JP6333648B2 (ja) 2014-07-16 2014-07-16 個片化物品の移送方法、製造方法及び製造装置
CN201510319500.6A CN105304542B (zh) 2014-07-16 2015-06-11 单片化物品的移送方法、制造方法以及制造装置
KR1020150082691A KR101741319B1 (ko) 2014-07-16 2015-06-11 개편화 물품의 이송 방법, 제조 방법 및 제조 장치
TW104119208A TWI548027B (zh) 2014-07-16 2015-06-15 A method of transferring a monolithic article, a manufacturing method, and a manufacturing apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014145543A JP6333648B2 (ja) 2014-07-16 2014-07-16 個片化物品の移送方法、製造方法及び製造装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016021541A true JP2016021541A (ja) 2016-02-04
JP6333648B2 JP6333648B2 (ja) 2018-05-30

Family

ID=55201620

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014145543A Active JP6333648B2 (ja) 2014-07-16 2014-07-16 個片化物品の移送方法、製造方法及び製造装置

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6333648B2 (ja)
KR (1) KR101741319B1 (ja)
CN (1) CN105304542B (ja)
TW (1) TWI548027B (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180111513A (ko) 2017-03-31 2018-10-11 토와 가부시기가이샤 절단 장치, 반도체 패키지의 부착 방법 및 전자 부품의 제조 방법
CN108987326A (zh) * 2017-06-02 2018-12-11 株式会社迪思科 芯片收纳方法
KR20190003371A (ko) * 2017-06-30 2019-01-09 토와 가부시기가이샤 워크 반송 장치, 전자 부품의 제조 장치, 워크 반송 방법, 및, 전자 부품의 제조 방법
JP2020047900A (ja) * 2018-09-21 2020-03-26 株式会社ディスコ 搬送ユニット及び搬送方法
WO2021124602A1 (ja) * 2019-12-16 2021-06-24 Towa株式会社 統計データ生成方法、切断装置及びシステム
CN114178230A (zh) * 2021-11-17 2022-03-15 贵州德科纳精密设备制造有限公司 气门自动清洗机
JP2022104810A (ja) * 2020-12-29 2022-07-11 セメス株式会社 半導体パッケージの移送方法、半導体パッケージ移送モジュール、及び半導体パッケージ切断及び分類装置

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6861602B2 (ja) * 2017-09-15 2021-04-21 Towa株式会社 保持部材、保持部材の製造方法、保持機構及び製品の製造装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080101894A1 (en) * 2006-10-31 2008-05-01 Chi Wah Cheng Singulation handler system for electronic packages
JP2008538453A (ja) * 2005-04-20 2008-10-23 ハンミ セミコンダクター カンパニー リミテッド 半導体パッケージピックアップ装置
JP2013198953A (ja) * 2012-03-23 2013-10-03 Disco Corp 吸引保持手段の被加工物離脱方法
JP2013219201A (ja) * 2012-04-09 2013-10-24 Disco Abrasive Syst Ltd 切削装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5348033A (en) * 1991-10-01 1994-09-20 National Semiconductor Corporation Method and apparatus for handling singulated electronic components
JP2002050670A (ja) * 2000-08-04 2002-02-15 Toshiba Corp ピックアップ装置及びピックアップ方法
US6709877B2 (en) * 2001-07-23 2004-03-23 Asm Assembly Automation Limited Apparatus and method for testing semiconductor devices
JP2003168659A (ja) 2001-12-04 2003-06-13 Tokyo Seimitsu Co Ltd 高圧洗浄ノズルを有するシンギュレーション装置
JP3849589B2 (ja) 2002-06-20 2006-11-22 松下電器産業株式会社 電子部品実装装置および電子部品実装方法
JP3769254B2 (ja) * 2002-09-10 2006-04-19 Smc株式会社 真空吸着装置及びその駆動方法
JP2011207552A (ja) * 2010-03-29 2011-10-20 Ihi Corp 浮上搬送装置
JP2012033739A (ja) * 2010-07-30 2012-02-16 Japan Fine Tech Co Ltd 基板搬送装置
KR101559420B1 (ko) * 2011-01-19 2015-10-13 (주)테크윙 테스트핸들러용 반도체소자 파지 및 파지 해제 압 제공 시스템
US9519007B2 (en) * 2012-02-10 2016-12-13 Asm Technology Singapore Pte Ltd Handling system for testing electronic components

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008538453A (ja) * 2005-04-20 2008-10-23 ハンミ セミコンダクター カンパニー リミテッド 半導体パッケージピックアップ装置
US20080101894A1 (en) * 2006-10-31 2008-05-01 Chi Wah Cheng Singulation handler system for electronic packages
JP2013198953A (ja) * 2012-03-23 2013-10-03 Disco Corp 吸引保持手段の被加工物離脱方法
JP2013219201A (ja) * 2012-04-09 2013-10-24 Disco Abrasive Syst Ltd 切削装置

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180111513A (ko) 2017-03-31 2018-10-11 토와 가부시기가이샤 절단 장치, 반도체 패키지의 부착 방법 및 전자 부품의 제조 방법
CN108987326A (zh) * 2017-06-02 2018-12-11 株式会社迪思科 芯片收纳方法
JP2018206929A (ja) * 2017-06-02 2018-12-27 株式会社ディスコ チップ収容方法
CN108987326B (zh) * 2017-06-02 2024-02-20 株式会社迪思科 芯片收纳方法
KR20190003371A (ko) * 2017-06-30 2019-01-09 토와 가부시기가이샤 워크 반송 장치, 전자 부품의 제조 장치, 워크 반송 방법, 및, 전자 부품의 제조 방법
JP2019012782A (ja) * 2017-06-30 2019-01-24 Towa株式会社 ワーク搬送装置、電子部品の製造装置、ワーク搬送方法、および、電子部品の製造方法
KR102192278B1 (ko) * 2017-06-30 2020-12-17 토와 가부시기가이샤 워크 반송 장치, 전자 부품의 제조 장치, 워크 반송 방법, 및, 전자 부품의 제조 방법
JP7138002B2 (ja) 2018-09-21 2022-09-15 株式会社ディスコ 搬送ユニット及び搬送方法
JP2020047900A (ja) * 2018-09-21 2020-03-26 株式会社ディスコ 搬送ユニット及び搬送方法
CN110943025A (zh) * 2018-09-21 2020-03-31 株式会社迪思科 搬送单元和搬送方法
WO2021124602A1 (ja) * 2019-12-16 2021-06-24 Towa株式会社 統計データ生成方法、切断装置及びシステム
CN114746232A (zh) * 2019-12-16 2022-07-12 Towa株式会社 统计数据生成方法、切割装置以及系统
KR20220109463A (ko) * 2019-12-16 2022-08-04 토와 가부시기가이샤 통계 데이터 생성 방법, 절단 장치 및 시스템
JP2021097093A (ja) * 2019-12-16 2021-06-24 Towa株式会社 統計データ生成方法、切断装置及びシステム
CN114746232B (zh) * 2019-12-16 2024-03-19 Towa株式会社 统计数据生成方法、切割装置以及系统
KR102716016B1 (ko) * 2019-12-16 2024-10-15 토와 가부시기가이샤 통계 데이터 생성 방법, 절단 장치 및 시스템
JP2022104810A (ja) * 2020-12-29 2022-07-11 セメス株式会社 半導体パッケージの移送方法、半導体パッケージ移送モジュール、及び半導体パッケージ切断及び分類装置
CN114178230A (zh) * 2021-11-17 2022-03-15 贵州德科纳精密设备制造有限公司 气门自动清洗机
CN114178230B (zh) * 2021-11-17 2023-06-16 贵州德科纳精密设备制造有限公司 气门自动清洗机

Also Published As

Publication number Publication date
JP6333648B2 (ja) 2018-05-30
TWI548027B (zh) 2016-09-01
CN105304542B (zh) 2017-10-13
KR20160009490A (ko) 2016-01-26
TW201608666A (zh) 2016-03-01
KR101741319B1 (ko) 2017-05-29
CN105304542A (zh) 2016-02-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6333648B2 (ja) 個片化物品の移送方法、製造方法及び製造装置
KR102047035B1 (ko) 다이 본딩 장치
JP5889537B2 (ja) ダイボンダ
JP7065650B2 (ja) ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法
JP6235391B2 (ja) 検査用治具、切断装置及び切断方法
JP2004088109A (ja) ウェーハテーブル、およびこれを用いた半導体パッケージ製造装置
JP2007281053A (ja) 薄板収納容器
TWI726230B (zh) 保持構件、保持構件的製造方法、保持機構以及製品的製造裝置
WO2007114331A1 (ja) 薄板収納容器
TWI737247B (zh) 切斷裝置及切斷品的製造方法
KR102000079B1 (ko) 다이 본딩 장치
KR20160149433A (ko) 반도체 패키지 이송 장치 및 방법
KR20190009508A (ko) 다이 본딩 장치
JP2020108908A (ja) ワークの保持方法及びワークの処理方法
TWI474425B (zh) 用於半導體封裝件之裝置
KR100228141B1 (ko) 웨이퍼 이송 방법
JP2017152582A (ja) 加工方法
JP2011044462A (ja) 搬送装置及び搬送方法
JP6067091B2 (ja) 異物除去装置及びそれを備えたダイボンダ
TWI811900B (zh) 半導體封裝轉移方法、半導體封裝轉移模組及半導體封裝切割分類裝置
KR102158825B1 (ko) 반도체 패키지 픽업 장치
KR100864589B1 (ko) 벤투리 튜브를 구비하는 기판 홀더 및 소잉/소팅 장치
JP7068409B2 (ja) 切断装置及び切断品の製造方法
WO2023199545A1 (ja) 切断装置、及び、切断品の製造方法
JP6722614B2 (ja) ダイボンディング装置および半導体装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170525

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180209

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180220

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180302

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180327

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180425

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6333648

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250