JP2015113480A - 洗浄方法及び洗浄装置 - Google Patents

Abstract

【課題】炭化水素溶剤等、極性を有しない非極性物質から成る濯ぎ液が該ワークの表面に残留することを防ぐことができる洗浄方法を提供する。【解決手段】ワークWの表面に付着した水溶性の付着物を、水を含有する洗浄液で洗浄する洗浄工程の後に、極性を有しない第１非極性物質から成る濯ぎ液によって該表面を濯ぐ濯ぎ工程を行う洗浄方法であって、前記濯ぎ工程の後にワークWを真空蒸気乾燥槽１３１内に収容し、第２非極性物質から成る蒸気を蒸気供給管１４２から供給することにより該ワークWの表面において該蒸気を液化し、所定時間経過後に真空ポンプ１４６を用いて該真空蒸気乾燥槽１３１内を減圧する真空蒸気乾燥工程を行う。濯ぎ工程においてワークWの表面に付着した第１非極性物質の残渣を、真空蒸気乾燥工程によって除去することができる。【選択図】図１

Description

本発明は、切削加工等を行った後のワークの表面を洗浄する方法及び装置に関する。

金属等の切削加工を行う際に摩擦の抑制と冷却のために用いられる切削剤は、かつては油性のものが用いられていたが、近年では、冷却効率がより高いという理由によって水溶性の物質を主成分とする切削剤が主流になっている。このような水溶性切削剤を用いて加工されたワークの表面には、主成分である水溶性の物質が多く付着する。このような水溶性の成分は、極性を有することから、炭化水素等の無極性の洗浄液を用いて洗浄しても、ワークの表面から十分に除去することができない。一方、水性洗剤は、ワークの表面に付着した水溶性成分を除去する効果は優れているものの、ワークが腐食する原因となってしまう。

特許文献１に記載の発明では、このような水溶性の付着物をワークの表面から除去するために、炭化水素溶剤に界面活性剤、及び微量の水を混合した洗浄液を貯留した洗浄槽内にワークを浸漬し、超音波洗浄を行う。洗浄液が水を含有していることにより、水溶性の成分がワークの表面から除去され易くなる。また、この洗浄液の主成分は炭化水素溶剤であるため、ワークの腐食の問題は生じ難い。但し、上記洗浄後のワークの表面には、洗浄液に含有されていた水が（少量ではあるものの）付着する。そこで、特許文献１に記載の発明ではさらに、炭化水素溶剤を濯ぎ液として貯留した濯ぎ槽に上記洗浄後のワークを浸漬することにより、ワークの表面に付着していた、洗浄液由来の水を除去する。

特開平06-128776号公報

濯ぎ槽からワークを取り出すと、ワークの表面に付着した炭化水素溶剤の大半は自然に蒸発するが、一部がワークの表面に汚れとして残留してしまう。本発明が解決しようとする課題は、水溶性の付着物が付着したワークを洗浄した後に使用する、炭化水素溶剤等、極性を有しない非極性物質から成る濯ぎ液が該ワークの表面に残留することを防ぐことができる洗浄方法及び洗浄装置を提供することである。

上記課題を解決するために成された本発明は、ワークの表面に付着した水溶性の付着物を、水を含有する洗浄液で洗浄する洗浄工程の後に、極性を有しない第１非極性物質から成る濯ぎ液によって該表面を濯ぐ濯ぎ工程を行う洗浄方法であって、
前記濯ぎ工程の後に前記ワークを真空槽内に収容し、第２非極性物質から成る蒸気を供給することにより該ワークの表面において該蒸気を液化し、所定時間経過後に該真空槽内を減圧する真空蒸気乾燥工程を行うことを特徴とする。

本発明では、切削加工等によってワークの表面に付着した水溶性の付着物は洗浄工程において除去され、洗浄工程においてワークの表面に付着した、水を含有する洗浄液は濯ぎ工程において除去される。そして、濯ぎ工程においてワークの表面に付着した濯ぎ液は、以下のように、真空蒸気乾燥工程において除去される。
洗浄液由来の水等は、濯ぎ工程においてほとんどワークの表面から除去されるため、濯ぎ工程後にワークの表面に付着している濯ぎ液の残渣には、第１非極性物質以外の物質はほとんど含まれていない。真空蒸気乾燥工程では、ワークの表面が、第２非極性物質から成る蒸気に晒され、この蒸気の一部がワークの表面で冷却されることにより液化して液体となる。そして、ワークの表面に付着していた第１非極性物質である残渣は、同じく非極性である第２非極性物質から成る液体に取り込まれ、該表面から脱離する。これにより、該表面が洗浄される。時間の経過に伴って蒸気で加熱されてゆくと、ワークの温度が上昇し、蒸気が液化しなくなる。この段階で、真空槽内を減圧することにより、その時点でワークの表面に残存していた液体が突沸し、該表面から蒸発する。これらの操作により、濯ぎ工程で付着した濯ぎ液の残渣を蒸気由来の液体と共にワークの表面から除去することができる。

真空蒸気乾燥工程においてワークの表面から脱離する液体は、前記残渣に由来する第１非極性物質と前記蒸気に由来する第２非極性物質が混合したものとなり、それら以外の物質がほとんど含まれていない。そこで、第１非極性物質と第２非極性物質を同じ物質とすることにより、濯ぎ液及び前記蒸気と同じ成分の液体が回収されるため、この液体を濯ぎ液又は前記蒸気の発生源として再利用することができる。

一方、濯ぎ工程で使用された（前記残渣以外の）濯ぎ液には、ワークの表面から除去された洗浄液由来の水が混入するため、そのまま濯ぎ液を継続的に使用すると、水を除去する能力が低下する。そこで、本発明に係る洗浄方法において、以下のように濯ぎ液から水を除去する工程を行うことが望ましい。この水除去工程は、前記濯ぎ液を第２真空槽内に貯留し、該第２真空槽内を、水が沸騰し且つ前記第１非極性物質が沸騰しない圧力に減圧し、該第２真空槽内に残留する気体の温度よりも低く且つ該圧力における水の沸点よりも高い温度の冷却体を該第２真空槽内の上部空間に設け、該第２真空槽から気体を排出することを特徴とする。この水除去工程によれば、水が沸騰し且つ第１非極性物質が沸騰しない圧力に第２真空槽内が減圧されることにより、濯ぎ液に混入した水は沸騰により気化するのに対して、第１非極性物質はほとんど気化しない。また、第１非極性物質は、たとえわずかに気化しても、冷却体で冷却されることにより液化される。そのため、濯ぎ液から水のみを除去することができる。

また、洗浄工程で使用された洗浄液にも、ワークの表面から除去された水溶性の付着物が混入し、洗浄液を継続的に使用していると水の含有量が増加してゆく。そこで、洗浄液に対しても、濯ぎ液と同様に水除去工程を行うことが望ましい。すなわち、前記洗浄液を第３真空槽内に貯留し、該第３真空槽内を、水が沸騰し且つ水以外の該洗浄液の成分が沸騰しない圧力に減圧し、該第３真空槽内に残留する気体の温度よりも低く且つ該圧力における水の沸点よりも高い温度の冷却体を該第３真空槽内の上部空間に設け、該第３真空槽から気体を排出することが望ましい。但し、洗浄液は本来、水を所定量含有しているものであるため、洗浄液中の水を残存させるように、例えば使用した洗浄液の一部のみに対して上記の水除去の処理を行うことが望ましい。

前記濯ぎ工程は2回以上行ってもよい。これにより、濯ぎの効果をより高めることができる。この場合、後で行う（仕上げに近い）濯ぎよりも、それよりも前に行う濯ぎでは、濯ぎ液に混入する水の許容量が多い。そのため、濯ぎ液を効率的に使用するために、2回目以降の濯ぎの回数で使用した前記濯ぎ液を、該回数よりも前の回数において別のワークに対して行う濯ぎに使用してもよい。

本発明に係る洗浄装置は、ワークの表面に付着した水溶性の付着物を除去する洗浄装置であって、
a) 水を含有する洗浄液によりワークの表面を洗浄する洗浄手段と、
b) 極性を有しない第１非極性物質から成る濯ぎ液によって前記表面を濯ぐ濯ぎ手段と、
c) 前記濯ぎ工程を経たワークを収容する真空槽、該真空槽に第２非極性物質から成る蒸気を供給する蒸気供給手段、及び該真空槽内を減圧する減圧手段を有する真空蒸気乾燥手段と
を備えることを特徴とする。

本発明によれば、濯ぎ工程の後に真空蒸気乾燥工程を行うことにより、第１非極性物質から成る濯ぎ液が該ワークの表面に残留することを防ぐことができる。

本発明に係る洗浄装置の一実施例を示す概略構成図。 本実施例で使用する濯ぎ液の水除去装置を示す概略構成図。

本発明に係る洗浄方法及び洗浄装置の一実施例を、図１及び図２を用いて説明する。

(1) 本実施例の洗浄装置１０の構成
本実施例の洗浄装置１０は、図１に示すように、洗浄部１１、第１濯ぎ部１２Ａ、第２濯ぎ部１２Ｂ、真空蒸気乾燥部１３、及び蒸留器１４を有する。

洗浄部１１は、洗浄液を貯留する洗浄槽１１１、洗浄槽１１１内の洗浄液に超音波振動を発生させる超音波振動発生装置１１２、洗浄槽１１１を出て該洗浄槽１１１に戻る洗浄液循環流路１１３、洗浄液循環流路１１３中に設けられた送液ポンプ１１４及びフィルタ１１５、フィルタ１１５の下流側から分岐して洗浄槽１１１に戻る水除去処理流路１１６、並びに水除去処理流路１１６中に設けられた水除去装置１１７を有する。水除去装置１１７の詳細は後述する。

第１濯ぎ部１２Ａは、濯ぎ液を貯留する第１濯ぎ槽１２１Ａ、第１濯ぎ槽１２１Ａ内の濯ぎ液に超音波振動を発生させる超音波振動発生装置１２２Ａ、第１濯ぎ槽１２１Ａを出て該第１濯ぎ槽１２１Ａに戻る濯ぎ液循環流路１２３Ａ、濯ぎ液循環流路１２３Ａ中に設けられた送液ポンプ１２４Ａ及びフィルタ１２５Ａ、フィルタ１２５Ａの下流側から分岐して第１濯ぎ槽１２１Ａに戻る水除去処理流路１２６Ａ、並びに水除去処理流路１２６Ａ中に設けられた水除去装置１２７Ａを有する。第２濯ぎ部１２Ｂは、第１濯ぎ部１２Ａと同様に、第２濯ぎ槽１２１Ｂ、超音波振動発生装置１２２Ｂ、濯ぎ液循環流路１２３Ｂ、送液ポンプ１２４Ｂ、フィルタ１２５Ｂ、水除去処理流路１２６Ｂ、及び水除去装置１２７Ｂを有する。また、後述の第１濯ぎ液供給管１４１及び第２濯ぎ液供給管１３５が第２濯ぎ槽１２１Ｂにのみ接続される（第１濯ぎ槽１２１Ａには接続されない）。第１濯ぎ槽１２１Ａと第２濯ぎ槽１２１Ｂは濯ぎ液移送管１２８で接続されている。濯ぎ液移送管１２８は、第２濯ぎ槽１２１Ｂとの接続部の方が、第１濯ぎ槽１２１Ａとの接続部よりも高い位置に設けられている。

真空蒸気乾燥部１３は、真空蒸気乾燥槽１３１、一方の端が真空蒸気乾燥槽１３１の底部に接続された送液管１３２、送液管１３２の他方の端に接続された貯留槽１３３、送液ポンプ１３４、貯留槽１３３内の液体を第２濯ぎ槽１２１Ｂに供給する第２濯ぎ液供給管１３５を有する。真空蒸気乾燥槽１３１には、後述の蒸気供給管１４２が接続されている。

蒸留器１４は、第１濯ぎ部１２Ａ及び第２濯ぎ部１２Ｂにおいて使用された濯ぎ液を蒸留する装置である。蒸留器１４には、第１濯ぎ槽１２１Ａから一時貯留槽１４４を経て蒸留器１４に濯ぎ液を回収する濯ぎ液回収管１４３と、蒸留器１４で蒸留された濯ぎ液を第２濯ぎ槽１２１Ｂに供給する第１濯ぎ液供給管１４１と、蒸留の過程で生成された濯ぎ液の蒸気を真空蒸気乾燥部１３に供給する蒸気供給管１４２が接続されている。

第１濯ぎ槽１２１Ａ、第２濯ぎ槽１２１Ｂ及び真空蒸気乾燥槽１３１はいずれも、気体回収管１４５を介して真空ポンプ１４６の気体吸引口に接続されており、真空ポンプ１４６の気体排出口は一時貯留槽１４４に接続されている。これら気体回収管１４５及び真空ポンプ１４６は、第１濯ぎ槽１２１Ａ及び第２濯ぎ槽１２１Ｂにおいて濯ぎ液が気化した気体、及び真空蒸気乾燥部１３に供給された蒸気を一時貯留槽１４４に回収し、再利用すると共に炭化水素の気体が外部環境に漏出することを防止するために設けられている。

次に、図２を用いて、水除去装置１１７、１２７Ａ及び１２７Ｂの構成を説明する。これら３つの水除去装置は同じ構成を有するため、以下では水除去装置１１７を例として説明する。水除去装置１１７は、蒸発槽２１、蒸発槽２１内の上部に設けられた冷却体２２、蒸発槽２１の最上部に接続された排出管２３、排出管２３中に設けられた蒸発槽減圧ポンプ２４、及び蒸発槽減圧ポンプ２４の気体排出口に接続された２次冷却部２５を有する。蒸発槽２１の側面には水除去処理流路１１６の上流部１１６１が接続され、蒸発槽２１の底面には水除去処理流路１１６の下流部１１６２が接続されている。蒸発槽２１内には液面の高さを測定するボールタップ２１１が設けられており、液面が所定の高さに達した際に、水除去処理流路１１６の上流部１１６１に設けられたバルブが閉鎖されるよう、該バルブと連動している。冷却体２２は、本実施例では蒸発槽２１の内面に沿って巻回するコイル状の管を用い、該管には、冷却水を供給する冷却水源（図示せず）が接続されている。２次冷却部２５は、減圧ポンプ２４から排出された気体を通過させる気体流路と、該気体流路の周囲に設けられた冷却水流路（気体流路及び冷却水流路は図示せず）と、気体流路内で液化した液体を水除去処理流路１１６の下流部１１６２に送液する水除去処理流路接続管２５１を有する。２次冷却部２５には、気体流路内で液化しなかった気体を大気中に排出する気体排出管２６が接続されている。

(2) 本実施例の洗浄装置１０の動作（本発明の洗浄方法の実施例）
次に、洗浄装置１０の動作を説明する。
(2-1) ワークWの洗浄
洗浄槽１１１に洗浄液を貯留した状態で洗浄液内にワークWを浸漬し、超音波振動発生装置１１２により、洗浄液を介してワークWに超音波振動を付与することにより、ワークWを洗浄する。洗浄液には、本実施例では炭化水素、水及び界面活性剤が混合されたもの（商品名：NSクリーン100M、ＪＸ日鉱日石エネルギー株式会社製）を用いる。このように洗浄液が水を含有しているため、ワークWの表面に付着していた水溶性の付着物を除去しやすい。超音波振動の付与を一定時間行った後、ワークWを洗浄槽１１１から取り出す。

洗浄液は常時、送液ポンプ１１４により洗浄液循環流路１１３を循環するよう送液され、洗浄液循環流路１１３内のフィルタ１１５により濾過される。また、洗浄液循環流路１１３を循環する洗浄液の一部は、洗浄液循環流路１１３から分岐する水除去処理流路１１６を通して水除去装置１１７に導入され、水除去装置１１７において洗浄液中の水の一部が除去された後、水除去処理流路１１６を通して洗浄槽１１１に返送される。なお、洗浄液自体が本来、水を含有するものであるため、例えば水除去装置１１７への洗浄水の供給量を調整したり、水除去装置１１７を間欠的に動作させることなどにより、必要以上に水を洗浄液から除去しないようにする。水除去装置１１７の動作の詳細は後述する。

(2-2) ワークWの濯ぎ
まず、第１濯ぎ部１２Ａの第１濯ぎ槽１２１Ａに濯ぎ液を貯留した状態で、濯ぎ液内に、洗浄後のワークを浸漬する。そして、超音波振動発生装置１２２Ａにより、濯ぎ液を介してワークWに超音波振動を付与することにより、ワークWの表面に付着していた洗浄液を除去する（1回目の濯ぎ）。一定時間経過後、第１濯ぎ槽１２１ＡからワークWを取り出し、第２濯ぎ部１２Ｂの第２濯ぎ槽１２１Ｂに濯ぎ液を貯留したうえで、該濯ぎ液内にワークWを浸漬する。そして、超音波振動発生装置１２２Ｂにより、濯ぎ液を介してワークWに超音波振動を付与する。こうして、ワークWに対して2回目の濯ぎがなされる。

濯ぎ液には、本実施例では炭化水素溶剤を用いる。この炭化水素溶剤は、洗浄液が含有する炭化水素溶剤と同じ物質（第１非極性物質）から成る。なお、洗浄液に含有されない非極性物質から成る濯ぎ液を用いてもよい。濯ぎ液は、蒸留器１４で蒸留されて不純物を含まないものが第１濯ぎ液供給管１４１から第２濯ぎ槽１２１Ｂに供給され、第２濯ぎ槽１２１Ｂで使用されたものが濯ぎ液移送管１２８を通して第１濯ぎ槽１２１Ａに供給される。これにより、2回目の濯ぎでは、よりきれいな濯ぎ液を使用して仕上げの濯ぎを行うことができる。1回目の濯ぎでは、2回目の濯ぎで（他のワークに対して）使用された濯ぎ液を用いることとなるが、既に1回目の濯ぎが済んだ後に行う2回目の濯ぎでは不純物はごく少量しか発生しないため、仕上げの前段階である1回目の濯ぎにおいてこの濯ぎ液を使用することは問題にはならない。

第１濯ぎ部１２Ａ及び第２濯ぎ部１２Ｂのいずれにおいても、濯ぎ液は洗浄液と同様に、常時、送液ポンプ１２４Ａ（Ｂ）により濯ぎ液循環流路１２３Ａ（Ｂ）を循環するよう送液され、濯ぎ液循環流路１２３Ａ（Ｂ）内のフィルタ１２５Ａ（Ｂ）により濾過される。また、濯ぎ液循環流路１２３Ａ（Ｂ）を循環する濯ぎ液の一部は、水除去処理流路１２６Ａ（Ｂ）を通して水除去装置１２７Ａ（Ｂ）に導入され、濯ぎ液中の水が除去された後、水除去処理流路１２６Ａ（Ｂ）を通して第１（２）濯ぎ槽１２１Ａ（Ｂ）に返送される。なお、濯ぎ液に関しては、混入した水はできるだけ多く（理想的には全量）除去するよう、水除去装置１２７Ａ（Ｂ）を制限なく動作させる。

(2-3) ワークWの真空蒸気乾燥
濯ぎ後のワークWを真空蒸気乾燥槽１３１内に収容する。次に、蒸気供給管１４２から、濯ぎ液と同じ炭化水素溶剤を気化させた蒸気、すなわち濯ぎ液と同じ非極性物質から成る蒸気を真空蒸気乾燥槽１３１内に供給する。これにより、ワークWの表面において、蒸気の一部が冷却されることにより液化する。液化した炭化水素溶剤は、ワークWの表面に付着していた濯ぎ液の残渣を取り込みつつ、更に蒸気が冷却されることによって次第に滴が成長し、該表面から落下する。これにより、濯ぎ液の残渣がワークの表面から除去される。時間の経過に伴ってワークWが蒸気で加熱されてゆくと、ワークWの温度が上昇し、蒸気が液化しなくなる。そこで、真空ポンプ１４６により真空蒸気乾燥槽１３１内を減圧する。これにより、ワークWの表面に残存していた液体が突沸し、該表面から蒸発する。蒸発した炭化水素溶剤の気体は、気体回収管１４５を介して、一時貯留槽１４４内に貯留された濯ぎ液に導入される。その後、真空蒸気乾燥槽１３１内の真空をリークバルブで破り、真空蒸気乾燥槽１３１からワークWを取り出すことにより、ワークWの一連の洗浄処理が完了する。

なお、真空蒸気乾燥槽１３１内においてワークWの表面から落下した液体は、該真空蒸気乾燥槽１３１の底に貯留され、真空蒸気乾燥の工程終了後に貯留槽１３３に回収される。この液体は、濯ぎの際にワークWの表面に付着した濯ぎ液の残渣と、真空蒸気乾燥工程で用いた蒸気が液化したものが混合したものである。それら濯ぎ液の残渣と蒸気がいずれも同じ非極性物質から成るため、回収された液体の成分は濯ぎ液及び前記蒸気と同じである。そのため、貯留槽１３３中の液体は、本実施例では第２濯ぎ液供給管１３５を介して第２濯ぎ槽１２１Ｂに送液され、濯ぎ液の一部として利用される。また、回収された液体を蒸気の発生源として利用してもよい。

(2-4) 蒸留器１４及びそれに関連する構成要素の動作
第１濯ぎ槽１２１Ａ及び第２濯ぎ槽１２１Ｂで使用された濯ぎ液は、徐々に第１濯ぎ槽１２１Ａから濯ぎ液回収管１４３に溢出し、一時貯留槽１４４を経て蒸留器１４に回収される。また、真空蒸気乾燥槽１３１内を減圧することにより該槽内から排出される気体も、一時貯留槽１４４に導入され、そこで液化したものが蒸留器１４に回収される。さらに、また、第１濯ぎ槽１２１Ａ及び第２濯ぎ槽１２１Ｂには、濯ぎ液が蒸発した気体がこれらの濯ぎ槽内に存在することから、これらの濯ぎ槽からワークWを取り出す前に、槽内の気体を真空ポンプ１４６で排出することが望ましい。これにより排出された気体は、真空蒸気乾燥槽１３１内の気体と同様に、一時貯留槽１４４に導入され、そこで液化したものが蒸留器１４に回収される。

こうして回収された液体は、蒸留器１４により蒸留され、新たな濯ぎ液となる炭化水素溶剤と、回収された使用済みの濯ぎ液に由来する混入物に分離される。そして、新たな濯ぎ液は、上述のように、第１濯ぎ液供給管１４１を通して第２濯ぎ槽１２１Ｂに供給される。また、この蒸留の過程で生成される炭化水素溶剤の蒸気の一部は、液化されることなく、真空蒸気乾燥で使用される蒸気として、蒸気供給管１４２を介して真空蒸気乾燥槽１３１に供給される。

(2-5) 水除去装置の動作
水除去装置１１７、１２７Ａ及び１２７Ｂの動作を、洗浄部１１で用いられる水除去装置１１７を例に説明する。
洗浄液循環流路１１３を循環する洗浄液の一部は、洗浄液循環流路１１３から分岐する水除去処理流路１１６を通して蒸発槽２１に導入される。蒸発槽２１内に所定量まで洗浄液が貯留されると、そのことをボールタップ２１１が検知し、水除去処理流路１１６中のバルブが閉鎖される。次に、蒸発槽減圧ポンプ２４により、蒸発槽２１内の気体が排出管２３を通って蒸発槽２１外に向けて吸引される。その際、排出管２３に設けられたバルブの開度を調整することにより、蒸発槽２１内は、当該開度に対応した圧力まで減圧され、当該圧力で均衡する。その際、本実施例で使用する炭化水素溶剤はいずれの圧力においても水よりも沸点が低いことから、圧力を調整することにより、炭化水素溶剤は沸騰せず、水のみを沸騰させることができる。こうして、洗浄液からは、水が沸騰により気化すると共に、炭化水素溶剤もわずかに気化する。

生成された気体は、管内に冷却水が流されている冷却体２２により冷却される。ここで、冷却水の流量を調整することにより、水蒸気は液化させることなく、炭化水素の気体のみを液化させることができる。液化した炭化水素は蒸発槽２１内の洗浄液に滴下し、水蒸気は蒸発槽２１外に排出される。蒸発槽２１外に排出された水蒸気はさらに、２次冷却部２５において冷却される。これにより、水蒸気内にわずかに炭化水素が混入していた場合に、当該炭化水素が分離される。そして、２次冷却部２５を通過した水蒸気は、気体排出管２６から大気に放出される。

ここまでの操作を所定時間行うことにより、蒸発槽２１内の洗浄液から水が除去される。その後、蒸発槽２１内の洗浄液は、水除去処理流路１１６を通して洗浄槽１１１に返送される。また、２次冷却部２５において液化して水蒸気から分離された炭化水素は、水除去処理流路接続管２５１及び水除去処理流路１１６を通して洗浄槽１１１に返送される。ここで、上記所定時間を短くすることにより、洗浄液内に必要量の水が残った状態とすることができる。あるいは、水除去装置１１７では洗浄液内の水を完全に除去するようにし、水除去装置１１７に供給される使用後の洗浄液の量を調整することにより、洗浄槽１１１内の洗浄液における水の量を制御してもよい。

第１濯ぎ部１２Ａ及び第２濯ぎ部１２Ｂにおける水除去装置１２７Ａ及び１２７Ｂは、濯ぎ液内の水を完全に除去すればよいため必要量の水を残す操作が不要である点を除いて、上記水除去装置１１７と同様に動作する。

本発明は上記実施例には限定されない。
上記実施例では濯ぎ液と真空蒸気乾燥工程で用いる蒸気には同じ炭化水素（非極性物質）から成るものを用いたが、これら濯ぎ液及び蒸気の発生源の液体に互いに異なる非極性物質から成るものを用いてもよい。例えば、濯ぎ液と蒸気には炭素数が互いに異なる炭化水素を用いることができる。また、濯ぎ液及び蒸気の一方にはパラフィン系炭化水素を用い、他方にはナフテン系炭化水素や芳香族系炭化水素を用いることもできる。

上記実施例では、濯ぎ部は、上記実施例では２つとしたが、濯ぎをより徹底するために３つ以上としてもよいし、洗浄液が比較的容易に除去できるものである場合には１つのみとしてもよい。

上記実施例では、水除去装置における冷却体２２には冷却水を流す管を蒸発槽２１の内面に沿って巻回したものを用いたが、冷却水を流す管を蒸発槽２１の外壁に接するように設け、この外壁を冷却体として用いてもよい。また、上記実施例では２次冷却部２５を用いたが、これを省略してもよい。

１０…洗浄装置
１１…洗浄部
１１１…洗浄槽
１１２、１２２Ａ、１２２Ｂ…超音波振動発生装置
１１３…洗浄液循環流路
１１４、１２４Ａ、１２４Ｂ、１３４…送液ポンプ
１１５、１２５Ａ、１２５Ｂ…フィルタ
１１６、１２６Ａ、１２６Ｂ…水除去処理流路
１１６１…水除去処理流路の上流部
１１６２…水除去処理流路の下流部
１１７、１２７Ａ、１２７Ｂ…水除去装置
１２Ａ…第１濯ぎ部
１２Ｂ…第２濯ぎ部
１２１Ａ…第１濯ぎ槽
１２１Ｂ…第２濯ぎ槽
１２３Ａ、１２３Ｂ…濯ぎ液循環流路
１２８…濯ぎ液移送管
１３…真空蒸気乾燥部
１３１…真空蒸気乾燥槽
１３２…送液管
１３３…貯留槽
１３５…第２濯ぎ液供給管
１４…蒸留器
１４１…第１濯ぎ液供給管
１４２…蒸気供給管
１４３…濯ぎ液回収管
１４４…一時貯留槽
１４５…気体回収管
１４６…真空ポンプ
２１…蒸発槽
２１１…ボールタップ
２２…冷却体
２３…排出管
２４…蒸発槽減圧ポンプ
２５…２次冷却部
２５１…水除去処理流路接続管
２６…気体排出管

Claims (9)

1. ワークの表面に付着した水溶性の付着物を、水を含有する洗浄液で洗浄する洗浄工程の後に、極性を有しない第１非極性物質から成る濯ぎ液によって該表面を濯ぐ濯ぎ工程を行う洗浄方法であって、
   前記濯ぎ工程の後に前記ワークを真空槽内に収容し、第２非極性物質から成る蒸気を供給することにより該ワークの表面において該蒸気を液化し、所定時間経過後に該真空槽内を減圧する真空蒸気乾燥工程を行うことを特徴とする洗浄方法。
2. 前記第１非極性物質と前記第２非極性物質が同じ物質であることを特徴とする請求項１に記載の洗浄方法。
3. 前記真空蒸気乾燥工程において生成される前記非極性物質から成る液体を、前記濯ぎ液又は前記蒸気の発生源として再利用することを特徴とする請求項２に記載の洗浄方法。
4. 前記濯ぎ液を第２真空槽内に貯留し、該第２真空槽内を、水が沸騰し且つ前記非極性物質が沸騰しない圧力に減圧し、該第２真空槽内に残留する気体の温度よりも低く且つ該圧力における水の沸点よりも高い温度の冷却体を該第２真空槽内の上部空間に設け、該第２真空槽から気体を排出する、濯ぎ液の水除去処理を行うことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の洗浄方法。
5. 前記洗浄液を第３真空槽内に貯留し、該第３真空槽内を、水が沸騰し且つ水以外の該洗浄液の成分が沸騰しない圧力に減圧し、該第３真空槽内に残留する気体の温度よりも低く且つ該圧力における水の沸点よりも高い温度の冷却体を該第３真空槽内の上部空間に設け、該第３真空槽から気体を排出する洗浄液水除去処理を行うことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の洗浄方法。
6. 使用した洗浄液の一部のみに対して前記洗浄液水除去処理を行うことを特徴とする請求項５に記載の洗浄方法。
7. 前記濯ぎ工程を2回以上行うことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の洗浄方法。
8. 2回目以降の濯ぎの回数で使用した前記濯ぎ液を、該回数よりも前の回数において別のワークに対して行う濯ぎに使用することを特徴とする請求項７に記載の洗浄方法。
9. ワークの表面に付着した水溶性の付着物を除去する洗浄装置であって、
   a) 水を含有する洗浄液によりワークの表面を洗浄する洗浄手段と、
   b) 極性を有しない第１非極性物質から成る濯ぎ液によって前記表面を濯ぐ濯ぎ手段と、
   c) 前記濯ぎ工程を経たワークを収容する真空槽、該真空槽に第２非極性物質から成る蒸気を供給する蒸気供給手段、及び該真空槽内を減圧する減圧手段を有する真空蒸気乾燥手段と
   を備えることを特徴とする洗浄装置。

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