JP2015536376A

JP2015536376A - ポリオルガノシロキサンブロック及びポリオレフィンブロックを含むブロック共重合体

Info

Publication number: JP2015536376A
Application number: JP2015543106A
Authority: JP
Inventors: ユーヤン，; シルピケー．サンギ，; サレシュエス．アイアー，; ヨンシャンルー，
Original assignee: 3M Innovative Properties Co
Current assignee: 3M Innovative Properties Co
Priority date: 2012-11-20
Filing date: 2013-11-19
Publication date: 2015-12-21
Also published as: EP2922895B1; EP2922895A1; WO2014081682A1; CN104797634A; US20150247007A1; US9441079B2; CN104797634B

Abstract

ここでは、低接着性バックサイズ（「ＬＡＢ」）コーティングとして使用するのに適しているブロック共重合体について述べる。ブロック共重合体は、少なくとも１つのポリオルガノシロキサンブロック及び少なくとも１つのポリオレフィンブロックを含む。ポリオレフィンブロックは、少なくとも１１０℃の融点を有する半結晶である。ブロック共重合体は、一般的に次の構造を有する。Ａ［−Ｌ−Ｂ］ｎ（式中、Ａは、ポリオルガノシロキサンブロック及びＢは、ポリオレフィンブロックであり、Ｌは、共有結合又は二価結合基である。）いくつかの実施形態において、Ｌは、アミン又はヒドロキシルと無水物との反応生成物である。【選択図】なし

Description

発明の詳細な説明

［分野］
発明は、ポリオルガノシロキサンブロック共重合体材料に関連する。

［概要］
一実施形態では、以下の一般構造を有するブロック共重合体が説明され、
Ａ［−Ｌ−Ｂ］_ｎ
式中、ｎは少なくとも１であり、
Ａはポリオルガノシロキサンブロックであり、
Ｂはポリオレフィンブロックであり、
Ｌは、共有結合、又はアミン若しくはアルコールと無水物との反応生成物を含む二価結合基である。

いくつかの実施形態では、ポリオレフィンブロックは、少なくとも１１０℃の融点を有する。ポリオレフィンブロックは、ポリプロピレンホモポリマー又は共重合体を含んでもよい。

［詳細な説明］
ここでは、低接着性バックサイズ（「ＬＡＢ」）コーティングとして使用するのに適しているブロック共重合体について述べる。ブロック共重合体は、少なくとも１つのポリオルガノシロキサンブロック及び少なくとも１つのポリオレフィンブロックを含む。ポリオレフィンブロックは、少なくとも１１０℃の融点を有する半結晶である。

ブロック共重合体は、一般的に以下の構造を有する。
Ａ［−Ｌ−Ｂ］_ｎ
式中、Ａはポリオルガノシロキサンブロックであり、Ｂはポリオレフィンブロックである。Ｌは、共有結合又は二価結合基である。いくつかの好ましい実施形態において、Ｌは、アミン又はヒドロキシルと無水物との反応生成物である。

いくつかの実施形態では、ｎは１であり、及びブロック共重合体は、直鎖状ジブロック（Ａ−Ｂ）構造を有するように特徴づけられてもよい。他の実施形態では、ｎは２であり、及びブロック共重合体は、直鎖状三元ブロック（Ｂ−Ａ−Ｂ）構造を有するように特徴づけられてもよく、Ｂはポリオレフィンエンドブロック、及びＡはポリオルガノシロキサン中間ブロックである。更に別の実施形態では、ｎは３以上であり、及びブロック共重合体は、グラフトブロック共重合体として特徴づけられてもよい。グラフトブロック共重合体は、一般的にポリオルガノシロキサン主鎖Ａ及びポリオレフィン側鎖を含む。グラフト共重合体は、任意追加的に更にポリオレフィンエンドブロックを含んでもよい。

ポリオレフィンブロックは、好ましくは、少なくとも１１０℃、１１５℃、又は１２０℃の融点を有する半結晶ポリオレフィンホモポリマー又は共重合体を含む。ポリエチレン及び特にポリプロピレンポリマーは、比較的高いレベルの結晶化度を有する結果として、それらの比較的高い融点で好まれる。ポリプロピレンの融解は、範囲にわたって発生する。従って、融点は、示差走査熱量測定に準拠して測定された高温を見つけることによって決定される。

中及び高密度ポリエチレンは、１２０〜１３０℃（２４８〜２６６°Ｆ）の範囲で融点を有する。いくつかの実施形態では、ポリオレフィンブロックは、シンジオタクチックポリプロピレン（３０％の結晶化度を持つ）及び１３０℃の融点から得られるような、少なくとも１２０℃の融点を有する。優勢アイソタクチックであるポリプロピレンは、一般的に１６０〜１６６℃（３２０〜３３１°Ｆ）の範囲の融点を有する。いくつかの実施形態において、ポリオレフィンブロックは、少なくとも１３０℃、１３５℃、１４０℃、１４５℃、１５０℃、１５５℃、又は１６０℃の融点を有する。このような融点を有するポリプロピレンは、シンジオタクチック及びアイソタクチック繰り返し単位の組み合わせを含んでもよい。更に別の実施形態では、ポリオレフィンブロックは、１７１℃（３４０°Ｆ）の融点を有する１００％アイソタクチックポリプロピレンによって得られるような、少なくとも１６５℃又は１７０℃の融点を有する。

更に別の実施形態では、ポリオレフィンブロックは、ポリエチレン及びポリプロピレン共重合体の共重合体である。例えば、ポリエチレン及び優勢アイソタクチックポリプロピレンのランダム共重合体は、ポリエチレンホモポリマー及びアイソタクチックポリプロピレンの融点の間の融点を有する。いくつかの実施形態では、ポリオレフィン共重合体は、エチレン及び／又はプロピレン並びに１つ上の他の飽和又は不飽和Ｃ_４〜Ｃ_１２オレフィンコモノマー由来の繰り返し単位を含む。コモノマーの飽和時、結晶性ポリオレフィンブロックは、ポリアルキレン共重合体として特徴づけられてもよい。コモノマーが不飽和であるとき、ポリマーは、ポリアルキレン共重合体として特徴づけられてもよい。

特に指定のない限り、「分子量」は、本出願の全体を通して数平均分子量を指す。ポリオルガノシロキサンブロックの分子量は、一般的に少なくとも５００ｇ／モル、６００ｇ／モル、７００ｇ／モル、又は８００ｇ／モルである。ポリオルガノシロキサンブロックの分子量は、一般的に１５０，０００ｇ／モル又は１００，０００ｇ／モルを超えない。いくつかの実施形態では、ポリオルガノシロキサンブロックの分子量は、少なくとも９００ｇ／モル又は１０００ｇ／モルであり、かつ５，０００ｇ／モルまでであってよい。他の実施形態では、ポリオルガノシロキサンブロックの分子量は、少なくとも２０００ｇ／モル又は３０００ｇ／モル又は４０００ｇ／モル又は５０００ｇ／モルであり、かつ２５，０００ｇ／モルまでであってよい。更に他の実施形態では、ポリオルガノシロキサンブロックの分子量（Ｍｎ）は、少なくとも１０，０００ｇ／モル又は１５，０００ｇ／モル又は２０，０００ｇ／モル又は２５，０００ｇ／モルである。

（例えばポリプロピレン）ポリオレフィンブロックの分子量も、一般的に少なくとも５００ｇ／モル、６００ｇ／モル、７００ｇ／モル、又は８００ｇ／モルである。いくつかの実施形態では、（例えばポリプロピレン）ポリオレフィンブロックの分子量は、少なくとも１５００又は２０００ｇ／モルである。いくつかの実施形態では、（例えばポリプロピレン）ポリオレフィンブロックの分子量は、少なくとも３０００、４０００、又は５０００ｇ／モルである。いくつかの実施形態では、（例えばポリプロピレン）ポリオレフィンブロックの分子量は、５０，０００ｇ／モル、４０，０００ｇ／モル、３０，０００ｇ／モル又は２０，０００ｇ／モルを超えない。ポリオレフィンブロックがポリプロピレンホモポリマーのとき、繰り返しの回数は、約２４であり、約１，０００ｇ／モルの分子量を得る。しかし、ポリオレフィンブロックがポリプロピレン共重合体であり、かつコモノマーが３つを超える炭素原子を有する場合、繰り返し単位回数は、下回ってもよい。ポリオレフィンブロックは、一般的に少なくとも５、６、７、８、９、又は１０の合計繰り返し単位を含むホモポリマー又はコポリマーである。

ブロックコポリマーの分子量は、一般的にブロックの分子量の総数と等しい。一般的に、ポリオルガノシロキサン及びポリオレフィン材料は、ブロック共重合体が、少なくとも１，０００ｇ／モル、１，５００ｇ／モル、又は２，０００ｇ／モルであり、かつ２５０，０００ｇ／モルを超えない分子量を有するように選択される。いくつかの実施形態では、ブロック共重合体の分子量は、２００，０００ｇ／モル、１５０，０００ｇ／モル、又は１００，０００ｇ／モルを超えない。

ブロック共重合体が二元ブロックである（及び両方のブロックが同じ分子量を持つ）とき、ブロック共重合体は、一般的に約５０重量％のポリオルガノシロキサンを含む。いくつかの実施形態では、ブロック共重合体は、５０重量％未満のポリオルガノシロキサンを含む。例えば、ブロック共重合体が三元ブロックである（及び両方のブロックが同じ分子量を持つ）とき、ブロック共重合体は、一般的に約３３重量％のポリオルガノシロキサンを含む。更に別の実施形態では、グラフト共重合体は、ポリオルガノシロキサン主鎖及びポリオレフィングラフトを含んでもよく、ポリオレフィングラフトは、ポリオルガノシロキサンの２、３、４、５、又は６倍の分子量を持つ。ポリオルガノシロキサンの最小限の量は、一般的にブロック共重合体の総重量の少なくとも１５重量％である。少なくとも４５又は５０又は５５重量％のポリオレフィンを有するブロック共重合体は、熱溶着に有利である。高濃度のポリオレフィンは、ブロック共重合体のコスト削減にも順応性があってよい。

他の実施形態では、ブロック共重合体は、５０重量％を超えるポリオルガノシロキサンを含む。これは、ポリオルガノシロキサンブロックが、ポリオレフィンブロックより著しく高い分子量を有するときに達成され得る。ポリオルガノシロキサンの最大量は、一般的にブロック共重合体の総重量の少なくとも７５重量％である。高濃度のポリオルガノシロキサンを有するブロック共重合体は、より良い離型性をもたらすことができる。

いくつかの実施形態では、ブロック共重合体は、アミン又はヒドロキシル官能性ポリオルガノシロキサンが、無水物官能性ポリオレフィンブロックに反応することによって調製することができる。換言すると、ポリオルガノシロキサンブロック及びポリオレフィンブロックは、アミン又はヒドロキシル基と無水物との反応生成物によって結合される。

アミン官能性ポリオルガノシロキサンは、様々な方法で調製することができる。このような材料を合成する方法は、米国特許第５，２１４，１１９号及び米国特許第６，３５５，７５９号で説明されている。

様々なアミン官能性ポリオルガノシロキサン材料は、ペンシルバニア州モリスビルのＧｅｌｅｓｔＩｎｃ．、ドイツミュンヘンのＷａｃｋｅｒＣｈｅｍｉｅＡＧ、及びミシガン州バートンのＧｅｎｅｓｓｅＰｏｌｙｍｅｒＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから販売されている。ヒドロキシ官能性ポリオルガノシロキサン（例えばジオール）材料も、ＧｅｌｅｓｔＩｎｃから市販されている。

アミン官能性ポリオルガノシロキサンのアミン基は、第一級、第二級、又はそれらの組み合わせである。

無水物官能性ポリオレフィンは、ポリオレフィンを伴う無水マレイン酸の遊離基反応によって調製することができる。

無水物官能性ポリプロピレンポリマーは、「ＰＰ−Ｘ−１００８１」、「ＰＰ−Ｘ−１００８２」、「ＰＰ−Ｘ−１００６５」及び「ＰＰ−Ｘ−１００５３」の商品名で、オクラホマのＢａｋｅｒＨｕｇｈｅｓ、ＰｏｌｙｍｅｒＤｉｖｉｓｉｏｎ、ＳｅｎｄＳｐｒｉｎｇｓから市販されている。

ポリオレフィンの無水物官能基は、一般的に無水コハク酸又はそれらの誘導体である。

無水コハク酸官能性ポリオレフィンは、次式により表わされる：

式中、Ｒ^１は、少なくとも１１０℃の融点を有するポリオレフィンポリマーである。

ブロック共重合体が、単一ポリオルガノシロキサンブロック及び単一（例えばポリプロピレン）ポリオレフィンブロックを含む二元ブロック共重合体である実施形態のために、１官能性（例えばアミン又はヒドロキシル）ポリオルガノシロキサンは、モノ無水物（例えばポリプロピレン）ポリオレフィンと反応してもよい。二元ブロック共重合体は、次式により表わされる：

式中、Ｒ２は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル又はニトリルであり、
ｎは、シロキサン繰り返し単位の数であり、
Ｒ３は、アミン又はヒドロキシル官能基と無水物官能基との反応生成物であり、
ｐは、ポリエチレン及び／又はポリプロピレン繰り返し単位の数であり、
各ｍに対し、Ｒ５は、独立して水素（すなわちエチレン繰り返し単位）又はメチル（すなわちプロピレン繰り返し単位）であり、
Ｒ４は、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン又はアルケンであり、
ｏは、独立して４〜１２個の炭素原子を有する不飽和アルケン繰り返し単位の飽和アルキレンの数である。

Ｒ２は、最も一般的にはメチルである。シロキサン繰り返し単位、ｎの数は、１より大きく、かつポリオルガノシロキサンブロックが、前述した範囲の分子量を有するような値である。ポリエチレン及び／又はポリプロピレン繰り返し単位、ｐの数は、一般的に、前述したとおり少なくとも５、６、７、８、９、又は１０である。いくつかの実施形態では、ｏはゼロであり、及びポリオレフィンブロックは、ポリプロピレン又はポリエチレンホモポリマーである。他の実施形態では、ｎは、少なくとも１、又は１より大きい、例えば２、３、４、又は５である。コモノマーの繰り返し単位の数は、一般的にポリエチレン及びポリプロピレン繰り返し単位の数未満又は同等である。いくつかの実施形態では、二価結合基、Ｒ３は、独立して次の構造のうち１つを有する。

二元ブロック共重合体は、末端水素化物を有するポリオルガノシロキサンポリマーを伴う末端二重結合ポリオレフィンのヒドロシリル化反応によっても調製することができる。二元ブロック共重合体は、次式により表わされる：

式中、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５、ｎ、ｏ、及びｐは、前述したものと同じであり、かつｍは、ポリオレフィングラフトを有するシロキサン基の数である。

ブロック共重合体が、ポリオルガノシロキサン中間ブロック及び（例えばポリプロピレン）ポリオレフィンエンドブロックを含む直鎖状三元ブロック共重合体である実施形態のために、ポリオルガノシロキサンジアミン又はジオールは、モノ無水物（例えばポリプロピレン）ポリオレフィンと反応してもよい。三元ブロック共重合体は、次式により表わされる：

式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、ｎ、ｏ、及びｐは、前述したものと同じである。

ブロック共重合体が、ポリオルガノシロキサン主鎖及び（例えばポリプロピレン）ポリオレフィン側鎖を含むグラフト共重合体である実施形態のために、１つ以上の側枝アミン又はヒドロキシを含むポリオルガノシロキサンは、モノ無水物（例えばポリプロピレン）ポリオレフィンと反応してもよい。グラフト共重合体は、次式により表わされる：

Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、ｎ、ｏ、及びｐは、前述したものと同じであり、かつｍは、ポリオレフィングラフトを有するシロキサン基の数である。

反応スキームに関わらず、反応は、大気中の湿気から保護された、乾燥（すなわち非水系）溶媒、又は溶媒の混合物の中で行われる。溶媒は、出発材料の官能基とは反応しない。出発材料及び最終生成物は、一般的に重合中又はその完了後、溶媒中に完全に混和したままである。好適な溶媒は、特に有益なテトラヒドロフラン及び塩化メチレンを含む、アルコール、エーテル、エステル、及び有機塩素化合物等の極性液体を含む。溶媒は、試薬の性質によって決定される。イソプロパノール又は２−ブタノール等の第２級アルコールは、単独、若しくはトルエン又はシクロヘキサン等の非極性溶媒との組み合わせのどちらかで一般的に活用される。

ブロック共重合体組成物は、色素、染料、及び充填剤等の好適な添加物を任意追加的に含んでもよい。特にブロック共重合体組成物が、工業用テープ又はラベル物品上で活用されるとき、光安定化化合物が、通常添加される。

本明細書で記載されるポリオルガノシロキサンブロック共重合体組成物は、その粘着性により、ロール、ナイフ、又はカーテンコーティング、又は（例えばホットメルト）押し出し被覆等の様々な従来のコーティング方法のいずれかを介してコーティングされてもよい。ブロック共重合体組成物が、溶媒系コーティングとして塗布されるとき、コーティングは、塗布の後に乾燥される。

（無溶剤が）コーティングされたブロック共重合体組成物は、一般的に少なくとも５０ｎｍ又は１００ｎｍ（０．１マイクロメートル）であり、かつ２０ミル（０．５ｍｍ）を超えない厚さを有する。いくつかの実施形態では、厚さは、少なくとも０．５、１又は２マイクロメートルであり、かつ５０、４０、３０、２０、又は１０マイクロメートルを超えない。

本発明のブロック共重合体は、低接着性バックサイズ（ＬＡＢ）コーティングとして使用するのに適している。いくつかの実施形態では、低接着性バックサイズ（ＬＡＢ）コーティングは、粘着剤、可塑剤、及びワックス等の粘着調整成分がない場合に説明したブロック共重合体を含む。他の実施形態では、ブロック共重合体組成物は、このような粘着調整成分を、最高５、１０又は１５重量％を含む。

低接着性バックサイズコーティングは、一般的に不織布又は高分子フィルム基材等の平面の露出面に塗布される。いくつかの実施形態では、低接着性バックサイズコーティングは、滑りを改善し、又は換言すると、このようなコーティングがない場合の下地基板と比べて摩擦を軽減する。いくつかの実施形態では、摩擦係数は、このようなコーティングがない場合の基板と比べて２０％、３０％、４０％、５０％、６０％、７０％又は８０％軽減される。摩擦係数は、０．４、又は０．３５、又は０．３又は０．２５又は０．２０未満であってよい。いくつかの実施形態では、摩擦係数は、少なくとも０．０２又は０．０５又は０．１０である。

いくつかの実施形態では、低接着性バックサイズ（ＬＡＢ）コーティングは、（例えば中間体）積層物又は物品上で活用され、テープ、ラベル及びその他のタイプのＰＳＡ−コーティングシート等の感圧接着剤を更に含む。ポリビニルカルバメートＬＡＢコーティングを活用するこのような物品のいくつかの実施形態は、米国特許第２，５３２，０１１号に記載されており、本明細書に参考として組み込まれる。ＬＡＢコーティングされた表面は、接着剤が永久に付着しない表面をもたらすため、接着剤は、使用前にそこから放出される。

ＬＡＢを有する下地基板は、ロール状のテープ等の接着物品を提供するのに特に便利である。この場合、接着剤は、ＬＡＢの反対側の下地基板の側の上にコーティングされるので、接着剤がコーティングされた下地基板が巻き取られるとき、接着剤は、ＬＡＢに接触する。接着剤は、ＬＡＢに十分に付着するため、ロールは、ほどける又は「崩れる」ことはないが、テープを広げられないほど十分ではない。

本発明のブロック共重合体は、ポリオルガノシロキサン及びポリオレフィンブロック並びにブロック共重合体構造の各ブロックの数の分子量（Ｍｎ）の変動を通して解離の変化量を与えるために調製されてもよい。一般的には、解離の量は、１．０Ｎ／ｄｍ〜又は約３５Ｎ／ｄｍ以下で異なってよい。ロール状のテープ用ＬＡＢは、一般的に約６〜約３５Ｎ／ｄｍの範囲で解放値を示す。

ポリオルガノシロキサンの濃度が増加すると、解放値は減少してもよい。割増解離コーティング（すなわち約２Ｎ／ｄｍ未満の解放値を有する解離コーティング）のために、ポリオルガノシロキサンのより高い含量、例えば約２５〜５０重量％のポリオルガノシロキサンが、製剤において必要である。適度の解放値が許容できる適用例では、ポリシロキサン含量は、より低いレベル、例えば、１５重量％より下に減少されてもよい。

組成物が、感圧接着剤が塗布される及び／又は感圧接着剤から解離される基板の摩擦係数の軽減を意図するかどうかに関わらず、ブロック共重合体組成物は、好適な可撓性又は非可撓性下地基板材料の少なくとも１つの主要表面の少なくとも１部に塗布されてもよく、かつ低接着性シート材料を製造するために乾燥されてもよい。有益な可撓性下地基板材料には、ポリ（プロピレン）、ポリ（エチレン）、ポリ（塩化ビニル）、ポリ（テトラフルオロエチレン）、ポリウレタン、ポリエステル（例えばポリ（エチレンテレフタレート））、ポリイミドフィルム、酢酸セルロース、及びエチルセルロース等の紙、プラスチックフィルムが挙げられる。下地基板は、綿、ナイロン、レーヨン、ガラス又はセラミック材料等の合成又は天然材料の糸から形成された織布であってもよく、若しくは天然又は合成繊維、又はこれらの混合物であるエアレイドウェブ等の不織布であってもよい。加えて、好適な下地基板は、金属、金属化ポリマーフィルム又はセラミックシート材料から形成することができる。

下地基板は、基板及び本明細書で説明されたブロック共重合体を含む低接着コーティングの間に配置されたプライマー又は結合層を任意追加的に含んでもよい。

下地基板の厚さは、一般的に２００、又は１００、又は５０、又は２５μｍを超えない。厚さは、一般的に少なくとも１５μｍである。

コーティングされたシート材料は、ラベル、テープ、（少なくとも１つの剥離ライナーの上にあるＰＳＡのフィルムを含む）転写テープ、標識、しるし付けインデックス、並びに医療又は創傷包帯等のＰＳＡ成分と共に活用されることが従来知られているいかなる物品の形態をとってもよい。

本発明は、特許請求の範囲に限定されない以下の実施例によって更に図示される。特に指示のない限り、分子量は、数平均分子量を参照する。部、百分率及び比率は全て、特に明記されていない限り重量による。

本発明の目的及び利点は、以下の実施例によって更に図示されるが、これらの実施例において列挙された特定の材料及びその量は、他の諸条件及び詳細と同様に本発明を過度に制限するものと解釈されるべきではない。これらの実施例はあくまで図示を目的としたものにすぎず、付属の「特許請求の範囲」に対して限定的であることを意図するものではない。

材料
特に記載のない限り、実施例及び本明細書の残りの部分におけるすべての部、百分率、及び比率等は、重量による。特に記載のない限り、すべての化学物質は、ＡｌｄｒｉｃｈＣｈｅｍｉｃａｌＣｏｍｐａｎｙ（Ｍｉｌｗａｕｋｅｅ、ＷＩ）等の化学物質供給元から入手した又は入手可能である。

試験方法
静的及び運動性摩擦係数の測定方法
コーティングされたフィルム（以下で説明される実施例で調製）の静的及び運動性摩擦係数（それぞれＳ−ＣＯＦ及びＫ−ＣＯＦ）は、試験試料がスレッドに取り付けられ、かつ綿シートが平面に取り付けられたことを除いて、ＡＳＴＭＤ１８９４０８（コロラド州エングルウッドのＨＩＳＩｎｃ．，より入手した、Ｒｅｖ．１１（２０１１）、プラスチックフィルム及びシートの静的及び運動性摩擦係数のための標準試験方法）に従って、１００％綿シートに対して試験された。

熱溶着適合性の測定方法
担体は、５０ｐｓｉ（０．３ＭＰａ）の加圧を用いて、コーティングされた下地基板に熱溶着された。担体は、シリコーン放出側及びポリエチレンコーティングされた側を有する（７８＃）紙基板であった。担体のポリエチレン側は、熱溶着されたとき、下地基板の乾燥ブロック共重合体ＬＡＢコーティングと接触した。滞留時間（秒）及び熱溶着温度は、以下の表に記録及び報告された。

水蒸気伝達率（ＭＶＴＲ）の測定方法
直立ＭＶＴＲ
直立ＭＶＴＲは、ＡＳＴＭＥ９６−８０に従い、Ｐａｙｎｅｃｕｐ法の変法を用いて測定された。直径３．８ｃｍのサンプルを、それぞれ５．１ｃｍ^２の楕円形開口部を有する、２枚のホイル接着剤リングの、接着剤含有表面の間に配置した。各リングの穴を注意深く揃えた。指圧を用いて、平坦で、しわがなく、露出したサンプル内にくぼんだ領域がない、ホイル／サンプル／ホイル組立体を形成した。

実施例において特に記載しない限り、０．０２％（ｗ／ｗ）水性メチレンブルーＵＳＰ（ＢａｓｉｃＢｌｕｅ９，Ｃ．Ｉ．５２０１５）水溶液を２滴含んだおよそ５０ｇの水道水を１２０ｍＬのガラス瓶に充填した。この瓶には、直径３．８ｃｍ穴が中心にあるネジ付きのふたと、およそ３．６ｃｍの穴が中心にある直径４．４５ｃｍのゴムワッシャとを取り付けた。瓶の縁にゴムワッシャを配置し、ゴムワッシャの下部の裏材側にホイル／サンプル／ホイル組立体を配置した。次いで、瓶の上のふたをゆるく閉めた。

組立体を、４０℃、相対湿度２０％にて４時間チャンバ内に配置した。サンプルがふたと同じ高さになり（サンプルが外側に出っ張らないようにする）、ゴムワッシャが適切な位置に配置されているように、４時間後にチャンバの内側でふたを締めた。

ホイルサンプル組立体をチャンバから取り出し、開始乾燥重量Ｗ１についてすぐに０．０１グラム単位で計量した。次いで組立体を少なくとも１８時間（１時間当たりの露出時間Ｔ１）にわたってチャンバに戻した後、取り出し、最終乾燥重量Ｗ２についてすぐに０．０１ｇ単位で計量した。次に、ＭＶＴＲ（２４時間あたりの、サンプルの面積平方メートルあたりの透過水蒸気のグラム数）は、下式を用いて計算することができる。
直立（乾燥時）ＭＶＴＲ＝（Ｗ１−Ｗ２）×（４．７４×１０４）／Ｔ１

反転ＭＶＴＲ
以下の試験手順を用いて反転ＭＶＴＲを測定した。直立ＭＶＴＲ手順について記載されるように、最終「乾燥時」重量（Ｗ２）を得た後、組立体を更に少なくとも１８時間の露出時間（Ｔ２）の間チャンバに戻した。瓶は、水道水が試験サンプルに直接接触するよう逆さにした。次いでサンプルをチャンバから取り出し、最終湿潤重量Ｗ３について０．０１グラム単位で計量した。次に、反転湿潤ＭＶＴＲ（２４時間あたりの、サンプルの面積平方メートルあたりの透過水蒸気のグラム数）は、下式を用いて計算することができる。
反転（湿潤時）ＭＶＴＲ＝（Ｗ２−Ｗ３）×（４．７４×１０４）／Ｔ２

調製例１（ＰＥ１）
シリコーンジアミン（ＷＡＣＫＥＲＦＬＵＩＤＮＨ１３０Ｄ，Ｍｎ＝１１４９６，１１．５ｇ）、ポリプロピレン（ＰＰ−Ｘ−１００８２，Ｍｎ＝６４１８，１２．８４ｇ）、及びｐ−キシレン（３０ｇ）を、フラスコの中に入れた。溶液は、１３０℃の油浴で０．５時間還流された。１２０℃の溶液の蒸発は、以下の反応スキームに従って固形粉末（三元−ブロック材料）を与えた。

調製例２（ＰＥ２）
シリコーンジアミン（ＷＡＣＫＥＲＦＬＵＩＤＮＨ１３０Ｄ，Ｍｎ＝１１４９６，１１．５ｇ）、ポリプロピレン（ＰＰ−Ｘ−１００８２，Ｍｎ＝６４１８，１２．８４ｇ）、ｐ−キシレン（３０ｇ）及びイソキノリン（０．０４ｇ）を、フラスコの中に入れた。溶液は、１３０℃の油浴で水分を取り除くために８時間共沸還流された。１２０℃の溶液の蒸発は、以下の反応スキームに従って固形粉末（三元−ブロック材料）を与えた。

調製例３（ＰＥ３）
シリコーンジアミン（ＷＡＣＫＥＲＦＬＵＩＤＮＨ１３０Ｄ，Ｍｎ＝１１４９６，１１．５ｇ）、ポリプロピレン（ＰＰ−Ｘ−１００５３，Ｍｎ＝２６５４，５．３ｇ）、及びｐ−キシレン（３０ｇ）を、フラスコの中に入れた。溶液は、１３０℃の油浴で０．５時間還流された。１２０℃の溶液の蒸発は、以下の反応スキームに従って固形粉末（三元−ブロック材料）を与えた。

調製例４（ＰＥ４）
シリコーンジアミン（ＷＡＣＫＥＲＦＬＵＩＤＮＨ１３０Ｄ，Ｍｎ＝１１４９６，１１．５ｇ）、ポリプロピレン（ＰＰ−Ｘ−１００５３，Ｍｎ＝２６５４，５．３ｇ）、ｐ−キシレン（３０ｇ）及びイソキノリン（０．０４ｇ）を、フラスコの中に入れた。溶液は、１３０℃の油浴で水分を取り除くために８時間共沸還流された。１２０℃の溶液の蒸発は、以下の反応スキームに従って固形粉末（三元−ブロック材料）を与えた。

調製例５（ＰＥ５）
シリコーンジオール（ＤＭＳ−Ｃ２１，Ｍｎ＝５０００，５０ｇ）、ポリプロピレン（ＰＰ−Ｘ−１００６５，Ｍｎ＝１１７８，２３．５６ｇ）、ｐ−キシレン（８０ｇ）を、フラスコの中に入れた。溶液は、１３０℃の油浴で０．５時間還流された。１２０℃の溶液の蒸発は、以下の反応スキームに従って固形粉末（三元−ブロック材料）を与えた。

調製例６（ＰＥ６）
シリコーンモノアミン（ＭＣＲ−Ａ１１，Ｍｎ＝９００，９ｇ）ポリプロピレン（ＰＰ−Ｘ−１００８２，Ｍｎ＝６４１８，６４．１８ｇ）、及びｐ−キシレン（３００ｇ）を、フラスコの中に入れた。溶液は、１３０℃の油浴で０．５時間還流された。１２０℃の溶液の蒸発は、以下の反応スキームに従って固形粉末（二元−ブロック材料）を与えた。

調製例７（ＰＥ７）
シリコーンモノアミン（ＭＣＲ−Ａ１１，Ｍｎ＝９００，９ｇ）ポリプロピレン（ＰＰ−Ｘ−１００８２，Ｍｎ＝６４１８，６４．１８ｇ）、及びｐ−キシレン（３００ｇ）及びイソキノリン（０．０４ｇ）を、フラスコの中に入れた。溶液は、１３０℃の油浴で水分を取り除くために８時間共沸還流された。１２０℃の溶液の蒸発は、以下の反応スキームに従って固形粉末（二元−ブロック材料）を与えた。

調製例８（ＰＥ８）
シリコーン多アミン（ＧＰ−４，等量Ｍｎ＝１１８２．０３，１１．８２ｇ）、ポリプロピレン（ＰＰ−Ｘ−１００８２，Ｍｎ＝６４１８，６４．１８ｇ）、及びｐ−キシレン（１００ｇ）を、フラスコの中に入れた。溶液は、１３０℃の油浴で０．５時間還流された。１２０℃の溶液の蒸発は、以下の反応スキームに従って、固形粉末（多−ブロック材料）を与えた。

調製例９（ＰＥ９）
シリコーン多アミン（ＧＰ−４，等量Ｍｎ＝１１８２．０３，１１．８２ｇ）、ポリプロピレン（ＰＰ−Ｘ−１００８２，Ｍｎ＝６４１８，６４．１８ｇ）、及びｐ−キシレン（１００ｇ）及びイソキノリン（０．０４ｇ）を、フラスコの中に入れた。溶液は、１３０℃の油浴で水分を取り除くために８時間共沸還流された。１２０℃の溶液の蒸発は、以下の反応スキームに従って固形粉末（多−ブロック材料）を与え、ｍは１より大きい。

調製例１０（ＰＥ１０）
ポリプロピレン（ＰＰ−Ｘ−１００８１，３ｇ）及びキシレン（３０ｇ）は、フラスコ内で混合され、かつ溶解が完了するまで熱された。溶液は冷やされ、その後Ｐｔ触媒（ＳＩＰ６８３１．２，０．０２ｇ）及びシリコーン（ＨＭＳ−０６４Ｍ_ｎ＝５５Ｋ−６５Ｋ（−２１８℃−２０８℃），３ｇ）が添加された。溶液を８０℃まで、６６時間加熱した。１２０℃の溶液の蒸発は、以下の反応スキームに従って、約５．８ｇの固形粉末（ポリプロピレン側鎖を伴う多−ブロックシリコーン）を与えた。

実施例１〜４（ＥＸ１−ＥＸ４）及び比較実施例１−２（ＣＥ１−ＣＥ２）
はじめに、５ｇの三元−ブロックポリマー（上記ＰＥ１で記載されたとおりに調製された）が、９５ｇのキシレンに溶けた。三元−ブロックポリマーは、４６重量％のシリコーンを含有し、及びコーティング溶液は、５重量％の三元−ブロックポリマーを含有した。結果生じた溶液は、その後３＃メイヤーバーを用いてＥＳＴＡＮＥ５８３２７エーテル系ポリウレタンフィルムの上にコーティングされた。結果生じたコーティングされたフィルムは、その後ＥＸ１−ＥＸ４のコーティングされたフィルムを調製するため、規定時間規定温度でオーブンの中で乾燥された。以下の表１は、各ＥＸ１−ＥＸ４のサンプルを調整するのに用いられた乾燥温度及び時間を要約する。乾燥コーティングは、２マイクロメートルの厚さを有した。

ＣＥ１は、コーティングされないＥＳＴＡＮＥ５８３２７エーテル系ポリウレタンフィルムだった。ＣＥ２は、「３ＭＴＥＧＡＤＥＲＭＨＰＴＲＡＮＳＰＡＲＥＮＴＤＲＥＳＳＩＮＧ」の商品名で、ミネソタ州セントポールの３ＭＣｏｍｐａｎｙから市販されている、３ＭＴＥＧＡＤＥＲＭＴＲＡＮＳＰＡＲＥＮＴＤＲＥＳＳＩＮＧであった。

ＥＸ１〜ＥＸ４及びＣＥ１〜ＣＥ２のサンプルは、その後それらの通気性（すなわち、ＭＶＴＲ）、静的及び運動性摩擦係数が試験され、かつ熱溶着適合性及びデータは、以下の表２に要約する。

Claims

以下の一般構造
Ａ［−Ｌ−Ｂ］_ｎ
（式中、ｎは、少なくとも１であり、
Ａは、ポリオルガノシロキサンブロックであり、
Ｂは、ポリオレフィンブロックであり、
Ｌは、共有結合、又はアミン若しくはアルコールと無水物との反応生成物を含む二価結合基である）を有するブロック共重合体。
前記ポリオレフィンブロックが、少なくとも１１０℃の融点を有する、請求項１に記載のブロック共重合体。
前記ポリオレフィンブロックが、ポリプロピレンホモポリマー又は共重合体を含む、請求項１又は２に記載のブロック共重合体。
前記ポリプロピレン共重合体が、４〜１２個の炭素原子を有する飽和アルキレン及び不飽和アルケン由来の繰り返し単位を含む、請求項３に記載のブロック共重合体。
前記ブロック共重合体が、少なくとも４０重量％のポリオレフィンを含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載のブロック共重合体。
前記ブロック共重合体が、０．３０未満の摩擦係数を有する、請求項５に記載のブロック共重合体。
前記ブロック共重合体が、少なくとも４０重量％のポリオルガノシロキサンを含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載のブロック共重合体。
前記ブロック共重合体が、剥離コーティングとしての使用に適している、請求項７に記載のブロック共重合体。
前記ブロック共重合体は、以下の式

（式中、Ｒ２は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル又はニトリルであり、
ｎは、１より大きく、
Ｒ３は、アミン又はヒドロキシル官能基と無水物官能基との反応生成物であり、
ｐは、少なくとも５であり、
各ｐに対し、Ｒ５は、独立して水素又はメチルであり、
Ｒ４は、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン又はアルケンであり、
ｏは、ゼロであるか又は１より大きい）を有する二元ブロック共重合体である、請求項１〜８のいずれか一項に記載のブロック共重合体。
前記ブロック共重合体は、以下の式

（式中、Ｒ２は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル又はニトリルであり、
ｎは、１より大きく、
ｍは、少なくとも１であり、
Ｒ３は、アミン又はヒドロキシル官能基と無水物官能基との反応生成物であり、
ｐは、少なくとも５であり、
各ｍに対し、Ｒ５は、独立して水素又はメチルであり、
Ｒ４は、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン又はアルケンであり、
ｏは、ゼロであるか又は１より大きい）を有する二元ブロック共重合体である、請求項１〜８のいずれか一項に記載のブロック共重合体。
前記ブロック共重合体は、以下の式

（式中、Ｒ２は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル又はニトリルであり、
ｎは、１より大きく、
Ｒ３は、アミン又はヒドロキシル官能基と無水物官能基との反応生成物であり、
ｐは、少なくとも５であり、
各ｍに対し、Ｒ５は、独立して水素又はメチルであり、
Ｒ４は、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン又はアルケンであり、
ｏは、ゼロであるか又は１より大きい）を有する三元ブロック共重合体である、請求項１〜８のいずれか一項に記載のブロック共重合体。
前記ブロック共重合体は、以下の式

（式中、Ｒ２は、水素、Ｃ１〜Ｃ６アルキル又はニトリルであり、
ｎは、１より大きく、
ｍは、少なくとも１であり、
Ｒ３は、アミン又はヒドロキシル官能基と無水物官能基との反応生成物であり、
ｐは、少なくとも５であり、
各ｍに対し、Ｒ５は、独立して水素又はメチルであり、
Ｒ４は、Ｃ１〜Ｃ８アルキレン又はアルケンであり、
ｏは、ゼロであるか又は１より大きい）を有するグラフト共重合体である、請求項１〜８のいずれか一項に記載のブロック共重合体。
Ｒ３が、独立して次の構造

のうちの１つを有する、請求項９、１１、又は１２に記載のブロック共重合体。
ｏがゼロである、請求項９〜１３のいずれか一項に記載のブロック共重合体。
ｏが、少なくとも１であり、及びＲ４が、Ｃ１〜Ｃ８アルキレンである、請求項９〜１３のいずれか一項に記載のブロック共重合体。