JP2015524007A5

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Publication number: JP2015524007A5
Application number: JP2015512631A
Authority: JP
Filing date: 2013-03-07
Publication date: 2016-04-21
Anticipated expiration: 2033-03-07

Claims

担体原子および高屈折率官能基を含む分子であって、式：

［式中、Ｗは該担体原子であり、Ｒ¹は、水素、ヒドロキシル、または直鎖もしくは分岐アルキルラジカル、直鎖もしくは分岐アルコキシラジカル、アルキルビニルラジカル（アリルを含む）、シクロアルキルラジカル、分岐もしくは直鎖アルケニルラジカル、シクロアルケニルラジカル、直鎖もしくは分岐アルキニルラジカル、アリールラジカル、置換アリールラジカル、または多核芳香族基から選ばれるＣ１−Ｃ３０炭素原子を含有する基から独立して選ばれ；Ａは、硫黄含有複素環式構造を含む高屈折率基から選ばれ；Ｂは、ハライド、アルコキシ（ＯＲ）、ヒドロキシル、アルキルビニルラジカル（アリルを含む）、水素、−（ＣＨ₂）_nＳＨ、−（ＣＨ₂）_nＮＨ₂、グリシジルラジカル、またはその２種以上の組み合わせから選ばれ；ｎは１〜１０であり、ｘは少なくとも１であり；ｙは該担体原子の原子価より０から２少ない範囲であり；ｚは少なくとも１であり；１≦ｘ＋ｙ≦該担体原子の原子価より１少ない数であり；ｘ＋ｙ＋ｚは該担体原子の原子価と等しい。］を有する分子。
該担体原子がシリコン、リン、窒素、ゲルマニウムまたは炭素から選ばれる、請求項１に記載の分子。
少なくとも１個の硫黄原子を含む飽和複素環式化合物、少なくとも１個の硫黄原子を含む不飽和複素環式化合物、またはその２種以上の組み合わせを含む、請求項１または２に記載の分子。
該複素環式化合物が三〜十員環である、請求項１から３のいずれかに記載の分子。
該複素環式化合物が２個または３個の硫黄原子を含む、請求項１から４のいずれかに記載の分子。
該複素環式化合物が１個または複数の非硫黄ヘテロ原子をさらに含む、請求項１から５のいずれかに記載の分子。
式：

［式中、シリコン（Ｓｉ）は該担体原子であり、Ｒ¹は、水素、ヒドロキシル、直鎖もしくは分岐アルキルラジカル、直鎖もしくは分岐アルコキシラジカル、アリールラジカル、アルキルビニルラジカル、またはその２種以上の組み合わせから独立して選ばれ；Ａは、硫黄含有複素環式構造を含む高屈折率基から独立して選ばれ；Ｂは、ハライド、ＯＨ、ＯＲ、ビニルラジカル、水素、アリルラジカル、−（ＣＨ₂）_nＳＨ、−（ＣＨ₂）_nＮＨ₂、グリシジルラジカル、またはその２種以上の組み合わせから独立して選ばれ；ｎは１〜１０であり、ｘは少なくとも１であり；ｙは０−２であり；ｚは少なくとも１であり；１≦ｘ＋ｙ≦３であり；ｘ＋ｙ＋ｚは４である。］のものである、請求項１から６のいずれかに記載の含有分子。
式：

である、請求項７に記載の分子。
式：

［式中、ｈ＋ｙは４であり、ｈは少なくとも２である。］のものである、請求項７に記載の分子。
該複素環式化合物がチオフェン（テトラヒドロチオフェン）、１，３−ジチオラン、テトラヒドロ−２Ｈ−チオピラン、１，３−ジチアン、１，４−ジチアン、１，３，５−ジチアン、１，３，５−ジチアジナンまたはその２種以上の組み合わせから選ばれる、請求項１から９のいずれかに記載の分子。
シロキサン骨格を有し、請求項１から１０に記載の分子を含む、ポリシロキサンポリマーまたはコポリマー。
１．４２から約１．６５の屈折率を有する、請求項１１に記載のポリマー。
式

［式中、Ｍ¹およびＭ²は、独立して、Ｒ²Ｒ³Ｒ⁴ＳｉＯ_1/2であり；Ｄ¹、Ｄ²、Ｄ³およびＤ⁴は独立してＲ⁵Ｒ⁶ＳｉＯ_2/2であり；Ｔ¹およびＴ²は独立してＲ⁷ＳｉＯ_3/2であり；ＱはＳｉＯ_4/2であり；Ｒ²−Ｒ⁷基は、水素、ヒドロキシル、直鎖もしくは分岐アルキルラジカル、直鎖もしくは分岐アルコキシラジカル、アリールラジカル、アルキルビニルラジカル、アミド、アミノ基、プロピルメルカプト基、グリシジル含有基、高屈折率硫黄含有複素環式化合物、または高屈折率分子側鎖基から独立して選ばれ、ここで、Ｒ²−Ｒ⁷の少なくとも１つは、（１）式１の高屈折率分子または（２）硫黄含有複素環式化合物から選ばれ；ａは１〜１０００であり、ｂは０〜５００であり、ｃは０〜５００であり、ｄは０〜１００であり、ｅは０〜１００であり、ｆは０〜１００であり、ｇは１〜１０００であり、ｈは０〜１０００であり、ｉは０から２００である。］によって記載される、請求項１１または１２に記載のポリマー。
式ＭＤ_aＤ^OL _dＤ^H _eＴ_cＱ_fＭ、Ｍ^HＤ_aＤ^Ph _bＤ^OL _dＤ^H _eＴ_cＱ_fＭ^H、Ｍ^HＤ_aＤ^Ph _bＤ^OL _dＴ_cＱ_fＭ^H、ＭＤ_aＤ^OL _dＤ^vi _gＴ_cＱ_fＭ、Ｍ^viＤ_aＤ^OL _dＤ^vi _gＴ_cＱ_fＭ^viまたはＭ^viＤ_aＤ^OL _dＴ_cＱ_fＭ^vi［式中、Ｍはトリアルキルシロキシラジカルまたはジアルキルビニルシロキシを表し、ｖｉはビニルラジカルを表し、ＯＬは、硫黄含有飽和複素環式化合物を含む高屈折率モノマーを表し、Ｄ^OLは、高屈折率モノマーを含むアルキルシロキシを表し、Ｄ^Hはアルキルヒドロゲンシロキシを表し、Ｄ^viはアルキルビニルシロキシを表し、Ｄはジアルキルシロキシを表し、Ｍ^viはジアルキルビニルシロキシを表し、Ｍ^Hはジアルキルヒドロゲンラジカルを表し、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆおよびｇは正の整数である。］によって記載される、請求項１３に記載のポリマー。
請求項１１から１４のいずれかに記載の該ポリマーを含み、該ポリマーがポリジメチルシロキサン、ポリジフェニルシロキサン、またはポリメチルフェニルシロキサンを含むコポリマーである、組成物。
硬化性シロキサン組成物であるか、または、反射防止膜、コンフォーマルコーティング、塗料調合物、およびパーソナルケア製品調合物から選ばれるものである、請求項１５に記載の組成物。
請求項１５または１６に記載の該組成物を含むデバイス。
発光ダイオード、有機発光ダイオード、レーザダイオード、導光路、光学的コンピューティングデバイス、光記憶媒体、光学レンズ、マイクロレンズ、塗料調合物、勾配屈折率光学部品、および動的勾配屈折率部品から選ばれる、請求項１７に記載のデバイス。
抗酸化剤、熱安定剤、紫外線安定剤、接着促進剤、１〜１００ｐｐｍの量の白金族金属触媒、防止剤、及び／又は充填材をさらに含む、請求項１８に記載の硬化性組成物。