JP2016001227A - レーザ顕微鏡装置 - Google Patents

レーザ顕微鏡装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2016001227A
JP2016001227A JP2014120574A JP2014120574A JP2016001227A JP 2016001227 A JP2016001227 A JP 2016001227A JP 2014120574 A JP2014120574 A JP 2014120574A JP 2014120574 A JP2014120574 A JP 2014120574A JP 2016001227 A JP2016001227 A JP 2016001227A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
objective lens
laser microscope
detection
microscope apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2014120574A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6408796B2 (ja
Inventor
博一 久保
Hiroichi Kubo
博一 久保
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=54836024&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP2016001227(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Olympus Corp filed Critical Olympus Corp
Priority to JP2014120574A priority Critical patent/JP6408796B2/ja
Priority to US14/722,519 priority patent/US10018822B2/en
Publication of JP2016001227A publication Critical patent/JP2016001227A/ja
Priority to US15/906,053 priority patent/US20180188518A1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6408796B2 publication Critical patent/JP6408796B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/36Microscopes arranged for photographic purposes or projection purposes or digital imaging or video purposes including associated control and data processing arrangements
    • G02B21/361Optical details, e.g. image relay to the camera or image sensor
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/06Means for illuminating specimens
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • G01N21/63Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
    • G01N21/64Fluorescence; Phosphorescence
    • G01N21/645Specially adapted constructive features of fluorimeters
    • G01N21/6456Spatial resolved fluorescence measurements; Imaging
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/16Microscopes adapted for ultraviolet illumination ; Fluorescence microscopes
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • G01N21/63Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
    • G01N21/64Fluorescence; Phosphorescence
    • G01N21/645Specially adapted constructive features of fluorimeters
    • G01N21/6456Spatial resolved fluorescence measurements; Imaging
    • G01N21/6458Fluorescence microscopy

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)

Abstract

【課題】検出器としてPPDを採用し、フォトンの数え落しを極力低減して検出可能な光強度入射範囲を拡大する。【解決手段】標本Sからの戻り光を集光する対物レンズ5と、対物レンズ5により集光された戻り光を略平行光束にするコリメートレンズ15、コリメートレンズ15により略平行光束に変換された戻り光を検出する複数のピクセルを有するPPD17と、PPD17に入射する戻り光のビーム径と複数のピクセルによるPPD17の有効検出領域とを略一致させる制御部19とを備えるレーザ顕微鏡装置10を提供する。【選択図】図1

Description

本発明は、レーザ顕微鏡装置に関するものである。
従来、検出器としてPMT(光電子増倍管)を採用したレーザ顕微鏡装置が知られている(例えば、非特許文献1参照。)。また、検出器としては、PMTの他に、MPPC(Multi−Pixel Photon Counter)、SiPM(Silicon Photomultiplier)、マルチピクセル型アバランシェフォトダイオードのようなPPD(Pixelated Photon Detector、マルチピクセル型のフォトン検出器)が知られている。
ここで、光を検出するとその光の強度に関係なく一定強度の信号を出力する動作モード、すなわち、ガイガーモードでPPDを使用すると、1フォトンレベルの微弱光を検出することが可能になる。また、ガイガーモードでPPDを使用した場合において、単位時間当たりに検出することができるフォトン数は1ピクセル当たり1フォトン程度であるが、PPDはマルチピクセルであるから、PPDへの入射フォトン数が多くなっても、それに応じたフォトン数を検出することができる。すなわち、PPDは光強度入射範囲を広くとることができる。
原口徳子編、木村宏編、平岡泰編、「講義と実習 生細胞蛍光イメージング−阪大・北大 顕微鏡コースブック」、共立出版、p.150−151
しかしながら、比較的強い光がPPDに入射した場合において、フォトンがピクセルごとに均等に振り分けられないと、素子自体の応答速度制限によりフォトンの数え落しが生じてしまうという問題がある。
本発明は上述した事情に鑑みてなされたものであって、検出器としてPPDを採用し、フォトンの数え落しを極力低減して、弱い光から強い光までを高感度に検出することができるレーザ顕微鏡装置を提供することを目的としている。
上記目的を達成するために、本発明は以下の手段を提供する。
本発明は、標本からの光を集光する対物レンズと、該対物レンズにより集光された光を検出する複数の検出要素を有する光検出部と、該光検出部に入射する光のビーム径と前記複数の検出要素による前記光検出部の有効検出領域とを略一致させる調整機構とを備えるレーザ顕微鏡装置を提供する。
本発明によれば、対物レンズにより集光された標本からの光が光検出部の複数の検出要素により検出される。ここで、各検出要素により単位時間当たりに検出することができるフォトン数は1フォトン程度であるとしても、複数の検出要素によりフォトンを検出することで、標本からの光を検出可能な光強度入射範囲を広げることができる。
この場合において、調整機構により光のビーム径と光検出部の有効検出領域とを略一致させることで、標本からの光のフォトンが各検出要素に均等に入射し易くなる。したがって、フォトンの数え落しを極力低減して、標本からの光を検出可能な光強度入射範囲をより広げることができる。
上記発明においては、前記調整機構が、前記対物レンズの射出NAに応じて前記ビーム径を調整することとしてもよい。
対物レンズの射出NAが変化すると、光検出部に入射する光のビーム径も変化する。このように構成することで、採用する対物レンズを変更した場合でも、調整機構により光のビーム径と光検出部の有効検出領域とを略一致させることができる。これにより、対物レンズの変更によるフォトンの数え落しを防止することができる。
上記発明においては、前記調整機構が、前記対物レンズにより集光された光を略平行光束にするコリメートレンズと、前記対物レンズの射出NAに応じて予め決められた光軸方向の所定の位置に前記コリメートレンズを移動させる制御部とを備えることとしてもよい。
このように構成することで、コリメートレンズの光軸方向の位置に応じて光検出部での光のビーム径を変えられるので、制御部により、採用する対物レンズに合わせて、光検出部の有効検出領域を満たす適当なビーム径に光を整形することができる。
上記発明においては、前記調整機構が、前記対物レンズにより集光された光を略平行光束にする複数群の光学系からなるコリメートレンズ群と、前記対物レンズの射出NAに応じて予め決められた光軸方向の所定の位置に、少なくとも1群以上の前記光学系を移動させる制御部とを備えることとしてもよい。
このように構成することで、1群の光学系からなるコリメートレンズを用いる場合と比較して、各光学系の移動範囲を狭くすることができる。また、1群の光学系からなるコリメートレンズよりも、光検出部への入射光をより高精度に平行光束にすることができ、角度依存性による光の検出ロスを低減することができる。
上記発明においては、光軸方向における前記光学系間の距離間隔が異なる複数のコリメートレンズ群を切り替え可能な切替機構を備え、前記制御部が、前記対物レンズの射出NAに応じて予め決められた前記コリメートレンズ群に切り替えることとしてもよい。
このように構成することで、各光学系の光軸方向の位置を調整しなくて済み、採用する対物レンズに合わせてコリメートレンズ群ごと切り替えるだけで、光のビーム径と光検出部の有効検出領域とを簡易に略一致させることができる。
上記発明においては、前記調整機構が、前記対物レンズにより集光された光を略平行光束にするコリメートレンズと、該コリメートレンズと前記光検出部との間に光軸方向に移動可能に配され、前記コリメートレンズにより略平行光束に変換された光を略均一な強度分布で発散させる均一照明素子と、前記対物レンズの射出NAに応じて予め決められた光軸方向の所定の位置に前記均一照明素子を移動させる制御部と備えることとしてもよい。
このように構成することで、均一照明素子の光軸方向の位置に応じて、発散したときの光のビーム径が異なる。この場合において、均一照明素子により発散した光が均一な強度分布を有することで、制御部により、採用する対物レンズに合わせて均一照明素子を所定の位置に移動させるだけで、強度分布が均一で光検出部の有効検出領域を満たす適当なビーム径に整形するとともに、フォトンの数え落しをより低減することができる。
上記発明においては、前記所定の位置が前記対物レンズの射出NAにおける波長依存性を考慮して決められていることとしてもよい。
このように構成することで、対物レンズごとの射出NAの波長依存性に関わらず、光軸方向の最適な位置にコリメートレンズあるいは均一照明素子を移動させて適当なビーム径に整形することができる。
上記発明においては、前記調整機構が、前記コリメートレンズにより略平行光束になった光を発散させる発散素子と、該発散素子により発散した光を内面反射して前記光検出部の有効検出領域内に集光させる内面反射素子とを備えることとしてもよい。
このように構成することで、光検出部に入射する光が発散素子により一旦発散した後、内面反射素子により内面反射されて光検出部の有効検出領域内に集光する。したがって、光検出部の有効検出領域の略全面に戻り光を集光させてフォトンの数え落しの低減を図ることができる。
上記発明においては、複数の前記光検出部が光軸に交差する方向にアレイ状に配列されている検出装置を備え、前記調整機構が、前記検出装置に入射する光のビーム径と前記複数の光検出部による前記検出装置の有効検出領域とが略一致するよう、前記光のビーム径に応じて駆動させる前記光検出部を切り替えることとしてもよい。
このように構成することで、光のビーム径に応じて検出装置の有効検出領域を略一致させて、複数の光検出部の各検出要素にフォトンを均等に入射させ易くすることができる。この場合において、検出要素に入射する光のビーム径から外れる光検出部は駆動させる必要がない。したがって、調整機構により、必要な光検出部のみを駆動させて、暗ノイズを低減することができる。
上記発明においては、前記調整機構が、前記対物レンズの射出NAに応じて予め決められた前記光検出部を駆動させることとしてもよい。
このように構成することで、採用する対物レンズに合わせて、光のビーム径に対して検出装置の有効検出領域を簡易に略一致させることができる。
上記発明においては、前記光検出部が、前記検出装置の有効検出領域の中心部に配される前記検出要素ほど大きさが細かくなるように形成され、前記検出装置の有効検出領域の周辺部に配される前記検出要素ほど大きさが粗くなるように形成されていることとしてもよい。
検出装置に入射する光のフォトンの密度は光軸の中心と周辺とで異なり、光軸中心に近いほどフォトンが集中する傾向がある。したがって、このように構成することで、光軸中心に集中するフォトンをもれなく検出し、フォトンの数え落しを低減することができる。
上記発明においては、前記検出要素が、検出する光の強度に関わらず一定の強度信号を出力することとしてもよい。
このように構成することで、1フォトンレベルの微弱光を高精度に検出することができる。
本発明によれば、検出器としてPPDを採用し、フォトンの数え落しを防いで光を検出可能な光強度入射範囲を広げることができるという効果を奏する。
本発明の第1実施形態に係るレーザ顕微鏡装置を示す概略構成図である。 図1のPPDの位置での戻り光のビーム径を示す図である。 本発明の第1実施形態の第1変形例に係るレーザ顕微鏡装置を示す概略構成図である。 本発明の第1実施形態の第2変形例に係るレーザ顕微鏡装置を示す概略構成図である。 本発明の第2実施形態に係るレーザ顕微鏡装置を示す概略構成図である。 本発明の第3実施形態に係るレーザ顕微鏡装置を示す概略構成図である。 本発明の第4実施形態に係るレーザ顕微鏡装置を示す概略構成図である。
〔第1実施形態〕
本発明の第1実施形態に係るレーザ顕微鏡装置について図面を参照して以下に説明する。
本実施形態に係るレーザ顕微鏡装置10は、図1に示すように、励起光を発生する光源(図示略)と、光源から発せられた励起光を2次元的に走査するXYガルバノミラー1と、XYガルバノミラー1により走査された励起光をリレーするリレー光学系3と、リレー光学系3によりリレーされた励起光を標本Sに照射する一方、標本Sから発せられる戻り光(例えば、蛍光。)を集光する対物レンズ5とを備えている。
また、レーザ顕微鏡装置10は、対物レンズ5により集光されて励起光の光路を戻る戻り光を分岐するダイクロイックミラー7と、分岐した戻り光を反射する反射ミラー9と、反射ミラー9により反射された戻り光を集光する集光レンズ11と、集光した戻り光の通過を制限するコンフォーカルアパーチャ13と、コンフォーカルアパーチャ13を通過した戻り光を略平行光束にするコリメートレンズ(調整機構)15と、コリメートレンズ15により略平行光束に変換された光を検出するPPD(Pixelated Photon Detector、光検出部)17と、コリメートレンズ15の光軸方向の位置を調整等する制御部(調整機構)19とを備えている。
対物レンズ5は、他の対物レンズ5と共にレボルバ6により支持されている。
レボルバ6は、制御部19の制御または手動により、いずれかの対物レンズ5を励起光の光路に択一的に挿入したり、励起光の光路に挿入する対物レンズ5を切り替えたりすることができるようになっている。
ダイクロイックミラー7は、光源からの励起光をXYガルバノミラー1に向けて反射する一方、標本Sから対物レンズ5やXYガルバノミラー1等を介して励起光の光路を戻る戻り光を反射ミラー9に向けて透過させるようになっている。
コンフォーカルアパーチャ13は、標本Sと光学的に共役な位置に配置されており、対物レンズ5の焦点位置からの光のみを通過させることができるようになっている。
PPD17は、例えば、MPPC(Multi−Pixel Photon Counter)、SiPM(Silicon Photomultiplier)、マルチピクセル型アバランシェフォトダイオード等である。このPPD17は、戻り光を検出する複数のピクセル(検出要素、図示略)を有している。なお、検出要素はフォトン検出を行う単位である。
各ピクセルは、それぞれ戻り光のフォトンを検出してパルスを出力するようになっている。そして、PPD17は、各ピクセルの出力の和を強度信号として出力するようになっている。また、PPD17は、各ピクセルが入射光強度に関わらず一定強度のパルスを出力するガイガーモードで駆動するよう設定されている。PPD17をガイガーモードで駆動した場合において、各ピクセルが単位時間当たり検出するフォトン数は1フォトン程度である。
制御部19には、PPD17に入射する戻り光のビーム径と複数のピクセルによるPPD17の有効検出領域とが略一致するように、対物レンズ5の射出NAに応じて予め決められたコリメートレンズ15の光軸方向の位置が記憶されている。PPD17に入射する光のビーム径は、戻り光が平行光にコリメートされてPPD17に入射する場合は対物レンズ5の射出瞳径×投影倍率により決まるが、コリメートレンズ15の位置を調節することにより、光を非平行ビームにしてPPD17への入射ビーム径を調整することができる。この制御部19は、使用する対物レンズ5に応じて、その対物レンズ5に対応付けて記憶している光軸方向の所定の位置にコリメートレンズ15を移動させるようになっている。
例えば、射出NAの小さな対物レンズ5を使用する場合は、コンフォーカルアパーチャ13を通過後の戻り光のビーム径が小さくなる。したがって、制御部19は、コリメートレンズ15をPPD17から離間する方向に移動させるようになっている。これにより、コリメートレンズ15からの出射光束をやや発散させ、図2において実線の円で示す光束Eのように、PPD17の位置での戻り光のビーム径を拡大させてPPD17の有効検出領域に略一致させるようになっている。なお、図2において鎖線の円で示す光束Fは、射出NAの小さな対物レンズ5を使用した場合において、コリメートレンズ15の位置調整を行う前の戻り光のビーム径を表している。
一方、射出NAの大きな対物レンズ5を使用する場合は、コンフォーカルアパーチャ13を通過後の戻り光のビーム径が大きくなる。したがって、制御部19は、コリメートレンズ15をPPD17に近接する方向に移動させるようになっている。これにより、コリメートレンズ15からの出射光束を平行光束またはやや収束した光束にし、図2に示す光束Eのように、PPD17の位置での戻り光のビーム径をPPD17の有効検出領域に略一致させるようになっている。
また、制御部19は、対物レンズ5の挿入/切り替えを電動制御する場合は、対物レンズ5の切り替え情報に基づいてコリメートレンズ15の位置調整を行うようになっている。また、制御部19は、対物レンズ5の挿入/切り替えが手動で行われる場合は、ユーザが入力する使用中の対物レンズ5の情報に基づいてコリメートレンズ15の位置調整を行うようになっている。なお、使用する対物レンズ5の種別を検知してその情報を制御部19に送る検知部を設けることとしてもよい。
このように構成されたレーザ顕微鏡装置10の作用について説明する。
本実施形態に係るレーザ顕微鏡装置10により標本Sの画像を取得する場合は、対物レンズ5を設定して、制御部19によりコリメートレンズ15の光軸方向の位置を調整し、光源から励起光を発生させる。
このとき、制御部19は、PPD17に入射する戻り光のビーム径がPPD17の有効検出領域に略一致するよう、対物レンズ5の射出NAに対応付けられて予め決められた所定の位置にコリメートレンズ15を移動させる。例えば、使用する対物レンズ5の射出NAが小さい場合は、図1に示すように、PPD17から離間した位置にコリメートレンズ15が移動させられる。
光源から発せられた励起光は、ダイクロイックミラー7により反射された後、XYガルバノミラー1により走査されてリレー光学系3によりリレーされ、対物レンズ5により標本Sに照射される。これにより、XYガルバノミラー1の揺動動作に応じて、標本S上でレーザ光が2次元的に走査される。
レーザ光が照射されることにより標本Sから発せられる戻り光は、対物レンズ5により集光された後、リレー光学系3およびXYガルバノミラー1を介してダイクロイックミラー7を透過し、反射ミラー9により反射されて集光レンズ11により集光される。集光レンズ11により集光された戻り光の内、標本Sにおける対物レンズ5の焦点位置からの光のみがコンフォーカルアパーチャ13を通過し、コリメートレンズ15により略平行光束に変換されてPPD17に入射する。
PPD17においては、入射した戻り光が各ピクセルにより検出されて一定強度のパルスが出力され、これらの和の強度信号が出力される。これにより、例えば、図示しないPC(Personal Computer)等において、PPD17から出力される強度信号とXYガルバノミラー1による励起光の走査位置情報とに基づいて2次元的な画像を生成することができる。
ここで、ガイガーモードでPPD17を駆動することで、各ピクセルによりそれぞれ1フォトンレベルの微弱光も検出することができる。そして、複数のピクセルによりこれらピクセルごとにフォトンを検出することで、例えばPMT(光電子増倍管)により戻り光を検出するような場合と比較して、戻り光の検出感度を向上するとともに戻り光を検出可能な光強度入射範囲を広げることができる。
この場合において、制御部19により、コリメートレンズ15の光軸方向の位置を調整して、PPD17に入射する戻り光のビーム径とPPD17の有効検出領域とを略一致させることで、標本Sからの戻り光のフォトンが各ピクセルに割り振られてそれぞれに均等に入射し易くなる。
また、使用する対物レンズ5の射出NAが大きい場合も、制御部19により、対物レンズ5の射出NAに対応付けられて予め決められた所定の位置、この場合はPPD17に近接する位置にコリメートレンズ15を移動させることで、PPD17に入射する戻り光のビーム径とPPD17の有効検出領域とを略一致させて、戻り光のフォトンを各ピクセルに均等に入射させ易くすることができる。
したがって、本実施形態に係るレーザ顕微鏡装置10によれば、検出器としてPPD17を採用し、フォトンの数え落しを極力低減して標本Sからの戻り光を検出可能な光強度入射範囲をより広げて検出することができる。
本実施形態は以下のように変形することができる。
本実施形態においては、1群の光学系からなるコリメートレンズ15を例示して説明したが、第1変形例としては、図3に示すように、複数群(本変形例においては3群)の光学系14A,14B,14Cからなるコリメートレンズ群16を採用することとしてもよい。
この場合、制御部19が、対物レンズ5の射出NAに応じて予め決められた光軸方向の所定の位置に、少なくとも1群以上の光学系14A,14B,14C(例えば、2群の光学系14B,14C)を移動させることで、複数のピクセルによるPPD17の有効検出領域に対して入射させる戻り光のビーム径を略一致させることとすればよい。
このようにすることで、1群の光学系からなるコリメートレンズ15を移動させる場合と比較して、光学系14A,14B,14Cの移動範囲を狭くすることができる。また、1群の光学系からなるコリメートレンズ15よりも、戻り光をより高精度に平行光束にすることができ、角度依存性による戻り光の検出ロスを低減することができる。
また、本変形例においては、例えば、コリメートレンズ群16を2群の光学系により構成し、一方の群の光学系のみの光軸方向の位置を調整することとしてもよい。
また、本変形においては、光軸方向における光学系14A,14B,14C間の距離間隔が異なる複数のコリメートレンズ群16を切り替え可能な切換機構(図示略)を備え、制御部19が、使用する対物レンズ5の射出NAに応じて予め決められたコリメートレンズ群16に切り替えることとしてもよい。この場合、PPD17に入射する戻り光のビーム径とPPD17の有効検出領域とが略一致するように対応付けた対物レンズ5の射出NAと複数のコリメートレンズ群16との組み合わせを制御部19に記憶させておくこととすればよい。
このようにすることで、各光学系14A,14B,14Cの光軸方向の位置を調整しなくて済み、採用する対物レンズ5に合わせてコリメートレンズ群16ごと切り替えるだけで、戻り光のビーム径とPPD17の有効検出領域とを簡易に略一致させることができる。
また、本実施形態においては、コンフォーカルアパーチャ13を用いて対物レンズ5の焦点位置からの光のみを検出することとしたが、第2変形例としては、図4に示すように、コンフォーカルアパーチャ13を用いず、励起光として2光子励起を起こさせる赤外パルスレーザ光を使用して、2光子励起によって生じた蛍光を検出することとしてもよい。
この場合、標本Sから発せられて対物レンズ5により集光された戻り光をXYガルバノミラー1を介さずにダイクロイックミラー7によって光路から分岐し、集光レンズ11およびコリメートレンズ15を介してPPD17により検出することとすればよい。
このようにすることで、標本Sの3次元空間における赤外パルスレーザ光の集光位置のみを観察することができる。
本変形例においては、第1変形例と同様に、コリメートレンズ15に代えて、コリメートレンズ群16を採用することとしてもよい。
また、本実施形態および本変形例においては、コリメートレンズ15の所定の位置を対物レンズ5の射出NAにおける波長依存性を考慮して決めることとしてもよい。
このようにすることで、対物レンズ5ごとの射出NAの波長依存性に関わらず、光軸方向の最適な位置にコリメートレンズ15を移動させて適当なビーム径に整形することができる。
〔第2実施形態〕
次に、本発明の第2実施形態に係るレーザ顕微鏡装置について説明する。
本実施形態に係るレーザ顕微鏡装置20は、図5に示すように、コリメートレンズ15により略平行光束に変換された戻り光を略均一な強度分布で発散させる均一照明素子(調整機構)21を備えるとともに、制御部19に代えて、均一照明素子21の光軸方向の位置を制御する制御部(調整機構)23を備える点で第1実施形態と異なる。
以下、第1実施形態に係るレーザ顕微鏡装置10と構成を共通する箇所には、同一符号を付して説明を省略する。
均一照明素子21としては、例えば、拡散板、単レンズ、フライアイレンズ、ホモジナイザ(フライアイレンズ+結像レンズ)またはホログラフィックディフューザ等が挙げられる。この均一照明素子21は、コリメートレンズ15とPPD17との間に光軸方向に移動可能に配されている。均一照明素子21の光軸方向の位置に応じて、発散したときのPPD17に入射する戻り光のビーム径が異なる。
制御部23には、PPD17に入射する戻り光のビーム径と複数のピクセルによるPPD17の有効検出領域とが略一致するように、対物レンズ5の射出NAに応じて決められた均一照明素子21の光軸方向の位置が記憶されている。この制御部23は、使用する対物レンズ5に応じて、対物レンズ5に対応付けて記憶している光軸方向の所定の位置に均一照明素子21を移動させるようになっている。
このように構成されたレーザ顕微鏡装置20によれば、例えば、射出NAの小さな対物レンズ5を使用する場合は、コリメートレンズ15による略平行光束に変換後の戻り光のビーム径が小さくなるため、制御部23により均一照明素子21をPPD17から離間した位置に移動させるようになっている。均一照明素子21とPPD17との距離を広げることで、PPD17に入射する戻り光のビーム径を拡大して、戻り光のビーム径をPPD17の有効検出領域に略一致させることができる。
一方、射出NAの大きな対物レンズ5を使用する場合は、コリメートレンズ15による略平行光束に変換後の戻り光のビーム径が大きくなるため、制御部23により均一照明素子21をPPD17に近接した位置に移動させるようになっている。均一照明素子21とPPD17との距離を狭くすることで、発散によりPPD17に入射する戻り光のビーム径が大きくなるのを抑えて、戻り光のビーム径をPPD17の有効検出領域に略一致させることができる。
この場合において、標本Sからの戻り光を均一照明素子21により略均一な強度分布で発散させることで、ビーム径に関わらずPPD17にほぼ均一な強度分布の戻り光を入射させることができる。
以上説明したように、本実施形態に係るレーザ顕微鏡装置20によれば、制御部23により、使用する対物レンズ5に合わせて均一照明素子21を予め決められた所定の位置に移動させるだけで、強度分布が均一でPPD17の有効検出領域を満たす適当なビーム径に整形するとともに、フォトンの数え落しをより低減することができる。
本実施形態においては、均一照明素子21の所定の位置を対物レンズ5の射出NAにおける波長依存性を考慮して決めることとしてもよい。
このようにすることで、対物レンズ5ごとの射出NAの波長依存性に関わらず、光軸方向の最適な位置に均一照明素子21を移動させて適当なビーム径に整形することができる。
〔第3実施形態〕
次に、本発明の第3実施形態に係るレーザ顕微鏡装置について説明する。
本実施形態に係るレーザ顕微鏡装置30は、図6に示すように、制御部19を備えず、コリメートレンズ15により略平行光束に変換された戻り光を発散させる発散素子(調整機構)31と、発散素子31により発散した戻り光を内面反射してPPD17の有効検出領域内に集光させる内面反射素子(調整機構)33とを備える点で第1実施形態と異なる。
以下、第1実施形態に係るレーザ顕微鏡装置10と構成を共通する箇所には、同一符号を付して説明を省略する。
本実施形態においては、PPD17は、複数のピクセルにより、略四角形状の有効検出領域を有していることとする。
ビーム発散素子31としては、例えば、拡散板、単レンズ、フライアイレンズまたはホログラフィックディフューザ等が用いられる。
内面反射素子33は、例えば、長手方向に貫通する四角筒状に形成されており、射出端側の開口面積がPPD17の有効検出領域と略同程度の大きさを有している。この内面反射素子33は、PPD17の手前に設けられ、PPD17によって射出端が閉塞されるように配されている。また、内面反射素子33は、4つの内側面がそれぞれ反射ミラーにより形成されている。
このように構成されたレーザ顕微鏡装置30によれば、コリメートレンズ15により略平行光束に変換された戻り光が発散素子31により一旦発散して内面反射素子33の一端に入射する。内面反射素子33の一端に入射した戻り光は、反射ミラーにより内面反射されて他端から射出され、PPD17の有効検出領域内に集光する。このとき、内面反射素子33により、PPD17に入射する光のビーム径は略四角形状になる。
したがって、本実施形態に係るレーザ顕微鏡装置30によれば、PPD17の有効検出領域内の略全面に戻り光を集光させて、PPD17のフォトンの数え落しの低減を図ることができる。また、内面反射素子33により戻り光のビーム径を四角形状にすることで、PPD17の略四角形状を有する有効検出領域の略全面に戻り光を効率的に入射させて、フォトンの数え落しをより低減することができる。
〔第4実施形態〕
次に、本発明の第4実施形態に係るレーザ顕微鏡装置について説明する。
本実施形態に係るレーザ顕微鏡装置40は、図7に示すように、複数のPPD17が光軸に交差する方向にアレイ状に配列して構成された検出装置41を備えるとともに、制御部19に代えて、検出装置41の各PPD17の駆動を制御する制御部(調整機構)43を備える点で第1実施形態と異なる。
以下、第1実施形態に係るレーザ顕微鏡装置10と構成を共通する箇所には、同一符号を付して説明を省略する。
検出装置41は、各PPD17のピクセルが均等な大きさを有している。
制御部43は、検出装置41に入射する戻り光のビーム径に応じて、各PPD17に印加する駆動電圧のON/OFFを切り替えるようになっている。
例えば、射出NAの小さな対物レンズ5を使用する場合は、コリメートレンズ15による略平行光束に変換後の戻り光のビーム径が小さくなるため、制御部43は、戻り光のビーム径に合わせて必要な数区画のPPD17だけを駆動させるようになっている。また、射出NAの大きな対物レンズ5を使用する場合は、コリメートレンズ15による略平行光束に変換後の戻り光のビーム径が大きくなるため、制御部43は、全てのPPD17を駆動させるようになっている。
このように構成されたレーザ顕微鏡装置40によれば、制御部43により、戻り光のビーム径に応じて駆動させるPPD17を切り替えることで、検出装置41の有効検出領域を戻り光のビーム径に略一致させて、各ピクセルにフォトンを均等に入射させ易くすることができる。
この場合において、ピクセルに入射する光のビーム径から外れるPPD17は駆動させる必要がない。したがって、制御部43により、必要なPPD17のみを駆動させることで、暗ノイズを低減することができる。
本実施形態は以下のように変形することができる。
本実施形態においては、各PPD17のピクセルが均等な大きさを有していることとしたが、これに代えて、例えば、各PPD17が、検出装置41の有効検出領域の中心部に配されるピクセルほど大きさが細かくなるように形成され、検出装置41の有効検出領域の周辺部に配されるピクセルほど大きさが粗くなるように形成されていることとしてもよい。
検出装置41に入射する戻り光のフォトンの密度は光軸の中心と周辺とで異なり、光軸中心に近いほどフォトンが集中する傾向がある。したがって、本変形例によれば、検出装置41の有効検出領域の中心部に配された大きさが細かい多数のピクセルにより光軸中心に集中するフォトンをもれなく検出し、フォトンの数え落しを低減することができる。また、検出装置41の有効検出領域の周辺部に配された大きさが粗い少数のピクセルにより、光軸の周辺のまばらに分布するフォトンを検出することで、有効検出領域の周辺部での開口効率を向上することができる。
以上、本発明の実施形態について図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。例えば、本発明を上記の各実施形態に適用したものに限定されることなく、これらの実施形態を適宜組み合わせた実施形態に適用してもよく、特に限定されるものではない。また、第2実施形態、第3実施形態および第4実施形態においても、第1実施形態の第2変形例と同様に、コンフォーカルアパーチャ13を用いず、励起光として2光子励起を起こさせる赤外パルスレーザ光を使用して、2光子励起によって生じた蛍光を検出することとしてもよい。
10,20,30,40 レーザ顕微鏡装置
14A,14B,14C 光学系
15 コリメートレンズ(調整機構)
16 コリメートレンズ群
17 PPD(光検出部)
19,23,43 制御部(調整機構)
21 均一照明素子(調整機構)
31 発散素子(調整機構)
33 内面反射素子(調整機構)
41 検出装置
S 標本

Claims (12)

  1. 標本からの光を集光する対物レンズと、
    該対物レンズにより集光された光を検出する複数の検出要素を有する光検出部と、
    該光検出部に入射する光のビーム径と前記複数の検出要素による前記光検出部の有効検出領域とを略一致させる調整機構とを備えるレーザ顕微鏡装置。
  2. 前記調整機構が、前記対物レンズの射出NAに応じて前記ビーム径を調整する請求項1に記載のレーザ顕微鏡装置。
  3. 前記調整機構が、前記対物レンズにより集光された光を略平行光束にするコリメートレンズと、
    前記対物レンズの射出NAに応じて予め決められた光軸方向の所定の位置に前記コリメートレンズを移動させる制御部とを備える請求項2に記載のレーザ顕微鏡装置。
  4. 前記調整機構が、前記対物レンズにより集光された光を略平行光束にする複数群の光学系からなるコリメートレンズ群と、
    前記対物レンズの射出NAに応じて予め決められた光軸方向の所定の位置に、少なくとも1群以上の前記光学系を移動させる制御部とを備える請求項2に記載のレーザ顕微鏡装置。
  5. 光軸方向における前記光学系間の距離間隔が異なる複数のコリメートレンズ群を切り替え可能な切替機構を備え、
    前記制御部が、前記対物レンズの射出NAに応じて予め決められた前記コリメートレンズ群に切り替える請求項4に記載のレーザ顕微鏡装置。
  6. 前記調整機構が、前記対物レンズにより集光された光を略平行光束にするコリメートレンズと、
    該コリメートレンズと前記光検出部との間に光軸方向に移動可能に配され、前記コリメートレンズにより略平行光束に変換された光を略均一な強度分布で発散させる均一照明素子と、
    前記対物レンズの射出NAに応じて予め決められた光軸方向の所定の位置に前記均一照明素子を移動させる制御部と備える請求項2に記載のレーザ顕微鏡装置。
  7. 前記所定の位置が前記対物レンズの射出NAにおける波長依存性を考慮して決められている請求項2から請求項6のいずれかに記載のレーザ顕微鏡装置。
  8. 前記調整機構が、前記コリメートレンズにより略平行光束になった光を発散させる発散素子と、
    該発散素子により発散した光を内面反射して前記光検出部の有効検出領域内に集光させる内面反射素子とを備える請求項2に記載のレーザ顕微鏡装置。
  9. 複数の前記光検出部が光軸に交差する方向にアレイ状に配列されている検出装置を備え、
    前記調整機構が、前記検出装置に入射する光のビーム径と前記複数の光検出部による前記検出装置の有効検出領域とが略一致するよう、前記光のビーム径に応じて駆動させる前記光検出部を切り替える請求項1に記載のレーザ顕微鏡装置。
  10. 前記調整機構が、前記対物レンズの射出NAに応じて予め決められた前記光検出部を駆動させる請求項9に記載のレーザ顕微鏡装置。
  11. 前記光検出部が、前記検出装置の有効検出領域の中心部に配される前記検出要素ほど大きさが細かくなるように形成され、前記検出装置の有効検出領域の周辺部に配される前記検出要素ほど大きさが粗くなるように形成されている請求項9または請求項10に記載のレーザ顕微鏡装置。
  12. 前記検出要素が、検出する光の強度に関わらず一定の強度信号を出力する請求項1から請求項11のいずれかに記載のレーザ顕微鏡装置。
JP2014120574A 2014-06-11 2014-06-11 レーザ顕微鏡装置 Active JP6408796B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014120574A JP6408796B2 (ja) 2014-06-11 2014-06-11 レーザ顕微鏡装置
US14/722,519 US10018822B2 (en) 2014-06-11 2015-05-27 Laser microscope apparatus including photodetector having a plurality of detection elements and an adjusting mechanism for adjusting the beam diameter
US15/906,053 US20180188518A1 (en) 2014-06-11 2018-02-27 Laser microscope apparatus including photodetector having a plurality of detection elements

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014120574A JP6408796B2 (ja) 2014-06-11 2014-06-11 レーザ顕微鏡装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016001227A true JP2016001227A (ja) 2016-01-07
JP6408796B2 JP6408796B2 (ja) 2018-10-17

Family

ID=54836024

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014120574A Active JP6408796B2 (ja) 2014-06-11 2014-06-11 レーザ顕微鏡装置

Country Status (2)

Country Link
US (2) US10018822B2 (ja)
JP (1) JP6408796B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020016971A1 (ja) * 2018-07-18 2020-01-23 オリンパス株式会社 標本観察装置
JPWO2021144830A1 (ja) * 2020-01-14 2021-07-22
JP2022537617A (ja) * 2019-04-09 2022-08-29 カール ツァイス マイクロスコピー ゲーエムベーハー 再構成可能センサアレイを備えた光学顕微鏡

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6408796B2 (ja) * 2014-06-11 2018-10-17 オリンパス株式会社 レーザ顕微鏡装置
JP6375239B2 (ja) 2015-02-05 2018-08-15 オリンパス株式会社 レーザ顕微鏡装置
DE102019203560A1 (de) 2019-03-15 2020-09-17 Bruker Optik Gmbh IR-Mikroskop
TWI844856B (zh) * 2022-05-27 2024-06-11 由田新技股份有限公司 入光量調整光學系統及包含其的光學檢測系統

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0862039A (ja) * 1994-08-26 1996-03-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光空間伝送の受光装置
JP2001012902A (ja) * 1999-07-01 2001-01-19 Line Denshi Kk 走査レーザビーム位置検出装置
JP2008275763A (ja) * 2007-04-26 2008-11-13 Olympus Corp 多光子励起レーザ走査型顕微鏡
JP2010091694A (ja) * 2008-10-07 2010-04-22 Nikon Corp 走査型顕微鏡
WO2010134351A1 (ja) * 2009-05-21 2010-11-25 株式会社ニコン 走査型蛍光顕微鏡装置
JP2011082298A (ja) * 2009-10-06 2011-04-21 Mitsubishi Electric Corp レーザ光吸収装置及びその固体レーザ装置
US7952722B2 (en) * 2007-12-12 2011-05-31 Kabushiki Kaisha Topcon Optical image measurement device
JP2012133368A (ja) * 2010-12-22 2012-07-12 Carl Zeiss Microimaging Gmbh 共焦点レーザ走査顕微鏡のピンホール
JP2013003587A (ja) * 2011-06-17 2013-01-07 Leica Microsystems Cms Gmbh 蛍光撮像顕微鏡法の顕微鏡及び方法
JP2015515018A (ja) * 2012-03-15 2015-05-21 カール ツァイス マイクロスコピー ゲーエムベーハーCarl Zeiss Microscopy Gmbh 高分解能走査顕微鏡

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5216658A (en) * 1990-07-26 1993-06-01 Tandy Corporation Enlarged-spot erasure of optical media in dual-beam systems
WO1996012941A1 (en) * 1994-10-21 1996-05-02 Therma-Wave, Inc. Spectroscopic ellipsometer
JP3816632B2 (ja) * 1997-05-14 2006-08-30 オリンパス株式会社 走査型顕微鏡
US6744037B2 (en) 2000-09-11 2004-06-01 Ricoh Company, Ltd. Method for measuring scan beam light quantity distribution in scan optical system, measurement apparatus thereof, measurement evaluation apparatus thereof, and image formation apparatus using the measurement evaluation apparatus
JP2005284136A (ja) 2004-03-30 2005-10-13 Olympus Corp 観察装置および観察装置の焦点合わせ方法
US8031926B2 (en) * 2004-05-20 2011-10-04 Board Of Regents Of The Nevada System Of Higher Education, On Behalf Of The University Of Nevada, Reno Discrete event distribution sampling apparatus and methods
JP4884369B2 (ja) * 2005-02-21 2012-02-29 オリンパス株式会社 微弱光標本撮像ユニット、微弱光標本撮像装置および微弱光標本撮像方法
US7329860B2 (en) * 2005-11-23 2008-02-12 Illumina, Inc. Confocal imaging methods and apparatus
US7838250B1 (en) * 2006-04-04 2010-11-23 Singulex, Inc. Highly sensitive system and methods for analysis of troponin
JP5021254B2 (ja) 2006-09-06 2012-09-05 オリンパス株式会社 顕微鏡装置の制御方法、顕微鏡装置
US20120098164A1 (en) * 2007-07-20 2012-04-26 Shyi-Herng Kan Two-photon stereolithography using photocurable compositions
DE102008021641A1 (de) 2008-04-30 2009-11-05 Carl Zeiss Microlmaging Gmbh Auflösungsgesteigerte Lumineszenzmikroskopie
JP5208825B2 (ja) 2008-09-12 2013-06-12 オリンパス株式会社 光学顕微鏡
JP5672688B2 (ja) 2009-10-23 2015-02-18 ソニー株式会社 合焦装置、合焦方法、合焦プログラム及び顕微鏡
DE102011107645A1 (de) * 2011-07-12 2013-01-17 Leica Microsystems Cms Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Detektieren von Licht
JP5945400B2 (ja) 2011-11-18 2016-07-05 オリンパス株式会社 検出光学系および走査型顕微鏡
JP2016180591A (ja) * 2013-07-24 2016-10-13 株式会社日立ハイテクノロジーズ 検査装置
WO2015060921A2 (en) 2013-08-02 2015-04-30 Board Of Trustees Of Michigan State University Laser system for standoff detection
DE102013015933A1 (de) * 2013-09-19 2015-03-19 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Hochauflösende Scanning-Mikroskopie
US9804193B2 (en) 2014-03-12 2017-10-31 Oxford Instruments Asylum Research, Inc Metrological scanning probe microscope
JP6408796B2 (ja) * 2014-06-11 2018-10-17 オリンパス株式会社 レーザ顕微鏡装置
JP6375239B2 (ja) 2015-02-05 2018-08-15 オリンパス株式会社 レーザ顕微鏡装置

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0862039A (ja) * 1994-08-26 1996-03-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光空間伝送の受光装置
JP2001012902A (ja) * 1999-07-01 2001-01-19 Line Denshi Kk 走査レーザビーム位置検出装置
JP2008275763A (ja) * 2007-04-26 2008-11-13 Olympus Corp 多光子励起レーザ走査型顕微鏡
US7952722B2 (en) * 2007-12-12 2011-05-31 Kabushiki Kaisha Topcon Optical image measurement device
JP2010091694A (ja) * 2008-10-07 2010-04-22 Nikon Corp 走査型顕微鏡
WO2010134351A1 (ja) * 2009-05-21 2010-11-25 株式会社ニコン 走査型蛍光顕微鏡装置
JP2011082298A (ja) * 2009-10-06 2011-04-21 Mitsubishi Electric Corp レーザ光吸収装置及びその固体レーザ装置
JP2012133368A (ja) * 2010-12-22 2012-07-12 Carl Zeiss Microimaging Gmbh 共焦点レーザ走査顕微鏡のピンホール
JP2013003587A (ja) * 2011-06-17 2013-01-07 Leica Microsystems Cms Gmbh 蛍光撮像顕微鏡法の顕微鏡及び方法
JP2015515018A (ja) * 2012-03-15 2015-05-21 カール ツァイス マイクロスコピー ゲーエムベーハーCarl Zeiss Microscopy Gmbh 高分解能走査顕微鏡

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020016971A1 (ja) * 2018-07-18 2020-01-23 オリンパス株式会社 標本観察装置
JPWO2020016971A1 (ja) * 2018-07-18 2021-07-15 オリンパス株式会社 標本観察装置
JP7112686B2 (ja) 2018-07-18 2022-08-04 株式会社エビデント 標本観察装置
JP2022537617A (ja) * 2019-04-09 2022-08-29 カール ツァイス マイクロスコピー ゲーエムベーハー 再構成可能センサアレイを備えた光学顕微鏡
JP7478322B2 (ja) 2019-04-09 2024-05-07 カール ツァイス マイクロスコピー ゲーエムベーハー 再構成可能センサアレイを備えた光学顕微鏡
JPWO2021144830A1 (ja) * 2020-01-14 2021-07-22
WO2021144830A1 (ja) * 2020-01-14 2021-07-22 オリンパス株式会社 画像処理システム
JP7291808B2 (ja) 2020-01-14 2023-06-15 株式会社エビデント 画像処理システム、画像処理方法
US11900574B2 (en) 2020-01-14 2024-02-13 Evident Corporation Image processing system and image processing method

Also Published As

Publication number Publication date
US20180188518A1 (en) 2018-07-05
US20150362715A1 (en) 2015-12-17
US10018822B2 (en) 2018-07-10
JP6408796B2 (ja) 2018-10-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6408796B2 (ja) レーザ顕微鏡装置
CN108474932B (zh) 横向扫描单元及用于在焦平面内扫描光束的方法
JP7045382B2 (ja) 顕微鏡の検出光のための光学グループ、顕微鏡法のための方法、及び顕微鏡
US8873046B2 (en) Spectroscopic detection device and confocal microscope
JP6360825B2 (ja) 結像光学系、照明装置および観察装置
US10371932B2 (en) Light field imaging with scanning optical unit
US20160124201A1 (en) Light sheet illumination microscope and light sheet illumination method
US10401292B2 (en) Observation device
JP2013506152A5 (ja)
JP2015523602A (ja) 顕微鏡
US10718931B2 (en) Confocal inspection system having averaged illumination and averaged collection paths
US20130100461A1 (en) Methods and apparatuses for position and force detection
CN109073875B (zh) 用于可选择角度地照明的照明模块
US10634890B1 (en) Miniaturized microscope for phase contrast and multicolor fluorescence imaging
JP2021526633A (ja) 広域の光学的光熱赤外分光法
US20210404964A1 (en) Microscope and method for microscopy
WO2016052743A1 (ja) 光軸方向走査型顕微鏡装置
JP2009505126A (ja) 全反射顕微鏡検査用の顕微鏡および方法
KR102005210B1 (ko) 현미 장치 및 현미 관찰 방법
US8294984B2 (en) Microscope
JP5626367B2 (ja) 焦点位置維持装置及び顕微鏡
JP2012173373A (ja) オートフォーカス装置及び顕微鏡
US9958661B2 (en) Apparatus for structured illumination of a specimen
JP2013054102A (ja) 顕微鏡装置
JP5443939B2 (ja) レーザ照明装置、及び、それを備えたレーザ顕微鏡

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170221

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20171128

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20171219

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20180208

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180406

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180911

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180921

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6408796

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R371 Transfer withdrawn

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250