JP2009248014A - 光学部品の洗浄方法及び洗浄装置 - Google Patents
光学部品の洗浄方法及び洗浄装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009248014A JP2009248014A JP2008100213A JP2008100213A JP2009248014A JP 2009248014 A JP2009248014 A JP 2009248014A JP 2008100213 A JP2008100213 A JP 2008100213A JP 2008100213 A JP2008100213 A JP 2008100213A JP 2009248014 A JP2009248014 A JP 2009248014A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- aqueous
- tank
- cleaning agent
- optical component
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明の光学部品の洗浄装置は、界面活性剤を実質的に含まない非水系洗浄剤Aにより光学部品を洗浄する1以上の洗浄槽(1)と、界面活性剤を含む非水系洗浄剤Bにより光学部品を洗浄する1以上の洗浄槽(2)と、界面活性剤を実質的に含まない非水系洗浄剤A’により光学部品を洗浄する1以上の洗浄槽(3)とを有することを特徴としている。
【選択図】図1
Description
かつ、高度に汚れを除去するための洗浄方法及び洗浄装置を提供することを課題とする。
洗浄方法
本発明の光学部品の洗浄方法は、光学部品を、界面活性剤を実質的に含まない非水系洗浄剤Aに少なくとも1回浸漬して洗浄する洗浄工程(a)と、洗浄工程(a)により洗浄された光学部品を、界面活性剤を含む非水系洗浄剤Bに少なくとも1回浸漬して洗浄する洗浄工程(b)と、洗浄工程(b)により洗浄された光学部品を、さらに界面活性剤を実質的に含まない非水系洗浄剤A’に少なくとも1回浸漬して洗浄する洗浄工程(c)とを有する。
83重量%、非イオン性界面活性剤が17〜95重量%、さらに好ましくは界面活性剤中のアニオン性界面活性剤が17〜75重量%、非イオン性界面活性剤が25〜83重量%であることが望ましい。非水系洗浄剤Bが、このような量比でアニオン性界面活性剤と非イオン性界面活性剤とを含む界面活性剤を含有することにより、光学部品上に残存する研磨剤、研磨屑、チリ、埃などの複数種の粒子が混在した粒子汚れを効率的に除去することができる。
非水系洗浄剤Bは、あらかじめ調製して洗浄槽(2)に導入されてもよく、また、各成分をそれぞれ導入して、洗浄槽(2)中で所望組成の非水系洗浄剤Bとなるよう調製してもよい。非水系洗浄剤Bを洗浄槽(2)中で調製する場合、あるいは別途非水系洗浄剤Bを調製する場合においては、たとえば、非水系洗浄剤B中における所望濃度の2〜20倍の濃度である界面活性剤の濃縮液を、界面活性剤を含まない炭化水素類に添加する形で供給することができる。
物である光学部品を1回以上浸漬する。一つの洗浄工程において、浸漬を2回以上行う場合には、同一の非水系洗浄剤に複数回浸漬してもよいが、洗浄剤組成が同じであって、汚れがないか、又は汚れの程度が順次低くなる非水系洗浄剤に、順次浸漬するのが望ましい。
このような本発明の光学部品の洗浄方法は、好適には、後述する本発明の光学部品の洗浄装置を用いて行うことができる。
洗浄工程(a)及び/又は洗浄工程(c)に使用される非水系洗浄剤(汚染された非水系洗浄剤AあるいはA’)の少なくとも一部を抜き出して、洗浄槽外に設けた蒸留手段に導入して蒸留し、汚染がないかあるいは少ない留出液を得て、これを洗浄槽(1)及び/又は洗浄槽(3)に再導入して用いることができる。また、この留出液は、洗浄槽(2)で用いる非水系洗浄剤Bの原料としても用いることができる。このように汚染された非水系洗浄剤A及び/又はA’を蒸留によりリサイクル使用すると、用いる非水系洗浄剤の総量を減少させることができるため好適である。
蒸留によりほぼ炭化水素類のみとして得られる留出液と、汚れ成分と炭化水素分とを含む残留成分とに分離する。留出液は、炭化水素類の純度が99%以上となることが好ましい。この純度は、導電率測定、吸光度測定、屈折率測定、比重測定、粘度測定、不揮発分定量、ガスクロマトグラム分析等の一般的な方法で行うことができる。得られた留出液は、回収して非水系洗浄剤A又はA’として、あるいは非水系洗浄剤Bの原料として用いることができる。蒸留手段における残留成分には、汚れ成分が濃縮されるため、系外へ搬出し、適宜産業廃棄物等として処理する。
汚染程度が低いため、非水系洗浄剤Aと非水系洗浄剤A’の組成が同等である場合には、洗浄槽(3)内の非水系洗浄剤A’の一部をオーバーフローなどにより抜き出し、非水系洗浄剤Aの一部として洗浄槽(1)に導入して用いることもできる。
本発明の光学部品の洗浄装置は、非水系洗浄剤Aにより光学部品を洗浄する1以上の洗浄槽(1)と、非水系洗浄剤Bにより光学部品を洗浄する1以上の洗浄槽(2)と、非水系洗浄剤A’により光学部品を洗浄する1以上の洗浄槽(3)とを有し、洗浄槽(3)中の非水系洗浄剤A’の少なくとも一部が、洗浄槽(1)及び/又は洗浄槽(2)に導入される機構を有する。
本発明の洗浄装置は、洗浄槽(1)、(2)、(3)のそれぞれにおいて、洗浄槽内の非水系洗浄剤の汚染程度を所定のレベル以内に管理することが望ましく、汚染程度を監視する手段を有することが好ましい。汚染程度を監視する手段としては、前述した公知の方法を制限なく用いることができ、たとえば、導電率測定、吸光度測定、屈折率測定、比重測定、粘度測定、不揮発分定量、ガスクロマトグラム分析等の手段が挙げられる。
ガスクロマトグラム分析等の一般的な方法で行うことができる。得られた留出液は、回収して非水系洗浄剤A又はA’として、あるいは非水系洗浄剤Bの原料として用いることができる。蒸留手段における残留成分には、汚れ成分が濃縮されるため、系外へ搬出し、適宜産業廃棄物等として処理する。
は、通常、光学部品に同伴されて洗浄槽(3)内に持ち込まれる。このため、非水系洗浄剤A、非水系洗浄剤B、ならびに非水系洗浄剤A’は、類似の成分を含んでいることが望ましく、いずれもが炭素数9〜18の芳香族炭化水素を含有することが好ましい。
洗浄槽(2)は、洗浄槽(1)にて洗浄した光学部品をさらに洗浄する槽であって、主に、光学部品上に残存する研磨剤、研磨屑、チリ、埃などの粒子汚れの除去を行う。
洗浄槽(1)及び(3)には、同一組成の炭化水素洗浄剤である非水系洗浄剤Aが、洗浄槽(2)には、非水系洗浄剤Aと界面活性剤とからなる非水系洗浄剤Bが充填されている。洗浄槽(1)及び(3)において、洗浄に伴い汚れを含むようになった非水系洗浄剤Aは、それぞれラインe又はラインgから抜き出され、一方炭化水素洗浄剤タンク5からラインa又はラインcを通じて汚れを含まない炭化水素洗浄剤が添加され、これにより洗浄槽(1)及び(3)内の非水系洗浄剤Aの汚れ程度は所定の一定レベル以下に保たれる。また、洗浄槽(2)において洗浄に伴い汚れを含むようになった非水系洗浄剤Bは、ラインfから抜き出され、一方炭化水素洗浄剤タンク5からラインbを通じて導入される汚れを含まない非水系洗浄剤Aと、界面活性剤濃縮液タンク6からラインiを通じて導入される界面活性剤濃縮液とが、非水系洗浄剤Bの組成となる量で添加されることにより、洗浄槽(2)内の非水系洗浄剤Bの汚れ程度は一定レベル以下に保たれる。
洗浄槽として3槽からなる洗浄装置を用いた。第1槽及び第3槽に、炭素数9〜12の芳香族炭化水素から成る非水系洗浄剤A(ジャパンエナジー製 EM2000E:沸点180〜192℃、水分0.02重量%)を充填した。第2槽には、前記EM2000E(ジャパンエナジー製)を85.0重量%、アニオン性界面活性剤としてジオクチルスルホコハク酸ナトリウムを7.0重量%、非イオン性界面活性剤としてソルビタントリオレートを7.0重量、水分1.0重量%から成る非水系洗浄剤Bを充填した。尚、第1〜3の洗浄槽底部には超音波振動子が備えられているものを用いた。
洗浄後にさらに第3槽で25℃で2分間超音波を照射しながら洗浄を行った。第3槽での洗浄後、光学レンズを温風乾燥した。
実施例1で使用した第1槽の汚染された非水系洗浄剤Aを蒸留機で蒸留して、得られた留出液を第3槽の非水系洗浄剤A’として使用した以外、実施例1と同様にして光学レンズの洗浄を行った。尚、蒸留により得られた留出液の汚染度は0.1重量%以下であった。
実施例1での洗浄において、同様の被洗浄部品を順次同様に洗浄に供し、第1槽の汚染度が3重量%になったときに、第1槽の汚染された非水系洗浄剤Aの10容量%を抜き出した。また、第3槽の汚染度は0.5重量%以下になるようにモニターした。
実施例1において、第2槽内で用いた洗浄剤を、第1槽及び第3槽と同じEM2000Eにした以外、実施例1と同様にして光学レンズの洗浄を行った。
実施例1において、第1槽を省略した以外は、実施例1と同様にして光学レンズの洗浄を行った。
洗浄後の光学レンズをハロゲンランプの光路内に設置して、レンズ表面を目視観察した結果、レンズ表面には、ピッチ等の油性汚れが一部残存していた。
実施例1において、第3槽を省略した以外は、実施例1と同様にして光学レンズの洗浄を行った。
洗浄後の光学レンズをハロゲンランプの光路内に設置して、レンズ表面を目視観察した結果、レンズ表面には、界面活性剤が残存していた。
実施例1において、第2槽内で用いた洗浄剤を、EM2000Eを85.0重量%、アニオン性界面活性剤としてジオクチルスルホコハク酸ナトリウムを7.5重量%、非イオン性界面活性剤としてソルビタントリオレートを7.5重量から成る非水系洗浄剤B(水分0.02重量%)にした以外、実施例1と同様にして光学レンズの洗浄を行った。
2:洗浄槽(2)
3:洗浄槽(3)
4:蒸留装置
5:炭化水素洗浄剤タンク
6:界面活性剤濃縮液タンク
a〜k:ライン
Claims (6)
- 光学部品を、界面活性剤を実質的に含まない非水系洗浄剤Aに少なくとも1回浸漬して洗浄する洗浄工程(a)と、洗浄工程(a)により洗浄された光学部品を、界面活性剤を含む非水系洗浄剤Bに少なくとも1回浸漬して洗浄する洗浄工程(b)と、洗浄工程(b)により洗浄された光学部品を、さらに界面活性剤を実質的に含まない非水系洗浄剤A’に少なくとも1回浸漬して洗浄する洗浄工程(c)とを有することを特徴とする光学部品の洗浄方法。
- 洗浄工程(a)及び/又は洗浄工程(c)で使用された非水系洗浄剤の少なくとも一部を抜き出して蒸留し、蒸留で得られた留出液を洗浄工程(a)及び/又は洗浄工程(c)に再び使用することを特徴とする請求項1に記載の光学部品の洗浄方法。
- 洗浄工程(c)で使用された非水系洗浄剤A’の少なくとも一部を、洗浄工程(a)及び/又は洗浄工程(b)の非水系洗浄剤として使用することを特徴とする請求項1または2に記載の光学部品の洗浄方法。
- 非水系洗浄剤A及び非水系洗浄剤A’が、炭素数9〜18の芳香族炭化水素からなる洗浄剤であり、非水系洗浄剤Bが、炭素数9〜18の芳香族炭化水素60〜99重量%と、界面活性剤1〜30重量%とを含み、非水系洗浄剤Bに含まれる界面活性剤が、アニオン性界面活性剤5〜83重量%と、非イオン性界面活性剤17〜95重量%とからなることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の光学部品の洗浄方法。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の光学部品の洗浄方法において使用する装置であって、界面活性剤を実質的に含まない非水系洗浄剤Aにより光学部品を洗浄する1以上の洗浄槽(1)と、洗浄槽(1)の後段に設けられ、界面活性剤を含む非水系洗浄剤Bにより光学部品を洗浄する1以上の洗浄槽(2)と、洗浄槽(2)の後段に設けられ、界面活性剤を実質的に含まない非水系洗浄剤A’により光学部品を洗浄する1以上の洗浄槽(3)とを有することを特徴とする光学部品の洗浄装置。
- さらに下記(A)及び/又は(B)の手段を有することを特徴とする請求項5に記載の光学部品の洗浄装置;
(A):洗浄槽(1)及び/又は洗浄槽(3)から排出される排出液の少なくとも一部を蒸留する手段、および、蒸留で得られた留出液を洗浄槽(1)及び/又は洗浄槽(3)に導入する手段、
(B):洗浄槽(3)中の非水系洗浄剤A’の少なくとも一部を、洗浄槽(1)及び/又は洗浄槽(2)に導入する手段。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008100213A JP5215711B2 (ja) | 2008-04-08 | 2008-04-08 | 光学部品の洗浄方法及び洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008100213A JP5215711B2 (ja) | 2008-04-08 | 2008-04-08 | 光学部品の洗浄方法及び洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009248014A true JP2009248014A (ja) | 2009-10-29 |
JP5215711B2 JP5215711B2 (ja) | 2013-06-19 |
Family
ID=41309195
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008100213A Active JP5215711B2 (ja) | 2008-04-08 | 2008-04-08 | 光学部品の洗浄方法及び洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5215711B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015113480A (ja) * | 2013-12-10 | 2015-06-22 | アクトファイブ株式会社 | 洗浄方法及び洗浄装置 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106216308B (zh) * | 2016-08-08 | 2018-10-23 | 泉州市三星消防设备有限公司 | 一种抛光后的光学零件的清洗方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4711970U (ja) * | 1971-03-05 | 1972-10-12 | ||
JPH07265817A (ja) * | 1994-03-30 | 1995-10-17 | Olympus Optical Co Ltd | 洗浄方法および洗浄装置 |
JPH08309372A (ja) * | 1995-05-23 | 1996-11-26 | Hitachi Ltd | 洗浄方法及び洗浄装置 |
JPH11128854A (ja) * | 1997-10-29 | 1999-05-18 | Kurita Water Ind Ltd | 洗浄方法および装置 |
JP2002097493A (ja) * | 2000-09-22 | 2002-04-02 | Japan Energy Corp | 石油製品製造装置用洗浄剤組成物及び洗浄方法 |
JP2002273352A (ja) * | 2001-03-22 | 2002-09-24 | Olympus Optical Co Ltd | 光学部品の洗浄方法及び洗浄装置 |
JP2002273358A (ja) * | 2001-03-22 | 2002-09-24 | Olympus Optical Co Ltd | 光学素子の洗浄方法 |
JP2004074157A (ja) * | 2003-09-16 | 2004-03-11 | Olympus Corp | 洗浄方法 |
-
2008
- 2008-04-08 JP JP2008100213A patent/JP5215711B2/ja active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4711970U (ja) * | 1971-03-05 | 1972-10-12 | ||
JPH07265817A (ja) * | 1994-03-30 | 1995-10-17 | Olympus Optical Co Ltd | 洗浄方法および洗浄装置 |
JPH08309372A (ja) * | 1995-05-23 | 1996-11-26 | Hitachi Ltd | 洗浄方法及び洗浄装置 |
JPH11128854A (ja) * | 1997-10-29 | 1999-05-18 | Kurita Water Ind Ltd | 洗浄方法および装置 |
JP2002097493A (ja) * | 2000-09-22 | 2002-04-02 | Japan Energy Corp | 石油製品製造装置用洗浄剤組成物及び洗浄方法 |
JP2002273352A (ja) * | 2001-03-22 | 2002-09-24 | Olympus Optical Co Ltd | 光学部品の洗浄方法及び洗浄装置 |
JP2002273358A (ja) * | 2001-03-22 | 2002-09-24 | Olympus Optical Co Ltd | 光学素子の洗浄方法 |
JP2004074157A (ja) * | 2003-09-16 | 2004-03-11 | Olympus Corp | 洗浄方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015113480A (ja) * | 2013-12-10 | 2015-06-22 | アクトファイブ株式会社 | 洗浄方法及び洗浄装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5215711B2 (ja) | 2013-06-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5704987A (en) | Process for removing residue from a semiconductor wafer after chemical-mechanical polishing | |
JP2723359B2 (ja) | 洗浄方法および洗浄装置 | |
JP6009836B2 (ja) | 物品の洗浄方法 | |
JP5215711B2 (ja) | 光学部品の洗浄方法及び洗浄装置 | |
US7160396B2 (en) | Washing method | |
JP2002273358A (ja) | 光学素子の洗浄方法 | |
JP7020507B2 (ja) | 半導体ウェーハの洗浄方法 | |
JP4367807B2 (ja) | 洗浄方法 | |
WO2018180731A1 (ja) | W/oエマルジョン洗浄液を使用する洗浄方法 | |
JP2006326389A (ja) | 洗浄装置および洗浄方法 | |
JP3476901B2 (ja) | 洗浄方法および洗浄装置 | |
JP2006342247A (ja) | 洗浄剤組成物 | |
JPS6092621A (ja) | 精密洗浄方法 | |
JP5600404B2 (ja) | 水置換剤およびそれを用いた洗浄方法 | |
JPS649618B2 (ja) | ||
JP3670715B2 (ja) | 精密洗浄方法 | |
JPH09302391A (ja) | 洗浄組成物及び洗浄方法 | |
JPH07148472A (ja) | 洗浄方法 | |
JPH05257296A (ja) | 電子写真感光体の導電性基板再生方法 | |
CN116571528A (zh) | 一种红外镜片镀膜前清洗擦拭方法 | |
JP4356832B6 (ja) | 硬質表面の洗浄方法 | |
JP4356832B2 (ja) | 硬質表面の洗浄方法 | |
JP2004167416A (ja) | 水分離方法 | |
JPH07265816A (ja) | 洗浄方法および洗浄装置 | |
JP2010163565A (ja) | 水性塗料用洗浄剤廃液の再生方法および装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20100813 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100820 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110330 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120702 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120807 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121004 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130205 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130301 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5215711 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160308 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |