JP2015188802A - 酸化物触媒及びその製造方法、並びにアクリロニトリルの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プロピレンと、分子状酸素と、アンモニアと、を反応させてアクリロニトリルを製造する際に用いられる酸化物触媒であって、
モリブデン、ビスマス、鉄、コバルト、及びランタノイド元素Aを含有し、
前記モリブデン12原子に対する、前記ビスマスの原子比aが1.0≦a≦5.0であり、前記鉄の原子比bが1.5≦b≦6.0であり、前記コバルトの原子比cが2.0≦c≦8.0であり、前記ランタノイド元素Aの原子比dが0.50≦d≦5.0であり、
前記モリブデン、前記ビスマス、前記鉄、及び前記ランタノイド元素Aを含む結晶系からなるdisorder相を含み、
X線回折のリートベルト解析により求められる前記disorder相の含有量が、10〜60質量%である、酸化物触媒。
【選択図】なし
Description
〔1〕
プロピレンと、分子状酸素と、アンモニアと、を反応させてアクリロニトリルを製造する際に用いられる酸化物触媒であって、
モリブデン、ビスマス、鉄、コバルト、及びランタノイド元素Aを含有し、
前記モリブデン12原子に対する、前記ビスマスの原子比aが1.0≦a≦5.0であり、前記鉄の原子比bが1.5≦b≦6.0であり、前記コバルトの原子比cが2.0≦c≦8.0であり、前記ランタノイド元素Aの原子比dが0.50≦d≦5.0であり、
前記モリブデン、前記ビスマス、前記鉄、及び前記ランタノイド元素Aを含む結晶系からなるdisorder相を含み、
X線回折のリートベルト解析により求められる前記disorder相の含有量が、10〜60質量%である、酸化物触媒。
〔2〕
X線回折により確認される単一ピークが、18.30°±0.2°、28.20°±0.2°、33.65°±0.2°、及び46.15°±0.2°の各回折角(2θ)の範囲に存在する、前項〔1〕に記載の酸化物触媒。
〔3〕
下記組成式(1)で表される組成を有する金属酸化物を含む、前項〔1〕又は〔2〕に記載の酸化物触媒。
Mo12BiaFebCocAdBeCfOg (1)
(式中、Moは前記モリブデン、Biは前記ビスマス、Feは前記鉄、Coは前記コバルト、Aは前記ランタノイド元素Aを示し、Bはマグネシウム、亜鉛、銅、ニッケル、クロム、マンガン、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、錫、及び鉛からなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を示し、Cはカリウム、セシウム及びルビジウムからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を示し、a〜gは、Mo12原子に対する各元素の原子比を示し、前記ビスマスの原子比aは1.0≦a≦5.0であり、前記鉄の原子比bは1.5≦b≦6.0であり、前記コバルトの原子比cは2.0≦c≦8.0であり、前記ランタノイド元素Aの原子比dは0.50≦d≦5.0であり、元素Bの原子比eは0≦e<3.0であり、元素Cの原子比fは0.010≦f≦2.0であり、gは酸素以外の構成元素の原子価によって決まる酸素の原子数である。)
〔4〕
前記金属酸化物と、該金属酸化物を担持するシリカ担体と、を有し、
該シリカ担体の含有量が、前記金属酸化物と前記シリカ担体の合計質量に対して、20〜80質量%である、前項〔3〕に記載の酸化物触媒。
〔5〕
モリブデン、ビスマス、鉄、コバルト、及びランタノイド元素Aを含む酸化物触媒を構成する原料と、キレート剤と、を混合して原料スラリーを得る混合工程と、
得られた前記原料スラリーを乾燥して乾燥体を得る乾燥工程と、
得られた前記乾燥体を仮焼成する仮焼成工程と、
を有し、
前記仮焼成工程が、前記乾燥体を100℃から200℃まで徐々に昇温する第1仮焼成工程と、前記乾燥体を200℃から450℃まで徐々に昇温する第2仮焼成工程と、を含む、酸化物触媒の製造方法。
〔6〕
前項〔1〕〜〔4〕のいずれか1項に記載の酸化物触媒を用いて、流動層反応器内で、プロピレンと、分子状酸素と、アンモニアとを反応させてアクリロニトリルを製造するアクリロニトリル製造工程を有する、アクリロニトリルの製造方法。
本実施形態に係る酸化物触媒は、プロピレンと、分子状酸素と、アンモニアと、を反応させてアクリロニトリルを製造する際に用いられる酸化物触媒であって、モリブデン(以下、「Mo」ともいう。)、ビスマス(以下、「Bi」ともいう。)、鉄(以下、「Fe」ともいう。)、コバルト(以下、「Co」ともいう。)、及びランタノイド元素A(以下、「A」ともいう。)を含有し、前記モリブデン12原子に対する、前記ビスマスの原子比aが1.0≦a≦5.0であり、前記鉄の原子比bが1.5≦b≦6.0であり、前記コバルトの原子比cが2.0≦c≦8.0であり、前記ランタノイド元素Aの原子比dが0.50≦d≦5.0であり、前記モリブデン、前記ビスマス、前記鉄、及び前記ランタノイド元素Aを含む結晶系からなるdisorder相を含み、X線回折のリートベルト解析により求められる前記disorder相の含有量が、10〜60質量%である。
本実施形態に係る酸化物触媒は、モリブデン、ビスマス、鉄、及びランタノイド元素Aを含む結晶系からなるdisorder相を含む。X線回折のリートベルト解析により求められるdisorder相の含有量(結晶の割合)は、10〜60質量%であり、好ましくは20〜50質量%であり、より好ましくは30〜40質量%である。disorder相の含有量が上記範囲内であることにより、プロピレンと、分子状酸素と、アンモニアと、を反応させるアクリロニトリルの製造において、アンモニア燃焼率を適切な範囲に調整でき、アクリロニトリルを高収率で生成させることができる。なお、disorder相の結晶の割合が60質量%を超えるとアンモニア燃焼率が低くなり、アクリロニトリルの収率が低下する傾向がある。一方、10質量%未満であるとアンモニア燃焼率が高くなり過ぎ、燃焼反応が促進され、アクリロニトリルの収率が低下する傾向にある。酸化物触媒中のdisorder相の含有量は、後述する酸化物触媒の製造方法の各条件を調整することにより、制御することができる。
アンモニア燃焼率=(生成した窒素のモル数)×2/(供給したアンモニアのモル数)×100
酸化物触媒は、モリブデン、ビスマス、鉄、コバルト、及びランタノイド元素を含有し、モリブデン12原子に対する、ビスマスの原子比aが1.0≦a≦5.0であり、鉄の原子比bが1.5≦b≦6.0であり、コバルトの原子比cが2.0≦c≦8.0であり、ランタノイド元素Aの原子比dが0.50≦d≦5.0である。このように、Mo−Bi系の金属酸化物において、Mo、Bi、Fe、Co、ランタノイド元素を含有することにより、各金属元素が複合酸化物を形成しうる。
Mo12BiaFebCocAdBeCfOg (1)
(式(1)中、Moはモリブデン、Biはビスマス、Feは鉄、Coはコバルトを示し、Aはランタノイド元素Aを示し、Bはマグネシウム、亜鉛、銅、ニッケル、クロム、マンガン、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、錫、及び鉛からなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を示し、Cはカリウム、セシウム及びルビジウムからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を示し、a〜gは、Mo12原子に対する各元素の原子比を示し、ビスマスの原子比aは1.0≦a≦5.0であり、鉄の原子比bは1.5≦b≦6.0であり、コバルトの原子比cは2.0≦c≦8.0であり、ランタノイド元素Aの原子比dは0.50≦d≦5.0であり、元素Bの原子比eは0.010≦e≦2.0であり、元素Cの原子比fは0≦f≦2.0であり、gは酸素以外の構成元素の原子価によって決まる酸素の原子数である。)
酸化物触媒は、金属酸化物と、該金属酸化物を担持する担体と、を有することが好ましい。担体を有することにより、酸化物触媒をより高分散化することができ、担持された酸化物触媒に、高い耐摩耗性を与えることができる。
本実施形態の酸化物触媒の製造方法は、モリブデン、ビスマス、鉄、コバルト、及びランタノイド元素Aを含む酸化物触媒を構成する原料と、キレート剤と、を混合して原料スラリーを得る混合工程と、得られた前記原料スラリーを乾燥して乾燥体を得る乾燥工程と、得られた前記乾燥体を仮焼成する仮焼成工程と、有し、前記仮焼成工程が、前記乾燥体を100℃から200℃まで徐々に昇温する第1仮焼成工程と、前記乾燥体を200℃から450℃まで徐々に昇温する第2仮焼成工程と、を含む。
混合工程は、Mo、Bi、Fe、Co及びランタノイド元素Aを含む酸化物触媒を構成する原料と、キレート剤と、を混合して原料スラリーを得る工程である。また、最終的に得られる酸化物触媒において、Mo12原子に対する、ビスマスの原子比aが1.0≦a≦5.0となり、鉄の原子比bが1.5≦b≦6.0となり、コバルトの原子比cが2.0≦c≦8.0となり、ランタノイド元素Aの原子比dが0.50≦d≦5.0となるように各原料の混合割合を調整することが好ましい。
乾燥工程では、混合工程で得られた原料スラリーを乾燥して乾燥体(例えば、乾燥粒子)を得る。乾燥方法は、特に制限はされず、一般に用いられている方法によって行うことができ、例えば、蒸発乾涸法、噴霧乾燥法、減圧乾燥法等の任意の方法で行なうことができる。噴霧乾燥法としては、通常工業的に実施される遠心方式、二流体ノズル方式及び高圧ノズル方式等を採用することができる。また、乾燥熱源としては、特に限定されないが、例えば、スチーム、電気ヒーター等によって加熱された空気を用いることが好ましい。この際、噴霧乾燥装置の乾燥機入口の温度は、好ましくは150〜400℃、より好ましくは180〜400℃、さらに好ましくは200〜350℃である。上記温度範囲であることにより、複合酸化物がより形成されやすい傾向にある。
仮焼成工程では、乾燥工程で得られた乾燥体を仮焼成して仮焼成体を得る。仮焼成の目的は、乾燥体中に残存している水分、硝酸等の除去、アンモニウム塩等である原料及び硝酸塩等である原料に由来して生成する硝酸アンモニウム等、及びキレート剤、水に分散された酸化物を原料にした場合の界面活性剤等の有機物をおだやかに燃焼させることにある。仮焼成の雰囲気は、酸素を含んでいても、不活性ガスでもよい。
本焼成工程では、得られた仮焼成体を本焼成して本焼成体を得る。本焼成の目的は、所望の結晶構造を形成し易くすることにある。本発明者らの知見によると、結晶構造は焼成温度と焼成時間との積の影響を受けるため、焼成温度と焼成時間とを適切に設定することが好ましい。本焼成の雰囲気は、酸素を含んでいても、不活性ガスでもよい。
本実施形態のアクリロニトリルの製造方法は、上記酸化物触媒を用いて、流動層反応器内で、プロピレンと、分子状酸素と、アンモニアとを反応させてアクリロニトリルを製造するアクリロニトリル製造工程を有する。反応は、例えば、所定の反応温度下、流動層反応器内に、プロピレンと、分子状酸素含有ガスと、アンモニアと、を含む混合ガスを導入することにより進行する。
0.01<分子状酸素含有ガス/(分子状酸素含有ガス+希釈ガス)<0.3
反応装置として、外径23mmのパイレックス(登録商標)ガラス製流動層反応管を用いた。反応温度Tは430℃、反応圧力Pは0.15MPa、充填酸化物触媒量Wは40〜60g、全供給ガス量Fは250〜450mL/sec(NTP換算)とした。なお、接触時間は下記式により求められる。また、供給した原料ガスの組成(プロピレン/アンモニア/空気のモル比)は、1/0.7〜1.4/8.0〜11.0とし、反応ガス中の未反応アンモニア濃度が0.5%以下、未反応酸素濃度が0.2%以下になるよう供給ガス組成を上記範囲内で適宜変更して反応を実施した。原料供給開始より24時間後の反応ガスをガスクロマトグラフィーで分析し酸化物触媒の反応性能を求めた。
接触時間(sec・g/mL)=(W/F)×273/(273+T)×P/0.10
転化率=(反応した原料のモル数/供給した原料のモル数)×100
選択率=(生成した化合物のモル数/反応した原料のモル数)×100
収率=(生成した化合物のモル数/供給した原料のモル数)×100
アンモニア燃焼率=(生成した窒素のモル数)×2/(供給したアンモニアのモル数)×100
原料スラリーのメジアン径は、レーザー回折散乱粒度分布測定装置(Beckman Coulter社製、商品名「LS230」)により粒子径分布を測定し、その体積平均(メジアン径)として求めた。
リートベルト解析とは、X線回折の結果から評価対象の試料中に含まれている結晶の種類およびその量を解析するものである。リートベルト法としては、例えば、「粉末X線解析の実際 第二版」朝倉書店、中井泉、泉富士夫編集の7章、8章、9章に記載されている方法を用いる。
A相(Disorder相):正方晶系、CaWO4構造(Scheelite構造)
B相(Fe2Mo3O12相):単斜晶系
C相(β−CoMoO4相):単斜晶系
D相(α−Bi2Mo3O12相):単斜晶系(Scheelite構造)
シリカ一次粒子の平均粒子直径が12nmのSiO2を30質量%含む水性シリカゾル750gと、シリカ一次粒子の平均粒子直径が41nmのSiO2を30質量%含む水性シリカゾル750gと、を混合してシリカゾルの混合液を得た。
シリカ一次粒子の平均粒子直径が12nmのSiO2を30質量%含む水性シリカゾル666.7gと、シリカ一次粒子の平均粒子直径が41nmのSiO2を30質量%含む水性シリカゾル666.7gと、を混合してシリカゾルの混合液を得た。
高圧ホモジナイザーを使用しなかったこと以外は実施例1と同じ条件で酸化物触媒を得た。なお、原料スラリーのメジアン径は、7.0μmであった。X線回折測定をしたところ、回折角(2θ)18.32°、28.22 °、33.67°、46.17°に、単一ピークを有したことからdisorder相の結晶が生成していることを確認した。
第2仮焼成として、得られた第1仮焼成体を200℃から450℃まで2hかけて昇温した以外は実施例1と同じ条件で酸化物触媒を得た。X線回折測定をしたところ、回折角(2θ)18.29°、28.19 °、33.63°、46.12°に、単一ピークを有したことからdisorder相の結晶が生成していることを確認した。
シリカ一次粒子の平均粒子直径が12nmのSiO2を30質量%含む水性シリカゾル750gと、シリカ一次粒子の平均粒子直径が41nmのSiO2を30質量%含む水性シリカゾル750gとを混合してシリカゾルの混合液を得た。
シリカ一次粒子の平均粒子直径が12nmのSiO2を30質量%含む水性シリカゾル750gと、シリカ一次粒子の平均粒子直径が41nmのSiO2を30質量%含む水性シリカゾル750gとを混合してシリカゾルの混合液を得た。
酒石酸を用いなかったこと以外は実施例1と同じ条件で酸化物触媒を得た。X線回折測定をしたところ、回折角(2θ)18.33°、28.24°、33.68°、46.16°に、単一ピークを有したことからdisorder相の結晶が生成していることを確認した。
仮焼成を行わなかった以外は実施例1と同じ条件で酸化物触媒を得た。X線回折測定をしたところ、回折角(2θ)18.21°、28.12°、33.56°、46.09°に、単一ピークを有したことからdisorder相の結晶が生成していることを確認した。
シリカ一次粒子の平均粒子直径が12nmのSiO2を30質量%含む水性シリカゾル750gと、シリカ一次粒子の平均粒子直径が41nmのSiO2を30質量%含む水性シリカゾル750gとを混合してシリカゾルの混合液を得た。
シリカ一次粒子の平均粒子直径が12nmのSiO2を30質量%含む水性シリカゾル833.3gと、シリカ一次粒子の平均粒子直径が41nmのSiO2を30質量%含む水性シリカゾル833.3gとを混合してシリカゾルの混合液を得た。
シリカ一次粒子の平均粒子直径が12nmのSiO2を30質量%含む水性シリカゾル750gと、シリカ一次粒子の平均粒子直径が41nmのSiO2を30質量%含む水性シリカゾル750gとを混合してシリカゾルの混合液を得た。
シリカ一次粒子の平均粒子直径が12nmのSiO2を30質量%含む水性シリカゾル750gと、シリカ一次粒子の平均粒子直径が41nmのSiO2を30質量%含む水性シリカゾル750gとを混合してシリカゾルの混合液を得た。
Claims (6)
- プロピレンと、分子状酸素と、アンモニアと、を反応させてアクリロニトリルを製造する際に用いられる酸化物触媒であって、
モリブデン、ビスマス、鉄、コバルト、及びランタノイド元素Aを含有し、
前記モリブデン12原子に対する、前記ビスマスの原子比aが1.0≦a≦5.0であり、前記鉄の原子比bが1.5≦b≦6.0であり、前記コバルトの原子比cが2.0≦c≦8.0であり、前記ランタノイド元素Aの原子比dが0.50≦d≦5.0であり、
前記モリブデン、前記ビスマス、前記鉄、及び前記ランタノイド元素Aを含む結晶系からなるdisorder相を含み、
X線回折のリートベルト解析により求められる前記disorder相の含有量が、10〜60質量%である、酸化物触媒。 - X線回折により確認される単一ピークが、18.30°±0.2°、28.20°±0.2°、33.65°±0.2°、及び46.15°±0.2°の各回折角(2θ)の範囲に存在する、請求項1に記載の酸化物触媒。
- 下記組成式(1)で表される組成を有する金属酸化物を含む、請求項1又は2に記載の酸化物触媒。
Mo12BiaFebCocAdBeCfOg (1)
(式中、Moは前記モリブデン、Biは前記ビスマス、Feは前記鉄、Coは前記コバルト、Aは前記ランタノイド元素Aを示し、Bはマグネシウム、亜鉛、銅、ニッケル、クロム、マンガン、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、錫、及び鉛からなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を示し、Cはカリウム、セシウム及びルビジウムからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を示し、a〜gは、Mo12原子に対する各元素の原子比を示し、前記ビスマスの原子比aは1.0≦a≦5.0であり、前記鉄の原子比bは1.5≦b≦6.0であり、前記コバルトの原子比cは2.0≦c≦8.0であり、前記ランタノイド元素Aの原子比dは0.50≦d≦5.0であり、元素Bの原子比eは0≦e<3.0であり、元素Cの原子比fは0.010≦f≦2.0であり、gは酸素以外の構成元素の原子価によって決まる酸素の原子数である。) - 前記金属酸化物と、該金属酸化物を担持するシリカ担体と、を有し、
該シリカ担体の含有量が、前記金属酸化物と前記シリカ担体の合計質量に対して、20〜80質量%である、請求項3に記載の酸化物触媒。 - モリブデン、ビスマス、鉄、コバルト、及びランタノイド元素Aを含む酸化物触媒を構成する原料と、キレート剤と、を混合して原料スラリーを得る混合工程と、
得られた前記原料スラリーを乾燥して乾燥体を得る乾燥工程と、
得られた前記乾燥体を仮焼成する仮焼成工程と、
を有し、
前記仮焼成工程が、前記乾燥体を100℃から200℃まで徐々に昇温する第1仮焼成工程と、前記乾燥体を200℃から450℃まで徐々に昇温する第2仮焼成工程と、を含む、酸化物触媒の製造方法。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載の酸化物触媒を用いて、流動層反応器内で、プロピレンと、分子状酸素と、アンモニアとを反応させてアクリロニトリルを製造するアクリロニトリル製造工程を有する、アクリロニトリルの製造方法。
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