JP2019195866A - 両面研磨装置用キャリアの保管方法及びウェーハの両面研磨方法 - Google Patents
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Abstract
Description
また、既にウェーハの両面研磨に用いたキャリアを両面研磨機から取り外して、次のウェーハを両面研磨するために両面研磨機に再度設置する間の一時保管に適用することもできる。研磨布のコンディショニング時や、研磨布のライフエンドによる交換作業と立上作業時に、両面研磨機から一旦取り外したキャリアの保管にも適用できる。
図5に示したようなキャリアを、純水(pH7.5)、pHを変えたアルカリ水溶液、又は実際に加工研磨に用いる研磨剤のpHを10.5と想定した場合と同等の研磨剤中に24時間浸漬(保管)して膨潤率を測定して比較した。結果を図2に示した。
アルカリ水溶液には、KOHベースのアルカリ水溶液を用いた。
また、キャリア保管用の研磨剤としては、シリカ系砥粒であるフジミインコーポレーテッド製のRDS−H11201とRDS−H11202(平均粒径75nmおよび90nm)を混合比1:1で砥粒濃度2.4質量%とし、pH10.5のKOHベースのアルカリ性水溶液を用いた。
(実施例)
本発明の保管方法によりキャリアを保管し、保管後のキャリアを図6に示したような両面研磨装置10に設置して実際にウェーハの研磨加工を行い、エッジに関するフラットネス評価を行った。
ウェーハ研磨加工には不二越機械工業の両面研磨装置DSP−20Bを使用し、研磨布はショアA硬度90の発泡ウレタンパッドであるフジボウ愛媛製のSF4500を用いた。
キャリアをpH7.5の純水中で保管したこと以外は、実施例と同様にしてキャリアを保管し、保管後のキャリアを用いてウェーハを両面研磨して、研磨後のウェーハのフラットネスを評価した。
10…両面研磨装置、 11…上定盤、 12…下定盤、 13…研磨布、
14…サンギア、 15…インターナルギア、 16…研磨剤供給装置
17…研磨剤、
20…矩形領域、 W…ウェーハ。
Claims (5)
- 研磨布が貼付された上下定盤を有する両面研磨装置で用いられ、ウェーハを保持するための保持孔が形成されたキャリア本体と、前記保持孔の内周に沿って配置され、前記ウェーハの周縁部と接する内周面を有するリング状のインサート材とを有するキャリアの保管方法であって、
前記キャリアを、前記ウェーハの両面研磨に用いられる研磨剤又はアルカリ溶液中に保管することを特徴とする両面研磨装置用キャリアの保管方法。 - 前記研磨剤及び前記アルカリ溶液として、pHが10以上12以下であるものを用いることを特徴とする請求項1に記載の両面研磨装置用キャリアの保管方法。
- 前記インサート材の材質として、吸水率が0.1%以上である樹脂を用いることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の両面研磨装置用キャリアの保管方法。
- 前記インサート材の材質として、ビニル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアセタール、ポリカーボネイト、ポリエチレンテレフタレート、及びフッ素系樹脂のいずれかからなる樹脂を使用することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の両面研磨装置用キャリアの保管方法。
- 請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の保管方法により前記キャリアを保管し、
該保管したキャリアを用いて、前記ウェーハを研磨することを特徴とするウェーハの両面研磨方法。
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