JP2015191994A - 半導体製造装置及び半導体の製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 51
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 51
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 21
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 300
- 238000000034 method Methods 0.000 description 40
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 19
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 14
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 6
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 3
- 230000007306 turnover Effects 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
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- Dicing (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
(1)レーザは加工単位が微小のため、バックグラインディングテープGTとウェーハWをそれぞれ効率良く加工することが可能である。これに対して、ブレードはバックグラインディングテープGTとウェーハWを同時に切断するため、品質への影響が懸念される。
(2)レーザはドライプロセスが可能なため、加工環境の制約を受けにくい。これに対してブレードは水が必要なため、水を使用する環境(機能)を整える必要がある。
(3)ブレードは加工対象に合わせてブレードの選定が必要で手間がかかるが、レーザは出力等をパラメータで可変できるため、手間が省ける。
11 制御部
111 メモリ
12 バックグラインディング装置
121 真空チャックテーブル
13 アライメント部
131 アライメントユニット
14 レーザ照射部
141 レーザユニット(レーザ照射手段)
15 ウェーハ分割部
151 セパレートテーブル
151a〜151d 分割セパレートテーブル部
151X 折り曲げライン
151Y 折り曲げライン
152 吸着機構
153 傾き動作機構
154 X/Y軸動作機構
155 Z軸動作機構
16 ウェーハ裏返し保持手段
161 回転軸
162 モータ
17 リングフレーム配置手段
171 リングフレーム
18 ウェーハマウント手段
181 バルーン
19 バックグラインディングテープ剥離部
191 吸着ステージ
192 バックグラインディングテープ剥離手段
21 ウェーハ搬送手段
211 搬送チャック
22 フレームキャリア
221 棚
DT ダイシングテープ
GT バックグラインディングテープ
RT 剥離テープ
W ウェーハ
WA、WB ウェーハ半体
Wa、Wb、Wc、Wd 小片化されたウェーハ
151X、151Y 折り曲げライン
L2X、L2Y ウェーハカット用分割ライン
L1X、L1Y テープ分断ライン
Claims (5)
- 表面側にバックグラインディングテープを貼り付けてなるウェーハを、ダイシングテープが貼られたリングフレーム上にマウントする半導体製造装置において、
エアの導入により徐々に膨らみ、その膨らみにより前記ダイシングテープを前記ウェーハに徐々に押し付け、該ダイシングテープと前記ウェーハを貼り合わせてマウントするバルーン、
を備えることを特徴とする半導体製造装置。 - 前記ダイシングテープを挟んで上側に前記ウェーハを配置し、下側に前記バルーンを配置してなる、ことを特徴とする請求項1に記載の半導体製造装置。
- 前記ウェーハは、略円板状をした1個のウェーハから複数個に分割して小片化されている、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体製造装置。
- ダイシングテープが貼られたリングフレーム上にウェーハをマウントする半導体の製造方法において、
エアが導入されて徐々に膨らまされるバルーンを、前記ウェーハに対して前記ダイシングテープ越しに配置し、前記バルーンの膨らみに伴わせて前記ダイシングテープを前記ウェーハに向けて押し付け、該ダイシングテープと前記ウェーハとを貼り合わせてマウントする、
ことを特徴とする半導体の製造方法。 - 前記ダイシングテープを挟んで上側に前記ウェーハを配置し、前記バルーンを前記ダイシングテープの下側から膨らませて前記ダイシングテープを前記ウェーハに押し付けるようにしてなる、ことを特徴とする請求項4に記載の半導体製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014067440A JP6518405B2 (ja) | 2014-03-28 | 2014-03-28 | 半導体製造装置及び半導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014067440A JP6518405B2 (ja) | 2014-03-28 | 2014-03-28 | 半導体製造装置及び半導体の製造方法 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019021486A Division JP6616029B2 (ja) | 2019-02-08 | 2019-02-08 | 半導体製造装置及び半導体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015191994A true JP2015191994A (ja) | 2015-11-02 |
JP6518405B2 JP6518405B2 (ja) | 2019-05-22 |
Family
ID=54426272
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014067440A Active JP6518405B2 (ja) | 2014-03-28 | 2014-03-28 | 半導体製造装置及び半導体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6518405B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019102540A (ja) * | 2017-11-29 | 2019-06-24 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | 基板搬出装置 |
WO2022172373A1 (ja) * | 2021-02-10 | 2022-08-18 | ヤマハ発動機株式会社 | 加工装置 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7362515B2 (ja) | 2020-03-04 | 2023-10-17 | キオクシア株式会社 | ウエハ剥離装置及びウエハ剥離方法 |
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JP2007305628A (ja) * | 2006-05-08 | 2007-11-22 | Disco Abrasive Syst Ltd | 加工装置および加工方法 |
-
2014
- 2014-03-28 JP JP2014067440A patent/JP6518405B2/ja active Active
Patent Citations (8)
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP6518405B2 (ja) | 2019-05-22 |
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