JP2000190208A - 研磨用キャリアーの保管方法 - Google Patents
研磨用キャリアーの保管方法Info
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- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
Abstract
(57)【要約】
【課題】 キャリアーを清浄な状態で保管できるととも
に、両面同時研磨時におけるシリコンウエハのスクラッ
チを低減することができる研磨用キャリアーの保管方法
を提供する。 【解決手段】 シリコンウエハの両面同時研磨に用いる
研磨用キャリアーの保管方法である。純水中に、キャリ
アー３を完全に浸した状態で保管する。
に、両面同時研磨時におけるシリコンウエハのスクラッ
チを低減することができる研磨用キャリアーの保管方法
を提供する。 【解決手段】 シリコンウエハの両面同時研磨に用いる
研磨用キャリアーの保管方法である。純水中に、キャリ
アー３を完全に浸した状態で保管する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】 本発明は、シリコンウエハ
の両面同時研磨に用いる研磨用キャリアーの保管方法に
関する。
の両面同時研磨に用いる研磨用キャリアーの保管方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】 近年、シリコンウエハの研磨は、両面
同時研磨が注目されているが、両面同時研磨を行う際の
大きな問題点として、研磨時に発生するシリコンウエハ
のスクラッチが挙げられる。このスクラッチの主な原因
は、特願平８−０９６１６６号公報に示されるように、
キャリアー及びキャリアー駆動用のピンスリーブにある
ため、これらについて改良がなされている。
同時研磨が注目されているが、両面同時研磨を行う際の
大きな問題点として、研磨時に発生するシリコンウエハ
のスクラッチが挙げられる。このスクラッチの主な原因
は、特願平８−０９６１６６号公報に示されるように、
キャリアー及びキャリアー駆動用のピンスリーブにある
ため、これらについて改良がなされている。
【０００３】 しかしながら、上記のような改良が進む
につれ、またスクラッチのより厳しいレベルでの改善が
要求されるにつれ、キャリアーの厳密な管理が必要とな
ってきた。これまで、キャリアーは、例えば、図３に示
すように、キャリア保管容器１中のローラー４に複数個
配設されたキャリアー収納棚２の上にキャリアー３を水
平に置いて乾燥状態で保管されていた。このため、キャ
リアーの交換又は新規のキャリアーを使用して両面同時
研磨した場合、保管中の汚れや乾燥固着した研磨スラリ
ーの残渣により、数バッチの間、シリコンウエハのスク
ラッチの増加が続いてしまうという問題点があった。ま
た、研磨パッドの洗浄に用いるブラシについても、上記
と同様な理由により、乾燥状態で保管したブラシを用い
て研磨パッドを洗浄した場合、洗浄前よりも研磨パッド
面が汚れてしまうという問題点があった。
につれ、またスクラッチのより厳しいレベルでの改善が
要求されるにつれ、キャリアーの厳密な管理が必要とな
ってきた。これまで、キャリアーは、例えば、図３に示
すように、キャリア保管容器１中のローラー４に複数個
配設されたキャリアー収納棚２の上にキャリアー３を水
平に置いて乾燥状態で保管されていた。このため、キャ
リアーの交換又は新規のキャリアーを使用して両面同時
研磨した場合、保管中の汚れや乾燥固着した研磨スラリ
ーの残渣により、数バッチの間、シリコンウエハのスク
ラッチの増加が続いてしまうという問題点があった。ま
た、研磨パッドの洗浄に用いるブラシについても、上記
と同様な理由により、乾燥状態で保管したブラシを用い
て研磨パッドを洗浄した場合、洗浄前よりも研磨パッド
面が汚れてしまうという問題点があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】 本発明は上記した従
来の課題に鑑みてなされたものであり、その目的とする
ところは、キャリアーを清浄な状態で保管できるととも
に、両面同時研磨時におけるシリコンウエハのスクラッ
チを低減することができる研磨用キャリアーの保管方法
を提供するものである。
来の課題に鑑みてなされたものであり、その目的とする
ところは、キャリアーを清浄な状態で保管できるととも
に、両面同時研磨時におけるシリコンウエハのスクラッ
チを低減することができる研磨用キャリアーの保管方法
を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】 すなわち、本発明によ
れば、シリコンウエハの両面同時研磨に用いる研磨用キ
ャリアーの保管方法であって、純水中に、該キャリアー
を完全に浸した状態で保管することを特徴とする研磨用
キャリアーの保管方法が提供される。ここで、本発明に
おいては、純水の温度が２０〜８０℃であり、純水が濾
過循環清浄されていることが好ましい。
れば、シリコンウエハの両面同時研磨に用いる研磨用キ
ャリアーの保管方法であって、純水中に、該キャリアー
を完全に浸した状態で保管することを特徴とする研磨用
キャリアーの保管方法が提供される。ここで、本発明に
おいては、純水の温度が２０〜８０℃であり、純水が濾
過循環清浄されていることが好ましい。
【０００６】 また、本発明によれば、シリコンウエハ
の両面同時研磨に用いる研磨用キャリアーの保管方法で
あって、混合液中に、該キャリアーを完全に浸した状態
で保管することを特徴とする研磨用キャリアーの保管方
法が提供される。
の両面同時研磨に用いる研磨用キャリアーの保管方法で
あって、混合液中に、該キャリアーを完全に浸した状態
で保管することを特徴とする研磨用キャリアーの保管方
法が提供される。
【０００７】 ここで、本発明で用いる混合液は、純水
中に以下に示すものが添加されていることが好ましい。 界面活性剤（０．１〜５重量％）。 アンモニア水及び過酸化水素水。 界面活性剤（０．１〜５重量％）＋アンモニア水及び
過酸化水素水。
中に以下に示すものが添加されていることが好ましい。 界面活性剤（０．１〜５重量％）。 アンモニア水及び過酸化水素水。 界面活性剤（０．１〜５重量％）＋アンモニア水及び
過酸化水素水。
【０００８】 また、本発明においては、混合液のｐＨ
が７〜１２であり、混合液の温度が２０〜８０℃である
ことが好ましく、更に、混合液が濾過循環清浄されてい
ることが好ましい。
が７〜１２であり、混合液の温度が２０〜８０℃である
ことが好ましく、更に、混合液が濾過循環清浄されてい
ることが好ましい。
【０００９】
【発明の実施の形態】 本発明のキャリアーの保管方法
は、純水又は混合液中に、キャリアー及びブラシを完全
に浸した状態で保管するものである。上記のように本発
明のキャリアーの保管方法は、キャリアーを純水又は混
合液中に完全に浸した状態で保管することにより、キャ
リアーを汚染物から隔離できるため、清浄な状態で保管
することができるだけでなく、キャリアーが若干汚れて
も、汚れが乾燥固着しないため、容易に洗浄することが
できる。また、上記研磨用キャリアーだけでなく、研磨
用パッド用ブラシにも好適に用いることができる。
は、純水又は混合液中に、キャリアー及びブラシを完全
に浸した状態で保管するものである。上記のように本発
明のキャリアーの保管方法は、キャリアーを純水又は混
合液中に完全に浸した状態で保管することにより、キャ
リアーを汚染物から隔離できるため、清浄な状態で保管
することができるだけでなく、キャリアーが若干汚れて
も、汚れが乾燥固着しないため、容易に洗浄することが
できる。また、上記研磨用キャリアーだけでなく、研磨
用パッド用ブラシにも好適に用いることができる。
【００１０】 このとき、本発明で用いる純水は、イオ
ン交換樹脂、イオン交換膜を組み合わせた電気再生型イ
オン交換装置や逆浸透装置を用いて精製された超純水で
あることが好ましい。
ン交換樹脂、イオン交換膜を組み合わせた電気再生型イ
オン交換装置や逆浸透装置を用いて精製された超純水で
あることが好ましい。
【００１１】 次に、本発明で用いる混合液は、上記純
水中に界面活性剤を０．１〜５重量％添加したものであ
ることが好ましい。これにより、キャリアーに付着した
汚染物（特に、パーティクル）の洗浄効果を純水に付与
することができる。
水中に界面活性剤を０．１〜５重量％添加したものであ
ることが好ましい。これにより、キャリアーに付着した
汚染物（特に、パーティクル）の洗浄効果を純水に付与
することができる。
【００１２】 また、本発明で用いる混合液は、アンモ
ニア水及び過酸化水素水を適宜添加したものであること
が好ましい。これにより、アンモニア水の溶解作用と過
酸化水素水の強い酸化反応により無機汚染物や金属不純
物を除去する効果が付与することができる。
ニア水及び過酸化水素水を適宜添加したものであること
が好ましい。これにより、アンモニア水の溶解作用と過
酸化水素水の強い酸化反応により無機汚染物や金属不純
物を除去する効果が付与することができる。
【００１３】 更に、本発明で用いる混合液は、純水中
に界面活性剤を０．１〜５重量％添加するとともに、ア
ンモニア水及び過酸化水素水を添加したものであること
がより好ましい。これにより、界面活性剤のみ添加した
場合又はアンモニア水及び過酸化水素水のみ添加した場
合と比較して、より効果的にキャリアーを洗浄すること
ができる。
に界面活性剤を０．１〜５重量％添加するとともに、ア
ンモニア水及び過酸化水素水を添加したものであること
がより好ましい。これにより、界面活性剤のみ添加した
場合又はアンモニア水及び過酸化水素水のみ添加した場
合と比較して、より効果的にキャリアーを洗浄すること
ができる。
【００１４】 このとき、キャリアーの材質の耐アルカ
リ性を考慮して、キャリアーの寿命を短くしないよう
に、アンモニア水及び過酸化水素水の添加量と温度を限
定することが重要である。このため、本発明では、混合
液中のｐＨを７〜１２にする（通常、混合液のアンモニ
ア水：過酸化水素水：純水（体積比）を１：１：１０〜
１：１：２００にする）とともに、混合液の温度を２０
〜８０℃にすることが好ましい。
リ性を考慮して、キャリアーの寿命を短くしないよう
に、アンモニア水及び過酸化水素水の添加量と温度を限
定することが重要である。このため、本発明では、混合
液中のｐＨを７〜１２にする（通常、混合液のアンモニ
ア水：過酸化水素水：純水（体積比）を１：１：１０〜
１：１：２００にする）とともに、混合液の温度を２０
〜８０℃にすることが好ましい。
【００１５】 尚、本発明で用いる界面活性剤は、カチ
オン界面活性剤、アニオン界面活性剤、非イオン界面活
性剤及び両性イオン界面活性剤の中から適宜選択して用
いることができるが、特に、非イオン界面活性剤又は両
性イオン界面活性剤であることが、汚れ除去の点で好ま
しい。
オン界面活性剤、アニオン界面活性剤、非イオン界面活
性剤及び両性イオン界面活性剤の中から適宜選択して用
いることができるが、特に、非イオン界面活性剤又は両
性イオン界面活性剤であることが、汚れ除去の点で好ま
しい。
【００１６】 次に、本発明のキャリアーの保管方法に
ついて詳細に説明する。図１は、本発明のキャリアーの
保管方法の一例を示す概略説明図である。図１に示すよ
うに、キャリアー保管用の水槽１３は、濾過清浄された
純水又は混合液で充填されている。また、上記純水又は
混合液の一部は、水槽１３の底部に配設された吸水口１
１から循環ポンプ９を用いてフィルター１０へ導入さ
れ、フィルター１０により濾過洗浄された後、水槽１３
の上方部に配設された給水口１２から連続的に供給され
ている。このとき、フィルター１０は、０．０５〜１．
０μｍ濾過フィルターを用いることが好ましい。
ついて詳細に説明する。図１は、本発明のキャリアーの
保管方法の一例を示す概略説明図である。図１に示すよ
うに、キャリアー保管用の水槽１３は、濾過清浄された
純水又は混合液で充填されている。また、上記純水又は
混合液の一部は、水槽１３の底部に配設された吸水口１
１から循環ポンプ９を用いてフィルター１０へ導入さ
れ、フィルター１０により濾過洗浄された後、水槽１３
の上方部に配設された給水口１２から連続的に供給され
ている。このとき、フィルター１０は、０．０５〜１．
０μｍ濾過フィルターを用いることが好ましい。
【００１７】 以上のように、パーティクルが十分に除
去された純水又は混合液を水槽内に絶えず循環させるこ
とにより、キャリアーの出し入れ時にパーティクルが導
入されても、パーティクルがキャリアーに付着しにく
く、たとえパーティクルがキャリアーに付着しても乾燥
固着しないため、キャリアーを使用する前に容易に洗浄
することができる。
去された純水又は混合液を水槽内に絶えず循環させるこ
とにより、キャリアーの出し入れ時にパーティクルが導
入されても、パーティクルがキャリアーに付着しにく
く、たとえパーティクルがキャリアーに付着しても乾燥
固着しないため、キャリアーを使用する前に容易に洗浄
することができる。
【００１８】 このとき、キャリアー保管用の水槽への
キャリアーの出し入れは、例えば、図１に示すようなア
ーム５で行うことが好ましい。アーム５は、キャリアー
３を保持する複数個の溝６と、キャリアー３の出し入れ
のために上方にある間、アーム５を固定するストッパー
７と、アーム５を水槽１３の所定の位置に上下摺動可能
に支持する支持部８から構成されている。
キャリアーの出し入れは、例えば、図１に示すようなア
ーム５で行うことが好ましい。アーム５は、キャリアー
３を保持する複数個の溝６と、キャリアー３の出し入れ
のために上方にある間、アーム５を固定するストッパー
７と、アーム５を水槽１３の所定の位置に上下摺動可能
に支持する支持部８から構成されている。
【００１９】 また、キャリアー保管用の水槽へのキャ
リアーの出し入れは、図２に示すように、ワイヤー１６
で吊したラック状の保管棚１４を懸架手段１８により水
槽１３の所定の位置に上下に移動させる方法であっても
よい。このとき、ワイヤー１６は、発塵の少ない材質の
ものであることが好ましく、例えば、ナイロン等を好適
に用いることができる。
リアーの出し入れは、図２に示すように、ワイヤー１６
で吊したラック状の保管棚１４を懸架手段１８により水
槽１３の所定の位置に上下に移動させる方法であっても
よい。このとき、ワイヤー１６は、発塵の少ない材質の
ものであることが好ましく、例えば、ナイロン等を好適
に用いることができる。
【００２０】 尚、キャリアー保管中の水槽１３は、大
気雰囲気中のパーティクルが水槽１３内に導入されない
ように、水槽１３の開放面を密閉するとともに、クリー
ンエアーベンチ内に設置されることが好ましく、クリー
ンルーム内に設置されることがより好ましい。
気雰囲気中のパーティクルが水槽１３内に導入されない
ように、水槽１３の開放面を密閉するとともに、クリー
ンエアーベンチ内に設置されることが好ましく、クリー
ンルーム内に設置されることがより好ましい。
【００２１】
【実施例】 本発明を実施例に基づいて、更に詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例に限られるものでは
ない。尚、シリコンウエハのスクラッチ発生率（ｃｏｕ
ｎｔ／ｓｌ）は、１０万ルクスのコリメートライトを使
用し、暗室下、目視でスクラッチと認識できるものをス
クラッチ発生として、シリコンウエハ１枚当たりのスク
ラッチ発生の割合を求めたものである。
明するが、本発明はこれらの実施例に限られるものでは
ない。尚、シリコンウエハのスクラッチ発生率（ｃｏｕ
ｎｔ／ｓｌ）は、１０万ルクスのコリメートライトを使
用し、暗室下、目視でスクラッチと認識できるものをス
クラッチ発生として、シリコンウエハ１枚当たりのスク
ラッチ発生の割合を求めたものである。
【００２２】 （実施例１）図１に示すキャリアー保管
用の水槽１３を用いて、フィルター１０（１．０μｍ濾
過フィルター）により濾過清浄された４０℃の純水中に
キャリアー３を完全に浸した状態で保管した。次に、上
記のように保管したキャリアーを用いてシリコンウエハ
の両面同時研磨（常法）を複数回行なった。このときの
研磨回数におけるシリコンウエハのスクラッチ発生率の
関係を示したグラフを図４に示す。
用の水槽１３を用いて、フィルター１０（１．０μｍ濾
過フィルター）により濾過清浄された４０℃の純水中に
キャリアー３を完全に浸した状態で保管した。次に、上
記のように保管したキャリアーを用いてシリコンウエハ
の両面同時研磨（常法）を複数回行なった。このときの
研磨回数におけるシリコンウエハのスクラッチ発生率の
関係を示したグラフを図４に示す。
【００２３】 （実施例２）図１に示すキャリアー保管
用の水槽１３を用いて、フィルター１０（１．０μｍ濾
過フィルター）により濾過清浄された４０℃、ｐＨ約１
０の混合液中に、キャリアー３を完全に浸した状態で保
管した。尚、上記混合液は、純水中に界面活性剤として
Ｌ−６４（ＢＡＳＦ社）を０．５ｗｔ％、３０％アンモ
ニア水と３０％過酸化水素水をそれぞれ０．５ｗｔ％添
加したものを用いた。次に、上記のように保管したキャ
リアーを用いてシリコンウエハの両面同時研磨（常法）
を複数回行なった。このときの研磨回数におけるシリコ
ンウエハのスクラッチ発生率の関係を示したグラフを図
４に示す。
用の水槽１３を用いて、フィルター１０（１．０μｍ濾
過フィルター）により濾過清浄された４０℃、ｐＨ約１
０の混合液中に、キャリアー３を完全に浸した状態で保
管した。尚、上記混合液は、純水中に界面活性剤として
Ｌ−６４（ＢＡＳＦ社）を０．５ｗｔ％、３０％アンモ
ニア水と３０％過酸化水素水をそれぞれ０．５ｗｔ％添
加したものを用いた。次に、上記のように保管したキャ
リアーを用いてシリコンウエハの両面同時研磨（常法）
を複数回行なった。このときの研磨回数におけるシリコ
ンウエハのスクラッチ発生率の関係を示したグラフを図
４に示す。
【００２４】 （比較例）図３に示すキャリアー保管容
器１を用いて、キャリアー３を乾燥状態で保管した。次
に、上記のように保管したキャリアーを用いてシリコン
ウエハの両面同時研磨（常法）を複数回行なった。この
ときの研磨回数におけるシリコンウエハのスクラッチ発
生率の関係を示したグラフを図４に示す。
器１を用いて、キャリアー３を乾燥状態で保管した。次
に、上記のように保管したキャリアーを用いてシリコン
ウエハの両面同時研磨（常法）を複数回行なった。この
ときの研磨回数におけるシリコンウエハのスクラッチ発
生率の関係を示したグラフを図４に示す。
【００２５】 （考察）図４の結果から、実施例１〜２
は、比較例と比較して、シリコンウエハのスクラッチ発
生率を低減させることができた。また、実施例２は、純
水中に界面活性剤、アンモニア水及び過酸化水素水を添
加することにより、純水のみの場合（実施例１）と比較
して、シリコンウエハのスクラッチ発生率を更に低減さ
せることができた。
は、比較例と比較して、シリコンウエハのスクラッチ発
生率を低減させることができた。また、実施例２は、純
水中に界面活性剤、アンモニア水及び過酸化水素水を添
加することにより、純水のみの場合（実施例１）と比較
して、シリコンウエハのスクラッチ発生率を更に低減さ
せることができた。
【００２６】
【発明の効果】 以上の説明から明らかなように、本発
明によれば、キャリアーを清浄な状態で保管できるとと
もに、両面同時研磨時におけるシリコンウエハのスクラ
ッチを低減することができる。
明によれば、キャリアーを清浄な状態で保管できるとと
もに、両面同時研磨時におけるシリコンウエハのスクラ
ッチを低減することができる。
【図１】 本発明のキャリアの保管方法の一例を示す概
略説明図である。
略説明図である。
【図２】 本発明のキャリアの保管方法の他の例を示す
概略説明図である。
概略説明図である。
【図３】 従来のキャリアの保管方法の一例を示す概略
説明図である。
説明図である。
【図４】 研磨回数におけるシリコンウエハのスクラッ
チ発生率の関係を示したグラフである。
チ発生率の関係を示したグラフである。
１…キャリアー保管容器、２…キャリア−収納棚、３…
キャリアー、４…ローラー、５…アーム、６…溝、７…
ストッパー、８…支持部、９…循環ポンプ、１０…フィ
ルター、１１…吸水口、１２…給水口、１３…水槽、１
４…保管棚、１６…ワイヤー、１８…懸架手段。
キャリアー、４…ローラー、５…アーム、６…溝、７…
ストッパー、８…支持部、９…循環ポンプ、１０…フィ
ルター、１１…吸水口、１２…給水口、１３…水槽、１
４…保管棚、１６…ワイヤー、１８…懸架手段。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉村 一朗 栃木県宇都宮市清原工業団地11番２ エ ム・イー・エム・シー株式会社内 Ｆターム(参考） 3B117 AA08 BA51 3C058 AA07 AB04 AB08 AC01 CB02 CB10 DA06 DA18
Claims (10)
- 【請求項１】 シリコンウエハの両面同時研磨に用いる
研磨用キャリアーの保管方法であって、 純水中に、該キャリアーを完全に浸した状態で保管する
ことを特徴とする研磨用キャリアーの保管方法。 - 【請求項２】 前記純水の温度が、２０〜８０℃である
請求項１に記載の研磨用キャリアーの保管方法。 - 【請求項３】 前記純水が、濾過循環清浄されている請
求項１又は２に記載の研磨用キャリアーの保管方法。 - 【請求項４】 シリコンウエハの両面同時研磨に用いる
研磨用キャリアーの保管方法であって、 混合液中に、該キャリアーを完全に浸した状態で保管す
ることを特徴とする研磨用キャリアーの保管方法。 - 【請求項５】 前記混合液が、純水中に界面活性剤を
０．１〜５重量％添加したものである請求項４に記載の
研磨用キャリアーの保管方法。 - 【請求項６】 前記混合液が、純水中にアンモニア水及
び過酸化水素水を添加したものである請求項４に記載の
研磨用キャリアーの保管方法。 - 【請求項７】 前記混合液が、純水中に界面活性剤を
０．１〜５重量％添加するとともに、アンモニア水及び
過酸化水素水を添加したものである請求項４に記載の研
磨用キャリアーの保管方法。 - 【請求項８】 混合液のｐＨが、７〜１２である請求項
４〜７のいずれか１項に記載の研磨用キャリアーの保管
方法。 - 【請求項９】 混合液の温度が、２０〜８０℃である請
求項４〜８のいずれか１項に記載の研磨用キャリアーの
保管方法。 - 【請求項１０】 前記混合液が、濾過循環清浄されてい
る請求項４〜９に記載の研磨用キャリアーの保管方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36687398A JP2000190208A (ja) | 1998-12-24 | 1998-12-24 | 研磨用キャリアーの保管方法 |
| CN99814852A CN1331838A (zh) | 1998-12-24 | 1999-12-08 | 用于抛光晶片的载体的储存方法 |
| PCT/US1999/029078 WO2000039841A1 (en) | 1998-12-24 | 1999-12-08 | Method for storing carrier for polishing wafer |
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